JP3129751U - 光ディスク製造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光ディスク基板の品質を向上させ、製造コストを削減できる高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置を提供する。
【解決手段】青色光ディスクの製造に適用される。塗布機構３は、光ディスク基板の塗布面に粘稠な液体を噴出可能な塗布ノズル３１を少なくとも一つ有する。高速回転盤６５は、中心に受け軸を有し、受け軸は軸心の方向に沿って粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を支持し、モーターの回転に伴って高速回転することにより、粘稠な液体を塗布面に分布させる。乾燥機構は、光照射ヘッド４２を有し、光照射ヘッド４２は移動可能に高速回転盤６５の上方に配置されている。高速回転盤６５が回転し、粘稠な液体を塗布面に分布させる際、光照射ヘッド４２は光ディスク基板の表面に高エネルギー光線を照射する。
【選択図】図１

Description

本考案は、光ディスク製造装置に関し、詳しく言えば、高エネルギー光線により光ディスク基板の内周の粘稠な液体を半分程度で乾燥させ、粘稠な液体の流動性を変えることにより、粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置に関するものである。

現今、ＣＤ、ＤＶＤ、ＨＤ−ＤＶＤ、ＢＤなどのシリーズの光ディスクに適用される製造方法は、光ディスク基板にスパッタリング、塗布、回転塗布などの工程を施すことである。そののち、紫外線を照射することにより、粘稠な液体を凝固させれば、光ディス製造が完成する。上述の製造方法による光ディスクは、光ディスク基板の塗布面、なお且つ光ディスク基板の表面に記録可能な積層を有する。

周知の二つの光ディスクを結合させるように接着する製造方法は、光ディスク基板の塗布面に粘稠な液体を一回りに塗布し、そののち、光ディスク基板を高速回転させることにより、粘稠な液体を塗布面に分布させることである。しかし、使用する粘稠な液体は、透明の光ディスク基板または積層を有する光ディスク基板の材質と異なる紫外線硬化性組成物である。また、粘稠な液体の表面張力と回転塗布の際の遠心力が原因で粘稠な液体の流動方向が不安定であるため、粘稠な液体の分布が均質にならず、良品の歩合が低下するという問題が発生する。

また、粘稠な液体は回転方法により光ディスク基板の表面に塗布され、かつ遠心力により光ディスク基板の外縁へ流動させられるため、光ディスク基板の軸心に近い部分（内周）に塗布された粘稠な液体は比較的薄く、光ディスク基板の軸心から遠く離れた部分に塗布された粘稠な液体は比較的厚くなり、光ディスク基板表面の内外縁に塗布された粘稠な液体が均質にならないという問題が発生する。特に、新世代の高容量の青色光ディスク（Bluray Disc、ＢＤ）において、光ディスク基板の内外縁で粘稠な液体の分布が均質にならないという問題が良品の歩合に大きな影響を与える。

本考案の主な目的は、粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置を提供することである。本考案は、粘稠な液体を回転塗布する際、高エネルギーＵＶ光線により光ディスク基板内周の粘稠な液体を半分程度で乾燥させ、回転塗布の回転速度により粘稠な液体を光ディスク基板の全面に均質に分布させることである。

上述の目的を達成するために、本考案による高エネルギーＵＶ光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置は、各種類の光ディスクの製造に適用され、塗布機構、高速回転盤および乾燥機構を備える。塗布機構は、光ディスク基板の塗布面に粘稠な液体を噴出可能な塗布ノズルを少なくとも一つ有する。高速回転盤は、中心に受け軸を有し、受け軸は軸心の方向に沿って粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を支持し、そののち、モーターの回転により高速回転することにより、粘稠な液体を塗布面に分布させる。乾燥機構は、光照射ヘッドを有し、光照射ヘッドは移動可能に高速回転盤の上方に配置される。高速回転盤が回転し、粘稠な液体を塗布面に分布させる際、光照射ヘッドは光ディスク基板の表面に高エネルギー光線を照射する。

本考案の実施例において、上述の光照射ヘッドは、光ディスク基板の同心円の内縁から外縁へ徐々に高エネルギー光線を照射することにより、先に内縁の粘稠な液体を乾燥させる。
本考案の実施例において、上述の高速回転盤は回転速度がＭであり、光ディスク基板の同心円の内縁から外縁へ徐々に高エネルギー光線を照射する光照射ヘッドは移動速度がＮで強度がＬであるため、Ｍ、Ｎ、Ｌを調整することにより、内縁の粘稠な液体の厚さを制御することが可能である。

本考案の実施例において、上述の装置はさらに粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を振動させ、粘稠な液体を光ディスク基板の塗布面に均質に分布させる振動機構を含む。
本考案の実施例において、上述の振動機構は機械式振動装置または超音波振動装置である。
本考案の実施例において、上述の振動機構は左向き、右向き、上向、下向に振動するか、或いは、弧状を呈するように振動することが可能である。

