JP3131240B2 - 窒化ケイ素から製造した光学成形品およびそれらの製法 - Google Patents
窒化ケイ素から製造した光学成形品およびそれらの製法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、窒化ケイ素から製造さ
れた光学材料、および高分子量シラザンの熱分解による
それらの製法、およびそれらの用途に関するものであ
る。
れた光学材料、および高分子量シラザンの熱分解による
それらの製法、およびそれらの用途に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】窒化ケイ素を含有するセラミック光学材
料は、予め処理して好ましい成形品にしたポリシラザン
を熱分解することによって得られる。表面酸化被覆は、
熱分解処理することによって製造することができる。
料は、予め処理して好ましい成形品にしたポリシラザン
を熱分解することによって得られる。表面酸化被覆は、
熱分解処理することによって製造することができる。
【０００３】ポリシラザンを熱分解して窒化ケイ素／炭
化ケイ素含有セラミック材料を得ることは、すでに文献
に記載されている[Ceramic Bulletin、 Vol.62 (1983)、
904-915]。ポリシラザンは一般に、クロロシランを出発
物質として用いて、これをアンモニア、第１または第２
アミンと、あるいはジシラザンと反応させて製造する
(米国特許第４、５４０、８０３号、第４、５４３、３
４４号、第４、５３５、００７号および第４、４８３、
６６９号）。
化ケイ素含有セラミック材料を得ることは、すでに文献
に記載されている[Ceramic Bulletin、 Vol.62 (1983)、
904-915]。ポリシラザンは一般に、クロロシランを出発
物質として用いて、これをアンモニア、第１または第２
アミンと、あるいはジシラザンと反応させて製造する
(米国特許第４、５４０、８０３号、第４、５４３、３
４４号、第４、５３５、００７号および第４、４８３、
６６９号）。
【０００４】ポリシラザンの別の製法は、アミノシラン
を過剰のアンモニアまたは過剰の第１アミンと反応させ
るものである。アミノシランはそれ自体、クロロシラン
とアミンとを反応させることによって製造される（フラ
ンス特許公報第１ ２５ ８３ ４２３号）。例えば、
テトラクロロシランＳｉＣｌ4とメチルアミンからテト
ラキス（メチルアミノ）シランＳｉ（ＮＨＣＨ3）4を得
る：
を過剰のアンモニアまたは過剰の第１アミンと反応させ
るものである。アミノシランはそれ自体、クロロシラン
とアミンとを反応させることによって製造される（フラ
ンス特許公報第１ ２５ ８３ ４２３号）。例えば、
テトラクロロシランＳｉＣｌ4とメチルアミンからテト
ラキス（メチルアミノ）シランＳｉ（ＮＨＣＨ3）4を得
る：
【０００５】
【化１】
【０００６】この後、アミノシランを過剰のアンモニア
と反応させ、全てのメチルアミノ基をＮＨ基に置き換え
る。粘性ないし非常に粘性のポリシラザンが生成され、
これを熱分解すると、７２−７９重量％のセラミック収
率で窒化ケイ素含有材料を得ることができる。この方法
の欠点は、その半分がアミノシランの製造中にアルキル
アミン塩酸塩として沈殿する大量のアルキルアミンを使
用することである。アミノシランから製造される重合体
は粘性であり、従って、処理が難しく、繊維の製造は不
可能である。多くの光学材料が従来技術から公知であ
る。これまで用いられてきた材料［例えば、ガラス、ポ
リシロキサン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ
ｓ）等］は全て、使用可能な温度上限が限られるという
欠点を有する。例えば、ポリメチルメタクリレートは最
高８０−９０℃まで、ガラスは最高８００℃まででしか
用いることができない。
と反応させ、全てのメチルアミノ基をＮＨ基に置き換え
る。粘性ないし非常に粘性のポリシラザンが生成され、
これを熱分解すると、７２−７９重量％のセラミック収
率で窒化ケイ素含有材料を得ることができる。この方法
の欠点は、その半分がアミノシランの製造中にアルキル
アミン塩酸塩として沈殿する大量のアルキルアミンを使
用することである。アミノシランから製造される重合体
は粘性であり、従って、処理が難しく、繊維の製造は不
可能である。多くの光学材料が従来技術から公知であ
る。これまで用いられてきた材料［例えば、ガラス、ポ
リシロキサン、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ
