JP3292139B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
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- JP3292139B2 JP3292139B2 JP14714398A JP14714398A JP3292139B2 JP 3292139 B2 JP3292139 B2 JP 3292139B2 JP 14714398 A JP14714398 A JP 14714398A JP 14714398 A JP14714398 A JP 14714398A JP 3292139 B2 JP3292139 B2 JP 3292139B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品等の被加熱物
をマイクロ波加熱する高周波加熱装置に関するものであ
る。
をマイクロ波加熱する高周波加熱装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来の高周波加熱装置について、図６に
基づいて説明する。本体１内には、マイクロ波を発生す
るマグネトロン２と、マグネトロン２が発生するマイク
ロ波を食品等の被加熱物を収容する加熱室５に導く導波
管３と、加熱室５に設けているアンテナ４と、加熱室５
の底部に設けている食品を載置するための載置台７と、
アンテナ４を回転駆動するモータ６とを配置している。
載置台７は、前記アンテナ４が回転する空間を構成する
機能も備えている。
基づいて説明する。本体１内には、マイクロ波を発生す
るマグネトロン２と、マグネトロン２が発生するマイク
ロ波を食品等の被加熱物を収容する加熱室５に導く導波
管３と、加熱室５に設けているアンテナ４と、加熱室５
の底部に設けている食品を載置するための載置台７と、
アンテナ４を回転駆動するモータ６とを配置している。
載置台７は、前記アンテナ４が回転する空間を構成する
機能も備えている。
【０００３】以上の構成で本体１の表面に設けている図
示していないコントロールパネルを設定して、調理開始
を指示するとマグネトロン２はマイクロ波の発信を開始
する。マグネトロン２が発信するマイクロ波は導波管３
を通って、アンテナ４から加熱室５内に放射される。載
置台７に載置されている食品は、水分を含有しているた
め、マイクロ波を受けて自己発熱し調理が進行する。
示していないコントロールパネルを設定して、調理開始
を指示するとマグネトロン２はマイクロ波の発信を開始
する。マグネトロン２が発信するマイクロ波は導波管３
を通って、アンテナ４から加熱室５内に放射される。載
置台７に載置されている食品は、水分を含有しているた
め、マイクロ波を受けて自己発熱し調理が進行する。
【０００４】このとき、マグネトロン２が発生するマイ
クロ波は、定在波を発生するため、加熱室５内での分布
状態が均一でないものである。このため、載置台７上に
載置されている食品には加熱ムラが発生するものであ
る。この加熱ムラの発生を防止するために、図５に示し
ている構成のものは、アンテナ４をモータ６によって回
転させている。しかし、この回転スピードは一定である
ため、依然として定在波が発生して、食品には加熱ムラ
が発生するものである。そこで、更に加熱室５内に凹凸
を設けたり、含水した布を備えたカセットを載置台７上
に設置したりして加熱室５内でのマグネトロンの分布を
変化させる方法がある。
クロ波は、定在波を発生するため、加熱室５内での分布
状態が均一でないものである。このため、載置台７上に
載置されている食品には加熱ムラが発生するものであ
る。この加熱ムラの発生を防止するために、図５に示し
ている構成のものは、アンテナ４をモータ６によって回
転させている。しかし、この回転スピードは一定である
ため、依然として定在波が発生して、食品には加熱ムラ
が発生するものである。そこで、更に加熱室５内に凹凸
を設けたり、含水した布を備えたカセットを載置台７上
に設置したりして加熱室５内でのマグネトロンの分布を
変化させる方法がある。
【０００５】加熱室５内に凹凸を設ける方法は、加熱室
５内でのマイクロ波の乱反射によって、電界強度の分布
を均一にしようとするものであるが、この凹凸を構成す
るものが構造物であるため反射条件が一定であって、依
然として均一な電界強度の分布を実現することは出来な
い。この点含水した布を備えたカセットを載置する方法
は、マイクロ波によって水が局部的に加熱され、マイク
ロ波の反射方向が時系列的に変化するため均一な電界強
度の分布を作る上では優れている。
５内でのマイクロ波の乱反射によって、電界強度の分布
を均一にしようとするものであるが、この凹凸を構成す
るものが構造物であるため反射条件が一定であって、依
然として均一な電界強度の分布を実現することは出来な
い。この点含水した布を備えたカセットを載置する方法
は、マイクロ波によって水が局部的に加熱され、マイク
ロ波の反射方向が時系列的に変化するため均一な電界強
度の分布を作る上では優れている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記従来の含水した布
を備えたカセット使用する方法は、マイクロ波の分布を
