KR20040100945A - A coil substrate and a coil device of surface-mounted type - Google Patents

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KR20040100945A KR1020040035046A KR20040035046A KR20040100945A KR 20040100945 A KR20040100945 A KR 20040100945A KR 1020040035046 A KR1020040035046 A KR 1020040035046A KR 20040035046 A KR20040035046 A KR 20040035046A KR 20040100945 A KR20040100945 A KR 20040100945A
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Abstract

PURPOSE: A coil substrate and a surface mount type coil element are provided to manufacture the coil substrate using less number of operations by using a conductive material having a high inductance and a low resistance. CONSTITUTION: A coil substrate includes an insulating substrate(11) and a coil conductive material(20). The coil conductive material is formed by using an electric coating layer on at least one surface of the insulating substrate. A spacing between adjacent conductive materials is less than 20 m. The insulating substrate includes a through hole(12) in a center thereof. The coil conductive material is formed in a spiral shape on both sides of the insulating substrate around the through hole. The coil conductive materials on upper and lower surfaces of the insulating substrate is connected with each other via the through holes.

Description

코일기판 및 표면실장형 코일소자{A COIL SUBSTRATE AND A COIL DEVICE OF SURFACE-MOUNTED TYPE}Coil Substrate and Surface-Mount Coil Device {A COIL SUBSTRATE AND A COIL DEVICE OF SURFACE-MOUNTED TYPE}

본 발명은 민생용 기기, 산업용 기기 등의 전기제품에 폭 넓게 이용되는 코일기판 및 표면실장형 코일소자에 관하며, 더욱 상세하게는 프린트기판 회로기술, 반도체회로 배선기술을 이용하여 적은 공정수로 또한 저원가로 작제할 수 있고, 특히 10kHz에서 20MHz의 주파수범위에서 이용하는 데 적합한 코일기판 및 표면실장형 코일소자에 관한 것이다.The present invention relates to a coil substrate and a surface-mounted coil element widely used in electrical appliances such as consumer equipment and industrial equipment, and more specifically, using a printed circuit circuit technology and a semiconductor circuit wiring technology with a small number of processes. The present invention also relates to a coil substrate and a surface-mounted coil element suitable for use in the frequency range of 10 kHz to 20 MHz, which can be constructed at low cost.

종래 이런 종류의 표면실장형 코일소자는 민생용 기기, 산업용 기기 등의 전기제품에 폭넓게 이용된다. 그 중에서도 소형휴대기기는 기능의 충실화에 따라 각각의 디바이스를 구동시키기 위해 단일 전원에서 다수의 전압을 얻을 필요가 있으며 이와같은 전원용 용도에도 표면실장형 코일소자가 사용되고 있다. 그것들의 소형휴대기기 등에 사용하는 경우의 요구로서는 전기적 절연성이나 신뢰성,초소형화, 저원가화가 중시되고 그 때문에 프린트기판 회로기술, 반도체 회로기술을 응용한 표면코일구조가 제안되고 있다.(일본국 특개평 7-142254호 공보, 일본국 특개평 11-26239호 공보, 일본국 특개평 9-153406호 공보, 일본국 특개평 11-204361호 공보, 일본국 특개 2002-353056호 공보, 일본국 특개 2002-203732호 공보)Conventionally, this type of surface mount coil element is widely used in electrical appliances such as consumer equipment and industrial equipment. Among them, small portable devices need to obtain a plurality of voltages from a single power supply to drive each device according to the enhancement of functions, and surface-mount coil devices are also used for such power supply applications. As a request for use in such small portable devices, electrical insulation, reliability, miniaturization, and low cost have been emphasized. Therefore, a surface coil structure applying printed circuit board technology and semiconductor circuit technology has been proposed. 7-142254, Japanese Patent Laid-Open No. 11-26239, Japanese Patent Laid-Open No. 9-153406, Japanese Patent Laid-Open No. 11-204361, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-353056, Japanese Laid-Open Patent Publication 2002- Publication 203732)

이들의 기술에 의해 구성된 코일은 절연성 기판상에 프린트기판 회로기술, 반도체 회로기술의 응용에 의해 코일패턴을 형성하는 것으로 특히 소형화에 있어서는 종래의 권선형 구조와 비교하여 전기적 특성이나 제품치수의 불균일이 적은 대량생산에 의한 저원가화를 도모할 수 있는 등의 이점이 있다.Coils constructed by these techniques form coil patterns on insulated substrates by application of printed circuit circuit technology and semiconductor circuit technology. In particular, in miniaturization, the electrical characteristics and product dimensions are uneven in comparison with the conventional winding type structures. There are advantages such as low cost due to low mass production.

그러나 코일소자의 이러한 소형, 박형화를 도모하기 위해서는 코일도체의 고집적화(고밀도화)가 필요하지만 종래의 코일구조에서는 고집적화에 한계가 있었다. 예를들어 일본국 특개평 11-204361호 공보의 종래예에서는 다음 기술과 같은 문제점이 있다.However, in order to achieve such a small and thin coil element, high integration (high density) of the coil conductor is required, but there is a limit to high integration in the conventional coil structure. For example, in the conventional example of Japanese Patent Laid-Open No. 11-204361, there are problems as described below.

즉 처음에 바탕도체층(시트층)의 패턴을 형성하고 그 후 에칭에 의해 레지스트 및 바탕도체층을 제거하여 단면형상이 버석모양의 패턴을 형성하지만 도체부 간극의 아스펙트비에 상관없이 그 폭이 20㎛이하가 되면 레지스트 및 바탕도체층의 제거가 곤란하다. 또 바탕도체층의 에칭에 있어서는 패턴가늘어짐 및 패턴근원부가 가늘어지기 때문에 직류저항의 증가, 밀착성 저하에 의한 베이스기판으로부터의패턴박리라는 문제가 발생한다.In other words, the pattern of the base conductor layer (sheet layer) is first formed, and then the resist and the base conductor layer are removed by etching to form a pattern having a shape of a cross-section, but the width of the conductor regardless of the aspect ratio of the gap between conductor portions is formed. When it is 20 micrometers or less, it is difficult to remove a resist and a base conductor layer. In the etching of the ground conductor layer, the pattern becomes thinner and the pattern root portion becomes thinner, which causes problems such as pattern peeling from the base substrate due to an increase in DC resistance and a decrease in adhesion.