ｓ）等］は全て、使用可能な温度上限が限られるという
欠点を有する。例えば、ポリメチルメタクリレートは最
高８０−９０℃まで、ガラスは最高８００℃まででしか
用いることができない。
【０００７】さらに、ファイバーオプティックスでは、
繊維を完全に取り巻く被覆物を施さなければならない。
例えば、溶解した形の重合体を含有する溶液に繊維を浸
すことによるまたは特殊な回転被覆法による、この種の
被覆物の塗布は、経費がかかりかつ複雑である。
繊維を完全に取り巻く被覆物を施さなければならない。
例えば、溶解した形の重合体を含有する溶液に繊維を浸
すことによるまたは特殊な回転被覆法による、この種の
被覆物の塗布は、経費がかかりかつ複雑である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、すぐれた耐熱性および耐薬品
性そしてすぐれた機械特性を示す光学成形品の簡単な製
法を見いだすことである。
従って、本発明の目的は、すぐれた耐熱性および耐薬品
性そしてすぐれた機械特性を示す光学成形品の簡単な製
法を見いだすことである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明はこの目的を達成
するものである。
するものである。
【００１０】本発明は、高分子量シラザンの熱分解によ
り窒化ケイ素から光学材料を製造する方法において、微
粉砕高分子量シラザンをプレスして成形品を得、その後
これらを熱分解するか、またはまず初めに高分子量シラ
ザンを有機溶剤中に溶解し、この溶液から繊維を引き出
し、溶剤を蒸発させた後これらの繊維を熱分解すること
による、あるいは高分子料シラザンのメルトを製造し、
これらのメルトを流し込み成形、射出成形または押し出
し成形することによって成形品を得、その後成形品を熱
分解することによる上記の方法であって、熱分解中にま
たは熱分解後に、酸素含有雰囲気中で窒化ケイ素成形品
に酸化被覆を生成することよりなる上記の方法を提供す
るものである。この熱分解は、８００−１４００℃で、
アンモニアまたはアンモニア／不活性ガス混合物を含む
雰囲気中で行うのが好ましい。
り窒化ケイ素から光学材料を製造する方法において、微
粉砕高分子量シラザンをプレスして成形品を得、その後
これらを熱分解するか、またはまず初めに高分子量シラ
ザンを有機溶剤中に溶解し、この溶液から繊維を引き出
し、溶剤を蒸発させた後これらの繊維を熱分解すること
による、あるいは高分子料シラザンのメルトを製造し、
これらのメルトを流し込み成形、射出成形または押し出
し成形することによって成形品を得、その後成形品を熱
分解することによる上記の方法であって、熱分解中にま
たは熱分解後に、酸素含有雰囲気中で窒化ケイ素成形品
に酸化被覆を生成することよりなる上記の方法を提供す
るものである。この熱分解は、８００−１４００℃で、
アンモニアまたはアンモニア／不活性ガス混合物を含む
雰囲気中で行うのが好ましい。
【００１１】本方法で製造された、最高１％の炭素、最
高２％の水素および最高１０％の酸素を含有する酸化セ
ラミックの表面被覆を有する窒化ケイ素光学成形品は、
熱分解中の温度が結晶点を越えなければ、非常に透明で
かつ非晶質のものとなる。これに対して、熱分解中の温
度が結晶点を越えると、非晶質窒化ケイ素は結晶質相と
しての窒化ケイ素をいくらか含む。本発明によって製造
された光学成形品は、８００℃を越える温度で用いるこ
とができ、光学センサーまたは光学導波管として用いる
のに特に適している。
高２％の水素および最高１０％の酸素を含有する酸化セ
ラミックの表面被覆を有する窒化ケイ素光学成形品は、
熱分解中の温度が結晶点を越えなければ、非常に透明で
かつ非晶質のものとなる。これに対して、熱分解中の温
度が結晶点を越えると、非晶質窒化ケイ素は結晶質相と
しての窒化ケイ素をいくらか含む。本発明によって製造
された光学成形品は、８００℃を越える温度で用いるこ
とができ、光学センサーまたは光学導波管として用いる
のに特に適している。
【００１２】本発明の光学成形品は、熱分解することに
よって窒化ケイ素に変わるポリシラザンから製造され
る。
よって窒化ケイ素に変わるポリシラザンから製造され
る。
【００１３】適した高分子量シラザンは、アンモニア含
有雰囲気中での熱分解の際のセラミック収率が３０重量
％を大幅に越える全てのシラザンである。この種の高分
子量シラザンについては特に、米国特許第４、７２０、
５３２号および第４、４８２、６６９号、ドイツ特許公
報第３ ７３３ ７２７号および第３７３７ ９２１号
に記載されている。
有雰囲気中での熱分解の際のセラミック収率が３０重量