均一にすることは可能であるが、食品に照射するマイク
ロ波の強度を調整することは困難であるという課題を有
している。すなわち、カセット内の水が減少して、カセ
ット内の水の温度が上昇すると、カセットを透過するマ
イクロ波の強度が不安定になって、安定したマイクロ波
加熱ができないものである。
を備えたカセット使用する方法は、マイクロ波の分布を
均一にすることは可能であるが、食品に照射するマイク
ロ波の強度を調整することは困難であるという課題を有
している。すなわち、カセット内の水が減少して、カセ
ット内の水の温度が上昇すると、カセットを透過するマ
イクロ波の強度が不安定になって、安定したマイクロ波
加熱ができないものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、加熱室内に装
着し前記加熱室の断面積と同等の断面積を有して水を収
容する容器の重量を重量センサによって検知し、制御部
が重量センサの信号を受けてマグネトロンの出力を調整
制御するようにして、被加熱物に対する加熱を安定して
行うことが出来る高周波加熱装置としている。
着し前記加熱室の断面積と同等の断面積を有して水を収
容する容器の重量を重量センサによって検知し、制御部
が重量センサの信号を受けてマグネトロンの出力を調整
制御するようにして、被加熱物に対する加熱を安定して
行うことが出来る高周波加熱装置としている。
【０００８】
【発明の実施の形態】請求項１に記載した発明は、加熱
室内に装着され水を供給する供給手段と、水を排水する
排水手段を備えた前記加熱室の断面積と同等の断面積を
有する容器の重量を重量センサによって検知し、制御部
が重量センサの信号を受けてマグネトロンの出力を調整
制御するようにして、容器内の水量に応じたマイクロ波
出力が得られるようにして、被加熱物に対する加熱を安
定して行うことが出来る高周波加熱装置としている。
室内に装着され水を供給する供給手段と、水を排水する
排水手段を備えた前記加熱室の断面積と同等の断面積を
有する容器の重量を重量センサによって検知し、制御部
が重量センサの信号を受けてマグネトロンの出力を調整
制御するようにして、容器内の水量に応じたマイクロ波
出力が得られるようにして、被加熱物に対する加熱を安
定して行うことが出来る高周波加熱装置としている。
【０００９】請求項２に記載した発明は、容器に水を供
給する供給手段と、容器内の水を排水する排水手段を、
マグネトロンの出力に基づいて制御部が駆動するように
して、マイクロ波の出力に応じて水板の水量を変化させ
ることができ、被加熱物に対する加熱を安定して行うこ
とが出来る高周波加熱装置としている。
給する供給手段と、容器内の水を排水する排水手段を、
マグネトロンの出力に基づいて制御部が駆動するように
して、マイクロ波の出力に応じて水板の水量を変化させ
ることができ、被加熱物に対する加熱を安定して行うこ
とが出来る高周波加熱装置としている。
【００１０】請求項３に記載した発明は、容器に水を供
給する供給手段と、容器内の水を排水する排水手段を、
加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段の信号
に基づいて制御部が駆動するようにして、加熱室内の電
界強度に応じて容器内の水量を変化させて、被加熱物に
対する加熱を安定して行うことが出来る高周波加熱装置
としている。
給する供給手段と、容器内の水を排水する排水手段を、
加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段の信号
に基づいて制御部が駆動するようにして、加熱室内の電
界強度に応じて容器内の水量を変化させて、被加熱物に
対する加熱を安定して行うことが出来る高周波加熱装置
としている。
【００１１】請求項４に記載した発明は、容器に水を供
給する供給手段と、容器内の水を排水する排水手段を、
加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段の信号
に基づいて制御部が駆動するようにして、加熱室内の電
界強度が予め設定した範囲内になるように容器内の水量
を変化させることができ、被加熱物に対する加熱を安定
して行うことが出来る高周波加熱装置としている。
給する供給手段と、容器内の水を排水する排水手段を、
加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段の信号
に基づいて制御部が駆動するようにして、加熱室内の電
界強度が予め設定した範囲内になるように容器内の水量
を変化させることができ、被加熱物に対する加熱を安定
して行うことが出来る高周波加熱装置としている。
【００１２】
【実施例】（実施例１）以下、本発明の第１の実施例に
ついて説明する。図１は本実施例の構成を示す断面図で
ある。本体１０には、被加熱物を収容する加熱室１４
と、加熱室１４内に放射するマイクロ波を発生するマグ
ネトロン１１と、マグネトロン１１を駆動する制御部１
９と、加熱室１４内に装着した水を収容する容器１８
と、容器１８の重量を検知する重量センサ２０を配置し
ている。前記容器１８は、加熱室の全域に対してマグネ
トロン１１が発生するマイクロ波を容器１８内に収容し