또 코일도체에 큰 전류가 흐르는 전원 등의 용도에서는 페라이트 등의 자기코어에 갭을 마련하지만 갭이 고정밀도로 불균일이 없는 것이 요구된다.In addition, in applications such as a power supply in which a large current flows through a coil conductor, a gap is formed in a magnetic core such as ferrite, but the gap is required to be highly precise and free from nonuniformity.

도 1은 본 발명에 관한 코일기판 및 표면실장형 코일소자의 실시예이며, 중앙부를 단면으로 도시하는 외부단자 전극형성전의 사시도.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is an embodiment of a coil substrate and a surface mounted coil element according to the present invention, and is a perspective view before external terminal electrode formation showing a central portion in cross section.

도 2는 본 발명의 실시예이며, 단부구조를 도시하는 외부단자 전극형성전의 사시도.2 is an embodiment of the present invention, a perspective view before forming the external terminal electrode showing the end structure.

도 3은 본 발명의 실시예이며, 외부단자 전극형성후의 외관을 도시하는 사시도.Figure 3 is an embodiment of the present invention, a perspective view showing the appearance after external terminal electrode formation.

도 4는 실시예에서 이용하는 코어구조체의 분해사시도.4 is an exploded perspective view of the core structure used in the embodiment.

도 5는 실시예에서 이용하는 코일기판의 평면도.5 is a plan view of the coil substrate used in the embodiment.

도 6은 상기 코일기판의 제조공정도.6 is a manufacturing process diagram of the coil substrate.

※도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※※ Explanation of symbols about main part of drawing ※

1: 코어구조체 2: T형 페라이트코어1: core structure 2: T-type ferrite core

3,6: 평판부 4: 중앙다리부3,6: Flat part 4: Mid leg part

5: ㄷ자형 페라이트코어 7: 외측다리부5: U-shaped ferrite core 7: outer leg

8: 미소갭 10: 코일기판8: microgap 10: coil substrate

11: 절연판 12: 투공11: insulation plate 12: perforation

15: 표리컨덕트부 20: 코일도체15: front and back conductor portion 20: coil conductor

21: 도출단 전극부 30: 바탕도체층21: lead-out electrode portion 30: the base conductor layer

31: 포트레지스트 32: 전기도금층31: resist 32: electroplating layer

33: 보호수지층 35: 접착제33: protective resin layer 35: adhesive

40: 외부단자전극40: external terminal electrode

본 발명은 상기의 점을 해결하기 위한 것으로 그 제 1목적은 상기 과제를 해결하여 인덕턴스가 높으며 저저항의 코일도체를 갖고 적은 공정수로 작제가 가능한 코일기판 및 표면실장형 코일소자를 제공하는 데에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and a first object thereof is to provide a coil substrate and a surface-mounted coil device having a high inductance, a low resistance coil conductor, and a low number of processes. Is in.

본 발명의 제 2목적은 소형, 고정밀도이며 저원가로 작제할 수 있는 자기코어의 조합으로 이루어지고 고정밀도의 갭을 내측에 가지며 또한 외측이 폐자로 구조의 코어구조체를 구비하고 고인덕턴스로 불균일이 적으며 저저항의 표면실장형 코일소자를 제공하는 데에 있다.The second object of the present invention consists of a combination of small, high precision and low cost magnetic core, has a high precision gap in the inner side, and the outer side has a core structure of the closed structure and the non-uniformity in high inductance. To provide a low-resistance, surface-mounted coil device.

본 발명의 그 외의 목적이나 신규 특징은 후술하는 실시예에 있어서 명백하게 한다.Other objects and novel features of the present invention will become apparent in the following Examples.

상기 목적을 달성하기 위해 본원 청구항 1발명에 관한 코일기판은 절연판의 최소한 한면에 코일도체를 형성한 구성으로, 상기 코일도체가 전기도금층으로 이루어지는 도체부를 갖고 또한 도출단 전극부와 표리컨덕트부를 제거하여 서로 인접하는 도체부사이의 간극이 20㎛이하인 것을 특징으로 하고 있다.In order to achieve the above object, the coil substrate according to the present invention has a structure in which a coil conductor is formed on at least one surface of an insulating plate, and the coil conductor has a conductor portion formed of an electroplating layer, and also removes lead-out electrode portions and front and back conductor portions. The gap between conductor parts adjacent to each other is characterized in that 20 µm or less.

본원 청구항 2의 발명에 관한 코일기판은 청구항 1에 있어서 상기 절연판은 중앙부에 투공을 갖고, 상기 코일도체는 상기 투공 주위의 상기 절연판 표리면에스파이럴상으로 형성되며 표리컨덕트부를 통해 상기 절연판 표리면의 코일도체가 서로 접속되는 것을 특징으로 하고 있다.In the coil substrate according to the present invention of claim 2, the insulation plate has a perforation in the center of the invention, and the coil conductor is formed in a spiral shape on the front and back surfaces of the insulation plate around the perforation, and the insulation plate front and rear surfaces are formed through front and back conductor portions. Coil conductors are connected to each other.

본원 청구항 3의 발명에 관한 코잎기판은 청구항 1 또는 2에 있어서 상기 코일도체의 아스펙트비가 0.2~5인 것을 특징으로 하고 있다.The nose leaf substrate according to the invention of claim 3 is characterized in that the aspect ratio of the coil conductor is 0.2 to 5 according to claim 1 or 2.