％を大幅に越える全てのシラザンである。この種の高分
子量シラザンについては特に、米国特許第４、７２０、
５３２号および第４、４８２、６６９号、ドイツ特許公
報第３ ７３３ ７２７号および第３７３７ ９２１号
に記載されている。
【００１４】一般的な溶剤に可溶性のおよび／または可
融性の、従って溶液および／またはメルトから紡糸する
ことができる固体ポリシラザンをもたらすこの種の方法
は、ドイツ特許公報第３ ７３７ ９２１号に記載され
ている。
融性の、従って溶液および／またはメルトから紡糸する
ことができる固体ポリシラザンをもたらすこの種の方法
は、ドイツ特許公報第３ ７３７ ９２１号に記載され
ている。
【００１５】高分子量シラザンの場合、この方法で用い
る出発物質の例は、ジアルキルアミノジクロロシランで
あり、これは有機トリクロロシランおよびジアルキルア
ミンから得ることができる；出発物質を、中性溶剤中、
−８０℃ないし＋７０℃の温度で、少なくとも３．５モ
ルのアンモニアと反応させる。
る出発物質の例は、ジアルキルアミノジクロロシランで
あり、これは有機トリクロロシランおよびジアルキルア
ミンから得ることができる；出発物質を、中性溶剤中、
−８０℃ないし＋７０℃の温度で、少なくとも３．５モ
ルのアンモニアと反応させる。
【００１６】この反応では、まず初めにアンモニア分子
が２つのＳｉＣl官能基と反応して、２つのケイ素原子
間にＮＨ橋をもたらす：
が２つのＳｉＣl官能基と反応して、２つのケイ素原子
間にＮＨ橋をもたらす：
【００１７】
【化２】
【００１８】この反応によってオリゴマー単位が形成さ
れる。その後、ジアルキルアミノ基のいくつかがケイ素
原子から脱離し、架橋高分子量シラザンが形成する。同
時に、末端ジアルキルアミノ基はＮＨ橋で置き換えら
れ、さらに架橋する。
れる。その後、ジアルキルアミノ基のいくつかがケイ素
原子から脱離し、架橋高分子量シラザンが形成する。同
時に、末端ジアルキルアミノ基はＮＨ橋で置き換えら
れ、さらに架橋する。
【００１９】形成された高分子量シラザンはあらゆる一
般的な中性溶剤に溶解し、これは次の構造単位を有す
る：
般的な中性溶剤に溶解し、これは次の構造単位を有す
る：
【００２０】
【化３】
【００２１】［式中、Ｒ″はＲと同じ基になりうるが、
ＲとＲ″とは同じでも異なっていてもよく（１つ以上の
アミノクロロシランをＮＨ3と反応させる場合は異な
る）、 Ｒ＝Ｃ1−Ｃ4アルキル、ビニルまたはフェニル Ｒ´＝Ｃ1−Ｃ4アルキル、そして ｘおよびｙは２つの構造単位のモル分率であり、ｘ＋ｙ
＝１およびｘ＝０．７−０．９５である］ｘとｙとのこ
の調整可能な比は、高分子量シラザンの架橋度および従
って粘度およびセラミックへの加工性を決定する。
ＲとＲ″とは同じでも異なっていてもよく（１つ以上の
アミノクロロシランをＮＨ3と反応させる場合は異な
る）、 Ｒ＝Ｃ1−Ｃ4アルキル、ビニルまたはフェニル Ｒ´＝Ｃ1−Ｃ4アルキル、そして ｘおよびｙは２つの構造単位のモル分率であり、ｘ＋ｙ
＝１およびｘ＝０．７−０．９５である］ｘとｙとのこ
の調整可能な比は、高分子量シラザンの架橋度および従
って粘度およびセラミックへの加工性を決定する。
【００２２】この種のシラザンを熱分解すると、微量の
炭素、水素および酸素を含む非晶質で無色透明な窒化ケ
イ素が得られる。炭素含有量は最高１重量％であり、一
方、水素は２重量％まで、酸素は１０重量％まで存在し
てもよい。
炭素、水素および酸素を含む非晶質で無色透明な窒化ケ
イ素が得られる。炭素含有量は最高１重量％であり、一
方、水素は２重量％まで、酸素は１０重量％まで存在し
てもよい。
【００２３】熱分解はアンモニアまたはアンモニア／不
活性ガス混合物を含む雰囲気中で行う。適した不活性ガ
スの例は、貴ガスアルゴンおよびヘリウムであるが、窒
素も適しており、好ましいのはＮＨ3／貴ガス混合物で
ある。熱分解温度は８００ー１４００℃である。１２０
０℃を越える温度、特に１２００−１４００℃では、α
ー窒化ケイ素を結晶相として含む部分的に非晶質の微結
晶性セラミック材料が形成される。１２００℃未満で
は、非常に透明で、無色の、完全に非晶質の窒化ケイ素
成形品が得られる。
活性ガス混合物を含む雰囲気中で行う。適した不活性ガ
スの例は、貴ガスアルゴンおよびヘリウムであるが、窒
素も適しており、好ましいのはＮＨ3／貴ガス混合物で
ある。熱分解温度は８００ー１４００℃である。１２０
０℃を越える温度、特に１２００−１４００℃では、α
ー窒化ケイ素を結晶相として含む部分的に非晶質の微結
晶性セラミック材料が形成される。１２００℃未満で
は、非常に透明で、無色の、完全に非晶質の窒化ケイ素
