JP3128825B2 - High frequency coil - Google Patents

High frequency coil

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JP3128825B2
JP3128825B2 JP02400474A JP40047490A JP3128825B2 JP 3128825 B2 JP3128825 B2 JP 3128825B2 JP 02400474 A JP02400474 A JP 02400474A JP 40047490 A JP40047490 A JP 40047490A JP 3128825 B2 JP3128825 B2 JP 3128825B2
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JP
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coil conductor
insulating film
coil
film
conductor
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JP02400474A
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幸夫 坂本
敏己 金子
勝弘 三▲崎▼
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は高周波コイルに関し、
特にたとえばマイクロ波回路等に採用されるチップ型の
高周波コイルに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high-frequency coil,
In particular, the present invention relates to a chip-type high-frequency coil used for a microwave circuit or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の従来技術としては、本件出願人
が特開平2-54903 号において提案した、高周波のマイク
ロ波回路等に採用されるチップ型コイルがある。このチ
ップ型コイルは、基板の表面に一対の端子電極を形成す
るとともに、端子電極にその両端が接続される帯状のコ
イル導体を形成し、端子電極およびコイル導体の表面を
覆うようにポリイミドあるいはポリアミドからなる絶縁
膜を形成するとともに、絶縁膜の少なくとも端子電極部
分をエッチング法により除去して端子電極を露出させた
ものである。
2. Description of the Related Art As a prior art of this kind, there is a chip type coil adopted in a high frequency microwave circuit and the like proposed by the present applicant in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-54903. This chip-type coil has a pair of terminal electrodes formed on the surface of a substrate, a strip-shaped coil conductor connected to both ends of the terminal electrode, and a polyimide or polyamide covering the surface of the terminal electrode and the coil conductor. In addition, an insulating film made of is formed, and at least a terminal electrode portion of the insulating film is removed by an etching method to expose the terminal electrode.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】このチップ型コイルで
は、外部に磁束が漏れてしまい、また、薄膜技術を用い
てコイル導体を形成しているため、導体抵抗が大きく、
Qが低かった。さらに、従来の磁性体基板を用い、この
ようなチップ型コイルを形成した場合、使用可能な周波
数の上限が200MHz程度にとどまるという問題点が
あった。
In this chip type coil, magnetic flux leaks to the outside, and since the coil conductor is formed by using a thin film technique, the conductor resistance is large.
Q was low. Furthermore, when such a chip-type coil is formed using a conventional magnetic substrate, there is a problem that the upper limit of the usable frequency is limited to about 200 MHz.

【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、シ
ールド効果が大きく、Qを向上でき、さらに使用可能な
周波数帯域を拡げることができる、高周波コイルを提供
することである。
[0004] Therefore, a main object of the present invention is to provide a high-frequency coil which has a large shielding effect, can improve Q, and can further expand a usable frequency band.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】この発明は、高透磁率の
磁性体基板、磁性体基板上に形成される第1の絶縁膜、
第1の絶縁膜上に線間を有して形成される薄膜コイル導
体、第1の絶縁膜上にコイル導体と間隔を隔ててかつ一
部においてコイル導体に接続される一対の端子電極、コ
イル導体の表面を覆いかつ端子電極を露出させるように
形成される第2の絶縁膜、および第2の絶縁膜上に形成
される磁性体樹脂膜を備え、第1および第2の絶縁膜を
ポリイミド樹脂またはポリアミド樹脂にて形成し、さら
に、磁性体樹脂膜をコイル導体の線間および端子電極と
コイル導体との間隔において磁性体基板にまで達するよ
うに形成した、高周波コイルである。
According to the present invention, there is provided a magnetic substrate having a high magnetic permeability, a first insulating film formed on the magnetic substrate,
A thin-film coil conductor formed on the first insulating film with a space between the lines; a pair of terminal electrodes on the first insulating film spaced apart from the coil conductor and partially connected to the coil conductor; A second insulating film formed so as to cover the surface of the conductor and expose the terminal electrode; and a magnetic resin film formed on the second insulating film, wherein the first and second insulating films are made of polyimide. This is a high-frequency coil formed of a resin or a polyamide resin, and further formed with a magnetic resin film reaching the magnetic substrate between the coil conductors and between the terminal electrode and the coil conductor.

