JP3127726B2 - 洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、独立した複数の処理工
程により被洗浄物を洗浄する洗浄装置に係るもので、例
えば医療用器具、特に歯科医療で使用されるストッパ，
探針，エキスカベータ，ピンセット等の金属製器具を洗
浄して薬剤や充填剤を除去する洗浄装置に関するもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の歯科用器具洗浄装置とし
ては、特開昭６１−７１０５４号公報に示されているよ
うに、治療により使用済みとなった器具（被洗浄物）を
洗浄水が入った水槽からなる処理空間部内に浸した後、
スイッチオンすることにより器具をまとめ洗いできる超
音波洗浄装置が知られている。

【０００３】この超音波洗浄装置は、水槽の外面に振動
子を備え、この振動子の固有の周波数に応じて媒体液
（洗浄水）中を圧縮と減圧を繰り返しながら波が伝わ
り、圧縮と減圧との変化点で媒体液の分子間に空洞が形
成され、この空洞がつぶれるときに衝撃エネルギーが生
まれ（キャビテーション効果）、このエネルギーにより
器具に付いた付着物を落すものである。

【０００４】ところで、歯科医療においては、例えば患
者の治療個所に充填される仮封剤や歯冠を固着する際に
用いられる接着剤として付着力の強いセメントが一般に
用いられており、このような付着力の強いセメント等が
器具に付着した場合には、前述の超音波洗浄装置による
洗浄だけでは十分に落しきれずに、器具に残留すること
があった。

【０００５】このため本出願人は、出願人自身の発明に
係る特開平６−１６５７９２号公報で示したように、洗
浄工程を含む独立した複数の処理工程を行う複数の処理
空間部を有する処理槽と、これら処理空間部に器具を搬
送する搬送機構とを備え、使用済み器具に超音波洗浄を
含む複数の処理工程を施すことにより、付着物の残留な
う器具を洗浄する洗浄装置を提案している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな複数の処理空間部を有する洗浄装置は、装置が大型
化してしまうという問題があり、大型化を避けるために
は、同じく出願人自身の発明に係る特願平５−２６９８
２２号にて示したように、各処理空間部を上下方向に積
層することが考えられるが、処理空間部を積層した場
合、処理空間部に装着される給排水機構や温度センサ，
水位センサ等の各種センサ機構等の付属機器が処理空間
部の側方に出張るため、小型化を達成することが難し
く、装置の小型化を達成するためには、結局、処理空間
部を削減するしかないという問題がある。

【０００７】本発明は、前記問題に着目してなされたも
のであり、その目的は、処理空間部の削減なくして洗浄
装置の小型化を達成せんとするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は前記目的を達成
するため、被洗浄物を収容して独立した処理工程を行う
複数の処理空間部を有した処理槽と、前記処理空間部に
前記被洗浄物を搬送する搬送機構とを備えた洗浄装置に
おいて、前記処理空間部のうち少なくとも二つを前記搬
送機構による前記被洗浄物の出入方向に対し積層配置す
ると共にいずれか一方の前記処理空間部を前記被洗浄物
の出入方向に対し直交する方向に小さく形成して前記処
理槽に段差部を形成し、この段差部に前記処理槽に装着
される付属機器を配置したものであり、また特に前記付
属機器としては、前記処理空間部の状態を検知するセン
サが適用されるものであり、また積層される前記処理空
間部のうち少なくともいずれか一方が前記処理工程にお
いて水を用いる処理空間部からなる場合、前記段差部に
配置される前記付属機器は、水を用いる処理空間部への
給水を導く給水部あるいはこの処理空間部からの排水を
導く排水部であるものである。

【０００９】

【作用】本発明によれば、被洗浄物の出入方向に対し積
層配置された処理空間部のうちいずれか一方の処理空間
部を被洗浄物の出入方向に対し直交する方向に小さく形
成して処理槽に段差部を設け、この段差部に処理槽の付
属機器が配置されるため、小型化が達成される。

【００１０】

【実施例】以下、添付図面に基づき本発明の実施例を説
明する。

【００１１】図１〜図９は、本発明の第１実施例を示
し、図１は本実施例による洗浄装置の外観斜視図、図２
は同装置の内部機構を示す正面図、図３，図４は後述す
る処理槽の図２中奥行き方向要部断面図、図５は後述す
る中フレームユニット上面を示す平面図、図６は図２の
Ａ−Ａ線断面図、図７は後述する制御部を説明する回路
ブロック図、図８は本実施例による洗浄装置の動作を示
す説明図、図９は本実施例による洗浄装置の処理工程を
説明するブロック図である。