成形品が得られる。
【００２４】熱分解温度によって、本方法の熱分解生成
物は、実際に完全に非晶質（１２００℃未満）のあるい
は部分的に結晶質（１２００℃より上）の窒化ケイ素よ
りなる。
物は、実際に完全に非晶質（１２００℃未満）のあるい
は部分的に結晶質（１２００℃より上）の窒化ケイ素よ
りなる。
【００２５】ポリシラザンを用いる利点は、熱分解前で
も、三次元成形品に成形することができることである。
成形は例えば、押し出し成形、流し込み成形、溶融紡糸
成形または微粉砕ポリシラザンのプレス成形によって、
あるいは他の公知の方法によって行うことができる。
も、三次元成形品に成形することができることである。
成形は例えば、押し出し成形、流し込み成形、溶融紡糸
成形または微粉砕ポリシラザンのプレス成形によって、
あるいは他の公知の方法によって行うことができる。
【００２６】このようにして得たポリシラザン成形品を
熱分解し、成形品を熱分解の間または熱分解中、酸素含
有雰囲気にさらし、酸化被覆をその上に生成する。この
ようにして、コアー／クラッド成形品が得られる。これ
らは光学的な用途に特に適している。
熱分解し、成形品を熱分解の間または熱分解中、酸素含
有雰囲気にさらし、酸化被覆をその上に生成する。この
ようにして、コアー／クラッド成形品が得られる。これ
らは光学的な用途に特に適している。
【００２７】酸素処理は、熱分解と同じ温度、好ましく
は１２００℃より上の温度、特に１３００−１４００℃
の範囲の温度で行うことができる。酸化被覆の厚さは、
酸素処理の間、簡単な方法で調整することができる。こ
のように、実施が簡単な時間のかからない方法により、
クラッドを別の処理工程で成形品に施すことなく、コア
ーへのクラッドの接着性がすぐれたかつ限定されたクラ
ッド直径を有する光学物品の製造が可能になる。 本発
明で製造した光学材料は、適当に成形した後、特に光学
導波管として用いることができる。
は１２００℃より上の温度、特に１３００−１４００℃
の範囲の温度で行うことができる。酸化被覆の厚さは、
酸素処理の間、簡単な方法で調整することができる。こ
のように、実施が簡単な時間のかからない方法により、
クラッドを別の処理工程で成形品に施すことなく、コア
ーへのクラッドの接着性がすぐれたかつ限定されたクラ
ッド直径を有する光学物品の製造が可能になる。 本発
明で製造した光学材料は、適当に成形した後、特に光学
導波管として用いることができる。
【００２８】クラッドの屈折率が光学導波管のコアーの
屈折率よりも低いものでなければならないという要件
は、本発明で製造される成形品によって満たされる。と
いうのは、窒化ケイ素セラミックの酸素含有率により、
外側の酸素含有セラミック被覆の屈折率は１．４４−
１．５５であり、一方、窒化ケイ素相の屈折率は１．６
５−２．００（λ＝５４６nm）であるからである。
屈折率よりも低いものでなければならないという要件
は、本発明で製造される成形品によって満たされる。と
いうのは、窒化ケイ素セラミックの酸素含有率により、
外側の酸素含有セラミック被覆の屈折率は１．４４−
１．５５であり、一方、窒化ケイ素相の屈折率は１．６
５−２．００（λ＝５４６nm）であるからである。
【００２９】このようにして得られたこれらの成形品の
別の利点は、耐熱性および耐薬品性がすぐれ、そして機
械的特性がすぐれていることである。従って、このよう
にして得られた成形品は、ためらうことなく８００℃を
越える温度で用いることができ、場合によっては１７０
０℃に至るまで耐熱性であり、そして窒素加圧下、１８
００℃を越える温度で用いることもできる。 酸化被
覆を有する本発明の成形品は、応用分野に応じて成形し
て、各種の物品（例えば、光学導波管、プリズム、セン
サー部材またはレンズ）を得ることができ、そして光学
的に高度なものが求められるあらゆる分野で用いられ
る。
別の利点は、耐熱性および耐薬品性がすぐれ、そして機
械的特性がすぐれていることである。従って、このよう
にして得られた成形品は、ためらうことなく８００℃を
越える温度で用いることができ、場合によっては１７０
０℃に至るまで耐熱性であり、そして窒素加圧下、１８
００℃を越える温度で用いることもできる。 酸化被
覆を有する本発明の成形品は、応用分野に応じて成形し
て、各種の物品（例えば、光学導波管、プリズム、セン
サー部材またはレンズ）を得ることができ、そして光学
的に高度なものが求められるあらゆる分野で用いられ
る。
【００３０】
【実施例】実施例１ ドイツ特許公報第３ ７３３ ７２７号に従って製造し
た高分子量ヒドリドクロロシラザンを３００μmノズル