본원 청구항 4의 발명에 관한 코일기판은 청구항 1, 2 또는 3에 있어서 상기 절연판은 가라스크로스에 수지를 함침한 것을 특징으로 하고 있다.The coil substrate according to the invention of claim 4 is characterized in that the insulating plate is impregnated with resin in glass cross in claim 1, 2 or 3.

본원 청구항 5의 발명에 관한 코일기판은 청구항 1,2,3 또는 4에 있어서 상기 코일도체는 직류저항이 0.01~10옴인 것을 특징으로 하고 있다.The coil substrate according to the invention of claim 5 of the present invention is characterized in that the coil conductor has a DC resistance of 0.01 to 10 ohms according to claim 1,2,3 or 4.

본원 청구항 6의 발명에 관한 표면실장형 코일소자는 제 1자기코어와 제 2자기코어를 맞대어 이루어지고, 양단부에 있어서 닫힌 외각(外殼)부와 중앙다리부를 갖는 코어구조체와,The surface-mounted coil element according to the present invention of claim 6 includes a core structure which is made to face a first magnetic core and a second magnetic core, and has a closed outer portion and a central leg at both ends thereof;

중앙부에 투공을 갖는 절연판의 표리면에 스파이럴상 코일도체를 형성하고, 표리컨덕트부를 통해 상기 표리면의 스파이럴상 코일도체를 서로 접속한 코일기판과,A coil substrate in which spiral coil conductors are formed on the front and back surfaces of the insulating plate having perforations in the center, and the spiral coil conductors of the front and back surfaces are connected to each other via the front and back conductor portions;

상기 코일도체에 접속하는 외부전극을 구비하고,An external electrode connected to the coil conductor,

상기 중앙다리부가 상기 투공으로 들어간 상태에서 상기 코일기판은 상기 코어구조체의 내측에 배치되며 상기 제 1 및 제 2자기코어는 상기 중앙다리부의 부분에 있어서 갭을 갖는 것을 특징으로 한다.The coil substrate may be disposed inside the core structure in the state where the center leg part enters the through hole, and the first and second magnetic cores may have a gap in a part of the center leg part.

본원 청구항 7의 발명에 관한 표면실장형 코일소자는 청구항 6에 있어서 상기 제 1페라이트코어는 중앙다리부를 가지며, 상기 제 2페라이트코어는 양단부에외측다리부를 갖고 이 외측다리부의 선단면이 상기 제 1페라이트코어에 맞대어 있는 것을 특징으로 한다.In the surface-mounted coil device according to the invention of claim 7, the first ferrite core has a central leg portion, the second ferrite core has outer leg portions at both ends, and the front end surface of the outer leg portion is the first end. It is characterized by facing the ferrite core.

본원 청구항 8의 발명에 관한 표면실장형 코일소자는 청구항 6 또는 청구항 7에 있어서, 상기 갭이 0.1~100㎛인 것을 특징으로 하고 있다.The surface-mounted coil element according to the invention of claim 8 of the present invention is characterized in that the gap is 0.1 to 100 µm according to claim 6 or 7.

이하 본 발명에 관한 코일기판 및 표면실장형 코일소자의 실시예를 도면에 따라 설명한다.Best Mode for Carrying Out the Invention Embodiments of a coil substrate and a surface mounted coil element according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1 내지 도 3은 본 발명에 관한 코일기판 및 표면실장형 코일소자의 실시예를 도시하고, 도 4는 실시예에 있어서 사용하는 코어구조체, 도 5는 코일기판, 도 6은 코일기판에 있어서 형성하는 코일도체의 제조공정을 도시한다.1 to 3 show an embodiment of a coil substrate and a surface mounted coil element according to the present invention, FIG. 4 shows a core structure used in the embodiment, FIG. 5 shows a coil substrate, and FIG. 6 shows a coil substrate. The manufacturing process of the coil conductor to form is shown.

이들의 도면에 있어서 표면실장형 코일소자는 코어구조체(1)와, 그 내부에 배설된 코일기판(10)과, 코일기판(10)의 양면에 형성된 코일도체(20)의 도출단이 접속되는 외부단자전극(40)을 구비하고 있다. 도 3과 같이 외부단자전극(40)은 코어구조체(1)의 양단부에 단면이 ㄷ자모양으로 각각 형성되고 있다.In these drawings, the surface-mounted coil element includes a core structure 1, a coil substrate 10 disposed therein, and a lead end of coil conductors 20 formed on both surfaces of the coil substrate 10 connected thereto. An external terminal electrode 40 is provided. As shown in FIG. 3, the external terminal electrodes 40 are formed at the both ends of the core structure 1 in a c-shaped cross section.

도 4와 같이 상기 코어구조체(1)는 자기코어로서의 T형 페라이트코어(2)와 ㄷ자형 페라이트코어(5)로 이루어져 있다. T형 페라이트코어(2)는 평판부(3)의 중앙부에 중앙다리부(각주볼록부)(4)가 형성된 것이고, ㄷ자형 페라이트코어(5)는 평판부(6)의 양단부에 외측다리부(7)를 형성한 것이며, T형 페라이트코어(2)의 평판부(3)에 ㄷ자형 페라이트코어(5) 외측다리부(7)의 선단면을 마주대게 하는 것으로 실질적으로 폐자로가 된 외각부(평판부(3)(6) 및 외측다리부(7))가 구성됨과 동시에 외각부의 내측에 중앙다리부(4)가 배치되게 된다.As shown in FIG. 4, the core structure 1 includes a T-type ferrite core 2 and a U-shaped ferrite core 5 as magnetic cores. The T-type ferrite core 2 has a center leg portion (footnote convex portion) 4 formed at the center of the plate portion 3, and the U-shaped ferrite core 5 has outer leg portions at both ends of the plate portion 6. (7) formed, and the outer shell which became substantially closed by facing the distal end surface of the c-shaped ferrite core 5 and the outer leg portion 7 to the flat plate portion 3 of the T-type ferrite core 2 The part (flat plate part 3, 6 and the outer leg part 7) is comprised, and the center leg part 4 is arrange | positioned inside the outer part.

