JP3136411B2 - 写真カラ−複写装置 - Google Patents

写真カラ−複写装置

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JP3136411B2
JP3136411B2 JP02410014A JP41001490A JP3136411B2 JP 3136411 B2 JP3136411 B2 JP 3136411B2 JP 02410014 A JP02410014 A JP 02410014A JP 41001490 A JP41001490 A JP 41001490A JP 3136411 B2 JP3136411 B2 JP 3136411B2
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    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/72Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
    • G03B27/73Controlling exposure by variation of spectral composition, e.g. multicolor printers
    • G03B27/735Controlling exposure by variation of spectral composition, e.g. multicolor printers in dependence upon automatic analysis of the original

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、感光複写材上に複写原
板を結像する映写手段と、複写原板を複写原板の全体に
わたって延びた走査線の複数の走査区域において測定す
る光電測定装置と、測定装置及び映写手段に連結され、
複写材を露光する複写光量を決定する露光制御装置とを
有する写真カラー複写装置に関する。
【0002】
【従来の技術】この形式のカラー複写装置は、例えば、
ヨーロッパ特許公開第312499号公報により公知で
ある。そこにおいて記述されているカラー複写装置の場
合、実質的に露光を制御する色抽出値は次のようにして
得られる。即ち、多数の各(仮想の)走査区域からなる
複写原板の1本の線が常に露光され、複写原板のすべて
の走査区域からの光がプリズムによって細いスペクトル
片に分光される。スペクトル片に分割されたこの光は列
と行に配置された光電変換器の2次元面に衝突する。こ
の列は複写原板上の走査線と平行して延び、行は列に直
交している。変換器面の1列は、複写原板上の露光され
た走査線の各走査区域と相関しており、その列のすべて
の個々の受光素子は、関連した受光区域の測定光のスペ
クトル片と相関している。2次元の変換器面の各列は、
複写原板上の照明された列の関連する走査区域のレイア
ウトと同一に、互いに隣接して位置している。複写原板
の各走査線の走査は、要求された解像度にあわせて選択
された複写原板を連続的に進行させることにより行われ
る。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】そのため、原板の1本
の全走査線を同時に走査するには2次元面の受光素子を
必要とする。すなわち、その走査線を各走査区域に空間
的に分解するための一方の面と各スペクトル片に分解す
るための他方の面である。全複写原板の同時走査、即
ち、すべての走査線を同時に走査することはそのような
走査装置では不可能であり、そのためには、他の“次
元”の受光素子が要求される。従って、ヨーロッパ特許
公開第312499号公報の複写装置においては、上述
したように複写原板の各線を連続して走査せねばならな
い。
【0004】本発明の目的は、上述した問題を解決し、
全複写原板の同時スペクトル走査のための条件を提供す
ることである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の構成を次の通りとした。即ち、複写原板を
感密複写材上に結像させる映写手段と、前記複写原板を
前記複写原板にわたって伸びた走査線内の複数の走査区
域において測定する光電測定装置と該測定装置及び複写
材を露光する複写光量を決定する前記映写手段に連結さ
れた露光制御装置とよりなる写真複写装置であって、前