を通して紡糸してフィラメントを得た。これらのフィラ
メントを２vpm のＯ2を含有するアンモニア雰囲気中、
最終温度１３００℃以下で熱分解した。得られた窒化ケ
イ素フィラメントは、直径が１００μmであり、元素組
成は、ケイ素および窒素の他は、３．４重量％の酸素、
０．８重量％の水素および０．１重量％の炭素であっ
た。
た高分子量ヒドリドクロロシラザンを３００μmノズル
を通して紡糸してフィラメントを得た。これらのフィラ
メントを２vpm のＯ2を含有するアンモニア雰囲気中、
最終温度１３００℃以下で熱分解した。得られた窒化ケ
イ素フィラメントは、直径が１００μmであり、元素組
成は、ケイ素および窒素の他は、３．４重量％の酸素、
０．８重量％の水素および０．１重量％の炭素であっ
た。
【００３１】繊維の横断表面を、エネルギー分散Ｘ線分
析（元素の局部濃度の測定）によって調べた。これか
ら、繊維表面、すなわち横断表面の周囲、の酸素濃度は
繊維内部よりも高いことが分かった。
析（元素の局部濃度の測定）によって調べた。これか
ら、繊維表面、すなわち横断表面の周囲、の酸素濃度は
繊維内部よりも高いことが分かった。
【００３２】屈折率は、２ビーム干渉顕微鏡を使用して
測定した： 周囲部分の屈折率 ｎp＝１．４４
３ 内部の屈折率 ｎi＝１．６５
２ これから、開口数ＮＡ＝√ｎp 2ーｎi 2に対して、 ＮＡ＝０．８０４が得られる。
測定した： 周囲部分の屈折率 ｎp＝１．４４
３ 内部の屈折率 ｎi＝１．６５
２ これから、開口数ＮＡ＝√ｎp 2ーｎi 2に対して、 ＮＡ＝０．８０４が得られる。
【００３３】光学減衰量の測定から、２ｄＢ／cmが得ら
れた。 実施例２ ５％濃度のトルエン（予備精製、ケチル乾燥を行った）
溶液を、ドイツ特許公報第３ ７３３ ７２７号に従っ
て製造した高分子量ヒドリドクロロシラザンから製造し
た。その後、この溶液を用いて、不活性ガス雰囲気およ
びクリーンルーム条件下で、回転被覆により、シリコン
ウエファー上に極めて薄い被覆を施した。シリコンウエ
ファーにＳｉＯ2被覆を行うために、ケイ素に予めセラ
ミックエッチングを施した。次に、トルエンを徐々に蒸
発させ、最後にウエファーをアンモニア雰囲気中（純度
９９．９９９％）、１３００℃以下で熱分解した。
れた。 実施例２ ５％濃度のトルエン（予備精製、ケチル乾燥を行った）
溶液を、ドイツ特許公報第３ ７３３ ７２７号に従っ
て製造した高分子量ヒドリドクロロシラザンから製造し
た。その後、この溶液を用いて、不活性ガス雰囲気およ
びクリーンルーム条件下で、回転被覆により、シリコン
ウエファー上に極めて薄い被覆を施した。シリコンウエ
ファーにＳｉＯ2被覆を行うために、ケイ素に予めセラ
ミックエッチングを施した。次に、トルエンを徐々に蒸
発させ、最後にウエファーをアンモニア雰囲気中（純度
９９．９９９％）、１３００℃以下で熱分解した。
【００３４】得られた窒化ケイ素被覆の厚さは０．１−
４μmであった。被覆の厚さはαーステッパーを用いて
測定した。走査電子顕微鏡で調べたところ、細孔および
亀裂のない窒化ケイ素被覆であることが分かった。
４μmであった。被覆の厚さはαーステッパーを用いて
測定した。走査電子顕微鏡で調べたところ、細孔および
亀裂のない窒化ケイ素被覆であることが分かった。
【００３５】実施例３ ドイツ特許公報第３ ７３３ ７２７号に記載の方法で
製造した直径１００μm、長さ６cmの窒化ケイ素繊維
を、同じ直径のガラス繊維に結合した。このために、繊
維を長さ２cmのガラス細管に押し込むことによって、繊
維の端面を互いに配列させた。こうすることによって、
ガラス管を簡単に局部加熱することにより、繊維を固着
させることができた。機械的な安定化は、小さなＡｌ2
Ｏ3管で行うことができた。この管の中に、結合した繊
維を、ケイ素繊維の自由端が約４cm突き出るように押し
込んだ。その後、繊維を固定するために、管の他方の端
を高温硬化接着剤を用いて封じた。約６ｍの長さのガラ
ス繊維をシングルチャンネル同時分光計にまたは任意に
光ダイオード検知器に接続した。
製造した直径１００μm、長さ６cmの窒化ケイ素繊維
を、同じ直径のガラス繊維に結合した。このために、繊
維を長さ２cmのガラス細管に押し込むことによって、繊
維の端面を互いに配列させた。こうすることによって、
ガラス管を簡単に局部加熱することにより、繊維を固着
させることができた。機械的な安定化は、小さなＡｌ2
Ｏ3管で行うことができた。この管の中に、結合した繊
維を、ケイ素繊維の自由端が約４cm突き出るように押し
込んだ。その後、繊維を固定するために、管の他方の端