여기서 외측다리부(7)보다도 중앙다리부(4)를 약간 짧게 해 두는 것으로 중앙다리부(4)의 선단면과 평판부(6) 사이에 미소갭(8)을 형성할 수 있다. 이 갭(8)은 코일기판(10)의 코일도체(20)에 흐르는 전류로 페라이트코어(2)(5)가 자기포화하는 것을 방지하기 위한 것으로 코어구조체(1)의 외형치수가 초소형(한변이 수 mm이하의 직방체모양)이기 때문에 갭(8)은 바람직하게는 0.1~100㎛, 더욱 바람직하게는 0.1~50㎛로 설정된다. 또한 갭(8)을 0.1㎛미만으로 하는 것은 코어가공 정밀도상 곤란하며 또 100㎛를 넘으면 갭최대가 되어 코일의 인덕턴스가 감소하는 경향이 있다.By making the center leg part 4 slightly shorter than the outer leg part 7, the microgap 8 can be formed between the front end surface of the center leg part 4, and the flat plate part 6 here. The gap 8 is used to prevent self-saturation of the ferrite cores 2 and 5 by the current flowing through the coil conductor 20 of the coil substrate 10. The external dimension of the core structure 1 is very small (one side). Since it is a rectangular parallelepiped of several mm or less), the gap 8 becomes like this. Preferably it is 0.1-100 micrometers, More preferably, it is set to 0.1-50 micrometers. In addition, it is difficult for the gap 8 to be less than 0.1 mu m in terms of core processing accuracy, and when it exceeds 100 mu m, the gap becomes large and the inductance of the coil tends to decrease.

상기 T형 페라이트 코어(2) 및 ㄷ자형 페라이트코어(5)의 형성은 소정 두께의 페라이트기판을 다이아몬드휠 숫돌 등의 지석(砥石)을 이용한 고정밀한 슬라이서로 연삭가공하고, 중앙다리부(4)나 외측다리부(7)를 남겨 불필요한 부분의 두께를 얇게 연삭함으로써 행한다.The formation of the T-type ferrite core 2 and the U-shaped ferrite core 5 is performed by grinding a ferrite substrate having a predetermined thickness into a high precision slicer using a grindstone such as a diamond wheel grindstone, and a center leg portion 4. And left by the outer leg 7 to grind the thickness of the unnecessary portion thinly.

상기 페라이트코어(2)(5)를 작제하기 위한 페라이트기판은 최소한 산화철 및 산화니켈을 포함하는 주성분과, 산화비스머스, 산화버나듐, 산화린 및 산화붕소의 1종류 또는 2종류 이상으로 이루어지는 첨가물과, 산화실리콘으로 이루어지는 제 1부성분과, 산화마그네숨, 산화칼슘, 산화버륨 및 산화스트론튬의 1종 또는 2종 이상으로 이루어지는 제 2부성분을 함유하는 것으로 주성분에 대한 비율은 첨가율이 0.5~15중량%, 제 1부성분 및 제 2부성분이 각각 0.1~10.0중량%이다. 이하에 바람직한 주성분의 조성(중량 %)의 1예를 도시한다.The ferrite substrate for constructing the ferrite cores (2) and (5) comprises at least one main component containing iron oxide and nickel oxide and an additive comprising one or two or more kinds of bismuth oxide, vernadium oxide, chlorine oxide and boron oxide. And a first subcomponent composed of silicon oxide and a second subcomponent composed of one or two or more of magnesium oxide, calcium oxide, verium oxide, and strontium oxide. %, A 1st component, and a 2nd component are 0.1-10.0 weight%, respectively. An example of the composition (weight%) of a preferable main component is shown below.

Fe2O3: 66%Fe 2 O 3 : 66%

CuO : 3%CuO: 3%

ZnO : 20%ZnO: 20%

NiO : 11%NiO: 11%

상기 코일기판(10)은 중앙부에 투공(12)을 갖는 절연판(11)의 표리면에 스파이럴상의 코일도체(20)를 형성한 것으로 투공(12)의 주연부에 형성된 표리컨덕트부(15)(예를들어 컨덕트홀)를 통해 상기 절연판 표리면의 코일도체(20)(도 5에서 이면측의 코일도체의 주회방향은 표측과 동일)가 서로 접속되고 있다. 표측, 이측의 코일도체(20)는 절연판의 한쪽 및 다른쪽 단부의 도출단 전극부(21)에 각각 접속하고 있다.The coil substrate 10 is formed by forming a spiral coil conductor 20 on the front and back surfaces of the insulating plate 11 having the perforations 12 at the center, and the front and back conducting portions 15 formed at the periphery of the perforations 12 ( For example, the coil conductors 20 (the circumferential direction of the coil conductors on the rear surface side in FIG. 5 in the front and back sides in FIG. 5) are connected to each other via conductor holes. The coil conductors 20 on the front and back sides are respectively connected to the lead end electrode portions 21 at one end and the other end of the insulating plate.