記測定装置は、前記複写原板を照明する光源と、前記複
写原板の各走査区域に生じた測定光を検出し、かつグル
ープ状に1本の線に沿って配列された複数の受光素子を
包含し、また、受光素子の前記各グループはその受光素
子列において連続して位置する、受光素子装置と、前記
複写原板の前記走査区域に生ずる測定光を複数の細いス
ペクトル片に光学的に分散する手段と、走査線の前記各
走査区域に生じた測定光が、関連する受光素子の分割さ
れたグループに衝突し、また、走査区域に生じた測定光
の各スペクトル片が、特定の走査区域に関連した受光素
子のグループ内の分割された受光素子に入射するように
して測定光を光学的に受光装置に結像させる手段と、を
包含することを特徴とする。
【0006】
【作用】本発明の複写装置において、空間的及びスペク
トル的に1本の走査線を解像走査するには、1つの“1
次元”面または1列の受光素子のみが必要なだけであ
る。このように、空間的及びスペクトル的な分解はひと
つの次元でなされる。従って、第2の次元は走査線に用
いられる。更に、そのような数本の受光素子の列を隣接
して配置することにより、全走査線の同時走査が可能で
ある。
【0007】本発明による受光素子装置の次元の減少に
は、そのような目的に用いられる電荷結合素子(CC
D)の性質から生じる更に重要な利点がある。経験上か
ら見て、そのような変換器の1次元面(列)は、2次元
面よりも非常に良好な特性を有している。特に、信号ノ
イズ比はより優れている。これによって、連続コンピュ
ータ評価作業(通常、信号の加重値を加えた合計)の結
果を順々に改良するものである。更に、そのような列の
各変換器の電気的な結合は、実際上複雑さが少ない。
【0008】
【実施例】図1は、本発明の理解に必要な最も基本的な
構成要素を図示したものである。この構成要素には、複
写光源1、1組のサーボ制御カラーシャッタ2、結像用
レンズ3、測定光源と受光素子により象徴的に代表され
る光電測定装置4及び電子露出制御装置5が含まれる。
複写光源1からの光によって露光された複写原板Nはレ
ンズ3による感光複写材M上に再製される。ここにおい
て、個々の部分的な露光のための複写光量は、先になさ
れる複写原板の部分的な光電測定と測定値分析に基づい
て決定され、カラーシャッタによって制御される。この
限りにおいて、この複写装置は、ヨーロッパ特許公開3
12499号公報又は西独特許3737775号公開公
報において述べられている装置に相当しており、更なる
説明は不必要である。
【0009】図2は、カラー複写装置の光電測定装置の
軸方向断面を概略的に図示したものである。この装置
は、測定光源40、4枚のレンズ401、402、70
1、702、2枚の適応フィルタ40a及び40b、ス
リットマスク42、2つの部品70a,70bからなる
光学プリズム70、及び受光装置8からなり、電子露出
制御装置5に連結されている。測定光源40、2枚のレ
ンズ401,402及び適応フィルタ40a,40bか
らなる露光装置は従来通りの形状であり、複写原板Nに
対して平行な光を露光する。適応フィルタ40a及び4
0bは、 測定光源の光内において比較的強過ぎるスペ
クトルの構成要素を弱める働きをする。複写原板Nを通
過した光は、スリットマスク42に衝突してそのスリッ
トのみを通過し、それによって、複写原板を多数の個々
の、いわば、走査区域に分割する。そして、最後にレン
ズ701,プリズム70及びレンズ702を通り、受光
素子装置上8に到達する。
【0010】図3は、測定装置4の一部を概略的に図示
したもので、これにより、測定装置4の操作原理は更に
明らかになる。分かり易くするため、露光装置と2枚の
レンズ701及び702は省かれている。また、実際上
のスリットマスク42は、複写原板Nの後の光路内に位
置している。しかし、これでは測定装置の操作原理につ
いて明瞭とならないので、本図においては、スリットマ
スク42がよく見えるように複写原板Nの前の光路内に
図示されている。
【0011】実線41で示された、測定光源40から放
射された測定光はスリットマスク42に衝突しする。ス
リットマスク42は、測定光のためスリット421,4
22,423,〜,431の範囲のみが透明となってい
る。スリット421,422,423等は、マスク42
上の一点鎖線420で示された線に沿って位置してい
る。この線は、複写原板Nの進行方向Fに対して直角方
向に伸びている。したがって、端部に移送用孔を有した
ネガフィル形態の複写原板Nは、その個々の小さな走査