を高温硬化接着剤を用いて封じた。約６ｍの長さのガラ
ス繊維をシングルチャンネル同時分光計にまたは任意に
光ダイオード検知器に接続した。
【００３６】この装置を用いて、ガラス燃焼炉中のスペ
クトル分布および放射光の強度変化を測定した。このた
めには、センサーは穴を通して燃焼室に入れ、炎の直前
に位置するように置いた。センサーは、使用特性に変化
をもたらすことなく、希望するだけ何回も使用すること
ができた。
クトル分布および放射光の強度変化を測定した。このた
めには、センサーは穴を通して燃焼室に入れ、炎の直前
に位置するように置いた。センサーは、使用特性に変化
をもたらすことなく、希望するだけ何回も使用すること
ができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルチェルス・ポイケルト ドイツ連邦共和国デー−6238 ホフハイ ム・アム・タウヌス，プラターネンヴェ ーク ８ (72)発明者 ウデ・ショイネマン ドイツ連邦共和国デー−6237 リーダー バッハ，フェルトベルクシュトラーセ 12 (72)発明者 トーマス・シュテーリン ドイツ連邦共和国デー−6238 ホフハイ ム・アム・タウヌス，ウビエールシュト ラーセ 11 (72)発明者 ユルゲン・タイス ドイツ連邦共和国デー−6370 オーバー ウルゼル，ヴァイスキルヒェナー・シュ トラーセ 47 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C04B 35/589 C04B 35/584 D01F 9/10 D06M 11/60 G02B 1/00
Claims (10)
- 【請求項１】 高分子量シラザンの熱分解による窒化ケ
イ素からの光学材料の製法において、微粉砕高分子量シ
ラザンをプレスして成形品を得、その後これらを熱分解
するか、あるいはまず初めに高分子量シラザンを有機溶
剤中に溶解し、この溶液から繊維を引き出し、溶剤を蒸
発させた後これらの繊維を熱分解することにより、ある
いは高分子量シラザンを溶融し、この溶融物を流し込み
成形、射出成形または押し出し成形することによって成
形品を得、その後成形品を熱分解することによる上記の
方法であって、熱分解中にまたは熱分解後に、酸素含有
雰囲気中で窒化ケイ素成形品上に酸化被覆を生成するこ
とよりなる上記の方法。 - 【請求項２】 熱分解を、アンモニアまたはアンモニア
／不活性ガス混合物を含有する雰囲気中、８００−１０
００℃で行う、請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 熱分解中、温度が結晶点を越えない、請
求項１−２の少なくとも１つに記載の方法。 - 【請求項４】 熱分解中、温度が結晶点を越える、請求
項１−２の少なくとも１つに記載の方法。 - 【請求項５】 酸化セラミックの表面被覆が成形品に施
されている、窒化ケイ素からできた光学成形品。
- 【請求項６】 窒化ケイ素が１％以下の炭素、２％以下
の水素および１０％以下の酸素を含有している、請求項
５に記載の光学成形品。 - 【請求項７】 光学材料が透明でかつ非晶質である、請
求項５−６の少なくとも１つに記載の光学成形品。 - 【請求項８】 光学材料が窒化ケイ素を結晶質相とし
て含有している、請求項 ５−７の少なくとも１つに記
載の光学成形品。 - 【請求項９】 ８００℃を越える温度で用いることがで
きる、請求項５−８の少なくとも１つに記載の光学成形
品。 - 【請求項１０】 光学センサーまたは光学導波管として
使用することができる、請求項５−９の少なくとも１つ
に記載の光学成形品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4013306:0 | 1990-04-26 | ||
| DE4013306A DE4013306A1 (de) | 1990-04-26 | 1990-04-26 | Optische formkoerper aus siliziumnitrid, sowie verfahren zu deren herstellung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04228472A JPH04228472A (ja) | 1992-08-18 |
| JP3131240B2 true JP3131240B2 (ja) | 2001-01-31 |
Family
ID=6405132