【0006】[0006]

【作用】コイル導体は、第1の絶縁膜を介して磁性体基
板上に形成され、コイル導体の上部は磁性体を混入した
樹脂(磁性体樹脂膜)によって覆われている。したがっ
て、コイル導体は磁性体基板と磁性体樹脂膜とによって
被覆される。さらに、この磁性体樹脂膜を帯状コイル導
体の線間にも入り込ませるようにしているので、磁性体
基板と磁性体樹脂膜とに囲まれた磁路が形成されること
になる。したがって、磁束が外部に漏れるのは効果的に
防止できる。また、磁性体基板とコイル導体との間およ
びコイル導体間に、低誘電率で平滑性および加工性に優
れるポリイミド樹脂(またはポリアミド樹脂)からなる
絶縁膜(第1および第2の絶縁膜)を形成し、コイル導
体を磁性体で被覆することによって、線間の浮遊容量を
なくすことができ、さらに、磁性体樹脂膜との接着を強
固にできる。
The coil conductor is formed on the magnetic substrate via the first insulating film, and the upper portion of the coil conductor is covered with a resin (magnetic resin film) containing a magnetic material. Therefore, the coil conductor is covered with the magnetic substrate and the magnetic resin film. Further, since the magnetic resin film is inserted between the wires of the strip-shaped coil conductor, a magnetic path surrounded by the magnetic substrate and the magnetic resin film is formed. Therefore, leakage of the magnetic flux to the outside can be effectively prevented. An insulating film (first and second insulating films) made of a polyimide resin (or polyamide resin) having a low dielectric constant and excellent in smoothness and workability is provided between the magnetic substrate and the coil conductor and between the coil conductors. By forming and covering the coil conductor with a magnetic material, the stray capacitance between wires can be eliminated, and the adhesion with the magnetic material resin film can be strengthened.

【0007】[0007]

【発明の効果】この発明によれば、コイル導体は磁性体
によって被覆されるため、磁束の漏れがなくなり、シー
ルド効果が大きくなる。また、高透磁率の磁性体基板を
用いたことにより、コイル導体のインダクタンスが向上
し、また、同じインダクタンスを得る場合、コイル導体
の線長を短くすることができ、Qは向上し、さらに、2
00MHz以上の高周波帯域においても使用ができる。
さらに、コイル導体を平滑性に優れるポリイミド樹脂ま
たはポリアミド樹脂で被覆するようにしたので、線間ど
うしで打ち消し合う磁束を減少させて、狭偏差でインダ
クタンスの大きいコイルが得られる。
According to the present invention, since the coil conductor is covered with the magnetic material, there is no leakage of magnetic flux, and the shielding effect is enhanced. In addition, by using a magnetic substrate having a high magnetic permeability, the inductance of the coil conductor is improved, and when obtaining the same inductance, the wire length of the coil conductor can be shortened, and Q is improved. 2
It can be used in a high frequency band of 00 MHz or more.
Furthermore, since the coil conductor is coated with a polyimide resin or a polyamide resin having excellent smoothness, the magnetic flux that cancels out between lines is reduced, and a coil having a small deviation and a large inductance can be obtained.

【0008】この発明の上述の目的,その他の目的,特
徴および利点は、図面を参照して行う以下の実施例の詳
細な説明から一層明らかとなろう。
The above and other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent from the following detailed description of embodiments with reference to the drawings.

【0009】[0009]

【実施例】図1を参照して、この発明の背景となる高周
波コイル10はチップ型コイルとして構成され、高周波
に対応可能な高透磁率の磁性体基板12を含む。磁性体
基板12の上面両端部は、端子電極14aおよび14b
が形成され、磁性体基板12の上面中央部にはスパイラ
ル状のコイル導体16が形成される。コイル導体16の
外端16aは、図2からよくわかるように端子電極14
aに接続される。端子電極14a,14bおよびコイル
導体16は、たとえば磁性体基板12の上面全面に蒸
着,スパッタリングあるいはイオンプレーティング法等
の薄膜形成技術によりAg導体膜を形成し、端子電極1
4a,14bおよびコイル導体16以外の部分をエッチ
ングにより除去して形成されたものであり、コイル導体
16は、たとえば略幅40μm,厚さ5μmに形成され
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIG. 1, a high frequency coil 10 as a background of the present invention is configured as a chip type coil and includes a magnetic substrate 12 having a high magnetic permeability capable of coping with a high frequency. Both ends of the upper surface of the magnetic substrate 12 are connected to the terminal electrodes 14a and 14b.
Is formed, and a spiral coil conductor 16 is formed in the center of the upper surface of the magnetic substrate 12. The outer end 16a of the coil conductor 16 is connected to the terminal electrode 14 as shown in FIG.
a. The terminal electrodes 14a and 14b and the coil conductor 16 are formed by forming an Ag conductor film on the entire upper surface of the magnetic substrate 12 by a thin film forming technique such as evaporation, sputtering, or ion plating.
The coil conductor 16 is formed by removing portions other than 4a, 14b and the coil conductor 16 by etching. The coil conductor 16 is formed to have a width of approximately 40 μm and a thickness of 5 μm, for example.