区域が照明される。なお、これらは分かり易くするため
わずかに625−628が示されている。これらの走査
区域は、一点鎖線620で示された線(走査線)に沿っ
たマスク42の光透過スリット421〜431のレイア
ウトにもとずいて、再度複写原板Nの進行方向Fに対し
直角に、複写原板N上に作成される。
【0012】このように、原画Nの進行方向Fに対し直
角な測定装置4の解像度は、マスク42上の線420に
沿って位置するスリットの数と寸法による。通常、ネガ
(24x36mm)の1走査線当りの解像度は約20〜
40走査区域であり、スリットマスクは相当数のスリッ
トを有する。進行方向Fの解像度は、2本の連続する走
査線の間隔、複写原板Nの進行速度及び2本の連続する
走査線の時間の間隔の結果である。ネガ1枚当りの進行
方向Fの解像度は、約30〜50線が通例であり、した
がって、1枚のネガ(24x36mm)は平均して約1
000個の走査区域に解像される。
【0013】走査区域に生じた光は、図2にのみ図示さ
れたレンズ701により平行にされてプリズム70(走
査線720)に衝突する。プリズム70は、その屈折端
710(図3)が走査線620に対して光学的に直角に
延びるようにかつプリズムが走査線620の全走査区域
の光によって露光されるように、光路内に位置してい
る。プリズムは、走査区域からの光をそのスペクトルの
構成要素に分光し、スペクトルの構成要素は図2のみに
図示されたレンズ702を通過して受光素子列81に到
達する。受光素子列81において、受光素子グループは
受光素子列81に沿って互いに連続し、かつ一組の受光
素子グループは1走査区域のすべてのスペクトルに割り
当てられる。例えば、走査区域628からの光は、プリ
ズムのエリア728に衝突する。プリズムのエリア72
8に到達した光のスペクトルの構成要素はレンズ702
を通過し、受光素子列81の受光素子グループ828に
到達する。受光素子グループ828の各単位の受光素子
8281には1つの細いスペクトル片が衝突する。そし
て、各単位の受光素子の電気的出力信号が露光制御装置
5(図1)に発信される。この操作原理は、例えば、ヨ
ーロッパ特許公開第312499号公報によって公知で
ある。同様に、複写原板Nの他の走査区域からの光は、
受光素子列81の他の受光素子グループに衝突する。
(例えば、プリズム70の区域731からの光は受光素
子列81の受光素子グループ831に衝突する。)各受
光素子グループは、複写原板の関連する走査区域と同じ
順序で受光素子列内に整列される。
【0014】図4において、スリットマスク42と複写
原板Nに関連した位置関係が図示されている(光路の反
対方向から見た場合)。複写原板Nを透過した光はスリ
ット421〜431のみを通過することができる。これ
によって、複写原板Nはスリット421〜431の数に
相当する、走査線620(図3)に沿った各走査区域の
数に象徴的に分割される。したがって、そのような走査
線620に沿って作成された走査区域は同時に照明され
る。全体の複写原板は線毎に走査される。ヨーロッパ公
開特許第31299号公報にて叙述された複写装置とは
対照的に、走査線の走査区域の測定に要求されるのは、
2次元の受光素子面の代わりに、単に1次元の受光素子
列のみである。上述されたような1次元受光素子列の特
徴は、2次元受光素子面に比較して、信号/ノイズ比が
良好なことである。
【0015】図5において、測定装置の他の実施例が図
示されている。スリットマスク42′のスリット42
1′〜431′は、走査線に対して直角に、即ち、フィ
ルムNの移送方向に、フィルムNの全結像面62にわた
って延びている。プリズム70(図2及び3)は特定の
大きさに合わせて作られているので、フィルムNを通過
し、続いてスリットマスク42′のスリット421′〜
431′を通過した全部の光は、スペクトルに分光され
る。同様に、レンズ701及び702は十分に大きいの
でフィルムN及びスリットマスク42′を通過した全部
の光は、平行かつ直接に受光素子に到達する。
【0016】受光装置8(図3)において、対応する受
光素子列81,82,83等には各走査線(即ち、走査
区域の各列)が対応する。進行方向Fに対して直角な解
像度は各スリット421′〜431′の数と幅によって
決定されるが、進行方向Fについては、各受光素子列の
間隔によって決定される。図3において、受光素子列8
1,82及び83は分離されて示されている。受光素子
列81,82及び83は、受光素子の列が複写原板N上