ている水を介したものとするために、ほぼ加熱室の断面
積と同等の断面積を有する方形の形状としている。マグ
ネトロン１１が発生するマイクロ波は、導波管１２によ
って加熱室１４の底部に設けているアンテナ１３に導か
れている。アンテナ１３は、モータ１５によって回転駆
動されている。また、１６は加熱室１４の底部に設けて
いる仕切板で、アンテナ１３が回転する空間を仕切って
いる。１７は食品等の被加熱物を載置する載置台であ
り、仕切板１６の上に配設されている。
ついて説明する。図１は本実施例の構成を示す断面図で
ある。本体１０には、被加熱物を収容する加熱室１４
と、加熱室１４内に放射するマイクロ波を発生するマグ
ネトロン１１と、マグネトロン１１を駆動する制御部１
９と、加熱室１４内に装着した水を収容する容器１８
と、容器１８の重量を検知する重量センサ２０を配置し
ている。前記容器１８は、加熱室の全域に対してマグネ
トロン１１が発生するマイクロ波を容器１８内に収容し
ている水を介したものとするために、ほぼ加熱室の断面
積と同等の断面積を有する方形の形状としている。マグ
ネトロン１１が発生するマイクロ波は、導波管１２によ
って加熱室１４の底部に設けているアンテナ１３に導か
れている。アンテナ１３は、モータ１５によって回転駆
動されている。また、１６は加熱室１４の底部に設けて
いる仕切板で、アンテナ１３が回転する空間を仕切って
いる。１７は食品等の被加熱物を載置する載置台であ
り、仕切板１６の上に配設されている。
【００１３】前記重量センサ２０は、コンデンサを形成
する2枚の電極板と、上部の電極板に接続している重量
に応じて変位するバネによって形成している。つまり、
容器１８の重量に応じてバネが変位し、バネの変位によ
って上部の電極板が変位することによって、電極板間の
静電容量が容器１８の重量に応じて変化するものであ
る。この重量センサ２０の検知情報は、前記制御部１９
に伝達されている。前記容器１８は、図示していない注
水口と排水口とを備えており、自由に水を注入排水でき
る構成となっている。
する2枚の電極板と、上部の電極板に接続している重量
に応じて変位するバネによって形成している。つまり、
容器１８の重量に応じてバネが変位し、バネの変位によ
って上部の電極板が変位することによって、電極板間の
静電容量が容器１８の重量に応じて変化するものであ
る。この重量センサ２０の検知情報は、前記制御部１９
に伝達されている。前記容器１８は、図示していない注
水口と排水口とを備えており、自由に水を注入排水でき
る構成となっている。
【００１４】図２は本実施例の高周波加熱装置の外観を
示す平面図である。本実施例装置の上部には、操作部２
１を配置している。操作部２１は、前記重量センサ２０
が検知する容器１８の重量から容器１８内に残存してい
る水の重量を表示する表示部２２と、２１は高周波加熱
装置の操作部であり、本体１０に設けられ、制御部１９
とつながっている。操作部２１は加熱時間やマグネトロ
ン１１の出力等を制御部１９に設定することができる。
２２は容器１８の重量を表示する表示部で、操作部２１
に設けられている。この実施例の場合、操作部２１はボ
タン式の数字キーで加熱電力を設定するようにしている
が、ダイヤル式でも矢印などのキーを使用するようにし
てもかまわないものである。また、操作部２１は扉２３
の上部に設けているが、取り付け位置は扉２３の横でも
下部でもかまわない。
示す平面図である。本実施例装置の上部には、操作部２
１を配置している。操作部２１は、前記重量センサ２０
が検知する容器１８の重量から容器１８内に残存してい
る水の重量を表示する表示部２２と、２１は高周波加熱
装置の操作部であり、本体１０に設けられ、制御部１９
とつながっている。操作部２１は加熱時間やマグネトロ
ン１１の出力等を制御部１９に設定することができる。
２２は容器１８の重量を表示する表示部で、操作部２１
に設けられている。この実施例の場合、操作部２１はボ
タン式の数字キーで加熱電力を設定するようにしている
が、ダイヤル式でも矢印などのキーを使用するようにし
てもかまわないものである。また、操作部２１は扉２３
の上部に設けているが、取り付け位置は扉２３の横でも
下部でもかまわない。
【００１５】制御部１９は、重量センサ２０の信号と、
操作部２１に設定されている加熱電力の設定情報とを受
けて、マグネトロン１１の出力を制御している。
操作部２１に設定されている加熱電力の設定情報とを受
けて、マグネトロン１１の出力を制御している。
【００１６】以下本実施例の動作について説明する。マ
グネトロン１１が発信したマイクロ波は、導波管１２に
よって加熱室１４に導かれ、アンテナ１３から容器１８
に収容した水を介して、加熱室１４内に放射されるもの
である。このとき放射されたマイクロ波の一部は容器１
８内の水に吸収され、また一部は水を透過し、または水
によって反射される。容器１８の水を透過したマイクロ
波と、容器１８の水によって反射されたマイクロ波の一
部は、直接載置台１７上の被加熱物に吸収される。また
前記マイクロ波のうち、加熱室１４の壁面によって反射
されたマイクロ波は、再び容器１８の水を透過し、或い
は容器１８の水によって反射される。このとき、マイク
ロ波と接触した水は部分的に温度が高くなって、マイク
ロ波の反射角が時系列的に変化するものである。つま
