JP3036536B1 - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

【要約】 【課題】 高周波加熱装置において、加熱室内のマイク
ロ波の分布を変化させて、被加熱物の加熱むらをなくす
こと。 【解決手段】 高周波発生手段１１と、被加熱物を収納
する加熱室１３と、被加熱物を載置するターンテーブル
１４と、ターンテーブル１４を支えるターンテーブル支
え１５と、ターンテーブル支え１５を回転駆動する第一
駆動手段１６と、加熱室１３を形成する壁面１９に設け
た開孔部１８と、開孔部１８を一端とする溝部２０と、
溝部２０内に設けた開孔部１８のインピーダンスを可変
するインピーダンス可変手段２１と、インピーダンス可
変手段２１を駆動する第二駆動手段２２を備え、インピ
ーダンス可変手段２１により加熱室１３の壁面１９の高
周波電流の流れを乱すことによって、マイクロ波の分布
を変化させ、被加熱物の加熱むらをなくすことができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、食品等の被加熱物
を加熱する高周波加熱装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来の高周波加熱装置について図を用い
て説明する。図１０は高周波加熱装置の概略構成図であ
る。１は高周波加熱装置本体、２はマイクロ波を発生す
るマグネトロン（高周波発生手段）、３はマグネトロン
から発生したマイクロ波を導く導波管、４は食品等被加
熱物を収容する加熱室、５は被加熱物を載置するターン
テーブル（載置台）、６はターンテーブル５を支えるタ
ーンテーブル支えである。７はターンテーブル支え６を
回転させるモータ、８はマグネトロン２とモータ７を制
御する制御手段である。

【０００３】加熱する場合は、ターンテーブルに食品等
の被加熱物を載置し、被加熱物に含まれる水分がマイク
ロ波を吸収して自己発熱する現象を利用する。

【０００４】従来の高周波加熱装置の加熱室内では、高
周波発生手段から加熱室内へ放射されたマイクロ波は定
在波を発生する。定在波によって発生した加熱室内のマ
イクロ波の分布はほとんど変化しないため、マイクロ波
強度の強い領域にある被加熱物は加熱されやすく、マイ
クロ波強度の弱い領域にある被加熱物は加熱されにく
い。よって被加熱物には加熱むらが発生する。

【０００５】従来の技術では、被加熱物に照射されるマ
イクロ波の状態を変化させるために、ターンテーブルを
回転させたり、高さを変える方法などが採用されてい
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の技術に
おいて、ターンテーブルを回転させる方法は、加熱室内
のマイクロ波の分布を変化させることができず、被加熱
物は一定のマイクロ波分布の中を繰り返し通過しながら
加熱されるので、被加熱物の加熱領域が同心円状発生す
るという問題点がある。また、被加熱物に照射するマイ
クロ波の強度を変化させることができないので、マイク
ロ波強度の強い領域は加熱されすぎ、またマイクロ波強
度の弱い領域は加熱不足になるという問題点もある。

【０００７】本発明はこのような課題を解決するもので
あり、加熱室内に生じるマイクロ波の分布を変化させて
被加熱物の加熱むらをなくす高周波加熱装置を提供する
ことを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明の高周波加熱装置は、被加熱物を収納する
加熱室と、前記加熱室内に設け前記被加熱物を載置する
載置台と、前記載置台を回転駆動する第一駆動手段と、
前記加熱室内に放射する高周波を発生する高周波発生手
段と、前記高周波発生手段によって発生した高周波を前
記加熱室に放射する給電口と、前記加熱室を形成する壁
面に設けた開孔部と、前記開孔部を一端とする溝部と、
前記溝部内に設け前記開孔部のインピーダンスを可変す
るインピーダンス可変手段と、前記インピーダンス可変
手段を駆動する第二駆動手段とを備えるものである。

【０００９】そして、インピーダンス可変手段により壁
面の高周波電流の流れを変化させることによって加熱室
内のマイクロ波の分布を変化させることができる。

【００１０】これにより、被加熱物の加熱むらをなくす
ことができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の高周波加熱装置は、請求
項１記載のように、被加熱物を収納する加熱室と、前記
加熱室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記
載置台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に
放射する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周
波発生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射
する給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔
部と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設
け前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダン
ス可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する
第二駆動手段とを備えるものである。

【００１２】そして、インピーダンス可変手段により開
孔部を有する壁面の高周波電流の流れを変化させること
によって加熱室内のマイクロ波の分布を変化させること
ができる。これにより、被加熱物の加熱むらをなくすこ
とができる。