のすべての走査線に対し別々に対応せられていることを
象徴的に示している。各受光素子の出力信号は、図3の
ように、ヨーロッパ特許公開第312499号公報にお
いて公知の露光制御装置5に伝達される。全体の結像面
の測定後、フィルムは次の結像面63に移行される。こ
のような測定装置を具備した複写装置は、ヨーロッパ特
許公開第312499号公報において記述された装置と
比較して、2つの重要な利点を有している。まず、第1
に、先に述べたように、1次元受光素子列は、2次元受
光素子面に比較して、信号/ノイズ比が良好であるこ
と、第2に、複写原板全体が同時に計測できることであ
る。更に、複写原板全体の同時走査には、単に個々の受
光素子列からなる1つの2次元受光素子面が必要なだけ
であり、一方、ヨーロッパ特許公開第312499号公
報において記述された複写装置においては、一度に複写
原板の単線を計測するには2次元の面が必要である。
【0017】実際上、マスク42または42′は例えば
透明なディスクからなり、マスク上には蒸着がなされて
いる。マスクの光学的に透明な部分は、複写原板Nの横
端部64(図3,4及び5)を越えて延びてもよい。こ
のようにして、ある複写原板に特有な特質、例えばフィ
ルムのDXコードのようなものが認識される。各フィー
ルド61及び62間の帯部分64(図3,4及び5)も
このようにして走査され、測定結果が公知の工程により
評価される。2つ(又はそれ以上)の部品70a及び7
0bで形成されるプリズム70の組み合わせもまた有利
である、というのは、各受光素子によって検出される波
長間隔を、色解像度も比較的一定であるように、大体等
間隔にすることができるからである。2つの部品70a
及び70bの組み合わせによるプリズム70に特に適し
ているのは、部品70aにはガラスBK7(屈折率:n
1=1.65),部品70bにはガラスSF2(屈折
率:n2=1.52)である。第1の部品70aのプリ
ズム角は、α1=30−35の範囲内で選択され、特に
α1=33.6。が選択される。又、第2の部品70b
のプリズム角は、大体α2=10。であるが、特にα2
=10.03。が選択される。
【0018】又、この複写装置の改変も可能である。例
えば、マスク42は、測定光源の近辺の光路中に位置さ
せてもよいし、直接測定光源に付けてもよい。プリズム
70は2つ以上の部品から構成してもよい。例えば、
“直接視覚プリズム”を得ることができる、即ち、プリ
ズムは、前のように大体一定の色解像度で入射光をスペ
クトルに分光するが、図2とは対照的に、光軸A(図
2)を不変としている。又、複写原板の全体が露光され
たとしても、連続して線毎に受光線を読み取り、複写原
板の全体は線毎に走査される。明らかに、個々の1次元
受光素子列は物理的に結合されて2次元受光素子面とし
てもよいし、又、受光装置は、2次元受光面のように設
計しても良い。それでも、この複写装置は、受光素子面
のたった1本の受光線によって複写原板の走査線のスペ
クトルが測定されるという利点を有している。従って、
複写原板の走査線の走査区域の測定に2次元受光面を必
要とする、例えば、ヨーロッパ特許公開312499号
公報の装置と比較して、いわば、空間的次元が節約でき
る。
【0019】本発明が、その意図又は基本的性質から逸
脱せずに他の特定の形態で具体化できることは明らかで
ある。従って、本実施例は、すべての点において実例で
あると共に限定できないものとみなされる。発明の範囲
は、前述されたものより請求の範囲によって示され、そ
の同等の意味及び範囲に入るすべての変更は本発明に包
含されるものである。
【0020】
【発明の効果】本発明は、以上の説明から明らかなよう
に、1列の受光素子のみで空間的及びスペクトル的に1
本の走査線を走査できると共に、数列の受光素子を隣接
して配置することにより、全複写原板の同時走査が可能
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のカラー複写装置を示す概略全体図であ
る。
【図2】図1のカラー複写装置の全測定装置の概略軸方
向断面図である。
【図3】図1のカラー複写装置の全測定装置の要部を示
す概略図であり、測定装置の基本的な動作原理を説明す
るものである。
【図4】図2のIV−IVの矢印方向から見た平面図
で、一片のネガフィルムの1区画にかかるスリットマス
クを示すものである。
【図5】他の実施例の測定装置を示す平面図である。
【符号の説明】