【0010】そして、磁性体基板12の上面全面には、
端子電極14a,14bおよびコイル導体16を覆うよ
うに、ポリイミドあるいはポリアミドなどの樹脂からな
る絶縁膜18がコーティングされる。絶縁膜18のう
ち、端子電極14aおよび14b部分はエッチングによ
り除去され、さらに、コイル導体16の内端16b部分
も、エッチングにより除去され、スルーホール20が形
成される。
The entire surface of the upper surface of the magnetic substrate 12 is
An insulating film 18 made of a resin such as polyimide or polyamide is coated so as to cover the terminal electrodes 14a and 14b and the coil conductor 16. In the insulating film 18, the terminal electrodes 14a and 14b are removed by etching, and the inner end 16b of the coil conductor 16 is also removed by etching, so that a through hole 20 is formed.

【0011】また、絶縁膜18の上面には、スルーホー
ル20から端子電極14bに延びるリード導体22が形
成され、リード導体22は上述したコイル導体16と同
様の方法によって形成される。これにより、コイル導体
16の内端16bはスルーホール20内に形成されたリ
ード導体22の一方端に接続され、リード導体22を介
して端子電極14bに接続される。
A lead conductor 22 extending from the through hole 20 to the terminal electrode 14b is formed on the upper surface of the insulating film 18, and the lead conductor 22 is formed by the same method as the above-described coil conductor 16. Thus, the inner end 16b of the coil conductor 16 is connected to one end of the lead conductor 22 formed in the through hole 20, and is connected to the terminal electrode 14b via the lead conductor 22.

【0012】さらに、磁性体基板12の上面全面には、
表面を保護する保護絶縁膜24がコーティングされ、保
護絶縁膜24の端子電極14aおよび14b部分はエッ
チングにより除去される。そして、保護絶縁膜24の上
面全面には、磁性体を混入したペースト状の樹脂26が
形成される。このような高周波コイル10は図3〜図1
1に示す工程順で製造される。
Further, on the entire upper surface of the magnetic substrate 12,
A protective insulating film 24 for protecting the surface is coated, and the terminal electrodes 14a and 14b of the protective insulating film 24 are removed by etching. Then, a paste-like resin 26 containing a magnetic material is formed on the entire upper surface of the protective insulating film 24. Such a high-frequency coil 10 is shown in FIGS.
It is manufactured in the order of steps shown in FIG.

【0013】まず、図3に示すように磁性体基板12を
準備する。磁性体基板12の上面に鏡面研磨を施した
後、磁性体基板12を洗浄する。そして、磁性体基板1
2の上面には、たとえばフォトリソグラフィにより、コ
イル導体16および端子電極14a,14bが形成され
る。まず、図4に示すように、磁性体基板12の上面に
は2層構造からなる導体膜28が形成される。すなわ
ち、磁性体基板12の上面には、密着性を向上させるた
めのチタン膜またはニクロム膜28aをたとえばスパッ
タリングによって形成し、さらに、チタン膜またはニク
ロム膜28aの上面には、導電性のよいAg膜28bを
たとえばスパッタリングによって形成して、導体膜28
が形成される。
First, a magnetic substrate 12 is prepared as shown in FIG. After mirror-polishing the upper surface of the magnetic substrate 12, the magnetic substrate 12 is washed. Then, the magnetic substrate 1
The coil conductor 16 and the terminal electrodes 14a and 14b are formed on the upper surface of 2, for example, by photolithography. First, as shown in FIG. 4, a conductor film 28 having a two-layer structure is formed on the upper surface of the magnetic substrate 12. That is, a titanium film or a nichrome film 28a for improving adhesion is formed on the upper surface of the magnetic substrate 12 by, for example, sputtering, and an Ag film having good conductivity is further formed on the upper surface of the titanium film or the nichrome film 28a. 28b is formed by sputtering, for example, to form a conductor film 28b.
Is formed.