【００１３】また本発明の高周波加熱装置は、請求項２
記載のように、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱
室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置
台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射
する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発
生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する
給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部
と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け
前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス
可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する第
二駆動手段と、前記被加熱物の量を検出する検出手段
と、前記検出手段の検出信号に基いて前記高周波発生手
段と前記第一駆動手段と前記第二駆動手段との少なくと
も１つを制御する制御手段とを備えるものである。

【００１４】そして、被加熱物の量に対応して高周波発
生手段と載置台駆動用の第一駆動手段とインピーダンス
可変手段駆動用の第二駆動手段の少なくとも１つを制御
し、被加熱物に照射されるマイクロ波の強度あるいは加
熱室内のマイクロ波分布を制御する。これにより、被加
熱物の量に応じて被加熱物を最適に加熱することができ
る。

【００１５】また本発明の高周波加熱装置は、請求項３
記載のように、インピーダンス可変手段は回転駆動する
構成とし、前記インピーダンス可変手段の回転角度を判
定する角度判定手段を付加し、制御手段は被加熱物の量
を検出する検出手段の検出信号に基いて前記インピーダ
ンス可変手段を所定の回転角度にて停止させるように前
記第二駆動手段を制御することを特徴とする。

【００１６】そして、被加熱物の量を検出することによ
って誘電体板の回転角度を制御し、被加熱物に照射され
るマイクロ波の強度あるいは加熱室内のマイクロ波分布
を最適な条件に制御することができる。これにより、被
加熱物に応じた最適なマイクロ波強度あるいは最適なマ
イクロ波分布でもって被加熱物を効率よく加熱すること
ができる。

【００１７】また本発明の高周波加熱装置は、請求項４
記載のように、前記載置台は加熱室底面からの高さを可
変できる構成とすることを特徴とする。

【００１８】そして、載置台の高さを変えることによっ
て被加熱物に照射されるマイクロ波の強度および被加熱
物の加熱分布を変化させることができる。これにより、
被加熱物の加熱むらをなくすことができる。

【００１９】また本発明の高周波加熱装置は、請求項５
記載のように、被加熱物の形状を指定する形状選択キー
を付加し、前記形状選択キーからの情報と被加熱物の量
を検出する検出手段の検出信号に基いて前記第二駆動手
段を制御することを特徴とする。

【００２０】そして、形状選択キーと量検出手段からの
情報に基いて、被加熱物の最適な加熱方法を制御手段が
抽出する。この抽出した加熱制御方法に基いてインピー
ダンス可変手段を制御して加熱室内のマイクロ波分布を
変化させることで、被加熱物の形状に応じた最適な加熱
を実行することができる。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の実施例について添付図面を用
いて説明する。

【００２２】（実施例１）図１は、本発明の第１の実施
例を示す高周波加熱装置の概略構成図、図２は図１の高
周波加熱装置の外観図である。図１および図２において
１０は高周波加熱装置本体、１１はマイクロ波を発生す
るマグネトロン（高周波発生手段）、１２はマグネトロ
ン１１からのマイクロ波を導く導波管、１３は被加熱物
を収納する加熱室で、壁面は金属で構成されている。１
４は被加熱物を載置するターンテーブル（載置台）、１
５はターンテーブル１４を支えるターンテーブル支え、
１６はターンテーブル支え１５を回転駆動するモータ
（第一駆動手段）である。１７はマグネトロン１１から
発生したマイクロ波を加熱室１３内に放射する給電口で
ある。１８は加熱室１３内の壁面１９に設けた開孔部
で、２０は開孔部１８を一端とする溝部である。２１は
開孔部１８のインピーダンスを可変するインピーダンス
可変手段であり、誘電体板２１ａにて構成されている。

【００２３】誘電体板２１ａは、好ましくは比誘電率が
５以上の低誘電損失材料（例えばアルミナ、ムライトな
ど）で構成され、両端に突起を設け、溝部２０に設けた
孔に突起をはめ込んで回転支持されている。２２は誘電
体板２１ａを駆動させるモータ（第二駆動手段）であ
る。誘電体板２１ａを駆動させる方法は、一定の角度分
づつステップ状に回転するようにしてもよいし、連続的
に回転するようにしても構わない。２３はマグネトロン
１１を制御する制御手段である。