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03096578A Expired - Fee Related JP3131240B2 (ja) | 1990-04-26 | 1991-04-26 | 窒化ケイ素から製造した光学成形品およびそれらの製法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5358746A (ja) |
| EP (1) | EP0454108B1 (ja) |
| JP (1) | JP3131240B2 (ja) |
| CA (1) | CA2041273A1 (ja) |
| DE (2) | DE4013306A1 (ja) |
| ES (1) | ES2058979T3 (ja) |
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| US9687185B2 (en) | 2005-10-05 | 2017-06-27 | Nikkiso Co., Ltd. | Biological component-measuring unit |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| DE4013306A1 (de) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | Hoechst Ag | Optische formkoerper aus siliziumnitrid, sowie verfahren zu deren herstellung |
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| CN110983487B (zh) * | 2019-08-23 | 2022-06-28 | 苏州纤创智造新材料科技有限公司 | 一种超长氮化硅/二氧化硅核壳结构纳米纤维及其制备方法 |
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- 1990-04-26 DE DE4013306A patent/DE4013306A1/de not_active Withdrawn
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- 1991-04-25 ES ES91106662T patent/ES2058979T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-25 DE DE59102315T patent/DE59102315D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-25 EP EP91106662A patent/EP0454108B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-25 CA CA002041273A patent/CA2041273A1/en not_active Abandoned
- 1991-04-26 JP JP03096578A patent/JP3131240B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 1993-09-27 US US08/127,987 patent/US5358746A/en not_active Expired - Fee Related
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- 1994-07-21 US US08/278,391 patent/US5483614A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4013306A1 (de) | 1991-10-31 |
| US5358746A (en) | 1994-10-25 |
| JPH04228472A (ja) | 1992-08-18 |
| EP0454108B1 (de) | 1994-07-27 |
| ES2058979T3 (es) | 1994-11-01 |
| EP0454108A1 (de) | 1991-10-30 |
| CA2041273A1 (en) | 1991-10-27 |
| US5483614A (en) | 1996-01-09 |
| DE59102315D1 (de) | 1994-09-01 |
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