상기 코일도체(20)는 도 6의 순서로 작제된다. 우선 도 6(a)과 같이 절연판(11)의 표리면에 바탕도체층(시트층)(30)을 무전해 도금으로 형성하고, 그 위에 포트레지스트(31)를 전착(電着)성막하며, 포트리소그라피법으로 코일도체의 형성패턴에 대응한 선택도금용 마스크 레지스트를 형성한다. 그리고 포트레지스트(31)를 도금마스크로서 바탕도체층(30)이 노출하는 부분에 선택적으로 전기(전해)도금법에 의해 코일도체용 전기도금층(32)을 전착형성시킨다. 단 도 6(a)의 공정에서는 코일도체용 전기도금층(32)의 두께는 아직 작다.The coil conductor 20 is constructed in the order of FIG. First, a base conductor layer (sheet layer) 30 is formed by electroless plating on the front and back surfaces of the insulating plate 11, as shown in FIG. 6 (a), and an electrodeposition film 31 is deposited thereon. A selective plating mask resist corresponding to the coil conductor formation pattern is formed by the photolithography method. Then, the electroplating layer 32 for coil conductors is electrodeposited by the electroplating method selectively on the portion where the base conductor layer 30 is exposed by using the pot resist 31 as a plating mask. However, in the process of Fig. 6A, the thickness of the electroplating layer 32 for coil conductors is still small.

다음에 도 6(b)와 같이 상기 도금마스크로서의 포트레지스트(31)를 제거한 후 코일도체용 전기도금층(32)이 형성되는 부분 이외의 바탕도체층(30)을 에칭하여제거한다.Next, as shown in Fig. 6 (b), the pot resist 31 as the plating mask is removed, and then the underlying conductor layer 30 other than the portion where the electroplating layer 32 for coil conductor is formed is etched and removed.

그 후 도 6(c)과 같이 선택도금 마스크없이 전기도금법에 의해 코일도체용 전기도금층(32)을 전착에 의해 더욱 성장형성시킨다. 이에 따라 전기도금층(32)으로 이루어지는 충분한 두께의 도체부가 얻어지고 서로 인접하는 도체부 사이의 간극(G)이 15㎛이하가 될 때 까지 고밀도로 전기도금층(32)을 성장형성시킬 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 6 (c), the electroplating layer 32 for coil conductors is further grown by electrodeposition by an electroplating method without a selective plating mask. Thereby, the conductor part of sufficient thickness which consists of the electroplating layer 32 is obtained, and the electroplating layer 32 can be grown and formed at high density until the clearance gap G between adjacent conductor parts is 15 micrometers or less.

코일도체용 전기도금층(32)의 형성완료에 의해 코일도체(20)를 절연판(11)의 양면에 다 형성한 후, 도 6(d)과 같이 보호수지층(솔더레지스트)(33)을 절연판(11)의 표리면에 인쇄하고 보호수지층(33)으로 코일도체(20)를 피복하여 보호하는 것으로 코일기판(10)이 완성된다.After the coil conductor 20 is formed on both sides of the insulating plate 11 by the completion of the formation of the electroplating layer 32 for the coil conductor, the protective resin layer (solder resist) 33 is formed as shown in FIG. The coil substrate 10 is completed by printing on the front and back surfaces of (11) and covering and protecting the coil conductor 20 with the protective resin layer 33.

이 코일기판(10)은 코일도체용 전기도금층(32)의 서로 인접하는 도체부 사이의 간극(G)이 15㎛이하가 될 때 까지 고밀도로 전기도금층(32)을 성장형성시킨 코일도체(20)를 양 면에 갖는 것으로 또 코일도체(20)의 아스펙트비(도체부의 높이/폭)도 0.2~5정도로 높게 설정가능하기 때문에 직류저항을 0.01~10옴정도로 까지 저하시킬 수 있으며 코일도체(20)의 전류가 큰 전원용 코일소자로의 적용이 가능하다. 또한 직류저항을 0.01옴미만으로 설정하는 것은 소형코일소자에서는 실현곤란하며 10옴을 넘으면 코일도체(20)의 전류에 의한 발열이 문제가 된다. 또 아스펙트비가 0.2미만에서는 코일도체(20)의 직류저항이 커지고 아스펙트비가 5를 넘으면 전기도금시간의 증대, 코일도체(20) 형성의 불균일 증가 등의 문제가 발생하므로 바람직하지 않다.The coil substrate 10 is a coil conductor 20 in which the electroplating layer 32 is grown and formed at a high density until a gap G between adjacent conductor parts of the electroplating layer 32 for coil conductors is 15 µm or less. ) And the aspect ratio (height / width of the conductor part) of the coil conductor 20 can be set as high as about 0.2 to 5, so that the DC resistance can be reduced to about 0.01 to 10 ohms. It is possible to apply to the coil element for power supply with large current of 20). In addition, setting the DC resistance to less than 0.01 ohms is difficult to realize in a small coil element, and when it exceeds 10 ohms, heat generation due to the current of the coil conductor 20 becomes a problem. If the aspect ratio is less than 0.2, the DC resistance of the coil conductor 20 becomes large, and if the aspect ratio exceeds 5, it is not preferable because problems such as an increase in electroplating time and an uneven increase in the formation of the coil conductor 20 occur.

상기와 같이 코일기판(10)을 작제한 후 도 1과 같이 코일기판(10)측의투공(12)에 T형 페라이트코어(2)의 중앙다리부(4)가 들어간 상태로서 코일기판(10)을 T형 페라이트코어(2)와 ㄷ자형 페라이트코어(5)의 내측에 배치하고, 에폭시계 수지 등의 접착제(35)로 T형 페라이트코어(2)와 ㄷ자형 페라이트코어(5)를 서로 맞댄 상태에서 코어구조체(1)로서 접착 일체화한다.After constructing the coil substrate 10 as described above, as shown in FIG. 1, the central substrate 4 of the T-type ferrite core 2 enters the through-hole 12 on the coil substrate 10 side, and thus the coil substrate 10 is formed. ) Is placed inside the T-type ferrite core 2 and the U-shaped ferrite core 5, and the T-type ferrite core 2 and the U-shaped ferrite core 5 are mutually bonded with an adhesive 35 such as an epoxy resin. Adhesively integrated as the core structure 1 in the facing state.