り、加熱室１４内のマイクロ波の分布が変化する。この
結果、容器１８内に収容している水の温度は徐々に上昇
し、容器１８を透過するマイクロ波の出力は増加して、
載置台１７に載置している食品に吸収されるマグネトロ
ンの電力は増加する。
グネトロン１１が発信したマイクロ波は、導波管１２に
よって加熱室１４に導かれ、アンテナ１３から容器１８
に収容した水を介して、加熱室１４内に放射されるもの
である。このとき放射されたマイクロ波の一部は容器１
８内の水に吸収され、また一部は水を透過し、または水
によって反射される。容器１８の水を透過したマイクロ
波と、容器１８の水によって反射されたマイクロ波の一
部は、直接載置台１７上の被加熱物に吸収される。また
前記マイクロ波のうち、加熱室１４の壁面によって反射
されたマイクロ波は、再び容器１８の水を透過し、或い
は容器１８の水によって反射される。このとき、マイク
ロ波と接触した水は部分的に温度が高くなって、マイク
ロ波の反射角が時系列的に変化するものである。つま
り、加熱室１４内のマイクロ波の分布が変化する。この
結果、容器１８内に収容している水の温度は徐々に上昇
し、容器１８を透過するマイクロ波の出力は増加して、
載置台１７に載置している食品に吸収されるマグネトロ
ンの電力は増加する。
【００１７】このとき発明者らは、容器１８内に収容し
ている水の量と、食品に吸収されるマイクロ波の強度と
の関係を実験によって把握しているものである。この実
験の結果について、以下に説明する。
ている水の量と、食品に吸収されるマイクロ波の強度と
の関係を実験によって把握しているものである。この実
験の結果について、以下に説明する。
【００１８】被加熱物としてビーカに収容した７５０ｇ
の水を使用し、マイクロ波の強度を３９５Ｗ一定とし
て、１分間被加熱物を加熱する。このとき、容器１８内
に収容している水の量を種々変えた場合に、被加熱物に
照射されるマイクロ波の強度を測定しているものであ
る。このとき、比較例として容器１８内の水の量を０ｇ
とした場合、つまり従来の構成のものを示している。測
定結果を（表１）に示している。
の水を使用し、マイクロ波の強度を３９５Ｗ一定とし
て、１分間被加熱物を加熱する。このとき、容器１８内
に収容している水の量を種々変えた場合に、被加熱物に
照射されるマイクロ波の強度を測定しているものであ
る。このとき、比較例として容器１８内の水の量を０ｇ
とした場合、つまり従来の構成のものを示している。測
定結果を（表１）に示している。
【００１９】
【表１】
【００２０】表１に示しているように、容器１８内の水
の量に応じてマグネトロン１１の出力を調整することに
よって、被加熱物に吸収されるマイクロ波の強度を一定
に保つことが出来るものである。
の量に応じてマグネトロン１１の出力を調整することに
よって、被加熱物に吸収されるマイクロ波の強度を一定
に保つことが出来るものである。
【００２１】（実施例２）次に、本発明の第２の実施例
について説明する。図３は本実施例の高周波加熱装置の
構成を示す断面図である。本実施例では、容器２４に
は、注水口２５と出水口２６を設けている。注水口２５
に接続している水路２５ａには、弁２５ｂを介して本体
１０の外部の水道の蛇口を接続している。水路２６ａに
は、弁２６ｂを設けている。つまり制御部１９によって
弁２５ｂを開くと、水は水路２５ａを通って注水口２５
から容器２４内部へ入る。容器２４内の水は、弁２６ｂ
を開けると出水口２６から水路２６ａを通って排出され
る。本実施例では、制御部１９はマグネトロン１１の発
信出力に応じて、容器２４内の水の量を調整しているも
のである。
について説明する。図３は本実施例の高周波加熱装置の
構成を示す断面図である。本実施例では、容器２４に
は、注水口２５と出水口２６を設けている。注水口２５
に接続している水路２５ａには、弁２５ｂを介して本体
１０の外部の水道の蛇口を接続している。水路２６ａに
は、弁２６ｂを設けている。つまり制御部１９によって
弁２５ｂを開くと、水は水路２５ａを通って注水口２５
から容器２４内部へ入る。容器２４内の水は、弁２６ｂ
を開けると出水口２６から水路２６ａを通って排出され
る。本実施例では、制御部１９はマグネトロン１１の発
信出力に応じて、容器２４内の水の量を調整しているも
のである。
【００２２】以下、被加熱物としてビーカに収容した７
５０ｇの水を使用し、マイクロ波の出力を変化させたと
きに、被加熱物が吸収するマイクロ波の強度を３９５Ｗ
一定としたときの、容器２４内に収容している水の量を
求める実験の結果を（表２）に示している。このとき、
比較例として容器２４内の水の量を０ｇとした場合、つ
まり従来の構成のものを示している。
５０ｇの水を使用し、マイクロ波の出力を変化させたと
きに、被加熱物が吸収するマイクロ波の強度を３９５Ｗ
一定としたときの、容器２４内に収容している水の量を
求める実験の結果を（表２）に示している。このとき、
比較例として容器２４内の水の量を０ｇとした場合、つ
まり従来の構成のものを示している。
【００２３】
【表２】
【００２４】表２に示しているように、マグネトロン１
１の発信出力に応じて容器２４内に収容している水の量
を調整することによって、被加熱物に吸収されるマイク