【００２４】次に、上記構成において動作を説明する。
被加熱物を加熱する場合は、ターンテーブル１４上に食
品等の被加熱物を置く。加熱スイッチ等から、制御手段
２３に加熱情報が送られる。加熱情報により制御手段２
３はマグネトロン１１とモータ１６に信号を送る。制御
手段２３の信号によりマグネトロン１１はマイクロ波を
発生させ、モータ１６はターンテーブル支え１５を回転
駆動させる。ターンテーブル支え１５は底面の中心に軸
を有しており、軸を中心に回転する。マグネトロン１１
から発生したマイクロ波は導波管１２を伝搬し、給電口
１７から加熱室１３内に放射される。

【００２５】加熱中の誘電体板２１ａの動作は常に回転
していてもよいし、ある特定の回転角度で一定時間停止
させてもよいし、回転・停止を繰り返すようにしても構
わない。溝部２０の溝深さは回転板２１ａが加熱室１３
底面に対して垂直（この時の回転角度を０゜とする。）
のときに、開孔部１８に生じるインピーダンスが極めて
小さい値（理想的にはゼロ）になるように決めている。
従って、誘電体板２１ａの回転角度が０゜のときは壁面
１９には高周波電流が流れ、加熱室１３内のマイクロ波
分布は、壁面１９に開孔部１８を設けていない場合と同
じ分布が生じる。一方、誘電体板２１ａの向きが加熱室
１３底面に対して水平（この時の回転角度を９０゜とす
る。）のときは、開孔部１８のインピーダンスが大きな
値となり壁面１９に流れる高周波電流が乱れる。よって
加熱室１３内のマイクロ波分布は壁面１９に開孔部１８
を設けていない場合とは異なった分布を発生する。つま
り、誘電体板２１ａの回転角度を変化させると開孔部１
８のインピーダンスが変化し、加熱室１３内のマイクロ
波の分布が変化する。

【００２６】本実施例において、誘電体板２１ａの回転
角度の表現方法は、誘電体板２１ａの上半分が加熱室１
３側に傾斜していく方向に回転させたときの、加熱室壁
面１９と誘電体板２１ａの上半分の間の角度とした。

【００２７】この実施例の図１および図２では誘電体板
２１ａの回転角度は０゜を示している。また、開孔部１
８は長軸方向が奥行き方向と平行になるように配設され
ているが、開孔部１８は長軸方向が高さ方向と平行にな
るように配設しても構わない。また開孔部１８とインピ
ーダンス可変手段２１は、加熱室１３の壁面であればど
こに配設してもよいし、複数個配設しても構わない。

【００２８】ターンテーブル支え１５は軸を中心に回転
するため、食品等の被加熱物は同心円状に加熱される。
また、被加熱物はマイクロ波が集中する領域に位置する
ほど加熱されやすいため、被加熱物の加熱むらをなくす
には、ターンテーブル１４を回転させることに加え、マ
イクロ波分布を変化させてマイクロ波の強度の強い位置
を変化させるために誘電体板２１ａの回転角度を制御す
る。

【００２９】本実施例において、アドヘアのり２００ｇ
を底面が１００ｍｍ×１００ｍｍの容器にいれて被加熱
物として加熱した場合に、誘電体板２１ａの回転角度を
０゜固定としてターンテーブル支え１５を回転させたと
きの被加熱物の温度分布と、誘電体板２１ａの回転角度
を０゜と９０゜との両方に変化させターンテーブル支え
１５を回転させたときの被加熱物の温度分布の結果を
（図３）に示す。

【００３０】図３の誘電体板２１ａの回転角度の模式図
において、加熱室１３は誘電体板２１ａの右側に位置し
ている。また温度分布は、色が薄くなるに従って、高温
部分であることを示している。

【００３１】以上のように、誘電体板２１ａの回転角度
を変化させることにより、被加熱物の温度分布はターン
テーブルのみ（すなわち、誘電体板２１ａの回転角度を
０°とした状態）の場合よりも均一化した。

【００３２】これにより、被加熱物の加熱むらをなくす
ことができる。

【００３３】（実施例２）次に、本発明の第２の実施例
について説明する。

【００３４】図４は本発明の第２の実施例を示す高周波
加熱装置の概略構成図である。図４において、図１と相
違する構成は、被加熱物の量を検出する量検出手段２４
を配設した点である。量検出手段２４はターンテーブル
支え１５を回転駆動するモータ１６の駆動軸に連動する
ように配設している。また、量検出手段２４の検出信号
は制御手段２３に入力される。なお、図４において図１
に示した部品と同一あるいは同一相当機能の部品は同一
番号にて示す。