上述をまとめてみると、本考案による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置は、先に光ディスク基板の内周の粘稠な液体を乾燥させ、そののち、振動処理を行うことにより、粘稠な液体を光ディスク基板上に均質に分布させるため、製造工程を改善し、粘稠な液体の分布が均質にならないことが原因で接着結合工程の欠陥が発生するという問題を解決することが可能なだけでなく、光ディスク基板の品質を向上させ、製造工程の良品の歩合を高め、欠陥を減少させることが可能である。また、未来の光ディスク技術規格に対応し、製造にかかるコストを大幅に削減し、効率的に品質を向上させることも可能である。従って、本考案は産業上の利用性を満たすと考えられる。

図１は、本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置における機構の配置を示す模式図である。図１に示すように、本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置は、回転機構１、回転可能な取出機構２、塗布機構３、振動機構４および受取機構５から構成され、良品の歩合と生産機能が高く、かつ粘稠な液体の分布が均質にならないことが原因で欠陥が発生するという問題を解決することを可能にする製造装置である。図２は、本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置における振動機構を配置した状態の側面図である。振動機構４は、高速回転盤６５の下方に配置される。また、振動機構４は、機械式振動装置または超音波振動装置を採用することが可能である。また、振動機構４の装着位置が高速回転盤６５の下方であれば好ましい。

回転盤機構１は、数多くの孔座１２を有し、かつ機台に装着される回転盤１１（図中未表示）を有し、孔座１２は偶数で配置され、回転盤１１は心軸１３により制御され、回転と昇降動作を順に行う。また、孔座１２の直径は光ディスク基板より小さく、孔座１２の周縁には光ディスク基板７を支持可能な区域を構成する数多くの突出点１４を有する。
回転可能な取出機構２は、光ディスク基板を取り出し、回転盤機構１の対応する第一孔座１２１と第二孔座１２２上に置く。回転可能な取出機構２は、ツインアーム２１を有し、隣り合う基板送込み区２０から第一基板７１、第二基板７２を吸い取ると同時に、位置を回転盤１１の上方に回転させることが可能である。そののち、ツインアーム２１は第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２を回転盤１１の第一孔座１２１、第二孔座１２２の位置に置く。第一光ディスク基板７１と第二光ディスク基板７２は、記録可能な積層を有する透明の光ディスク基板である。

図３は、本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置における塗布機構の配置を示す模式図である。塗布機構３は、二つの塗布ノズル３１、塗布ノズル３２と、二つの回転可能な上昇ユニット３３、上昇ユニット３４とを有する。二つの光照射ヘッド４２、光照射ヘッド４３は第三孔座１２３、第四孔座１２４の上方に配置され、二つの上昇ユニット３３、上昇ユニット３４は回転盤１１の第三孔座１２３、第四孔座１２４の下方に配置され、かつ回転動作を行いながら、第三孔座１２３、第四孔座１２４上に置かれた第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２を所定の高さまで上昇させる。また、塗布ノズル３１、塗布ノズル３２は、第一光ディスク基板７１、第二光ディスク基板７２の所定の塗布面に粘稠な液体を一回りに塗布する。

続いて、図４は、本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置の粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を示す模式図である。七爪式アーム６１は、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を高速回転盤６５に移転する。そののち、高速回転盤６５は、高速回転方法により粘稠な液体を光ディスク基板に分布させる。続いて、振動機構４は、左向き、右向き、上向、下向に振動するか、或いは、弧状を呈するように振動することにより、粘稠な液体を光ディスク基板に均質に分布させる。そののち、光照射ヘッド４２は起動され、紫外線を照射することにより、光ディスク基板上の粘稠な液体を乾燥させる。

高速回転盤６５は、中心に受け軸６６を有し、受け軸６６は軸心の方向に沿って粘稠な液体が塗布された光ディスク基板７０を支持する。また、受け軸６６は、モーターの回転に伴って高速回転することにより、粘稠な液体を塗布面に分布させる。また、高速回転盤６５は、上方に光照射ヘッド４２を有し、光照射ヘッド４２は移動可能である。高速回転盤６５が回転し、粘稠な液体を塗布面に分布させる際、光照射ヘッド４２は光ディスク基板７０の表面に高エネルギー光線を照射する。また、光照射ヘッド４２は、光ディスク基板７０の同心円の内縁から外縁へ徐々に高エネルギー光線（紫外線）を照射することにより、先に内縁の粘稠な液体を乾燥させる。従って、内縁の粘稠な液体が比較的薄く、外縁の粘稠な液体が比較的厚いという問題を解決することが可能である。また、高速回転盤６５は回転速度がＭであり、光照射ヘッド４２は移動速度がＮで強度がＬであり、かつ光照射ヘッド４２は光ディスク基板７０の同心円の内縁から外縁へ徐々に高エネルギー光線を照射するため、Ｍ、Ｎ、Ｌを調整することにより、内縁の粘稠な液体の厚さを制御することが可能である。図５は、本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置において紫外線の照射を受けながら回転している光ディスク基板の断面図である。