ロ波の強度を一定に保つことが出来るものである。
１の発信出力に応じて容器２４内に収容している水の量
を調整することによって、被加熱物に吸収されるマイク
ロ波の強度を一定に保つことが出来るものである。
【００２５】（実施例３）続いて本発明の第３の実施例
について説明する。図４は本実施例の構成を示す断面図
である。本実施例では、加熱室１４内にマイクロ波によ
る電界強度を測定する電界強度検出手段２９を設けてい
る。
について説明する。図４は本実施例の構成を示す断面図
である。本実施例では、加熱室１４内にマイクロ波によ
る電界強度を測定する電界強度検出手段２９を設けてい
る。
【００２６】電界強度検出手段２９は、本実施例では、
図５に示す構成としている。すなわち、同軸ケーブル３
１の中心導体３０によって構成したアンテナと、この中
心導体３０に検波ダイオード３２と、検波ダイオード３
２に接続しているコンデンサ３とから成っている。以上
の構成で、中心導体３０が検出したマイクロ波を検波ダ
イオード３２・コンデンサ３３によって半波整流した脈
流電圧を出力することにより電界強度を測定することが
出来るものである。電界強度検出手段２９の検知情報は
制御部１９に伝達されており、制御部１９は実施例２と
同様に電界強度検出手段２９の検知情報に応じて弁２７
・弁２８を開閉して、注水口２５・出水口２６から容器
２４内の水量を調整するものである。
図５に示す構成としている。すなわち、同軸ケーブル３
１の中心導体３０によって構成したアンテナと、この中
心導体３０に検波ダイオード３２と、検波ダイオード３
２に接続しているコンデンサ３とから成っている。以上
の構成で、中心導体３０が検出したマイクロ波を検波ダ
イオード３２・コンデンサ３３によって半波整流した脈
流電圧を出力することにより電界強度を測定することが
出来るものである。電界強度検出手段２９の検知情報は
制御部１９に伝達されており、制御部１９は実施例２と
同様に電界強度検出手段２９の検知情報に応じて弁２７
・弁２８を開閉して、注水口２５・出水口２６から容器
２４内の水量を調整するものである。
【００２７】以下本実施例の装置を使用して、マグネト
ロン１１の発信出力を一定として、加熱室１４内の電界
強度を一定とするために、容器２４内に必要な水量を求
める実験を行った結果について報告する。本実験では、
ビーカに収容した７５０ｇの水を被加熱物として使用
し、マグネトロン１１の発信出力を７００Ｗととし、加
熱室内のマイクロ波の強度を５００Ｗに設定しているも
のである。
ロン１１の発信出力を一定として、加熱室１４内の電界
強度を一定とするために、容器２４内に必要な水量を求
める実験を行った結果について報告する。本実験では、
ビーカに収容した７５０ｇの水を被加熱物として使用
し、マグネトロン１１の発信出力を７００Ｗととし、加
熱室内のマイクロ波の強度を５００Ｗに設定しているも
のである。
【００２８】この実験の結果、容器２４内の水の温度が
２０℃のときには、容器２４内には７０ｇの水が必要
で、容器２４内の水の温度が７０℃のときには、容器２
４内には８２ｇの水が必要であることが判明した。
２０℃のときには、容器２４内には７０ｇの水が必要
で、容器２４内の水の温度が７０℃のときには、容器２
４内には８２ｇの水が必要であることが判明した。
【００２９】以上のように、本実施例によれば、加熱室
内のマイクロ波の強度に応じて容器２４内の水の量を調
整するようにして、加熱室内のマイクロ波の強度を一定
に保つことが出来るものである。
内のマイクロ波の強度に応じて容器２４内の水の量を調
整するようにして、加熱室内のマイクロ波の強度を一定
に保つことが出来るものである。
【００３０】またこのとき、制御部が電界強度検出手段
の検出信号が予め設定した信号レベルになるように、弁
２７・弁２８を制御するようにしても同様の効果を有す
るものとなる。
の検出信号が予め設定した信号レベルになるように、弁
２７・弁２８を制御するようにしても同様の効果を有す
るものとなる。
【００３１】
【発明の効果】請求項１に記載した発明は、被加熱物を
収容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波
を発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制
御部と、加熱室内に装着され、前記加熱室の断面積と同
等の断面積を有して水を収容する容器と、前記容器内に
水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排水する排
水手段と、前記容器の重量を検知する重量センサとを備
え、前記マグネトロンは前記容器内の水を介して前記加
熱室内にマイクロ波を放射し、前記制御部は重量センサ
の信号を受けてマグネトロンの出力を調整制御する構成
として、前記容器の水量に応じたマイクロ波出力が得ら
れるようにして、被加熱物に対する加熱を安定して行う
ことが出来る高周波加熱装置を実現するものである。
収容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波
を発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制
