JP3140787B2 - チタン含有物質の塩素化工程からの排気流のプラズマ酸化 - Google Patents

チタン含有物質の塩素化工程からの排気流のプラズマ酸化

Info

Publication number
JP3140787B2
JP3140787B2 JP09521421A JP52142197A JP3140787B2 JP 3140787 B2 JP3140787 B2 JP 3140787B2 JP 09521421 A JP09521421 A JP 09521421A JP 52142197 A JP52142197 A JP 52142197A JP 3140787 B2 JP3140787 B2 JP 3140787B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cos
plasma
temperature
discharge
titanium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP09521421A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000510036A (ja
Inventor
カンポス,ダニエル
ライク,スティーブン,アーウィン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EI Du Pont de Nemours and Co
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JP2000510036A publication Critical patent/JP2000510036A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3140787B2 publication Critical patent/JP3140787B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46Removing components of defined structure
    • B01D53/48Sulfur compounds
    • B01D53/485Sulfur compounds containing only one sulfur compound other than sulfur oxides or hydrogen sulfide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/007Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by irradiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D53/00Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/74General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
    • B01D53/86Catalytic processes
    • B01D53/8603Removing sulfur compounds
    • B01D53/8606Removing sulfur compounds only one sulfur compound other than sulfur oxides or hydrogen sulfide
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/081Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing particle radiation or gamma-radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/087Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B01J19/088Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/12Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
    • B01J19/122Incoherent waves
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2259/00Type of treatment
    • B01D2259/80Employing electric, magnetic, electromagnetic or wave energy, or particle radiation
    • B01D2259/818Employing electrical discharges or the generation of a plasma
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0803Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B01J2219/0805Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
    • B01J2219/0845Details relating to the type of discharge
    • B01J2219/0849Corona pulse discharge
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2219/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J2219/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J2219/0894Processes carried out in the presence of a plasma
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S423/00Chemistry of inorganic compounds
    • Y10S423/09Reaction techniques
    • Y10S423/10Plasma energized