그 후 도 2의 코일기판(10)의 도출단 전극부(21)의 노출부분을 포함하는 코어구조체(1)의 양단부를 ㄷ자모양으로 둘러싸도록 한쌍의 외부단자전극(40)을 도 3과 같이 형성한다. 외부단자전극(40)의 작제는 Cr, Cu도체층을 마스크스퍼터로 순서대로 형성한 후 바렐도금에 의해 Cu, Ni, Sn의 순으로 전기도금층을 형성하는 것으로 행한다. 이에 따라 상기 도출단 전극부(21)에 접속한(환언하면 코일도체(20)에 접속한) 외부단자전극(40)이 얻어진다.Thereafter, the pair of external terminal electrodes 40 are surrounded by a c-shape so as to surround both ends of the core structure 1 including the exposed portion of the lead-out electrode portion 21 of the coil substrate 10 of FIG. Form. The external terminal electrode 40 is constructed by sequentially forming Cr and Cu conductor layers with a mask sputter, and then forming an electroplating layer in the order of Cu, Ni, and Sn by barrel plating. Thereby, the external terminal electrode 40 connected to the said lead-out electrode part 21 (in other words, connected to the coil conductor 20) is obtained.

또한 도 6의 공정에 있어서는 절연판(11)은 박형으로 충분한 강도를 갖도록 하기 위해 가라스크로스 BT레딘, 폴리이미드, 에폭시 아라미드 등의 수지를 함침한 것이 바람직하다. 또 상기 수지의 유전율은 부유용량의 증대를 회피하기 위해 7이하의 것을 선정한다. 상기 절연판(11)으로서 세라믹도 사용가능하지만 이 경우에도 부유용량의 증대를 회피하기 위해 유전율이 7이하의 것을 선정한다.In the process of Fig. 6, the insulating plate 11 is preferably impregnated with resin such as glass cross BT redin, polyimide, epoxy aramid, and the like in order to have sufficient strength in a thin shape. In addition, the dielectric constant of the resin is selected to 7 or less in order to avoid the increase of the floating capacity. Ceramic may also be used as the insulating plate 11, but in this case, in order to avoid an increase in floating capacity, a dielectric constant of 7 or less is selected.

또 바탕도체층(30)의 금속재료에 Cu를 채용하고 또한 코일도체용 전기도금층(32)의 금속재료에도 Cu를 채용하는 것이 유전율, 원가의 면에서 바람직하지만 Ag 또는 Ni를 채용하는 것도 가능하다.In addition, although Cu is used as the metal material of the base conductor layer 30 and Cu is also used as the metal material of the electroplating layer 32 for coil conductors, it is possible to adopt Ag or Ni in view of permittivity and cost. .

또한 외부단자전극(40)은 Ag 또는 Cu 등의 도체페이스트의 도포, 경화처리에 의해 형성해도 된다.In addition, the external terminal electrode 40 may be formed by applying and curing a conductive paste such as Ag or Cu.

또한 양단부에 있어서 닫힌 외각부와 중앙다리부를 갖는 코어구조체를, 고정밀도 슬라이서에 의한 페라이트기판의 연삭가공으로 작제하는 경우, 양산상의 저원가화를 도모하는 데다가 T자형 페라이트코어(2)와 ㄷ자형 페라이트코어(5)를 조합시킨 실시예의 폐자로 구조가 더욱 바람직하지만 이 코어구조체는 반드시 이 폐자로 구조에 한정되는 것은 아니다.In addition, when a core structure having a closed outer shell and a center leg at both ends is formed by grinding a ferrite substrate by a high precision slicer, the T-shaped ferrite core (2) and the c-shaped ferrite can be reduced in mass production. The core structure of the embodiment in which the core 5 is combined is more preferable, but the core structure is not necessarily limited to this structure.

이 제 1실시예에 의하면 다음과 같은 효과를 얻을 수 있다.According to this first embodiment, the following effects can be obtained.

(1) 코일기판(10)의 코일도체(20)는 전기도금을 이용하여 절연판(11)의 양면에 패턴형성하고 있으며 코일도체(20)를 고밀도로 형성할 수 있기 때문에(서로 인접하는 도체부 사이의 간극(G)을 15㎛이하로 할 수 있기 때문에) 코일도체(20)의 직류저항을 저감할 수 있다. 이 결과 뛰어난 전기적 신뢰성을 가지며 저가로 고아스펙트비의 코일도체(20)를 형성할 수 있다.(1) The coil conductors 20 of the coil substrate 10 are patterned on both sides of the insulating plate 11 by electroplating, and the coil conductors 20 can be formed at a high density (conductive portions adjacent to each other). Since the clearance gap G can be 15 micrometers or less, the DC resistance of the coil conductor 20 can be reduced. As a result, it is possible to form a high aspect ratio coil conductor 20 with excellent electrical reliability.

(2) 코어구조체(1)의 T형 페라이트코어(2)와 ㄷ자형 페라이트코어(5)는 소정 두께의 페라이트기판을 다이아몬드휠 숫돌 등의 지석을 이용한 고정밀 슬라이서로 연삭가공하고, 중앙다리부(4)나 외측다리부(7)를 남겨 불필요한 부분의 두께를 얇게 연삭함으로써 작제할 수 있으며 이들의 코어를 조합하는 것으로 고정밀하게 또한 제품간 불균일이 적은 갭(8) 및 폐자로 구조를 실현할 수 있다.(2) The T-shaped ferrite cores (2) and the U-shaped ferrite cores (5) of the core structure (1) are ground to a high-precision slicer using a grindstone such as a diamond wheel grinding wheel, and the ferrite substrate having a predetermined thickness is formed. 4) or by leaving the outer leg part 7 thin and grinding unnecessary thicknesses, and by combining these cores, the structure can be realized with gaps 8 and closed with high precision and less unevenness between products. .