御部と、加熱室内に装着され、前記加熱室の断面積と同
等の断面積を有して水を収容する容器と、前記容器内に
水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排水する排
水手段と、前記容器の重量を検知する重量センサとを備
え、前記マグネトロンは前記容器内の水を介して前記加
熱室内にマイクロ波を放射し、前記制御部は重量センサ
の信号を受けてマグネトロンの出力を調整制御する構成
として、前記容器の水量に応じたマイクロ波出力が得ら
れるようにして、被加熱物に対する加熱を安定して行う
ことが出来る高周波加熱装置を実現するものである。
【００３２】請求項２に記載した発明は、被加熱物を収
容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波を
発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制御
部と、加熱室内に装着され、水を収容する容器と、前記
容器内に水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排
水する排水手段と、前記容器の重量を検知する重量セン
サとを備え、前記制御部はマグネトロンの出力に基づい
て前記供給手段及び排水手段を制御する構成として、マ
イクロ波の出力に応じて容器内の水量を変化させること
ができ、被加熱物に対する加熱を安定して行うことが出
来る高周波加熱装置を実現するものである。
容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波を
発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制御
部と、加熱室内に装着され、水を収容する容器と、前記
容器内に水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排
水する排水手段と、前記容器の重量を検知する重量セン
サとを備え、前記制御部はマグネトロンの出力に基づい
て前記供給手段及び排水手段を制御する構成として、マ
イクロ波の出力に応じて容器内の水量を変化させること
ができ、被加熱物に対する加熱を安定して行うことが出
来る高周波加熱装置を実現するものである。
【００３３】請求項３に記載した発明は、被加熱物を収
容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波を
発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制御
部と、加熱室内に装着され、水を収容する容器と、前記
容器内に水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排
水する排水手段と、前記容器の重量を検知する重量セン
サと、加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段
とを備え、前記制御部は電界強度検出手段の信号に基づ
いて前記供給手段及び排水手段を制御する構成として、
加熱室内の電界強度に応じて容器内の水量を変化させ
て、被加熱物に対する加熱を安定して行うことが出来る
高周波加熱装置を実現するものである。
容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波を
発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制御
部と、加熱室内に装着され、水を収容する容器と、前記
容器内に水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排
水する排水手段と、前記容器の重量を検知する重量セン
サと、加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段
とを備え、前記制御部は電界強度検出手段の信号に基づ
いて前記供給手段及び排水手段を制御する構成として、
加熱室内の電界強度に応じて容器内の水量を変化させ
て、被加熱物に対する加熱を安定して行うことが出来る
高周波加熱装置を実現するものである。
【００３４】請求項４に記載した発明は、被加熱物を収
容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波を
発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制御
部と、加熱室内に装着され、水を収容する容器と、前記
容器内に水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排
水する排水手段と、前記容器の重量を検知する重量セン
サと、加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段
とを備え、前記制御部は電界強度検出手段の検出信号が
予め設定した信号レベルになるように前記供給手段及び
排水手段を制御する構成として、被加熱物に対する加熱
を安定して行うことが出来る高周波加熱装置を実現する
ものである。
容する加熱室と、前記加熱室内に放射するマイクロ波を