【0014】次に、図5に示すように、導体膜28の上
面には、レジスト膜30がコーティングされる。レジス
ト膜30は、予めコイル導体16および端子電極14
a,14bに応じて設計されたマスクで覆われ、これを
露光してレジスト膜30の残したい部分に光を当てて、
これを現像処理してレジスト膜30の不要部分を除去
し、図5に示す所望のレジスト膜30とする。そして、
磁性体基板12の上面をエッチングすると、レジスト膜
30の形成されていない部分の導体膜28が除去され、
コイル導体16および端子電極14a,14bが形成さ
れる。その後、レジスト膜30をたとえばシンナーなど
によって除去し、図6に示す状態にする。
Next, as shown in FIG. 5, a resist film 30 is coated on the upper surface of the conductor film 28. The resist film 30 is formed in advance by the coil conductor 16 and the terminal electrode 14.
a, which is covered with a mask designed according to 14b.
This is subjected to a developing treatment to remove unnecessary portions of the resist film 30, thereby obtaining a desired resist film 30 shown in FIG. And
When the upper surface of the magnetic substrate 12 is etched, the portion of the conductor film 28 where the resist film 30 is not formed is removed,
The coil conductor 16 and the terminal electrodes 14a and 14b are formed. After that, the resist film 30 is removed by, for example, a thinner or the like, to obtain a state shown in FIG.

【0015】さらに、磁性体基板12の上面には、たと
えばフォトリソグラフィにより、絶縁膜18が形成され
る。まず、図7に示すように、磁性体基板12の上面全
面には、コイル導体16および端子電極14a,14b
を覆うように、たとえばポリイミドやポリアミドなどか
らなる絶縁膜18がコーティングされ、乾燥させる。
Further, an insulating film 18 is formed on the upper surface of the magnetic substrate 12 by, for example, photolithography. First, as shown in FIG. 7, the coil conductor 16 and the terminal electrodes 14a, 14b
Is coated with an insulating film 18 made of, for example, polyimide or polyamide, and dried.

【0016】そして、絶縁膜18の端子電極14a,1
4b部分およびコイル導体16の内端16b以外の部分
を露光する。次にこれを現像(エッチング)すると、露
光させた部分だけが残る。すなわち、図8に示すよう
に、端子電極14a,14b部分が露出するとともに、
スルーホール20が形成され、コイル導体16の内端1
6b部分が露出する。次に、これをチッソガス雰囲気中
において、略400℃に加熱して絶縁膜18を硬化させ
る。なお、絶縁膜18にポリイミドを用い、ポリイミド
が非感光性の場合には、ポジ系レジストを塗布した後、
絶縁膜18の残さない部分を露光して現像すればよい。
The terminal electrodes 14a, 1 of the insulating film 18 are
The portion other than the portion 4b and the inner end 16b of the coil conductor 16 is exposed. Next, when this is developed (etched), only the exposed portion remains. That is, as shown in FIG. 8, while the terminal electrodes 14a and 14b are exposed,
The through hole 20 is formed, and the inner end 1 of the coil conductor 16 is formed.
The portion 6b is exposed. Next, this is heated to approximately 400 ° C. in a nitrogen gas atmosphere to cure the insulating film 18. In addition, when polyimide is used for the insulating film 18 and the polyimide is non-photosensitive, after applying a positive resist,
The remaining portion of the insulating film 18 may be exposed and developed.

【0017】そして、絶縁膜18の表面にたとえばスパ
ッタリングにより導体層を形成した後、上述のコイル導
体16および端子電極14a,14bを形成したのと同
様の方法で、図9に示すように、リード導体22を形成
する。リード導体22の一方端は、スルーホール20を
介してコイル導体16の内端16bに接続され、他方端
は端電極14bに接続される。そして、図10に示すよ
うに、磁性体基板12の上面全面に、たとえばポリイミ
ドやポリアミドからなる保護絶縁膜24をコーティング
し、図11に示すように、保護絶縁膜24の端子14a
および14b部分を、絶縁膜18と同様の方法でエッチ
ングする。そして、保護絶縁膜24の上面全面に、磁性
体を混入した樹脂26を形成して、図1に示すチップ状
の高周波コイル10が形成される。
After a conductor layer is formed on the surface of the insulating film 18 by, for example, sputtering, the lead is formed as shown in FIG. 9 in the same manner as the above-described method of forming the coil conductor 16 and the terminal electrodes 14a and 14b. The conductor 22 is formed. One end of the lead conductor 22 is connected to the inner end 16b of the coil conductor 16 via the through hole 20, and the other end is connected to the end electrode 14b. Then, as shown in FIG. 10, the entire upper surface of the magnetic substrate 12 is coated with a protective insulating film 24 made of, for example, polyimide or polyamide, and as shown in FIG.
And 14b are etched in the same manner as the insulating film 18. Then, a resin 26 containing a magnetic material is formed on the entire upper surface of the protective insulating film 24, and the chip-shaped high-frequency coil 10 shown in FIG. 1 is formed.