(3) 소형, 저배(低背)형의 표면실장형 코일소자를 저가 처리에 의해 고정밀한 제품치수로 작제할 수 있고 코일도체(20)가 저저항이며 또한 코어구조체(1)가 고정밀한 갭(8)을 갖는 것으로 10kHz~20MHz의 전원용 코일소자(예를들어 승압용 코일소자)로서 적절히 이용가능하다.(3) Compact, low-profile surface-mounted coil elements can be constructed with high precision by low cost processing, the coil conductor 20 has low resistance, and the core structure 1 has high precision gap. (8) can be suitably used as a coil element for power supply (for example, a boost coil element) of 10 kHz to 20 MHz.

(실시예)(Example)

이하 본 발명에 관한 코일기판 및 표면실장형 코일소자를 실시예로 상술한다.Hereinafter, the coil substrate and the surface mounted coil device according to the present invention will be described in detail by way of examples.

컨덕트홀 및 중앙다리부 관통용의 투공이 가공된 두께가 60㎛의 가라스크로스기판(가라스 크로스에 BT레딘을 함침한 기판)에 대해 그 상하면에 두께 0.1~1㎛의 Cu막을 무전해 도금하여 바탕도체층으로 했다. 다음에 감광성 전착레지스트를 성막하여 포트리소그라피에 의해 코일도체가 되는 스파이럴의 패턴을 가라스 크로스기판의 양면에 형성하고 전류밀도 15A/dm2이하에 있어서 약 20분간의 전기도금을 행하여 높이 35㎛, 폭 35㎛의 Cu도체패턴을 형성했다. 선택도금용 마스크레지스트를 박리후 바탕도체층을 에칭하여 소정의 전류프로파일로 2회째의 전기도금을 행하여 높이 75㎛, 폭 65㎛의 Cu도체 패턴을 형성했다. 이 표면에 Cu의 흑화처리를 실시하고, 그 표면을 솔더잉크 레지스트로 코팅하여 스파이럴패턴의 코일도체가 정열한 웨이퍼(코일기판의 집합체)를 작제했다. 또한 페라이트기판으로의 조립에 있어서 불필요한 부분을 고정밀 슬라이서를 이용하여 슬릿모양으로 잘라냈다.Electroless Cu film with a thickness of 0.1 to 1 µm is coated on the upper and lower surfaces of a glass cross substrate having a thickness of 60 µm (through which the glass cross is impregnated with BT reddin) processed through holes for conducting the conductor hole and the center leg. It plated and used as the base conductor layer. And then forming the pattern of the spiral where the coil conductor by the port lithography by forming a photosensitive electrodeposition resist on the both surfaces of the substrate and go's cross in a current density of 15A / dm 2 or less subjected to electroplating for about 20 minutes height 35㎛, A Cu conductor pattern having a width of 35 µm was formed. After stripping the mask resist for selective plating, the underlying conductor layer was etched and subjected to second electroplating with a predetermined current profile to form a Cu conductor pattern having a height of 75 µm and a width of 65 µm. Cu was blackened on this surface, and the surface was coated with a solder ink resist to prepare a wafer (collective assembly of coil substrates) in which coil conductors of spiral patterns were aligned. In addition, the unnecessary part in the assembly to a ferrite board | substrate was cut out into slit shape using the high precision slicer.

다음에 다이아몬드휠 숫돌을 이용하여 두께 0.77mm의 페라이트기판에, 하나에는 T형 페라이트코어가 되는 볼록모양의 패턴을 또 다른 하나에는 ㄷ자형 페라이트코어가 되는 오목모양 패턴을 고정밀도 슬라이서에 의해 각각 형성했다.Next, a diamond wheel grinding wheel was used to form a ferrite substrate with a thickness of 0.77 mm, one convex pattern to form a T-type ferrite core and the other concave pattern to form a U-shaped ferrite core, respectively, by a high precision slicer. did.

이들의 가공된 스파이럴패턴의 코일도체를 갖는 코일기판의 집합체 및 T형 및 ㄷ자형의 페라이트코어의 집합체를 에폭시계의 접착제를 이용하여 150℃분위기안에서 가압하면서 접착을 했다. 접착된 기판의 T형 페라이트코어 배판부분을 고정밀도 슬라이서에 의해 0.77mm의 두께 까지 평탄하게 연삭한 후 다이서에 의해 칩화를 행하여 각각의 소자를 작제했다.The assembly of coil substrates having these coiled spiral coil conductors and the aggregates of T-type and U-shaped ferrite cores were bonded while pressing in an atmosphere of 150 ° C. using an epoxy adhesive. The T-type ferrite core backplate portion of the bonded substrate was ground to a thickness of 0.77 mm with a high precision slicer, and then chipped with a dicer to fabricate each device.

그 후 회로접속용 유저단자가 되는 외부단자전극을 형성하므로 패럴연마를 행한 후 단자면의 Cu(도출단 전극부)를 웨이트처리와 드라이처리의 양쪽을 이용하여 세정하고, 마스크스퍼터법에 의해 Cr 및 Cu를 연속적으로 성막했다. 이에 Cu, Ni, Sn의 패럴도금을 실시하여 제품사이즈 종 3mm X 횡 2.6mm X 높이 0.8mm의 표면실장형 코일소자를 작제할 수 있었다.After that, since the external terminal electrode serving as the user terminal for circuit connection is formed, after the parallel polishing, the Cu (drawing electrode electrode part) on the terminal surface is cleaned by both weight treatment and dry treatment, and Cr is masked by the mask sputtering method. And Cu were formed into a film continuously. By carrying out parallel plating of Cu, Ni, and Sn, a surface-mounted coil device having a product size of 3 mm X 2.6 mm X 0.8 mm in height could be constructed.

마찬가지로 하여 제품사이즈 종 4mm X 횡 4mm X 높이 1mm의 표면실장형 코일소자를 작제할 수 있었다.In the same manner, a surface-mounted coil element having a product size of 4 mm x 4 mm x 1 mm in height could be constructed.