発生するマグネトロンと、マグネトロンを駆動する制御
部と、加熱室内に装着され、水を収容する容器と、前記
容器内に水を供給する供給手段と、前記容器内の水を排
水する排水手段と、前記容器の重量を検知する重量セン
サと、加熱室内の電界強度を検出する電界強度検出手段
とを備え、前記制御部は電界強度検出手段の検出信号が
予め設定した信号レベルになるように前記供給手段及び
排水手段を制御する構成として、被加熱物に対する加熱
を安定して行うことが出来る高周波加熱装置を実現する
ものである。
【図１】本発明の第１の実施例である高周波加熱装置の
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図２】同、操作部の構成を説明する平面図
【図３】本発明の第２の実施例である高周波加熱装置の
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図４】本発明の第３の実施例である高周波加熱装置の
構成を示す断面図
構成を示す断面図
【図５】同、電界強度検出手段の構成を示す回路図
【図６】従来の高周波加熱装置の構成を示す断面図
１１ マグネトロン １４ 加熱室 １８ 容器 １９ 制御部 ２０ 重量センサ ２４ 容器 ２５ 注水口 ２５ｂ 弁 ２６ 出水口 ２６ｂ 弁 ２７ 弁 ２８ 弁 ２９ 電界強度検出手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平７−55155（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−64034（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−201296（ＪＰ，Ｕ) 特公 昭41−2675（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭40−19992（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭40−19913（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05B 6/64 - 6/80 F24C 7/02 315 F24C 7/02 511
Claims (1)
- 【請求項１】 被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱
室内に放射するマイクロ波を発生するマグネトロンと、
マグネトロンを駆動する制御部と、前記加熱室内に装着
され、前記加熱室の断面積と同等の断面積を有して水を
収容する容器と、前記容器内に水を供給する供給手段
と、前記容器内の水を排水する排水手段と、前記容器の
重量を検知する重量センサとを備え、前記マグネトロン
は前記容器内の水を介して前記加熱室内にマイクロ波を
放射し、前記制御部は重量センサの信号を受けてマグネ
トロンの出力を調整制御する高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14714398A JP3292139B2 (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14714398A JP3292139B2 (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 高周波加熱装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001336348A Division JP3599016B2 (ja) | 2001-11-01 | 2001-11-01 | 高周波加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11339950A JPH11339950A (ja) | 1999-12-10 |
| JP3292139B2 true JP3292139B2 (ja) | 2002-06-17 |
Family
ID=15423564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14714398A Expired - Fee Related JP3292139B2 (ja) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3292139B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4655634B2 (ja) * | 2005-01-14 | 2011-03-23 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
-
1998
- 1998-05-28 JP JP14714398A patent/JP3292139B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11339950A (ja) | 1999-12-10 |
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