Description

【発明の詳細な説明】 関連出願の引用 本出願は、1995年12月6日に出願された米国仮出願第
60/008,272号の優先権の利益を主張するものである。
発明の背景 発明の分野 本発明は、チタン含有物質の塩素化工程から発生する
硫化カルボニル(COS)を含有する排ガスを低温プラズ
マと接触させる方法に関するものであり、より詳細には
COSのSOx(x=2または3)への選択的酸化に関するも
のである。
関連技術の記述 有毒な有機化合物の処理のためコロナ放電により形成
されたプラズマを用いることは、既知である。例えば、
米国特許第5,254,231号はトリクロロエチレンの削減を
示している。
米国特許第3,783,116号は、無声(コロナ)放電にお
ける硫化カルボニルのイオウ(Sx)およびCOへの分解を
開示している。この方法は、石油精製所からでるCOS、
およびイオウと炭素材料との反応を含む方法におけるCO
Sを削減するのに有用である。COSをイオウ元素の除去後
にCO2に酸化することができることが、さらに開示され
ている。COS分解の間、酸素は存在しない。
これまで、プラズマ発生装置は、チタン含有物質の塩
素化工程から発生する排気流の処理には用いられてこな
かった。流動層反応器におけるチタン含有物質の塩素化
の方法は既知である。適切な方法が下記の米国特許第2,
701,179号、第3,883,636号、第3,591,333号、および第
2,446,181号に開示されており、これらは本明細書に援
用される。そのような方法において、粒子状コークス、
粒子状チタン含有物質、塩素および必要に応じて酸素ま
たは空気(ここで少なくともこれらのうち1つがイオウ
を含む)を反応器に供給する。ガス状四塩化チタン、他
の金属塩化物および非凝縮性気体が、反応器から排気さ
れる。そのようにして生成されたガス状四塩化チタン
は、次いで他の金属塩化物ならびにCOSおよびCOを含む
排ガスから分離することができる。
この塩素化工程において、排ガスからCOSを除くのは
難しく、そしてコスト高なので、COSをSOxに変換するこ
とが望ましい。例えばCOSを除去するのに用いられる1
つの先行の方法は、COSのH2Sへの加水分解およびイオウ
への酸化である。しかしながら、COS加水分解およびイ
オウ生成は、高価であり、多工程を伴う。COSを除去す
るために用いられる別の先行の方法は、熱酸化、すなわ
ち、焼却炉中で排ガスを加熱するものであり、これは燃
料、高価な装置および付加的な処理工程を要するもので
ある。同様に、接触式焼却炉(catalytic incinerato
r)も加熱を要し、そして排ガス中のCOSおよび他の成分
が化学的および物理的に触媒を汚す。焼却炉とともに下
流での除去処理に実質的なコストをかけることなく排ガ
スからCOSを除去する必要がある。付随して、COがCOSの
変換速度を減少もさせないし、COがCOSに比較して著し
く変換されることもない、COS酸化を増進する方法が必
要である。簡潔で、経済的な方法がそれゆえ必要であ
る。本発明は、これらのニーズに合致する。
発明の概要 本発明は、COSを含む排気流を処理する方法(ここで
の排気流はチタン含有物質の塩素化から生成する)を提
供し、 (a)酸素の存在下、排気流を約−20℃から約500℃の
範囲内の温度で、低温プラズマと接触させる工程と、 (b)COSをSOx(xは2または3である)に酸化する工
程と を含む。
排気流はさらにCOを含むことができる。そのような場
合、COの酸化を最小にしてCOSが選択的に酸化される。
排気流がCOSおよびCOを含む場合、COSは選択的にSOxお
よびCOzに酸化される(ここでxは2または3であり、
zは1または2)。好ましくは、低温プラズマの温度
は、約0℃から約300℃、より好ましくは約0℃から約1
50℃の範囲内である。COSのSOxへの酸化は、酸化触媒の
存在下でも非存在下でも起こる。
低温プラズマは、アルファ線、ベータ線、ガンマ線、
紫外線、x線および高エネルギー電子ビームからなる群
から選ばれる電離放射線によって発生させることができ
る。低温プラズマは、高周波、マイクロ波、レーザー誘
発放電、dcまたはacグロー放電、dcまたはacコロナ、ア
ーク放電、無声放電およびコロナ流線(streamer coron
a)からなる群から選ばれる放電により発生させること
もできる。
本発明の方法は、先行の方法よりも累加的にこの方法
を好ましいものとする下記の利点によって特徴づけられ