受取装置６は、回転が可能であるように回転軸６０に支持される七爪式アーム６１、紫外線乾燥区域６２、光ディスク検査区６３および光ディスク収集区６４を有する。七爪式アーム６１は、隣り合うように回転盤１１の第五孔座１２５と第六孔座１２６の位置に配置され、回転軸の回転により制御されるため、第一爪アーム６１１により接着結合工程が完了した光ディスク７０を高速回転盤６５に移転し、そののち、回転速度により余分の粘稠な液体を飛ばし、厚さを制御することが可能である。

ここで強調すべきなのは、本実施例は、振動機構を単独に設置することも可能であり、その構造は図２に示す実施例に類似していることである。これにより、機械アームにより接着結合工程が完了した光ディスクを振動機構に移転させて振動させることにより、粘稠な液体を均質に分布させ、そののち、乾燥、検査などの処理を行うことが可能である。また、図１から図８に示す実施例は本考案の一例に過ぎないため、粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を振動させ、光ディスク基板の内部の粘稠な液体を均質に分布させる任意の方法は本考案の請求範囲に属するべきである。また、この技術を熟知している人は上述の方法に従って情況に応じて実施手段を調整することが可能である。
上述した内容は本考案を説明するための一例に過ぎず、本考案を限定することができないため、本考案の精神範疇を逸脱しない限り、別の特殊な形で実施例を表現するのは本考案の請求範囲に属するべきである。

本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置の機構の配置を示す模式図である。 本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置の振動機構を配置した状態の側面図である。 本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置の塗布機構の配置を示す模式図である。 本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置の粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を示す模式図である。 本考案の一実施例による高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる装置の紫外線の照射を受けながら回転する光ディスク基板の状態を示す断面図である。

符号の説明

１ 回転盤機構、２ 回転可能な取出機構、３ 塗布機構、４、 振動機構、５ 受取機構、１１ 回転盤、１２ 孔座、１３ 心軸、１４ 突出点、２０ 基板送込み区、２１ ツインアーム、３１ 塗布ノズル、３２ 塗布ノズル、３３ 上昇ユニット、３４ 上昇ユニット、４２ 光照射ヘッド、６０ 回転軸、６１ 四爪式アーム、６２ 紫外線乾燥域、６３ 光ディスク検査区、６４ 光ディスク収集区、６５ 高速回転盤、６６ 受け軸、７０ 光ディスク、７１ 第一光ディスク基板、７２ 第二光ディスク基板、１２１ 第一孔座、１２２ 第二孔座、１２３ 第三孔座、１２４ 第四孔座、１２５ 第五孔座、１２６ 第六孔座

Claims (6)

1. 青色光ディスクの製造に適用され、高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる光ディスク製造装置であって、
   光ディスク基板の塗布面に粘稠な液体を噴出可能な塗布ノズルを少なくとも一つ有する塗布機構と、
   中心に受け軸を有し、受け軸は軸心の方向に沿って粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を支持し、モーターの回転に伴って高速回転することにより、粘稠な液体を塗布面に分布させる高速回転盤と、
   光照射ヘッドを有し、光照射ヘッドは移動可能に高速回転盤の上方に配置されている乾燥機構と、を備え、
   高速回転盤が回転し、粘稠な液体を塗布面に分布させる際、光照射ヘッドは光ディスク基板の表面に高エネルギー光線を照射することを特徴とする高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる光ディスク製造装置。
2. 光照射ヘッドは、光ディスク基板の同心円の内縁から外縁へ徐々に高エネルギー光線を照射することにより、先に内縁の粘稠な液体を乾燥させることを特徴とする請求項１に記載の高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる光ディスク製造装置。
3. 高速回転盤は、回転速度がＭであり、光ディスク基板の同心円の内縁から外縁へ徐々に高エネルギー光線を照射する光照射ヘッドは移動速度がＮで強度がＬであるため、Ｍ、Ｎ、Ｌを調整することにより、内縁の粘稠な液体の厚さを制御することが可能であることを特徴とする請求項１に記載の高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる光ディスク製造装置。
4. さらに粘稠な液体が塗布された光ディスク基板を振動させることにより、粘稠な液体を光ディスク基板の塗布面に均質に分布させる振動機構を含むことを特徴とする請求項１に記載の高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる光ディスク製造装置。
5. 振動機構は、機械式振動装置と超音波振動装置のいずれか一つであることを特徴とする請求項１に記載の高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる光ディスク製造装置。
6. 振動機構は、左向き、右向き、上向き、下向きに振動するか、或いは、弧状を呈するように振動することが可能であることを特徴とする請求項１に記載の高エネルギー光線により粘稠な液体を光ディスクに均質に分布させる光ディスク製造装置。

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