【００３５】上記制御手段２３は量検出手段２４の信号
により、マグネトロン１１、モータ１６、モータ２２の
少なくとも１つを制御する。制御手段２３の信号により
マグネトロン１１は所定のマイクロ波出力にてマイクロ
波を発生し、ターンテーブル支え１５を回転駆動するモ
ータ１６へ駆動電力を供給する。また、制御手段２３
は、誘電体板２１ａを回転駆動するモータ２２へも駆動
電力を供給し、誘電体板２１ａの回転を制御する。

【００３６】次に上記構成において、マグネトロン１１
の出力制御方法について説明する。被加熱物を加熱する
際に、被加熱物の量が多い場合に適するようなマイクロ
波の出力で加熱すると、被加熱物の量が少ない場合は加
熱されすぎるおそれがある。逆に、被加熱物の量が少な
い場合に適するようなマイクロ波の出力で加熱すると、
被加熱物の量が多い場合は加熱に要する時間が長くな
る、または加熱不足になるおそれがある。そのため、被
加熱物の量が多い場合はマイクロ波の出力を強くし、被
加熱物の量が少ない場合はマイクロ波の出力を弱くする
ように制御を行う。

【００３７】壁面１９のインピーダンスを変化させる
と、被加熱物へのマイクロ波の入力は変化する。被加熱
物の量が多い場合は、被加熱物へのマイクロ波の入力が
大きくなる回転角度で加熱し、被加熱物の量が少ない場
合は、被加熱物へのマイクロ波の入力が小さくなる回転
角度で加熱するように誘電体板を制御する。

【００３８】本実施例において、誘電体板２１ａの回転
角度が０゜のとき被加熱物（水６００ｇ）へのマイクロ
波の入力が最大になるように、マグネトロンを調整した
場合に、被加熱物を水としたときの誘電体板２１ａの回
転角度が０゜、４５゜、９０゜のときの２００ｇ、４０
０ｇ、６００ｇの水への入力変化の実験結果を（図５）
に示す。

【００３９】図５のように、誘電体板の角度を変化させ
ることによって、水へのマイクロ波の入力は変化した。

【００４０】以上のように、被加熱物の量を検出しその
検出信号に基いて誘電体板を所定の回転角度に動かした
後、その回転角度にて停止させる。この誘電体板の停止
時の角度に基いて加熱室内のマイクロ波分布に対して優
先的に高周波発生手段のマイクロ波出力を決定し、被加
熱物の量に応じた最適なマイクロ波出力を供給して被加
熱物を短時間に加熱することができる。

【００４１】（実施例３）次に、本発明の第３の実施例
について説明する。

【００４２】図６は本発明の第３の実施例を示す高周波
加熱装置の概略構成図である。

【００４３】図６において、本発明の実施例３が実施例
２と相違する点を説明する。２５は誘電体板２１ａの回
転角度を判定する角度検出手段である。モータ２６はス
テッピングモータで構成され、誘電体板２１ａを一定角
度づつステップ状に移動させて回転させる。角度検出手
段２５は誘電体板２１ａが回転角度０゜の時を判定する
ための信号を制御手段２３に出力する。制御手段２３
は、誘電体板２１ａが回転角度０°の時からのステップ
数によって、誘電体板２１ａの回転角度を規定制御す
る。また、制御手段２３は量検出手段２４および角度検
出手段２５の信号により、マグネトロン１１、モータ１
６、モータ２６の少なくとも１つを制御する。このと
き、制御手段２３はマグネトロン１１、モータ１６およ
びモータ２６のすべてを同時に制御してもかまわない。

【００４４】次に上記構成における作用と制御実施例に
ついて説明する。角度検出手段２５は、誘電体板２１ａ
の回転角度が０°を判定するためのリセット信号を出力
する。この信号により、制御手段２３は、被加熱物の加
熱を終了した後に、誘電体板２１ａの角度を規定角度、
たとえば回転角度０°に停止させることで次回の被加熱
物の加熱まで待機する。これにより、誘電体板２１ａの
回転角度制御の信頼性を保証している。