る。
1.COSは排ガスを著しく加熱せずに酸化される。
2.COSの放出を減少させる。
3.COS除去に必要なエネルギーおよび投資が少なくてす
む。
4.実質的なCO酸化に起因する熱を除かずに、生成するSO
xを低温で排ガスから除くことができる。
5.本方法は、接触式焼却よりも可能な汚れ(foultant
s)に対しより耐性がある。
驚くべきことに、COの存在下低温で、接触が存在しな
い場合でさえ、COSが選択的に酸化されることが発見さ
れた。さらにCOの酸化を最小にしてCOSが、SOxに変換さ
れることが発見された。広範囲にわたるCOの酸化なしに
COSを酸化することは、発熱酸化による温度上昇を最小
にし、そして低温での下流処理工程によるSOxの除去を
容易にする。
発明の詳細な説明 四塩化チタン、チタン含有物質、炭素材料、塩素、お
よび必要に応じて酸素または空気(ここでこれらのうち
少なくとも1つはイオウを含む)を流動層反応器に供給
する。チタン含有物質は、ルチル(rutile)、チタン鉄
鉱(ilmenite)または鋭錐石(anatase)鉱石を含むチ
タン含有鉱石;それらの選鉱;チタン含有副産物または
スラグ(鉱滓);およびそれらの混合物のような、いか
なる適切なチタン原料物質でもよい。本発明に用いるの
に適切な炭素材料は、コークス化工程に用いられてき
た、または実質的に水素を含有しない、いずれかの炭素
材料である。
流動層反応器からのガス性反応生成物を複数の工程に
おいて冷却し、最初の凝縮を得て、塩化鉄のような四塩
化チタン以外の金属酸化物を取り除く。反応器からの残
りの生成物を次いで冷却して、COSおよびCOを含む非凝
縮性排気流を残して四塩化チタンを凝縮する。
本発明の実施にあたり、排気流を酸素含有ガスの存在
下、約−20℃から約500℃、好ましくは約0℃から約300
℃、より好ましくは約0℃から約150℃の範囲内の温度
でプラズマと接触させる。典型的には、プラズマは電離
放射線かまたは放電のどちらかにより発生させる。電離
放射線発生プラズマにおいては、アルファ線、ベータ
線、ガンマ線、紫外線、x線および高エネルギー電子ビ
ーム、等を用いる。放電発生プラズマにおいては、低
圧、高圧および大気圧ガス下での放電を用いることがで
きる。例としては、高周波、マイクロ波またはレーザー
誘導放電;およびdcまたはacグロー放電を含むが、これ
らに限定されない。高圧、低圧または大気圧での放電
は、dcまたはacコロナ、アーク放電、無声放電およびコ
ロナ流線等を典型的に含む。より詳細には、H.Brachhol
d、R.MullerおよびG.Prossの「プラズマ反応」、ウルマ
ンの工業化学百科事典(Ullmann's Encyclopedia of In
dustrial Chemistry)、第A20巻、427〜428頁、(VCH出
版社、Weinheim、FRG、1992)(この教示を本明細書に
援用する)に大変詳細に記載されているように、プラズ
マは自由端子、荷電イオン、中性分子、原子およびラジ
カルからなる電離したガスである。
プラズマは導電性であるが、通常、正と負の荷電担体
の濃度が等しく、電気的に準中性である。「低温」、
「非熱」または「非平衡」プラズマは、ここでは互換的
に用いられ、それらの自由電子はそれらの重いイオンお
よび中性粒子よりもずっと高い温度を有する点で、熱ま
たは平衡プラズマから区別される。プラズマとは、ここ
では上記の通り、プラズマ発生装置から生成する放電と
して包括的に言及する。例えば米国特許第第4,695,358
号、第4,954,320号、第5,236,672号、第5,254,231号に
記載されているコロナ放電反応器、(誘導結合性または
容量結合性)高周波プラズマ反応器、米国特許第3,734,
846号に記載されている流動層からの無声放電、「化学
工学の進歩」、1995年11月、36〜48頁およびその中の参
考文献などに記載されているマイクロ波発生プラズマ反
応器等を考慮する。上記教示の全体の開示は、本明細書
に援用される。低温プラズマを利用する工業的に確立さ
れた方法は、コロナ放電におけるオゾンの発生である。
プラズマが発生するゾーンを通過させることにより、
排ガスがプラズマと接触することは、当業者によって正
しく認識されるだろう。代替的には、排ガスを(空気、
酸素等のようなガスがプラズマ中を通過することにより
発生させた)励起種と接触させることができる。
排ガス酸素を含まない場合、空気、酸素等のような酸