【００１２】図１において、本実施例による洗浄装置
は、金属製の薄板からなる複数の外装カバー１に覆われ
ており、この外装カバー１の上方側には、開閉自在な外
装扉２と、この外装扉２の上部に位置して複数の操作ス
イッチ３群及び作動状態表示部４からなる操作パネル５
と、この操作パネル５の側方に位置して電源のオン・オ
フ等の切り替えを行うメインスイッチ６がそれぞれ設け
られている。

【００１３】図２において、同装置の内部は、上フレー
ムユニットＵ１、中フレームユニットＵ２、下フレーム
ユニットＵ３にそれぞれ区画されている。これら各ユニ
ットＵ１，Ｕ２，Ｕ３は、枠状体からなる金属製の各メ
インフレーム７，８，９を備え、各メインフレーム７，
８，９のうち、メインフレーム７には、治療によりセメ
ントや薬剤等が付着した使用済みの器具10（被洗浄物）
を搬送する搬送機構11が、メインフレーム８には、搬送
機構11により移送された器具10に後述する独立した処理
工程を施す一対の処理槽12，13が、メインフレーム９に
は、処理槽12，13にて施される各処理工程並びに搬送機
構11を制御するコントローラからなる制御部14がそれぞ
れ装着されている。なお図１に示した外装カバー１は、
これらメインフレーム７，８，９に固定されるものであ
る。

【００１４】搬送機構11は、器具10を収納した金属製の
バスケット15を図２中、垂直方向（処理槽12，13の奥行
き方向）に搬送する縦移動搬送部16と、バスケット15を
保持した縦移動搬送部16を図２中、水平方向に搬送する
横移動搬送部17とからなっている。

【００１５】縦移動搬送部16は、モータ等の駆動部材18
により駆動される駆動側プーリ19と従動側プーリ20とを
移動基板21に設け、これら各プーリ19，20間に無端状ベ
ルト22を懸け渡して設け、この無端状ベルト22に応動部
材23を固定し、この応動部材23をガイド24に沿って上下
動可能に設けると共に、応動部材23に略Ｌ状のアーム25
を固定し、アーム25にバスケット15を吊り下げ保持する
ものである。

【００１６】横移動搬送部17は、前述した縦移動搬送部
16と同様に、モータ等の駆動部材26により駆動される駆
動側プーリ27と従動側プーリ28とを左右一対にメインフ
レーム７に固定したブラケット29に設け、これら各プー
リ間に無端状ベルト30を懸け渡して設け、この無端状ベ
ルト30に縦移動搬送部16の移送基板21を固定し、この移
送基板21をメインフレーム７背面の背面板31に設けた案
内レール32に沿って左右方向に移動可能に設けている。

【００１７】処理槽12，13は、図２，図３，図４に示す
ように、各処理槽12，13の開口部33の周縁に延長形成さ
れたフランジ状の取付部34を備え、この取付部34をメイ
ンフレーム８上面に形成した凹み部35に載置することに
より、メインフレーム８に吊り下げ状態で固定されてお
り、この場合取付部34は、処理槽12，13の上面を覆うス
テンレス製の上仕切板36及び、表面が鏡面加工された同
じくステンレス製の表面板37と共にネジ38によりメイン
フレーム８に取付固定されており、上仕切板36及び表面
板37には、各処理槽12，13の開口部33に対応する開口窓
部39が形成されていると共に、表面板37には、表面に落
ちた水滴を開口部39から各処理槽12，13内に導くために
傾斜部37ａが形成されている。

【００１８】そして各処理槽12，13の内部は、各槽12，
13内壁面に溶接等の手段により固着されたステンレス等
金属製の中仕切部材40，41により上下方向にそれぞれ区
画されて独立した処理を行う４つの処理空間部42，43，
44，45を形成しており、これら処理空間部42，43，44，
45のうち、処理槽12に形成される処理空間部42と処理空
間部43が、処理槽13に形成される処理空間部44と処理空
間部45がそれぞれ搬送機構11による器具10の出入方向に
対して積層配置されている（図３，図４参照）。以下、
図２から図６に基づいて処理空間部42，43，44，45の構
成を詳述する。

【００１９】処理槽12の上部に形成される処理空間部42
は、搬送機構11により収容された器具10を急乾燥する乾
燥空間部からなり、この処理空間部42は、表面板37の上
面側に位置して搬送機構11に保持される器具10を出し入
れ可能とする開閉自在な蓋部材46と、図示しない電気ヒ
ータ及び送風ファンから構成されて空間内に熱風を供給
して器具10の乾燥を行う熱風供給機構47とを備えてい
る。