【００４５】制御手段２３はさらにマイクロ波出力の制
御を誘電体板２１ａの回転角度に対応させて実行する。
実施例２で示したように、誘電体板２１ａの回転角度を
変化させると被加熱物へのマイクロ波の入力が増減す
る。被加熱物の加熱の均一化を促進させるために、被加
熱物へのマイクロ波の入力を常に一定にした状態でマイ
クロ波分布のみを変化させる制御を実行する。すなわ
ち、誘電体板２１ａの回転角度が被加熱物へのマイクロ
波の入力が弱くなる位置にある時には制御手段２３はマ
イクロ波の出力を大きくし、マイクロ波の入力が強くな
る回転角度にある時はマイクロ波の出力を小さくする。

【００４６】角度検出手段２５を設けることで誘電体板
２１ａの回転角度を信頼性良く判定することができ、被
加熱物へのマイクロ波の入力を速やかに制御することが
でき、被加熱物の加熱の均一化を図ることができる。

【００４７】（実施例４）次に、本発明の第４の実施例
について説明する。

【００４８】図７において、本発明の実施例４が実施例
３と相違する点を説明する。２７は載置台高さ可変手段
であり、ターンテーブル（載置台）１４の加熱室１３の
底面からの載置高さを変化させることができる。すなわ
ち、載置台高さ可変手段２７は、折りたたまれた足を有
しており、この足を引き出すことで図示したようにター
ンテーブル１４を加熱室１３の底面からの載置高さを所
定の高さに支持することができる構成としている。

【００４９】上記の構成により、ターンテーブル１４の
高さを変化させると、ターンテーブル１４上のマイクロ
波分布が変化する。したがって被加熱物を加熱する際
に、ターンテーブル１４の高さを選択することで、被加
熱物に応じた最適な加熱分布を与えることができるた
め、さらに被加熱物をより効果的に加熱することができ
る。

【００５０】なお、このときのターンテーブル１４の回
転動作は、停止していてもよいし、あるいは回転してい
てもかまわない。さらには、本実施例の場合、高さを変
化させるためにターンテーブル１４の支えるとともにタ
ーンテーブル１４を回転駆動するモータ（第一駆動手
段）１６の駆動軸に連結した部材に載置台高さ可変手段
を配設した構成を示したが、ターンテーブル１４ごと交
換する方法でもかまわない。

【００５１】本実施例において、誘電体板２１ａの回転
角度が０゜のとき、載置台高さ可変手段２７の足を収め
た状態（高さが０ｍｍの時）の被加熱物の加熱分布と載
置台高さ可変手段２７の足を引き出した状態（高さが３
０ｍｍの時）の被加熱物の加熱分布を（図８）に示す。

【００５２】図８のようにターンテーブル（載置台）の
高さを変化させることで被加熱物の加熱分布を変化させ
ることができた。

【００５３】以上のように、ターンテーブル１４の載置
高さを変化させて加熱することにより、被加熱物の種類
に応じて被加熱物をより均一に加熱することができる。

【００５４】（実施例５）次に、本発明の第５の実施例
について説明する。

【００５５】図９は本発明の第５の実施例を示す高周波
加熱装置の外観図である。図９において、２８は装置本
体１０の前面に配設された操作パネルであり、この操作
パネル２８内に被加熱物の形状に対応した情報を入力す
る形状選択キー２９が設けられている。形状選択キー２
９は、たとえば背高、普通、偏平の３種類の形状選択キ
ーで構成している。形状選択キーにて被加熱物の形状を
選択すると選択された情報は制御手段２３（図６参照）
へ送られる。制御手段２３は加熱開始情報が入力される
と形状選択キー２９から入力された被加熱物の情報を加
味して被加熱物を加熱するためのマグネトロン１１の動
作内容を選択しその選択された動作内容に基づいた駆動
電力をマグネトロンに供給することでマグネトロン１１
が動作を開始する。これと連動して形状選択キー２９の
入力情報に基いて制御手段２３内で選択された制御条件
によりモータ（第一駆動手段）１６および誘電体板２１
ａの回転駆動用モータ（第二駆動手段）２６を駆動させ
る。この結果、被加熱物はその形状に応じたマイクロ波
分布の中で加熱の均一化が促進できる。

【００５６】なお、実施例４にて説明した内容を上記に
適用してもかまわない。

【００５７】以上のように、ターンテーブル１４上の被
加熱物の形状を本装置の使用者が選択入力することで被
加熱物を加熱の均一化を被加熱物の形状に即してより効
果的に促進させることができる。

【００５８】

【発明の効果】以上のように、請求項１記載の発明によ
れば、インピーダンス可変手段により開孔部のインピー
ダンスを可変して、開孔部を有する壁面の高周波電流の
流れを変化させることによって、加熱室内のマイクロ波
分布を変化させることができる。これにより、被加熱物
の加熱むらをなくすことができる。