素含有ガスを添加する必要がある。酸素濃度は、モル単
位で、COS濃度の約1から100倍、好ましくは約1から10
倍、そして最も好ましくはCOS濃度の約2から5倍であ
る。必要に応じて、酸素含有ガスまたは排気流に水を添
加することができる。
1から200キロパスカル(0.01から2気圧)、好まし
くは10〜200キロパスカル(0.1から2気圧)およびより
好ましくは20〜200キロパスカル(0.2から2気圧)を用
いることができる。酸化触媒を用いることができる。本
方法は酸化触媒の存在なしでも有利に実施することがで
きることが、本発明において発見された。
COSは、COの存在下、低温で選択的に酸化される。COS
はSOx(ここでx=2または3)に変換され、それは次
いで、任意にクエンチングまたは熱回収の後に、低温で
燃焼生成物から除かれる。COSのSOxへの酸化は、いかな
る酸化触媒の存在下でも、非存在下でも起こりうる。典
型的な触媒には、例えば、担持型酸化クロム、およびあ
る種の卑金属または担持型貴金属触媒を含む。必要なら
ばCOおよびCOSの放出を、付加的な除去工程なしに熱焼
却炉によってさらに制御することができる。その後は、
残っているガスを大気中に放出することができる。
本発明を下記の実施例によって、さらに説明するが、
これらの実施例は本発明の範囲を制限するものとして解
釈してはならない。
実施例 実施例1 Aquarium Stock Company Products社(ベイヨーン、
ニュージャージー州)から入手できるサンダーオゾナイ
ザー(Sander Ozonizer)、モデル100をCOS酸化促進器
として試験した。オゾナイザー、すなわちオゾン化器
は、4ワットの電力定格で空気からO3を100mg/hrまで発
生させられるよう設計された。オゾンを検知するために
ヨウ化物の酸化を用いて、空気および空気/He混合物でO
3容量を試験した。COS/空気/He/COの混合物を周囲温度
で装置に直接かけ、そしてガスクロマトグラフィーによ
って反応生成物を分析して、COS/CO−O2反応におけるコ
ロナ放電電極の効果を試験した。COSは、26%までの変
換率およびCOに比較して優良な選択性を伴って、主にSO
2、COおよびCO2に酸化された。不純物であるH2Sをずっ
と高い効率で除去した。オゾナイザーは、変化されるCO
Sの1bあたり80から180kWhで運転した。COも酸化された
が、程度は低く(<2%)、そして殆どCOS酸化を妨げ
なかった。
結果を下記の表1に示す。下記の表に示されているよ
うに酸素を含み、そして添加化合物を伴った、主として
空気(運転A−C)または空気−He混合物(運転D−
F)の供給速度は、250ミリリットル/分であり、マイ
クロモル/分で示してある。COS含有ガスの処理前のオ
ゾン生成は、100mg/hrの設定で88および96mg/hr、50mg/
hrの設定で60mg/hr、そして100mg/hrの設定であるがHe
中に空気が10%のみの時、5mg/hrと測定された。COS含
有ガスの処理後のオゾン生成は、100mg/hr(空気)の設
定で88mg/hrと測定された。多くのオゾンが生成しない
ような低い空気濃度での所定のオゾナイザーの設定にお
いて、COS除去は存続または改善した。
実施例2 高周波プラズマに基づく実験的オゾン発生器を用い
た。前記装置は、商業的に入手可能なコロナ放電装置よ
りも、より効果的にオゾンを発生させるよう設計され
た。上記で概説されたのと類似の一連のスクリーニング
テストをより大きい出力(70ワット)装置で行った。変
換されるCOSの1bあたり170kWhで約50%、および変換さ
れるCOSの1bあたり90kWhで40%のCOS変換、ならびに5
%未満のCO変換という結果が観測された。
このように、ある程度詳細に本発明を記述および例証
してきたが、下記の請求の範囲に制限されるものではな
く、請求の範囲の各要件についての語句およびそれの均
等物にふさわしい範囲が与えられるものであることを認
識すべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ライク,スティーブン,アーウィン アメリカ合衆国 19808―2913 デラウ ェア州 ウィルミントン ホプキンス ドライブ 3516 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/32 B01D 53/48 B01J 19/08