【００２０】処理槽12の下部に形成される処理空間部43
は、搬送機構11により収容された器具10を煮沸する煮沸
空間部からなり、この処理空間部43は、中仕切部材40の
上面側に位置して搬送機構11に保持される器具10を出し
入れ可能とする開閉自在な蓋部材48と、処理空間部43内
への給排水を行う給水管49及び排水管50と、本体部が処
理空間部43内に位置して貯水した水を加熱し器具10の煮
沸を行う電気ヒータ51と、付属機器となる水位センサ5
2、温度センサ53、給水部54及び排水部55とをそれぞれ
備え、水位センサ52はフロート56の変位に応じてより図
示しないリードスイッチを作動させて処理空間部43内水
位を検出するもので、温度センサ53は処理空間部43内貯
水の温度を検出する例えば熱電対からなるもので、給水
部54及び排水部55は、処理空間部43と給水管49，配水管
50との間にそれぞれ介在して処理空間部43と給水管49，
配水管50とを接続するものである。そして本実施例で
は、処理空間部43の付属機器となるこれら給排水管49，
50、水位センサ52、温度センサ53、給水部54及び排水部
55のうち、水位センサ52及び温度センサ53を、上側に位
置する処理空間部42を器具10の出入方向に対し直交する
方向（図３中、水平方向）に小さく設けることにより処
理槽12に形成される段差部57に装着している。

【００２１】処理槽13の上部に形成される処理空間部44
は、搬送機構11により収容された器具10のすすぎを行う
すすぎ空間部からなり、この処理空間部44は、表面板37
の上面側に位置して搬送機構11に保持される器具10を出
し入れ可能とする開閉自在な蓋部材58と、処理空間部44
内にすすぎ水を供給し器具10のすすぎを行うシャワー水
供給機構59と、シャワー水供給機構59を介して処理空間
部44内に給水を行う給水管60及び処理空間部44内のすす
ぎ水を排出する排水管61（図４参照）と、付属機器とな
る排水部62（同じく図４参照）をそれぞれ備え、排水部
62は、処理空間部44と排水管61との間に介在して処理空
間部44と排水管61とを接続するものである。

【００２２】処理槽13の下部に形成される処理空間部45
は、搬送機構11により収容された器具10を超音波洗浄す
る洗浄空間部からなり、この処理空間部45は、中仕切部
材41の上面側に位置して搬送機構11に保持される器具10
を出し入れ可能とする開閉自在な蓋部材63と、処理空間
部45に給排水を行う給水管64及び排水管65と、本体部が
処理空間部45内に位置して貯水した水を加熱する電気ヒ
ータ66と、加熱された貯水を介して器具10に超音波を供
給する振動子67と、処理空間部45の付属機器となる水位
センサ68、温度センサ69、給水部70及び排水部71とをそ
れぞれ備え、水位センサ68はフロート72の変位に応じて
図示しないリードスイッチを作動させて処理空間部45内
水位を検出するもので、温度センサ69は処理空間部45内
貯水の温度を検出する例えば熱電対からなるもので、給
水部70及び排水部71は、処理空間部45と給水管64，排水
管65との間にそれぞれ介在して処理空間部45と給水管6
4，排水管65とを有するものである。そして本実施例で
は、処理空間部45の付属機器となるこれら水位センサ6
8、温度センサ69、給水部70及び排水部71のうち、給水
部70、水位センサ68及び温度センサ69を、上側に位置す
る処理空間部44を器具10の出入方向に対し直交する方向
（図４中、水平方向）に小さく設けることにより処理槽
13に形成される段差部73に装着している。

【００２３】また、この場合、各処理空間部42，43，4
4，45内に器具10を出し入れ可能に開閉自在に設けられ
る各蓋部材46，48，58，63は、メインフレーム８に回動
自在に軸支された４本の回動棒74（図４，５参照）に連
結固定されており、この回動棒74は、連結棒75（図２参
照）を介して一対の回動アーム76（一部図示省略）に連
結されるとともに、回動アーム76のうち下方に位置する
回動アーム76が図示しないモータ等の駆動部材に連結さ
れており、このモータの駆動により連結棒75を介して上
方に位置する回動アーム76を回動させ、この回動アーム
76の回動により回動棒74を回動させ、この回動棒74と連
結された各蓋部材46，48，58，63を開閉動作するように
している。なお図３，図４及び図５，図６中、77及び78
は、表面板37及び中仕切部材40，41にそれぞれ形成され
た切欠孔であり、この切欠孔77，78は、縦移動搬送部16
のアーム25の一部を挿通可能に形成されてアーム25に保
持されたバスケット15をアーム25ごと各処理空間部42，
43，44，45内に収容可能とするもので、各蓋部材46，4
8，58，63は、この切欠孔77，78を閉塞しないように設
けられている。