N 複写原板 M 感光複写材 40 測定光源 41 測定光 42 スリットマスク 421〜431 スリット 620 走査線 625,628 走査区域 8 受光装置 81,82,83受光素子列 828,831 受光素子グループ 8281 受光素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−182365(JP,A) 特開 平1−134353(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H04N 1/04 - 1/207

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複写原板を感光複写材上に結像させる映
    写手段と、 前記複写原板を前記複写原板にわたって伸びた走査線内
    の複数の走査区域において測定する光電測定装置と 該測定装置及び複写材を露光する複写光量を決定する前
    記映写手段に連結された露光制御装置とよりなる写真複
    写装置であって、 前記測定装置は、前記複写原板を照明する光源と、 前記複写原板の各走査区域に生じた測定光を検出し、か
    つグループごとに1本の線に沿って配列された複数の受
    光素子を包含し、また、受光素子の前記各グループはそ
    の受光素子列において連続して位置する、受光素子装置
    と、 前記複写原板の前記走査区域に生ずる測定光を複数の細
    いスペクトル片に光学的に分散する手段と、 走査線の前記各走査区域に生じた測定光が、関連する受
    光素子の分割されたグループに衝突し、また、走査区域
    に生じた測定光の各スペクトル片が、特定の走査区域に
    関連した受光素子のグループ内の分割された受光素子に
    入射するようにして測定光を光学的に受光装置に結像さ
    せる手段と、を包含することを特徴とする写真複写装
    置。
  2. 【請求項2】 光学的に散乱させる前記手段が前記走査
    区域に生じた前記測定光を前記走査線に対し光学的に平
    行に分割し、かつ前記受光素子列が前記走査線に対して
    平行に伸びていることを特徴とする前記請求項1の複写
    装置。
  3. 【請求項3】 複数の前記受光素子と同様に他の走査線
    の走査区域に生じた測定光に露光される少なくとも1本
    の追加された受光素子列が設けられたことを特徴とする
    前記請求項2の複写装置。
  4. 【請求項4】 前記複写原板の各走査線に対し1本の受
    光素子列が設けられたことを特徴とする前記請求項3の
    複写装置。
  5. 【請求項5】 前記受光素子列が1つの受光素子面にお
    いて結合されるかそのような1つの面に形成されること
    を特徴とする前記請求項4の複写装置。
  6. 【請求項6】 前記受光素子が電荷結合光電変換器であ
    ることを特徴とする前記請求項2記載の複写装置。
  7. 【請求項7】 光学的に散乱させる前記手段が更に少な
    くとも一個の光学プリズムを包含し、該プリズムが有す
    る屈折端は前記走査線に対し直角に位置し、かつ走査線
    のすべての走査区域に生ずる測定光に関連して同時に露
    光されることを特徴とする前記請求項2の複写装置。
  8. 【請求項8】 前記複写原板に極く近接してマスク装置
    が設けられ、該マククは1本の走査線内において前記複
    写原板の各走査区域の位置を決定することを特徴とする
    前記請求項7の複写装置。
  9. 【請求項9】 前記マスク装置は多数のスリットを有す
    るスリットマスクであり、該スリットの数は1本の走査
    線の走査区域の数に相当することを特徴とする前記請求
    項8の複写装置。
  10. 【請求項10】 前記スリットマスクは前記複写原板全
    体に伸び、かつ前記走査線に対し直交して伸びるスリッ
    トを包含することを特徴とする前記請求項9の複写装
    置。
  11. 【請求項11】 前記少なくとも1個の光学プリズムが
    2つのプリズムからなり、そのうちの一方のプリズムの
    プリズム角が30〜35°かつ屈折率が1.52であり、他方の
    プリズムのプリズム角が10°かつ屈折率が1.65 である
    ことを特徴とする前記請求項7の複写装置。
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