【0018】このように形成される高周波コイル10に
おいては、磁性体基板12上にコイル導体16が形成さ
れ、コイル導体16の上部に磁性体を混入した樹脂26
が形成されるので、コイル導体16は磁性体基板12と
樹脂26とによって被覆される。そして、高周波コイル
10自体の小型化が図れる。
In the high-frequency coil 10 formed as described above, the coil conductor 16 is formed on the magnetic substrate 12, and the resin 26 containing the magnetic material is
Is formed, the coil conductor 16 is covered with the magnetic substrate 12 and the resin 26. And the high-frequency coil 10 itself can be reduced in size.

【0019】なお、コイル導体16としては、上述のス
パイラル状のものだけでなく、図12に示すように、磁
性体基板12上にミアンダタイプのコイル導体30を形
成したものについても同様に適用できる。そして、図1
3および図14に示すこの実施例の高周波コイル40
は、磁性体を混入したペースト状の樹脂(磁性体樹脂
膜)42をコイル導体50の上面だけでなく、コイル導
体50の線間にも入り込ませたうえ、さらに樹脂42の
外端を磁性体基板44に接続するようにして、一層シー
ルド効果を上げたものである。
The coil conductor 16 can be applied not only to the above-mentioned spiral conductor but also to a conductor having a meander type coil conductor 30 formed on a magnetic substrate 12 as shown in FIG. . And FIG.
3 and the high-frequency coil 40 of this embodiment shown in FIG.
Is to insert not only the upper surface of the coil conductor 50 but also the paste-like resin (magnetic resin film) 42 mixed with the magnetic material into the space between the coil conductors 50, and further, the outer end of the resin 42 is By connecting to the substrate 44, the shielding effect is further enhanced.

【0020】高周波コイル40は、たとえばフォトリソ
グラフィを利用して、先の実施例とほぼ同様の工程を経
て製造されるので、ここでは、高周波コイル40の製造
工程を簡単に説明する。なお、図14,図16,図1
8,図20および図22の各図は、図15に一点鎖線A
−Aで切断した端面を示す端面図である。
Since the high-frequency coil 40 is manufactured through, for example, photolithography through substantially the same steps as in the previous embodiment, the manufacturing steps of the high-frequency coil 40 will be briefly described here. 14, 16, 1
8, FIG. 20 and FIG. 22 show the dashed line A in FIG.
It is an end elevation which shows the end surface cut | disconnected in -A.