【００２４】制御部14は、図７に示すように、メインス
イッチ６及び設定部としての操作スイッチ３群（図１参
照）のオン操作に応じて搬送機構11の駆動、各処理空間
部42，43，44，45の状態や処理時間等を含む処理工程、
作動状態表示部４の表示駆動を制御するものであり、各
処理空間部42，43，44，45の状態について具体的には、
各蓋部材46，48，58，63の開閉、処理空間部42における
熱風供給機構47による熱風供給、処理空間部43における
水位センサ52の出力信号に基づく給排水と温度センサ53
の出力信号に基づく電気ヒータ51による水温設定、処理
空間部44におけるシャワー水供給機構59によるすすぎ水
供給、処理空間部45における水位センサ68の出力信号に
基づく給排水と温度センサ69の出力信号に基づく電気ヒ
ータ66による水温設定と振動子67による超音波供給をそ
れぞれ制御するものである。

【００２５】また操作スイッチ３としては、処理空間部
45の蓋部材63を開放して洗剤投入を可能とする洗剤投入
スイッチと、各処理空間部42，43，44，45における各処
理工程をマニュアル操作にて実行させるマニュアルモー
ド選択スイッチと、各処理空間部42，43，44，45におけ
る各処理工程を器具10の汚れ度合い等に応じて予め定め
られた一連の動作にて実行する自動モード選択スイッチ
とを備えており、制御部14は、これら操作スイッチ３の
オン操作に応じて処理を実行するものである。

【００２６】つぎに操作スイッチ３のうち、自動モード
選択スイッチがオン操作される場合を例に、図８及び図
９に基づいて本実施例による洗浄装置の動作及び処理工
程について説明する。

【００２７】まず外装扉２（図１参照）を開け、図８に
示したリセット状態の搬送機構11のアーム25に器具10を
収納したバスケット15を吊り下げる（ステップ１）。

【００２８】つぎにメインスイッチ６及び前記自動モー
ド選択スイッチをオンする（ステップ２）と、蓋部材46
に続いて蓋部材48が開き、搬送機構11がバスケット15を
処理空間部43に収容する。そして蓋部材48に続いて蓋部
材46が閉じ、器具10の煮沸を行う（ステップ３）。この
とき煮沸により器具10に付いたセメントや薬剤等の付着
物（図示しない）が溶解されると共に、付着物に水分が
浸透して水分を包含しやすくなる。

【００２９】ステップ３が終了すると、蓋部材46に続い
て蓋部材48が開き、搬送機構11がバスケット15を図８に
示したもとの位置に移動する。

【００３０】つぎに蓋部材48のみが閉じ、搬送機構11が
バスケット15を処理空間部42に収容する。そして蓋部材
46を閉じて器具10の熱風乾燥を行う（ステップ４）。こ
のときステップ３により水分を包含した付着物は、熱風
により急乾燥され、付着力が低下する。

【００３１】ステップ４が終了すると、蓋部材46が開
き、搬送機構11がバスケット15を図８に示したもとの位
置に移動し、この後蓋部材46が閉じられる。

【００３２】つぎに蓋部材58に続いて蓋部材63が開き、
搬送機構11がバスケット15を処理空間部45に収容する。
そして蓋部材63に続いて蓋部材58が閉じ、器具10の超音
波洗浄を行う（ステップ５）。このときステップ４によ
り付着力が低下した付着物は、超音波洗浄され、器具10
から取り除かれる。

【００３３】ステップ５が終了すると、蓋部材58に続い
て蓋部材63が開き、搬送機構11がバスケット15を図８に
示したもとの位置に移動する。

【００３４】つぎに蓋部材63のみが閉じ、搬送機構11が
バスケット15を処理空間部44に収容する。そして蓋部材
58が閉じ器具10のすすぎを行う（ステップ６）。このと
き器具10に残った付着物の残骸は、シャワー水により略
完全に取り除かれる。

【００３５】ステップ６が終了すると、蓋部材58が開
き、搬送機構11がバスケット15を図８に示したもとの位
置に移動し、この後蓋部材58が閉じられ、一連の処理工
程が終了して仕上がりである（ステップ７）。

【００３６】以上、詳述したように、本実施例によれ
ば、上側に位置する各処理空間部42，44を器具10の出入
り方向と直交する方向に小さく形成してこれら各処理空
間部42，44を構成する各処理槽12，13に段差部57，73を
設け、この段差部57，73に各処理空間部43，45の付属機
器となる水位センサ52，68、温度センサ53，69、給水部
70を装着したことにより、処理空間部42，43，44，45の
削減なくして小型化を実現することができる。