【００５９】また、請求項２記載の発明によれば、被加
熱物の量を検出することによってインピーダンス可変手
段を制御し、被加熱物に照射されるマイクロ波の強度お
よびマイクロ波分布を制御することができる。これによ
り、被加熱物の量に応じた最適なマイクロ波を被加熱物
に供給して加熱の均一化を図ることができる。

【００６０】また、請求項３記載の発明によれば、誘電
体板の回転角度を判定し、所定の回転角度で停止するこ
とによって被加熱物に照射されるマイクロ波の強度を制
御することができる。これにより、被加熱物の量に応じ
た最適なマイクロ波を優先的に被加熱物に供給して短時
間に加熱することができる。

【００６１】また、請求項４記載の発明によれば、載置
台の高さを変えることによって被加熱物に照射されるマ
イクロ波の強度および被加熱物の加熱分布を変化させる
ことができる。これにより、被加熱物の種類に応じて載
置高さを変えることで加熱むらをなくすことができる。

【００６２】また、請求項５記載の発明によれば、形状
選択キーと量検出手段からの情報に基いて、インピーダ
ンス可変手段を制御して加熱室内のマイクロ波分布を変
化させることで、被加熱物の形状に応じた最適な加熱を
実行して加熱むらをなくすことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図

【図２】同高周波加熱装置の外観図

【図３】同高周波加熱装置のインピーダンス可変手段の
回転角度と加熱分布を示す図

【図４】本発明の第２の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図

【図５】同高周波加熱装置のインピーダンス可変手段の
回転角度と水への入力パワーを示すための図

【図６】本発明の第３の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図

【図７】本発明の第４の実施例を示す高周波加熱装置の
概略構成図

【図８】同高周波加熱装置の載置台の高さと加熱分布の
関係を示す図

【図９】本発明の第５の実施例を示す高周波加熱装置の
外観図

【図１０】従来の高周波加熱装置の概略構成図

【符号の説明】

１１ マグネトロン（高周波発生手段） １３ 加熱室 １４ ターンテーブル（載置台） １６ モータ（第一駆動手段） １７ 給電口 １８ 開孔部 ２０ 溝部 ２１ インピーダンス可変手段 ２１ａ 誘電体板（回転板） ２２、２６ モータ（第二駆動手段） ２３ 制御手段 ２４ 量検出手段 ２５ 角度検出手段 ２７ 載置台可変手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−124672（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−195277（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−45594（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−88289（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H05B 6/64 - 6/78

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱
   室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置
   台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射
   する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発
   生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する
   給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部
   と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け
   前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス
   可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する第
   二駆動手段とを備えた高周波加熱装置。
2. 【請求項２】 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱
   室内に設け前記被加熱物を載置する載置台と、前記載置
   台を回転駆動する第一駆動手段と、前記加熱室内に放射
   する高周波を発生する高周波発生手段と、前記高周波発
   生手段によって発生した高周波を前記加熱室に放射する
   給電口と、前記加熱室を形成する壁面に設けた開孔部
   と、前記開孔部を一端とする溝部と、前記溝部内に設け
   前記開孔部のインピーダンスを可変するインピーダンス
   可変手段と、前記インピーダンス可変手段を駆動する第
   二駆動手段と、前記被加熱物の量を検出する検出手段
   と、前記検出手段の検出信号に基いて前記高周波発生手
   段と前記第一駆動手段と前記第二駆動手段との少なくと
   も１つを制御する制御手段とを備えた高周波加熱装置。
3. 【請求項３】 インピーダンス可変手段は回転駆動する
   構成とし、前記インピーダンス可変手段の回転角度を判
   定する角度判定手段を付加し、制御手段は被加熱物の量
   を検出する検出手段の検出信号に基いて前記インピーダ
   ンス可変手段を所定の回転角度にて停止させるように前
   記第二駆動手段を制御することとした請求項２記載の高
   周波加熱装置。
4. 【請求項４】 前記載置台は加熱室底面からの高さを可
   変できる構成とした請求項１または２記載の高周波加熱
   装置。
5. 【請求項５】 被加熱物の形状を指定する形状選択キー
   を付加し、前記形状選択キーからの情報と被加熱物の量
   を検出する検出手段の検出信号に基いて前記第二駆動手
   段を制御することとした請求項２記載の高周波加熱装
   置。