【0021】まず、図15および図16に示すように、
高周波に対応可能な高い透磁率の磁性体基板44を準備
し、磁性体基板44の上面に、たとえばポリイミドやポ
リアミドなどの樹脂からなる所定形状の絶縁膜46をコ
ーティングする。そして、磁性体基板44の上面全面に
は、たとえばスパッタリングなどにより導体膜を形成
し、不要部分をエッチングして除去し、図17および図
18に示すように、絶縁膜46上にコイルパターンを形
成する。すなわち、磁性体基板44の両端部に端子電極
48aおよび48bを、磁性体基板44の中央部にコイ
ル導体50をそれぞれ形成し、コイル導体50の外端5
0aは端子電極48bに接続される。そして、コイル導
体50の内端50bを端子電極48aに接続できるよう
に、図19および図20に示すように、まず、たとえば
ポリイミドやポリアミドなどの樹脂からなる絶縁膜52
をコイル導体50の一部を覆うように形成する。そし
て、絶縁膜52上にたとえばスパッタリングなどによっ
て導体膜を形成し、エッチングして不要部分を除去し、
コイル導体50の内端50bと端子電極48aとを接続
する導体膜54を形成する。
First, as shown in FIGS. 15 and 16,
A magnetic substrate 44 having a high magnetic permeability capable of coping with a high frequency is prepared, and an upper surface of the magnetic substrate 44 is coated with an insulating film 46 having a predetermined shape made of a resin such as polyimide or polyamide. Then, a conductor film is formed on the entire upper surface of the magnetic substrate 44 by, for example, sputtering, and unnecessary portions are removed by etching. As shown in FIGS. 17 and 18, a coil pattern is formed on the insulating film 46. I do. That is, the terminal electrodes 48a and 48b are formed at both ends of the magnetic substrate 44, and the coil conductor 50 is formed at the center of the magnetic substrate 44, respectively.
0a is connected to the terminal electrode 48b. Then, as shown in FIGS. 19 and 20, first, an insulating film 52 made of a resin such as polyimide or polyamide is connected so that the inner end 50b of the coil conductor 50 can be connected to the terminal electrode 48a.
Is formed so as to cover a part of the coil conductor 50. Then, a conductive film is formed on the insulating film 52 by, for example, sputtering or the like, and is etched to remove unnecessary portions.
A conductor film connecting the inner end of the coil conductor and the terminal electrode is formed.

【0022】次いで、図21および図22に示すよう
に、コイル導体50および端子電極48a,48bの一
部を覆うように、磁性体基板44の上面にポリイミドや
ポリアミドなどの樹脂からなる絶縁膜56をコーティン
グする。そして、図13および図14に示すように、磁
性体を混入した樹脂42によってコイル導体50の上部
だけでなくコイル導体50の中央部58や外周部60を
コーティングする。
Next, as shown in FIGS. 21 and 22, an insulating film 56 made of a resin such as polyimide or polyamide is formed on the upper surface of the magnetic substrate 44 so as to cover the coil conductor 50 and part of the terminal electrodes 48a and 48b. Coating. Then, as shown in FIGS. 13 and 14, not only the upper part of the coil conductor 50 but also the central part 58 and the outer peripheral part 60 of the coil conductor 50 are coated with the resin 42 mixed with a magnetic substance.

【0023】このように形成される高周波コイル40で
は、図14に示すように、コイル導体50が磁性体基板
44と樹脂42とによって被覆され、磁性体基板44と
樹脂42とによって磁路62が形成されるので、磁束が
外に漏れず、シールド効果がより一層高められる。した
がって、インダクタンスがさらに向上するとともに、同
じインダクタンスにおけるコイル導体50の線長を短く
することができ、Qがさらに向上する。また、高周波コ
イル40自体をさらに小型化でき、200MHz以上の
高周波帯域においても使用できる。
In the high-frequency coil 40 formed as described above, as shown in FIG. 14, the coil conductor 50 is covered with the magnetic substrate 44 and the resin 42, and the magnetic path 62 is formed by the magnetic substrate 44 and the resin 42. Since it is formed, the magnetic flux does not leak out, and the shielding effect is further enhanced. Therefore, while the inductance is further improved, the wire length of the coil conductor 50 at the same inductance can be shortened, and Q is further improved. Further, the high-frequency coil 40 itself can be further miniaturized, and can be used in a high-frequency band of 200 MHz or more.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の背景となる実施例を示す端面図であ
る。
FIG. 1 is an end view showing an embodiment as a background of the present invention.

【図2】磁性体基板にコイル導体および端子電極を形成
した状態を示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing a state where a coil conductor and terminal electrodes are formed on a magnetic substrate.

【図3】磁性体基板を準備した状態を示す端面図であ
る。
FIG. 3 is an end view showing a state where a magnetic substrate is prepared.

【図4】導体膜を形成した状態を示す端面図である。FIG. 4 is an end view showing a state where a conductor film is formed.

【図5】レジストを形成した状態を示す端面図である。FIG. 5 is an end view showing a state where a resist is formed.

【図6】エッチングしてコイル導体および端子電極を形
成した状態を示す端面図である。
FIG. 6 is an end view showing a state where a coil conductor and a terminal electrode are formed by etching.

【図7】絶縁膜を形成した状態を示す端面図である。FIG. 7 is an end view showing a state where an insulating film is formed.

【図8】絶縁膜をエッチングした状態を示す端面図であ
る。
FIG. 8 is an end view showing a state where an insulating film is etched.

【図9】リード導体を形成した状態を示す端面図であ
る。
FIG. 9 is an end view showing a state where a lead conductor is formed.