【００３７】なお本実施例では、各処理槽12，13を中仕
切部材40，41により区画して各処理空間部42，43，44，
45を設けたが、これら処理空間部42，43，44，45を４つ
の独立した槽から構成し、段差部57，73を形成するよう
にしてもよい。

【００３８】また本実施例では、段差部57，73を形成す
ることにより各処理槽12，13の上側側方部に空間部分を
設けているが、この空間部分に例えば熱風供給機構47、
シャワー水供給機構59、給，排水管60，61の一部あるい
は全部が位置するよう構成してもよく、かかる構成によ
り一層の小型化を図ることもできる。

【００３９】図10は、本発明の第２実施例を示す要部断
面図であり、本実施例では、前記第１実施例の処理槽13
に形成される処理空間部44，45のうち、下側に位置する
処理空間部45を器具10の出入方向と直行する方向に小さ
く設けて処理槽13に段差部79を形成し、この段差部79に
上側に位置する処理空間部44の付属機器となる排水部80
を設け、この排水部80と排水管61とを接続していると共
に、段差部79を形成することにより処理槽13の下側側方
部に設けられた空間部分に処理空間部45の付属機器とな
る水位センサ68と温度センサ69をそれぞれ装着してお
り、他の部分は前記第１実施例と略同様であるので、前
記第１実施例と同一もしくは相当部分には同一符号を付
けて詳しい説明は省略する。

【００４０】かかる構成からなる本実施例によっても前
記第１実施例と略同様の効果を得ることができる。

【００４１】なお本実施例においても前記第１実施例と
同様に段差部79を形成することにより、処理槽13の下側
側方部に設けられた空間部分に例えば電気ヒータ66を位
置させることも可能であり、また本実施例と前記第１実
施例の組合せも可能である。

【００４２】

【発明の効果】以上、詳述したように本発明は、被洗浄
物を収容して独立した処理工程を行う複数の処理空間部
を有した処理槽と、前記処理空間部に前記被洗浄物を搬
送する搬送機構とを備えた洗浄装置において、前記処理
空間部のうち少なくとも二つを前記搬送機構による前記
被洗浄物の出入方向に対し積層配置すると共にいずれか
一方の前記処理空間部を前記被洗浄物の出入方向に対し
直交する方向に小さく形成して前記処理槽に段差部を形
成し、この段差部に前記処理槽に装着される付属機器を
配置したことにより、処理空間部の削減なくして洗浄装
置の小型化を達成できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例による洗浄装置の外観斜視
図である。

【図２】図１の内部機構を示す正面図である。

【図３】図２の一方の処理槽を示す要部断面図である。

【図４】図２の他方の処理槽を示す要部断面図である。

【図５】図２の中フレームユニット上面を示す平面図で
ある。

【図６】図２のＡ−Ａ線断面を示す要部断面図である。

【図７】同装置の制御部を説明する回路ブロック図であ
る。

【図８】同装置の動作を示す説明図である。

【図９】同装置の処理工程を説明するブロック図であ
る。

【図１０】本発明の第２実施例を示す要部断面図であ
る。

【符号の説明】

10 器具 11 搬送機構 12，13 処理槽 42，43，44，45 処理空間部 52，68 水位センサ（付属機器） 53，69 温度センサ（付属機器） 54，70 給水部 55，62，71 排水部57 ，73 段差部

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A61C 19/00 A61L 2/00 B08B 3/04

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被洗浄物を収容して独立した処理工程を
   行う複数の処理空間部を有した処理槽と、前記処理空間
   部に前記被洗浄物を搬送する搬送機構とを備えた洗浄装
   置において、前記処理空間部のうち少なくとも二つを前
   記搬送機構による前記被洗浄物の出入方向に対し積層配
   置すると共にいずれか一方の前記処理空間部を前記被洗
   浄物の出入方向に対し直交する方向に小さく形成して前
   記処理槽に段差部を形成し、この段差部に前記処理槽に
   装着される付属機器を配置したことを特徴とする洗浄装
   置。
2. 【請求項２】 前記付属機器は、前記処理空間部の状態
   を検知するセンサであることを特徴とする請求項１記載
   の洗浄装置。
3. 【請求項３】 積層される前記処理空間部のうち少なく
   ともいずれか一方が前記処理工程において水を用いる処
   理空間部からなり、前記段差部に配置される前記付属機
   器は、水を用いる処理空間部への給水を導く給水部ある
   いはこの処理空間部からの排水を導く排水部であること
   を特徴とする請求項１記載の洗浄装置。