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】チタン含有物質の塩素化から生成するCOS
    を含む排気流を処理する方法であり、 (a)酸素の存在下、排気流を約−20℃から約500℃の
    範囲内の温度で、低温プラズマと接触させる工程と、 (b)COSをSOx(xは2または3である)に酸化する工
    程と を含むことを特徴とする方法。
  2. 【請求項2】前記排気流はCOSおよびCOを含み、およびC
    OSは選択的にSOxおよびCOzに酸化され、ここでxは2ま
    たは3であり、zは1または2であることを特徴とする
    請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】低温プラズマの温度は、約0℃から約300
    ℃の範囲内であることを特徴とする請求項1または請求
    項2に記載の方法。
  4. 【請求項4】低温プラズマの温度は、約0℃から約150
    ℃の範囲内であることを特徴とする請求項3に記載の方
    法。
  5. 【請求項5】前記プラズマは、アルファ線、ベータ線、
    ガンマ線、紫外線、x線および高エネルギー電子ビーム
    からなる群から選ばれる電離放射線によって発生させる
    ことを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、また
    は請求項4に記載の方法。
  6. 【請求項6】前記プラズマは、高周波、マイクロ波、レ
    ーザー誘発放電、dcまたはacグロー放電、dcまたはacコ
    ロナ、アーク放電、無声放電およびコロナ流線からなる
    群から選ばれる放電により発生させることを特徴とする
    請求項1、請求項2、請求項3、または請求項4に記載
    の方法。
  7. 【請求項7】工程(b)は酸化触媒の非存在下において
    起こることを特徴とする請求項1または請求項2に記載
    の方法。
  8. 【請求項8】工程(b)は酸化触媒の存在下において起
    こることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の
    方法。
JP09521421A 1995-12-06 1996-12-06 チタン含有物質の塩素化工程からの排気流のプラズマ酸化 Expired - Fee Related JP3140787B2 (ja)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US827295P 1995-12-06 1995-12-06
US60/008,272 1995-12-06
US08/761,734 US5824277A (en) 1995-12-06 1996-12-05 Plasma oxidation of an exhaust gas stream from chlorinating titanium-containing material
US761,734 1996-12-05
US08/761,734 1996-12-05
PCT/US1996/019369 WO1997020617A1 (en) 1995-12-06 1996-12-06 Plasma oxidation of an exhaust gas stream from chlorinating titanium-containing material