이상 본 발명 실시예 및 실시예에 대해 설명했지만 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 청구항에 기재한 범위내에 잇어서 각종읜 변형, 변경이 가능한 것은 당업자에는 명백할 것이다.As mentioned above, although the Example and Example of this invention were described, this invention is not limited to this, It will be clear to those skilled in the art that various deformation | transformation and a change are possible in the range of the claim.

이상 설명한 것과 같이 본 발명에 의하면 인덕턴스가 높으며 저저항의 코일도체를 갖고 적은 공정수로 작제가능한 코일기판 및 표면실장형 코일소자를 실현할 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to realize a coil substrate and a surface-mounted coil element having a high inductance, a low resistance coil conductor, and being operable with a small number of processes.

또 소형, 고정밀도로 저원가로 작제할 수 있는 자기코어의 조합으로 이루어지고 고정밀도의 갭을 내측에 갖고 또한 외측이 폐자로 구조의 코어구조체를 이용하는 것으로 인덕턴스의 불균일을 억제하여 이러한 인덕턴스의 증대를 도모할 수 있다.In addition, it is made of a combination of small size, high precision and low cost magnetic core, and has a high precision gap inside, and uses the core structure of the outer structure to close the inductance to reduce the inductance non-uniformity to increase the inductance can do.

Claims (10)

절연기판과,Insulation board, 절연기판의 최소한 한면에 전기도금층에 의해 형성되는 코일도체를 갖고 서로 인접하는 도체사이의 간극이 20㎛이하인 것을 특징으로 하는 코일기판.A coil substrate having a coil conductor formed by an electroplating layer on at least one surface of an insulating substrate, and having a gap between adjacent conductors of 20 m or less. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연기판의 중앙부에 투공을 갖고, 상기 코일도체는 상기 투공 주위의 상기 절연기판의 표리 양면에 스파이럴(나선)상으로 형성되며 상기 투공을 통해 절연기판 표리면의 코일도체가 서로 접속되는 것을 특징으로 하는 코일기판.It has a hole in the central portion of the insulating substrate, the coil conductor is formed in a spiral (spiral) on both front and back sides of the insulating substrate around the hole and the coil conductors on the front and back surfaces of the insulating substrate through the hole is connected to each other. Coil substrates. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코일도체의 아스펙트비가 0.2~5인 것을 특징으로 하는 코일기판.Coil substrate, characterized in that the aspect ratio of the coil conductor is 0.2 to 5. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 절연기판은 가라스크로스에 수지를 함침한 것을 특징으로 하는 코일기판.The insulating substrate is a coil substrate, characterized in that the resin is impregnated with glass cross. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코일도체의 직류저항이 0.01~10옴인 것을 특징으로 하는 코일기판.The coil substrate, characterized in that the DC resistance of the coil conductor is 0.01 ~ 10 ohms. 제 1자기코어와 제 2자기코어를 맞대어 이루어지고, 양단부에 있어서 닫힌 외각(外殼)부와 중앙다리부를 갖는 코어구조체와,A core structure which is made to face the first magnetic core and the second magnetic core and has closed outer and central legs at both ends thereof; 중앙부에 투공을 갖는 절연장 기판과, 그 표리면에 형성되어 투공을 통해 서로 접속되는 스파이럴상 코일도체를 갖는 코일기판과,A coil substrate having an insulated field substrate having perforations in the center, a spiral coil conductor formed on the front and back surfaces thereof and connected to each other through the perforations; 상기 스파이럴상 코일도체에 접속하는 외부전극을 구비하고,An external electrode connected to the spiral coil conductor, 상기 중앙다리부가 상기 투공으로 들어간 상태에서 상기 코일기판은 상기 코어구조체의 내측에 배치되며 상기 제 1 및 제 2자기코어는 상기 중앙다리부의 부분에 있어서 갭을 갖는 것을 특징으로 하는 표면실장형 코일소자.The coil substrate is disposed inside the core structure in a state where the center leg part enters the through hole, and the first and second magnetic cores have a gap in a part of the center leg part. . 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 스파이럴상 코일도체는 서로 인접하는 부분과의 간극이 20㎛이하인 것을 특징으로 하는 표면실장형 코일소자.The spiral coil conductor is a surface-mounted coil element, characterized in that the gap between the adjacent portions to each other 20㎛ or less. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 제 1자기코어는 중앙다리부를 갖고, 제 2자기코어는 단부에 외측다리부를 가지며, 외측다리부의 선단면이 상기 제 1자기코어에 맞대어 있는 것을 특징으로 하는 표면실장형 코일소자.And a first magnetic core having a center leg portion, a second magnetic core having an outer leg portion at an end portion, and a distal end surface of the outer leg portion abuts against the first magnetic core. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 갭이 0.1~100㎛인 것을 특징으로 하는 표면실장형 코일소자.Surface-mount coil device, characterized in that the gap is 0.1 ~ 100㎛. 절연기판의 최소한 한면에 바탕도체층을 형성하고,Forming a ground conductor layer on at least one side of the insulating substrate, 바탕도체층상에 레지스트층을 패턴형성하며,Patterning a resist layer on the underlying conductor layer, 패턴형성한 레지스트층을 마스크로서 바탕도체층이 노출하는 부분에 선택적으로 코일도체층을 형성하고,Using the patterned resist layer as a mask, a coil conductor layer is selectively formed on the portion exposed by the base conductor layer. 상기 코일도체층이 형성된 부분 이외의 레지스트층 및 바탕도체층을 제거하며,Removing a resist layer and a ground conductor layer other than the portion where the coil conductor layer is formed, 서로 인접하는 도체사이의 간극이 20㎛이하가 될 때 까지 상기 코일도체층을 성장형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 코일기판의 제조방법.And forming the coil conductor layer until the gap between the conductors adjacent to each other is 20 µm or less.
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