【図10】保護絶縁膜を形成した状態を示す端面図であ
る。
FIG. 10 is an end view showing a state where a protective insulating film is formed.

【図11】保護絶縁膜をエッチングした状態を示す端面
図である。
FIG. 11 is an end view showing a state where a protective insulating film is etched.

【図12】他のコイル導体が形成された磁性体基板を示
す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing a magnetic substrate on which another coil conductor is formed.

【図13】図14の実施例の平面図である。FIG. 13 is a plan view of the embodiment of FIG. 14;

【図14】この発明の一実施例を示す端面図である。FIG. 14 is an end view showing one embodiment of the present invention.

【図15】磁性体基板の上面に絶縁樹脂を形成した状態
を示す平面図である。
FIG. 15 is a plan view showing a state where an insulating resin is formed on an upper surface of a magnetic substrate.

【図16】磁性体基板の上面に絶縁樹脂を形成した状態
を示す端面図である。
FIG. 16 is an end view showing a state where an insulating resin is formed on an upper surface of a magnetic substrate.

【図17】導体膜および端子電極を形成した状態を示す
平面図である。
FIG. 17 is a plan view showing a state where a conductor film and terminal electrodes are formed.

【図18】導体膜および端子電極を形成した状態を示す
端面図である。
FIG. 18 is an end view showing a state where a conductor film and a terminal electrode are formed.

【図19】コイル導体の内端と端子電極とを接続した状
態を示す平面図である。
FIG. 19 is a plan view showing a state where an inner end of a coil conductor and a terminal electrode are connected.

【図20】コイル導体の内端と端子電極とを接続した状
態を示す端面図である。
FIG. 20 is an end view showing a state where an inner end of the coil conductor is connected to a terminal electrode.

【図21】絶縁膜を形成した状態を示す平面図である。FIG. 21 is a plan view showing a state where an insulating film is formed.

【図22】絶縁膜を形成した状態を示す端面図である。FIG. 22 is an end view showing a state where an insulating film is formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10,40 …高周波コイル 12,44 …磁性体基板 14a,14b,48a,48b…端子電極 16,50 …コイル導体 18,46,52,56 …絶縁膜 24 …保護絶縁膜 26,42 …磁性体を混入した樹
10, 40 high-frequency coil 12, 44 magnetic substrate 14a, 14b, 48a, 48b terminal electrode 16, 50 coil conductor 18, 46, 52, 56 insulating film 24 protective insulating film 26, 42 magnetic material Mixed resin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭57−50410(JP,A) 特開 昭63−283004(JP,A) 特開 平2−123706(JP,A) 実開 昭49−68621(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01F 17/00 H01F 27/28 - 27/29 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-57-50410 (JP, A) JP-A-63-283004 (JP, A) JP-A-2-123706 (JP, A) 68621 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01F 17/00 H01F 27/28-27/29

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 高透磁率の磁性体基板、 前記磁性体基板上に形成される第1の絶縁膜、 前記第1の絶縁膜上に線間を有して形成される薄膜コイ
ル導体、 前記第1の絶縁膜上に前記コイル導体と間隔を隔ててか
つ一部において前記コイル導体に接続される一対の端子
電極、 前記コイル導体の表面を覆いかつ前記端子電極を露出さ
せるように形成される第2の絶縁膜、および 前記第2の絶縁膜上に形成される磁性体樹脂膜を備え、 前記第1および第2の絶縁膜をポリイミド樹脂またはポ
リアミド樹脂にて形成し、さらに、前記磁性体樹脂膜を
前記コイル導体の前記線間および前記端子電極と前記コ
イル導体との前記間隔において前記磁性体基板にまで達
するように形成した、高周波コイル。
A magnetic substrate having a high magnetic permeability; a first insulating film formed on the magnetic substrate; a thin-film coil conductor formed on the first insulating film with a space between the lines; A pair of terminal electrodes that are spaced apart from and partially connected to the coil conductor on the first insulating film, and are formed so as to cover the surface of the coil conductor and expose the terminal electrodes; A second insulating film; and a magnetic resin film formed on the second insulating film; wherein the first and second insulating films are formed of a polyimide resin or a polyamide resin; A high-frequency coil in which a resin film is formed so as to reach the magnetic substrate at the line interval of the coil conductor and at the interval between the terminal electrode and the coil conductor.
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