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000510036A JP2000510036A (ja) 2000-08-08
JP3140787B2 true JP3140787B2 (ja) 2001-03-05

Family

ID=26678016

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP09521421A Expired - Fee Related JP3140787B2 (ja) 1995-12-06 1996-12-06 チタン含有物質の塩素化工程からの排気流のプラズマ酸化

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5824277A (ja)
EP (1) EP0874680B1 (ja)
JP (1) JP3140787B2 (ja)
AU (1) AU710230B2 (ja)
CA (1) CA2239556C (ja)
DE (1) DE69608574T2 (ja)
WO (1) WO1997020617A1 (ja)

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NZ332738A (en) * 1996-05-28 2000-04-28 L & C Steinmuller Africa Propr Fluidized bed treatment of electric arc furnace dust
NO983106D0 (no) * 1998-07-03 1998-07-03 Applied Plasma Physics As Elektrode for bruk ved generering av ikke-termisk plasma
US6455014B1 (en) * 1999-05-14 2002-09-24 Mesosystems Technology, Inc. Decontamination of fluids or objects contaminated with chemical or biological agents using a distributed plasma reactor
US7510536B2 (en) 1999-09-17 2009-03-31 University Of Washington Ultrasound guided high intensity focused ultrasound treatment of nerves
AU2619301A (en) 1999-10-25 2001-06-06 Therus Corporation Use of focused ultrasound for vascular sealing
US6626855B1 (en) 1999-11-26 2003-09-30 Therus Corpoation Controlled high efficiency lesion formation using high intensity ultrasound
CA2528867A1 (en) * 2003-06-12 2004-12-23 Safe Haven, Inc. Methods and apparatus for sterilization of air and objects
WO2005037060A2 (en) * 2003-10-03 2005-04-28 University Of Washington Transcutaneous localization of arterial bleeding by ultrasonic imaging
JP2005161216A (ja) * 2003-12-03 2005-06-23 Japan Atom Energy Res Inst 電子ビーム照射による有害有機物を含んだガスの浄化法
JP5529378B2 (ja) * 2004-08-31 2014-06-25 ユニヴァーシティ オブ ワシントン 狭窄血管における壁振動を評価するための超音波技法
US9066679B2 (en) * 2004-08-31 2015-06-30 University Of Washington Ultrasonic technique for assessing wall vibrations in stenosed blood vessels
US8611189B2 (en) * 2004-09-16 2013-12-17 University of Washington Center for Commercialization Acoustic coupler using an independent water pillow with circulation for cooling a transducer
WO2007021958A2 (en) 2005-08-12 2007-02-22 University Of Washington Method and apparatus for preparing organs and tissues for laparoscopic surgery
US8414494B2 (en) 2005-09-16 2013-04-09 University Of Washington Thin-profile therapeutic ultrasound applicators
US8016757B2 (en) 2005-09-30 2011-09-13 University Of Washington Non-invasive temperature estimation technique for HIFU therapy monitoring using backscattered ultrasound
US8167805B2 (en) 2005-10-20 2012-05-01 Kona Medical, Inc. Systems and methods for ultrasound applicator station keeping
KR100794238B1 (ko) 2005-10-21 2008-01-15 (주)제이디이엔지 플라즈마 자외선 램프 및 마이크로파 주사 발열체를이용한 에너지 절감형 배기가스 처리장치
US9005126B2 (en) * 2007-05-03 2015-04-14 University Of Washington Ultrasonic tissue displacement/strain imaging of brain function
US20160059044A1 (en) 2009-10-12 2016-03-03 Kona Medical, Inc. Energy delivery to intraparenchymal regions of the kidney to treat hypertension
US9119951B2 (en) 2009-10-12 2015-09-01 Kona Medical, Inc. Energetic modulation of nerves
US8986231B2 (en) 2009-10-12 2015-03-24 Kona Medical, Inc. Energetic modulation of nerves
US20110118600A1 (en) 2009-11-16 2011-05-19 Michael Gertner External Autonomic Modulation
US8986211B2 (en) 2009-10-12 2015-03-24 Kona Medical, Inc. Energetic modulation of nerves
US9174065B2 (en) 2009-10-12 2015-11-03 Kona Medical, Inc. Energetic modulation of nerves
US8469904B2 (en) 2009-10-12 2013-06-25 Kona Medical, Inc. Energetic modulation of nerves
US20110092880A1 (en) 2009-10-12 2011-04-21 Michael Gertner Energetic modulation of nerves
US8517962B2 (en) 2009-10-12 2013-08-27 Kona Medical, Inc. Energetic modulation of nerves
US8295912B2 (en) 2009-10-12 2012-10-23 Kona Medical, Inc. Method and system to inhibit a function of a nerve traveling with an artery
JP2014020812A (ja) * 2012-07-13 2014-02-03 Taiyo Nippon Sanso Corp ガス中の硫黄化合物の酸化方法及び硫黄化合物の分析装置
JP2014162663A (ja) * 2013-02-22 2014-09-08 Taiyo Nippon Sanso Corp 試料ガス中の硫黄化合物の酸化方法及び装置並びに分析装置
US8691167B2 (en) * 2012-07-19 2014-04-08 Tronox Llc Process for controlling carbonyl sulfide produced during chlorination of ores
US10925579B2 (en) 2014-11-05 2021-02-23 Otsuka Medical Devices Co., Ltd. Systems and methods for real-time tracking of a target tissue using imaging before and during therapy delivery

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2446181A (en) * 1946-04-03 1948-08-03 Du Pont Process for condensing vaporized metal halides
US2701179A (en) * 1951-02-24 1955-02-01 Du Pont Metal halide production
US3883636A (en) * 1967-11-17 1975-05-13 British Titan Ltd Chlorination process
US3591333A (en) * 1970-04-30 1971-07-06 Ppg Industries Inc Method of chlorinating titanium-bearing materials
US3783116A (en) * 1973-01-26 1974-01-01 Us Interior Decomposition of carbonyl sulfide (cos)in electric charge
FR2430916A1 (fr) * 1978-07-13 1980-02-08 Inst Francais Du Petrole Procede d'oxydation du soufre et des composes du soufre
US4695358A (en) * 1985-11-08 1987-09-22 Florida State University Method of removing SO2, NOX and particles from gas mixtures using streamer corona
US4954320A (en) * 1988-04-22 1990-09-04 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Reactive bed plasma air purification
US5310683A (en) * 1988-11-25 1994-05-10 Sievers Research, Inc. Process for simultaneous measurement of sulfur and non-sulfur containing compounds
US5236672A (en) * 1991-12-18 1993-08-17 The United States Of America As Represented By The United States Environmental Protection Agency Corona destruction of volatile organic compounds and toxics
US5254231A (en) * 1992-08-03 1993-10-19 Battelle Memorial Institute Method and apparatus for chemically altering fluids in continuous flow
DE4236242A1 (de) * 1992-10-27 1994-04-28 Dornier Gmbh Verfahren zur Minderung von Russpartikeln in Abgasströmen

Also Published As

Publication number Publication date
CA2239556C (en) 2001-04-24
JP2000510036A (ja) 2000-08-08
DE69608574D1 (de) 2000-06-29
US5824277A (en) 1998-10-20
CA2239556A1 (en) 1997-06-12
EP0874680B1 (en) 2000-05-24
AU1409597A (en) 1997-06-27
EP0874680A1 (en) 1998-11-04
DE69608574T2 (de) 2001-02-01
AU710230B2 (en) 1999-09-16
WO1997020617A1 (en) 1997-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3140787B2 (ja) チタン含有物質の塩素化工程からの排気流のプラズマ酸化
Mustafa et al. Volatile organic compounds (VOCs) removal in non-thermal plasma double dielectric barrier discharge reactor
CN109200970B (zh) 低温等离子双电场辅助气相反应合成化合物的装置和应用
JPH0611378B2 (ja) 揮発性有機塩素化合物の除去方法
Sun et al. Decomposition of low-concentration gas-phase toluene using plasma-driven photocatalyst reactor
US6576573B2 (en) Atmospheric pressure plasma enhanced abatement of semiconductor process effluent species
JPS625008A (ja) 有毒な有機ハロゲン化物質の分解方法
KR100365368B1 (ko) 저온 플라즈마에 의한 유해가스 처리방법
JPH0669499B2 (ja) フロン類の分解方法
JP4918465B2 (ja) 硫化水素ガスの分解除去方法
JP2001190926A (ja) 流体の処理方法
Fitzsimmons et al. Plasma-assisted synthesis of N2O5 from NO2 in air at atmospheric pressure using a dielectric pellet bed reactor
JP2015157230A (ja) 処理装置および方法
JP3219775B2 (ja) 塩化芳香族化合物の分解法
Kumkova et al. Plasma technology based on high-voltage AC plasma torch
JPS63500096A (ja) 金属塩化物およびメタロイド塩化物の製造の流れの中での有機ハロゲン化合物の減少方法
JP2001300297A (ja) ダイオキシン含有被処理物質の浄化方法
SU860840A1 (ru) Способ очистки анодных газов
Hirota et al. Electron-Beam Decomposition of Carbon Tetrachloride in Air/Nitrogen.
SU526373A1 (ru) Способ очистки вентил ционных выбросов от карбонила никел
JPH01300969A (ja) ハロゲン化非環式炭化水素化合物の分解方法
Haselow et al. Interim report on testing of off-gas treatment technologies for abatement of atmospheric emissions of chlorinated volatile organic compounds
Rosocha The ozonizer discharge as a gas-phase advanced oxidation process
Steinbach et al. The chemical reduction of small inorganic gases in an electrothermal plasma reactor
JPH01281142A (ja) ハロゲン化非環式炭化水素化合物の光分解装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees