JP3121771B2 - 液晶ディスプレイ用複合材及びその製造方法、及び液晶ディスプレイ製造方法 - Google Patents
液晶ディスプレイ用複合材及びその製造方法、及び液晶ディスプレイ製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶ディスプレイの
製造に用いられる複合材に関する。詳細に述べれば、本
発明は、ダブルサイドプロセシングを用いた液晶ディス
プレイの製造において有用な複合材及び方法に関する。
製造に用いられる複合材に関する。詳細に述べれば、本
発明は、ダブルサイドプロセシングを用いた液晶ディス
プレイの製造において有用な複合材及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は、時計、
電卓、ラジオ、ラップトップコンピュータ、さらに最近
ではフラットスクリーンやプロジェクション型のテレビ
ジョンシステムにおいて広く用いられている。
電卓、ラジオ、ラップトップコンピュータ、さらに最近
ではフラットスクリーンやプロジェクション型のテレビ
ジョンシステムにおいて広く用いられている。
【０００３】通常の構成においては、液晶は、２枚のガ
ラス板を非常に近接して配置し、その間に小さな間隙が
構成されるようにすることによって形成される。各々の
ガラス板はその外側表面に偏光フィルムを有している。
透明電極が各々のガラス板の内側表面に形成されてい
る。パッシブアドレス式ディスプレイにおいては、透明
電極は、一連の互いに直交するライン状に、すなわち列
及び行電極としてパターニングされている。列及び行電
極は複数個のセルを規定する。
ラス板を非常に近接して配置し、その間に小さな間隙が
構成されるようにすることによって形成される。各々の
ガラス板はその外側表面に偏光フィルムを有している。
透明電極が各々のガラス板の内側表面に形成されてい
る。パッシブアドレス式ディスプレイにおいては、透明
電極は、一連の互いに直交するライン状に、すなわち列
及び行電極としてパターニングされている。列及び行電
極は複数個のセルを規定する。
【０００４】ガラス板の間の間隙は、液晶ポリマー材料
によって充填されている。液晶ポリマー材料は、通常シ
アノビフェニルであるが、偏光の方向を回転する機能を
有している。偏光方向は、液晶分子の物理的な回転、す
なわち分子の長軸の方向、に従う。
によって充填されている。液晶ポリマー材料は、通常シ
アノビフェニルであるが、偏光の方向を回転する機能を
有している。偏光方向は、液晶分子の物理的な回転、す
なわち分子の長軸の方向、に従う。
【０００５】通常、液晶材料としては、間隙の一方の端
から他方の端へと回転している、ゆるい結合によって構
成された鎖状のものが用いられる。この種の鎖が回転す
る、すなわち”ねじれる”と、個々の液晶分子の軸もね
じれる。入射側の偏光子によって入射の際に偏光させら
れた光は、セルを通過して進行するに連れ、その偏光方
向が液晶ポリマー分子の物理的な回転に従って回転させ
られる。通常の配置においては、ディスプレイの出射側
の偏光子は、上述されているようにその偏光方向が回転
させられた光を通過する。出射側から見ると、そのよう
なセルは透明に見える。
から他方の端へと回転している、ゆるい結合によって構
成された鎖状のものが用いられる。この種の鎖が回転す
る、すなわち”ねじれる”と、個々の液晶分子の軸もね
じれる。入射側の偏光子によって入射の際に偏光させら
れた光は、セルを通過して進行するに連れ、その偏光方
向が液晶ポリマー分子の物理的な回転に従って回転させ
られる。通常の配置においては、ディスプレイの出射側
の偏光子は、上述されているようにその偏光方向が回転
させられた光を通過する。出射側から見ると、そのよう
なセルは透明に見える。
【０００６】液晶分子の配列、従って、液晶を通過する
光の偏光方向は、外部電界を印加することによって変化
させられる。セルの各々の側の適切な線をアドレシング
してセルに電界を印加することによって、液晶分子より
なる鎖が印加された電界に揃う、すなわち”ねじれてい
ない”ようになる。このような”ねじれていない”液晶
ポリマーを通過する光の偏光方向は回転させられず、こ
のような光は、回転させられた光のみを透過する出射側
偏光子によって出射することを妨げられる。このような
セルは、出射側からは暗く見える。電圧の印加が終了す
ると、液晶は元の状態に戻り、そのピクセルはクリアす
なわち透明に見える。従来技術文献として、O'Mara W.,
"Liquid Crystal Flat Panel Displays - Manufacturi
ng Science and Technology", Van Nostrand Reinhold
(1993)を参照。
光の偏光方向は、外部電界を印加することによって変化
させられる。セルの各々の側の適切な線をアドレシング
してセルに電界を印加することによって、液晶分子より
なる鎖が印加された電界に揃う、すなわち”ねじれてい
ない”ようになる。このような”ねじれていない”液晶
ポリマーを通過する光の偏光方向は回転させられず、こ
のような光は、回転させられた光のみを透過する出射側
偏光子によって出射することを妨げられる。このような
セルは、出射側からは暗く見える。電圧の印加が終了す
ると、液晶は元の状態に戻り、そのピクセルはクリアす
なわち透明に見える。従来技術文献として、O'Mara W.,
"Liquid Crystal Flat Panel Displays - Manufacturi
ng Science and Technology", Van Nostrand Reinhold
(1993)を参照。
【０００７】従来技術に係る通常のＬＣＤ製造方法にお
いては、２枚のガラス板は各々個別に処理される。各々
のガラス板の処理には、種々の層の堆積、デバイスのパ
ターニング及び他の技術が用いられる。各々のガラス板
が処理された後、それぞれ対応するものと組み合わせら
れ、液晶材料がガラス板の間の間隙に挿入される。最近
では、ガラス板の代わりにプラスチック板を用いる場合
もある。
いては、２枚のガラス板は各々個別に処理される。各々
のガラス板の処理には、種々の層の堆積、デバイスのパ
ターニング及び他の技術が用いられる。各々のガラス板
が処理された後、それぞれ対応するものと組み合わせら
れ、液晶材料がガラス板の間の間隙に挿入される。最近
では、ガラス板の代わりにプラスチック板を用いる場合
もある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】このような従来技術に
係る製造方法には種々の欠点がある。ガラス板を個別に
処理することは時間がかかるか、あるいはガラス板の処
理を並列に行なうために別の処理ラインが追加される場
合には高価になる。さらに、対応するガラス板の各々は
相異なった処理条件を経ることになるために、ガラス板
を合わせる場合に誤差が発生する場合がある。その上、
合わせプロセスそれ自体が誤差を生じやすい。プラスチ
ック材料を用いる場合には、処理がさらに複雑になる。
この種のプラスチックは非常に薄く、軽量でかつ柔軟で
あるため、一般にはダメージを与えずに処理することが
難しい。さらに、通常の合わせシステムは光学的なもの
であり、剛体材料と共に用いられるように企図されてい
る。
係る製造方法には種々の欠点がある。ガラス板を個別に
処理することは時間がかかるか、あるいはガラス板の処
理を並列に行なうために別の処理ラインが追加される場
合には高価になる。さらに、対応するガラス板の各々は
相異なった処理条件を経ることになるために、ガラス板
を合わせる場合に誤差が発生する場合がある。その上、
合わせプロセスそれ自体が誤差を生じやすい。プラスチ
ック材料を用いる場合には、処理がさらに複雑になる。
この種のプラスチックは非常に薄く、軽量でかつ柔軟で
あるため、一般にはダメージを与えずに処理することが
難しい。さらに、通常の合わせシステムは光学的なもの
であり、剛体材料と共に用いられるように企図されてい
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】液晶ディスプレイにおい
て用いられるプラスチック基板の両面処理をする方法及
び複合材が記載されている。本発明の一実施例に従っ
て、紫外光（ＵＶ）阻止層が２枚のプラスチック基板の
間にサンドイッチされる。インジウム−錫酸化物（ＩＴ
Ｏ）層が２枚のプラスチック基板の各々の一方の側に配
置される。プラスチック基板は、各々の基板のＩＴＯ層
が外側になるように配置される。その結果得られた複合
サンドイッチ構造はラミネート処理され、それ以降の処
理のために巻き取られるかあるいは個別のシートに切断
される。
て用いられるプラスチック基板の両面処理をする方法及
び複合材が記載されている。本発明の一実施例に従っ
て、紫外光（ＵＶ）阻止層が２枚のプラスチック基板の
間にサンドイッチされる。インジウム−錫酸化物（ＩＴ
Ｏ）層が２枚のプラスチック基板の各々の一方の側に配
置される。プラスチック基板は、各々の基板のＩＴＯ層
が外側になるように配置される。その結果得られた複合
サンドイッチ構造はラミネート処理され、それ以降の処
理のために巻き取られるかあるいは個別のシートに切断
される。
【００１０】基板が個別のシートに切断される場合に
は、電極は、プリント回路基板産業において用いられる
内層処理と同様に形成されてもよく、従って既存の設備
が処理用に用いられ得る。
は、電極は、プリント回路基板産業において用いられる
内層処理と同様に形成されてもよく、従って既存の設備
が処理用に用いられ得る。
【００１１】本発明に係る両面処理においては、回路が
底部及び上部のプラスチック基板の双方で同時に光転写
され得る。機械的な合わせ構造が光転写の後に双方の基
板に配置されるため、それ以降のセルアセンブリステッ
プにおける合わせ誤差が最小となる。サンドイッチ構造
は、機械的な合わせ構造が追加された後には、あらゆる
時点で分離することが可能である。
底部及び上部のプラスチック基板の双方で同時に光転写
され得る。機械的な合わせ構造が光転写の後に双方の基
板に配置されるため、それ以降のセルアセンブリステッ
プにおける合わせ誤差が最小となる。サンドイッチ構造
は、機械的な合わせ構造が追加された後には、あらゆる
時点で分離することが可能である。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係る複合材１の
構造を示した図である。複合材１は、紫外光（ＵＶ）阻
止層７を上部プラスチック基板３ａと底部プラスチック
基板３ｂとでサンドイッチした構造を有している。上部
及び底部プラスチック基板３ａ及び３ｂの外側表面４
は、透明電極材料層５ａ及び５ｂによってそれぞれコー
ティングされている。望ましい実施例においては、薄い
保護層９ａ及び９ｂがそれぞれ電極層５ａ及び５ｂ上に
配置されていて、処理の間に電極層が損傷されないよう
になっている。
構造を示した図である。複合材１は、紫外光（ＵＶ）阻
止層７を上部プラスチック基板３ａと底部プラスチック
基板３ｂとでサンドイッチした構造を有している。上部
及び底部プラスチック基板３ａ及び３ｂの外側表面４
は、透明電極材料層５ａ及び５ｂによってそれぞれコー
ティングされている。望ましい実施例においては、薄い
保護層９ａ及び９ｂがそれぞれ電極層５ａ及び５ｂ上に
配置されていて、処理の間に電極層が損傷されないよう
になっている。
【００１３】プラスチック基板３ａ及び３ｂは高いガラ
ス転移温度を有していることが必要であって、かつ、ね
じれネマチック（ＴＮ）液晶ポリマー材料に関しては、
複屈折が低いことが必要である。さらに、プラスチック
基板３ａ及び３ｂは、透明であることを要する。適切な
プラスチック材料にはポリエチレンテレフタレート及び
ポリエーテルスルホンが含まれるが、これらに限定され
る訳ではない。望ましくは、プラスチック基板はおよそ
４から７ミルの厚さを有するが、適切な厚さであればい
ずれの厚さでもよい。
ス転移温度を有していることが必要であって、かつ、ね
じれネマチック（ＴＮ）液晶ポリマー材料に関しては、
複屈折が低いことが必要である。さらに、プラスチック
基板３ａ及び３ｂは、透明であることを要する。適切な
プラスチック材料にはポリエチレンテレフタレート及び
ポリエーテルスルホンが含まれるが、これらに限定され
る訳ではない。望ましくは、プラスチック基板はおよそ
４から７ミルの厚さを有するが、適切な厚さであればい
ずれの厚さでもよい。
【００１４】透明電極層５ａ及び５ｂは、インジウム−
錫酸化膜（ＩＴＯ）あるいは伝導率を向上させる目的で
ＩＴＯに金などの他の材料を組み合わせたものであるこ
とが望ましい。層５ａ及び５ｂは、７００から２０００
オングストロームの厚さを有することが望ましい。層５
ａ及び５ｂは、通常、スパッタリングによってプラスチ
ック基板上に堆積される。スパッタリングプロセスは、
層５ａ及び５ｂが透明であり、かつ容易にパターニング
可能でかつディスプレイ応用に関して適切な抵抗率を有
するように制御される。スパッタリング及び他の方法に
よるＩＴＯの堆積は当業者には公知である。例えば、O'
Mara W., "Liquid Crystal Flat PanelDisplays - Manu
facturing Science and Technology", Van Nostrand Re
inhold(1993)の第１１４−１１７頁を参照。この文献並
びに本明細書において言及されている他の全ての文献は
本発明の参照文献である。
錫酸化膜（ＩＴＯ）あるいは伝導率を向上させる目的で
ＩＴＯに金などの他の材料を組み合わせたものであるこ
とが望ましい。層５ａ及び５ｂは、７００から２０００
オングストロームの厚さを有することが望ましい。層５
ａ及び５ｂは、通常、スパッタリングによってプラスチ
ック基板上に堆積される。スパッタリングプロセスは、
層５ａ及び５ｂが透明であり、かつ容易にパターニング
可能でかつディスプレイ応用に関して適切な抵抗率を有
するように制御される。スパッタリング及び他の方法に
よるＩＴＯの堆積は当業者には公知である。例えば、O'
Mara W., "Liquid Crystal Flat PanelDisplays - Manu
facturing Science and Technology", Van Nostrand Re
inhold(1993)の第１１４−１１７頁を参照。この文献並
びに本明細書において言及されている他の全ての文献は
本発明の参照文献である。
【００１５】本発明の望ましい実施例においては、ＵＶ
阻止層７は、柔軟で、パンチ孔を形成することが可能で
かつ紫外光を阻止する材料であればどのようなものでも
よい。望ましくは、ＵＶ阻止層７は、波長４００ナノメ
ートル（ｎｍ）以下で、光学濃度（optical density）
が３あるいはそれ以上である。柔軟性を実現するすなわ
ち促進するために、ＵＶ阻止層７は１から１０ミルの厚
さであることが望ましい。柔軟性は、以下に記述されて
いるように、複合材１が形成された後でローラーに巻き
取られるような”リール巻き”処理がなされる応用例に
関して必要とされる。複合材１が個別のシートに切断さ
れる場合には、ＵＶ阻止層７は固くかつより厚いもので
あってもよい。
阻止層７は、柔軟で、パンチ孔を形成することが可能で
かつ紫外光を阻止する材料であればどのようなものでも
よい。望ましくは、ＵＶ阻止層７は、波長４００ナノメ
ートル（ｎｍ）以下で、光学濃度（optical density）
が３あるいはそれ以上である。柔軟性を実現するすなわ
ち促進するために、ＵＶ阻止層７は１から１０ミルの厚
さであることが望ましい。柔軟性は、以下に記述されて
いるように、複合材１が形成された後でローラーに巻き
取られるような”リール巻き”処理がなされる応用例に
関して必要とされる。複合材１が個別のシートに切断さ
れる場合には、ＵＶ阻止層７は固くかつより厚いもので
あってもよい。
【００１６】ＵＶ阻止層に適した材料には金属あるいは
紙が含まれるが、それらに限定されている訳ではない。
プラスチックも、そのプラスチックが適切な波長範囲の
光を吸収する場合にはＵＶ阻止層として用いられ得る。
詳細に述べれば、プラスチックは、（以下に記述されて
いるように、透明電極５ａ及び５ｂをパターニングする
際に用いられる）光レジストが感光する波長範囲、通常
およそ４００ｎｍあるいはそれ以下、の光を吸収するこ
とが必要である。ある種のプラスチックは、その構造ゆ
えに適切な波長範囲の光を吸収する。ナイロンがその一
例である。その他の適切なプラスチックは当業者には公
知である。
紙が含まれるが、それらに限定されている訳ではない。
プラスチックも、そのプラスチックが適切な波長範囲の
光を吸収する場合にはＵＶ阻止層として用いられ得る。
詳細に述べれば、プラスチックは、（以下に記述されて
いるように、透明電極５ａ及び５ｂをパターニングする
際に用いられる）光レジストが感光する波長範囲、通常
およそ４００ｎｍあるいはそれ以下、の光を吸収するこ
とが必要である。ある種のプラスチックは、その構造ゆ
えに適切な波長範囲の光を吸収する。ナイロンがその一
例である。その他の適切なプラスチックは当業者には公
知である。
【００１７】さらに、大部分のプラスチックは、添加剤
を利用することによって、前述された波長範囲の光を吸
収するように改変させられ得る。例えば、ポリエチレン
テレフタレートは、カーボンブラックを充填することに
よって、４００ｎｍあるいはそれ以下の光を吸収するよ
うになる。このようにして改変されたポリエチレンテレ
フタレートはＵＶ阻止層７として適している。
を利用することによって、前述された波長範囲の光を吸
収するように改変させられ得る。例えば、ポリエチレン
テレフタレートは、カーボンブラックを充填することに
よって、４００ｎｍあるいはそれ以下の光を吸収するよ
うになる。このようにして改変されたポリエチレンテレ
フタレートはＵＶ阻止層７として適している。
【００１８】本発明のさらなる実施例においては、複合
材１は、基板に関して前述されている性質の処理に加え
て、前述されているように適切な波長の光を吸収する２
枚の基板３ａ及び３ｂより構成される。この実施例の場
合には、複合材は２枚の基板よりなり、個別のＵＶ阻止
層７は有していない。ナイロンやカーボンブラック添加
ポリエチレンテレフタレートはこの実施例には適してい
ない。なぜなら、このような材料は充分には透明ではな
いからである。この実施例に適したプラスチックは、適
切なグレードのアクリレートイミドが含まれる。アクリ
レートイミドは、ＫＡＭＡＸTMという商標の下にペンシ
ルバニア州 フィラデルフィアのＡｔｏＨａｓｓ社から
市販されている。他の適切なプラスチックは当業者には
公知である。さらに、適切な量のベンゾトリアゾル誘導
体も、４００ｎｍあるいはそれ以下の波長範囲の光を吸
収させることが可能な、黄色化しない添加剤として用い
られ得る。この種の目的に適した他の添加剤は当業者に
は公知である。前述されているように、適切なグレード
のプラスチックを選択する、あるいは適切な量の添加剤
を決定することは、当業者の能力範囲である。
材１は、基板に関して前述されている性質の処理に加え
て、前述されているように適切な波長の光を吸収する２
枚の基板３ａ及び３ｂより構成される。この実施例の場
合には、複合材は２枚の基板よりなり、個別のＵＶ阻止
層７は有していない。ナイロンやカーボンブラック添加
ポリエチレンテレフタレートはこの実施例には適してい
ない。なぜなら、このような材料は充分には透明ではな
いからである。この実施例に適したプラスチックは、適
切なグレードのアクリレートイミドが含まれる。アクリ
レートイミドは、ＫＡＭＡＸTMという商標の下にペンシ
ルバニア州 フィラデルフィアのＡｔｏＨａｓｓ社から
市販されている。他の適切なプラスチックは当業者には
公知である。さらに、適切な量のベンゾトリアゾル誘導
体も、４００ｎｍあるいはそれ以下の波長範囲の光を吸
収させることが可能な、黄色化しない添加剤として用い
られ得る。この種の目的に適した他の添加剤は当業者に
は公知である。前述されているように、適切なグレード
のプラスチックを選択する、あるいは適切な量の添加剤
を決定することは、当業者の能力範囲である。
【００１９】保護層９ａ及び９ｂはおよそ１ミルの厚さ
を有していることが望ましく、ポリエチレンテレフタレ
ートあるいは同様のプラスチックより構成される。
を有していることが望ましく、ポリエチレンテレフタレ
ートあるいは同様のプラスチックより構成される。
【００２０】図２は、本発明に係る複合材１を形成する
のに適した装置の具体的な例である。望ましくは、複合
材１を構成する種々の材料は、例えばローラー８ａ−８
ｃに巻き取られていて、ラミネーティングローラー１１
等の圧着装置に供給される。本発明の望ましい実施例に
おいては、複合材１の端部１５が、超音波溶着等の溶着
技法を用いてラミネート加工の後に封止される。材料が
シート２１のように個別のシートに切断される場合に
は、切断面も同様に封止されることが望ましい。よっ
て、複合材を封止する装置（図示せず）がラミネーティ
ングローラー１１及びカッター１３の近傍に配置される
ことが望ましい。シートの四辺全てが封止されているた
め、複合材は、分離が必要とされるまで真空によって一
体に保たれる。
のに適した装置の具体的な例である。望ましくは、複合
材１を構成する種々の材料は、例えばローラー８ａ−８
ｃに巻き取られていて、ラミネーティングローラー１１
等の圧着装置に供給される。本発明の望ましい実施例に
おいては、複合材１の端部１５が、超音波溶着等の溶着
技法を用いてラミネート加工の後に封止される。材料が
シート２１のように個別のシートに切断される場合に
は、切断面も同様に封止されることが望ましい。よっ
て、複合材を封止する装置（図示せず）がラミネーティ
ングローラー１１及びカッター１３の近傍に配置される
ことが望ましい。シートの四辺全てが封止されているた
め、複合材は、分離が必要とされるまで真空によって一
体に保たれる。
【００２１】別の実施例においては、複合材の端部を溶
着する代わりに、上部及び底部プラスチック基板３ａ及
び３ｂの内側表面２の外側の端部１７に接着剤１９が配
置されて、複合材の種々の層を接触しているように保つ
ための接合部を構成している。あるいは、接着剤１９
は、ＵＶ阻止層７の両面の外側の端部に配置される。
着する代わりに、上部及び底部プラスチック基板３ａ及
び３ｂの内側表面２の外側の端部１７に接着剤１９が配
置されて、複合材の種々の層を接触しているように保つ
ための接合部を構成している。あるいは、接着剤１９
は、ＵＶ阻止層７の両面の外側の端部に配置される。
【００２２】別の実施例においては、弱い接着剤がＵＶ
阻止層７の両面のより広い部分に塗布されて、上部及び
底部基板３ａ及び３ｂが、端部のみではなく基板の全幅
に亘ってＵＶ阻止層７に一時的に貼り付けられている。
この実施例の場合には、弱い接着剤が用いられるという
ことが重要である。なぜなら、複合材１の上部及び底部
基板３ａ及び３ｂは、以下の処理段階において互いに分
離されることが必要であるからである。保護層９ａ及び
９ｂは、それらが存在する場合でも、互いにあるいはそ
の下部に存在する基板３ａ及び３ｂに溶着あるいは接着
される必要はない。なぜなら、この種の層は複合材の他
の部分が分離される前に除去されて静電気による引力に
よって基板に接触し続けるからである。
阻止層７の両面のより広い部分に塗布されて、上部及び
底部基板３ａ及び３ｂが、端部のみではなく基板の全幅
に亘ってＵＶ阻止層７に一時的に貼り付けられている。
この実施例の場合には、弱い接着剤が用いられるという
ことが重要である。なぜなら、複合材１の上部及び底部
基板３ａ及び３ｂは、以下の処理段階において互いに分
離されることが必要であるからである。保護層９ａ及び
９ｂは、それらが存在する場合でも、互いにあるいはそ
の下部に存在する基板３ａ及び３ｂに溶着あるいは接着
される必要はない。なぜなら、この種の層は複合材の他
の部分が分離される前に除去されて静電気による引力に
よって基板に接触し続けるからである。
【００２３】種々の層を一体に接合するために、ラミネ
ーティングローラー１１と共にプラスチック溶着技法あ
るいは接着剤を用いることが望ましい。別の実施例にお
いては、それほど望ましくないことではあるが、複合材
１はラミネーティングローラーあるいは他の圧着装置の
みによって接合される。この種の実施例においては、圧
着すなわちラミネート加工ステップは、ＵＶ阻止層７あ
るいは基板３ａ及び３ｂが軟化する温度において実行さ
れなければならない。あるいは、ラミネート加工温度に
おいて軟化するという特徴から選択されたコーティング
層が、ＵＶ阻止層７あるいは基板３ａ及び３ｂに追加さ
れ得る。
ーティングローラー１１と共にプラスチック溶着技法あ
るいは接着剤を用いることが望ましい。別の実施例にお
いては、それほど望ましくないことではあるが、複合材
１はラミネーティングローラーあるいは他の圧着装置の
みによって接合される。この種の実施例においては、圧
着すなわちラミネート加工ステップは、ＵＶ阻止層７あ
るいは基板３ａ及び３ｂが軟化する温度において実行さ
れなければならない。あるいは、ラミネート加工温度に
おいて軟化するという特徴から選択されたコーティング
層が、ＵＶ阻止層７あるいは基板３ａ及び３ｂに追加さ
れ得る。
【００２４】接合の後、複合材１は、ローラー（図示せ
ず）に巻き取られるか、あるいはカッターすなわち切断
器１３を用いて個別のシートに切断される。巻き取られ
た、あるいは切断された複合材１は、それ以降の処理の
準備が整った状態にある。複合材１が切断される場合に
は、例えば１８インチ×２４インチ、あるいは２４イン
チ×２４インチ等の配線基板製造に適した大きさを有す
るシートに切断される。
ず）に巻き取られるか、あるいはカッターすなわち切断
器１３を用いて個別のシートに切断される。巻き取られ
た、あるいは切断された複合材１は、それ以降の処理の
準備が整った状態にある。複合材１が切断される場合に
は、例えば１８インチ×２４インチ、あるいは２４イン
チ×２４インチ等の配線基板製造に適した大きさを有す
るシートに切断される。
【００２５】本発明に従った方法の第一の実施例が図３
に示されている。ステップ１００においては、透明電極
材料５ａ及び５ｂ等の透明電極材料によってその一方の
面がコーティングされた、プラスチック基板３ａ及び３
ｂ等の２枚のプラスチック基板が、それ以降の処理用に
適切に配置される。この方法には基板３ａ及び３ｂを透
明電極材料によってコーティングするステップが含まれ
ているが、現時点においては、このような処理に特化し
た設備によって基板３ａ及び３ｂが予めコーティングさ
れていることが望ましい。加えて、ＵＶ阻止層７等のＵ
Ｖ光を阻止するのに適した材料が配置され、基板３ａ及
び３ｂの間にサンドイッチ構造で挟み込まれて複合材１
が形成される。
に示されている。ステップ１００においては、透明電極
材料５ａ及び５ｂ等の透明電極材料によってその一方の
面がコーティングされた、プラスチック基板３ａ及び３
ｂ等の２枚のプラスチック基板が、それ以降の処理用に
適切に配置される。この方法には基板３ａ及び３ｂを透
明電極材料によってコーティングするステップが含まれ
ているが、現時点においては、このような処理に特化し
た設備によって基板３ａ及び３ｂが予めコーティングさ
れていることが望ましい。加えて、ＵＶ阻止層７等のＵ
Ｖ光を阻止するのに適した材料が配置され、基板３ａ及
び３ｂの間にサンドイッチ構造で挟み込まれて複合材１
が形成される。
【００２６】本方法において接着剤が用いられる場合に
は、ステップ１０５において塗布される。この種の接着
剤は、前述されているような方法、あるいは複合材を接
合するのに適した別の方法で塗布されるが、これらは本
明細書に記載されている事項から当業者が容易に推察出
来るものである。別の実施例においては、接着剤はＵＶ
層７あるいは基板３ａ及び３ｂの供給元によって予め塗
布されている。複合材がシート状に切断される場合に
は、各々の切断端部と共に複合材の端部１５へ接着剤を
塗布することが望ましい。このことは、以下に記述され
ているように、ステップ１２０において実現される。
は、ステップ１０５において塗布される。この種の接着
剤は、前述されているような方法、あるいは複合材を接
合するのに適した別の方法で塗布されるが、これらは本
明細書に記載されている事項から当業者が容易に推察出
来るものである。別の実施例においては、接着剤はＵＶ
層７あるいは基板３ａ及び３ｂの供給元によって予め塗
布されている。複合材がシート状に切断される場合に
は、各々の切断端部と共に複合材の端部１５へ接着剤を
塗布することが望ましい。このことは、以下に記述され
ているように、ステップ１２０において実現される。
【００２７】ステップ１１０においては、複合材１が、
ＵＶ阻止層７を２枚のプラスチック基板３ａ及び３ｂの
間にサンドイッチ状に挟み込み、それらに複数個の層を
互いに圧着するラミネーティングローラー１１あるいは
他の手段を通過させることによって形成される。プラス
チック基板３ａ及び３ｂは、各々の基板の表面２がＵＶ
阻止層７に近接するように配置されている。よって、透
明電極材料５ａ及び５ｂは、ＵＶ阻止層７に対して外側
を向くようになっている。
ＵＶ阻止層７を２枚のプラスチック基板３ａ及び３ｂの
間にサンドイッチ状に挟み込み、それらに複数個の層を
互いに圧着するラミネーティングローラー１１あるいは
他の手段を通過させることによって形成される。プラス
チック基板３ａ及び３ｂは、各々の基板の表面２がＵＶ
阻止層７に近接するように配置されている。よって、透
明電極材料５ａ及び５ｂは、ＵＶ阻止層７に対して外側
を向くようになっている。
【００２８】別の実施例においては、ステップ１１０に
おいて形成された複合材１は、さらに、例えば図２に示
されているような保護層９ａ及び９ｂ等の保護層を有し
ている。この実施例においては、２枚の基板３ａ及び３
ｂとＵＶ阻止層７とは、保護層９ａ及び９ｂによってサ
ンドイッチ状に挟み込まれている。
おいて形成された複合材１は、さらに、例えば図２に示
されているような保護層９ａ及び９ｂ等の保護層を有し
ている。この実施例においては、２枚の基板３ａ及び３
ｂとＵＶ阻止層７とは、保護層９ａ及び９ｂによってサ
ンドイッチ状に挟み込まれている。
【００２９】ステップ１２０においては、複合材の種々
の層の適切な接触を保つ目的で、複合材が接合／封止さ
れる。接合は、前述されている超音波接着技法あるいは
他の当業者には公知のプラスチック溶着技法を用いて実
現される。この場合には、プラスチック溶着に適した装
置が、ラミネーティングローラー１１及びカッター１３
から複合材が出たところで複合材を溶着するために適切
に配置される。前述されているように、ステップ１０５
において接着剤が用いられるあるいは供給元によって予
め塗布される場合には、接合は、ステップ１１０におい
て、種々の層がラミネーティングローラーあるいは類似
の装置によって引き出される際に実現される。しかしな
がら、（複合材がシート状に切断される場合には）複合
材の切断された端部をプラスチック溶着技法を用いて接
合することによって前述された接着接合を実現すること
が望ましい。さらに、前述されているように、ラミネー
ト加工が種々の層を軟化させる適切な温度で実行される
場合には、”接合”はステップ１１０において実行され
る。
の層の適切な接触を保つ目的で、複合材が接合／封止さ
れる。接合は、前述されている超音波接着技法あるいは
他の当業者には公知のプラスチック溶着技法を用いて実
現される。この場合には、プラスチック溶着に適した装
置が、ラミネーティングローラー１１及びカッター１３
から複合材が出たところで複合材を溶着するために適切
に配置される。前述されているように、ステップ１０５
において接着剤が用いられるあるいは供給元によって予
め塗布される場合には、接合は、ステップ１１０におい
て、種々の層がラミネーティングローラーあるいは類似
の装置によって引き出される際に実現される。しかしな
がら、（複合材がシート状に切断される場合には）複合
材の切断された端部をプラスチック溶着技法を用いて接
合することによって前述された接着接合を実現すること
が望ましい。さらに、前述されているように、ラミネー
ト加工が種々の層を軟化させる適切な温度で実行される
場合には、”接合”はステップ１１０において実行され
る。
【００３０】前述されているように、複合材１は、その
形成後、その後の処理目的で巻き取られるかあるいは切
断される。以下に詳細に記述されているように、その後
の処理には、図４に示されているような電極のパターニ
ング、及び図５に示されている合わせ孔の開孔、配向層
の堆積及び複合材の分離、が含まれる。液晶ディスプレ
イを形成するためには、上記以外の処理が必要とされ
る。それらは図６及び図７に示されているが、当業者に
は公知であり、本明細書においては詳細には議論されな
い。
形成後、その後の処理目的で巻き取られるかあるいは切
断される。以下に詳細に記述されているように、その後
の処理には、図４に示されているような電極のパターニ
ング、及び図５に示されている合わせ孔の開孔、配向層
の堆積及び複合材の分離、が含まれる。液晶ディスプレ
イを形成するためには、上記以外の処理が必要とされ
る。それらは図６及び図７に示されているが、当業者に
は公知であり、本明細書においては詳細には議論されな
い。
【００３１】処理が進んでＬＣＤの”プレート”になる
につれ、基板３ａ及び３ｂに対しては実質的な変化が起
こるために、それらを”基板”と呼称することは最適で
はなくなる。しかしながら、簡潔のために、”基板”と
いう用語が、基板３ａ及び３ｂが処理される度合、すな
わち光リソグラフィ処理、さらなる層の形成等に拘らず
に本明細書においては用いられる。図４において、保護
層９ａ及び９ｂが存在する場合には、ステップ１４０に
おいて取り除かれる。その後、光レジストが、プラスチ
ック基板３ａ及び３ｂの各々に形成された透明電極材料
層５ａ及び５ｂに対して塗布される（ステップ１５
０）。ステップ１６０においては、透明電極材料を縞
状、線状あるいは四角の板状にパターニングするための
アートワークすなわちマスクが上部及び底部プラスチッ
ク基板３ａ及び３ｂの各々と合わせて配置され、その後
ＵＶ光によって露光される。複合材１にはＵＶ阻止層７
が組み込まれているため、上部プラスチック基板３ａに
対して付着されたマスクと底部プラスチック基板３ｂに
対して付着されたマスクとが同時に露光され得る。合わ
せ孔等の機械的な合わせ構造が、露光後に、プラスチッ
ク基板３ａ及び３ｂに対して形成される。ＬＣＤプレー
トとしてガラス基板ではなくプラスチックを利用するこ
とにより、機械的な合わせ構造の利用が容易になる。
につれ、基板３ａ及び３ｂに対しては実質的な変化が起
こるために、それらを”基板”と呼称することは最適で
はなくなる。しかしながら、簡潔のために、”基板”と
いう用語が、基板３ａ及び３ｂが処理される度合、すな
わち光リソグラフィ処理、さらなる層の形成等に拘らず
に本明細書においては用いられる。図４において、保護
層９ａ及び９ｂが存在する場合には、ステップ１４０に
おいて取り除かれる。その後、光レジストが、プラスチ
ック基板３ａ及び３ｂの各々に形成された透明電極材料
層５ａ及び５ｂに対して塗布される（ステップ１５
０）。ステップ１６０においては、透明電極材料を縞
状、線状あるいは四角の板状にパターニングするための
アートワークすなわちマスクが上部及び底部プラスチッ
ク基板３ａ及び３ｂの各々と合わせて配置され、その後
ＵＶ光によって露光される。複合材１にはＵＶ阻止層７
が組み込まれているため、上部プラスチック基板３ａに
対して付着されたマスクと底部プラスチック基板３ｂに
対して付着されたマスクとが同時に露光され得る。合わ
せ孔等の機械的な合わせ構造が、露光後に、プラスチッ
ク基板３ａ及び３ｂに対して形成される。ＬＣＤプレー
トとしてガラス基板ではなくプラスチックを利用するこ
とにより、機械的な合わせ構造の利用が容易になる。
【００３２】ステップ１７０においては、現像、エッチ
ング、剥離、乾燥等の通常のリソグラフィ処理ステップ
が実行される。
ング、剥離、乾燥等の通常のリソグラフィ処理ステップ
が実行される。
【００３３】前述され、かつ図４に示されているよう
に、光リソグラフィ技法を用いて電極材料をパターニン
グすることが望ましい。しかしながら、スクリーンある
いはオフセット印刷技法等も、同様に電極をパターニン
グするために用いられ得る。この種の印刷技法は当業者
には公知である。スクリーンあるいはオフセット印刷技
法が用いられる場合には、ＵＶ阻止層７は必要ではな
い。本明細書においては、電極材料のパターニングとい
う意味において用いられる”パターニング”という語
は、光リソグラフィ技法あるいは印刷技法のいずれかを
参照している。図４−７に示されているように、電極
は、複合材１よりなるシート、例えば図２のシート２
１、上に、複数個の離散領域としてパターニングされ
る。これらの領域の各々は、順次切断及びトリミングさ
れて、ＬＣＤのプレートの一方が形成される。それゆ
え、本明細書における記述は基板３ａ及び３ｂのシート
から単一のＬＣＤを構成する方法を参照しているが、こ
の種のＬＣＤが複数個形成されることも本発明に係るも
のであることを理解されたい。
に、光リソグラフィ技法を用いて電極材料をパターニン
グすることが望ましい。しかしながら、スクリーンある
いはオフセット印刷技法等も、同様に電極をパターニン
グするために用いられ得る。この種の印刷技法は当業者
には公知である。スクリーンあるいはオフセット印刷技
法が用いられる場合には、ＵＶ阻止層７は必要ではな
い。本明細書においては、電極材料のパターニングとい
う意味において用いられる”パターニング”という語
は、光リソグラフィ技法あるいは印刷技法のいずれかを
参照している。図４−７に示されているように、電極
は、複合材１よりなるシート、例えば図２のシート２
１、上に、複数個の離散領域としてパターニングされ
る。これらの領域の各々は、順次切断及びトリミングさ
れて、ＬＣＤのプレートの一方が形成される。それゆ
え、本明細書における記述は基板３ａ及び３ｂのシート
から単一のＬＣＤを構成する方法を参照しているが、こ
の種のＬＣＤが複数個形成されることも本発明に係るも
のであることを理解されたい。
【００３４】前述されているように、合わせ孔等の合わ
せ構造は、光レジストの露光後のいずれかの時点で複合
材１に形成される。この手続きは、図５のステップ１８
０に示されている。
せ構造は、光レジストの露光後のいずれかの時点で複合
材１に形成される。この手続きは、図５のステップ１８
０に示されている。
【００３５】ステップ１９０においては、配向層あるい
はオリエンテーションフィルムと呼称される薄いポリマ
ーフィルムが、パターニングされた透明電極層５ａ及び
５ｂ上に形成される。配向層は、プラスチック基板の表
面における液晶分子の方向付けを容易にする。この種の
ポリマーを形成するために適切なポリマー材料及び方法
は当業者には公知である。
はオリエンテーションフィルムと呼称される薄いポリマ
ーフィルムが、パターニングされた透明電極層５ａ及び
５ｂ上に形成される。配向層は、プラスチック基板の表
面における液晶分子の方向付けを容易にする。この種の
ポリマーを形成するために適切なポリマー材料及び方法
は当業者には公知である。
【００３６】ステップ２００においては、複合材１の接
着された端部は、プラスチック基板３ａ及び３ｂを互い
に分離するために切断される。
着された端部は、プラスチック基板３ａ及び３ｂを互い
に分離するために切断される。
【００３７】配向層を複合材１の分離前に形成すること
が望ましいが、ステップ１９０として記述された配向層
の形成は、分離後にも形成され得る。
が望ましいが、ステップ１９０として記述された配向層
の形成は、分離後にも形成され得る。
【００３８】分離の後、プラスチック基板３ａ及び３ｂ
の各々に形成された配向層は、図６のステップ２１０に
図示されているように、選択された方向にラビングされ
る。ラビングすることにより、配向層の表面に微細な溝
が形成され、プラスチック基板表面における液晶分子の
方向付けを容易にし、適切な”傾き”角を促進する。ラ
ビング方法及びラビング圧力と速度による傾き角の制御
方法は当業者には公知である。以下に言及されるラビン
グ及び他の処理ステップは当業者には公知であって、Ｌ
ＣＤ形成に一般的に用いられる。
の各々に形成された配向層は、図６のステップ２１０に
図示されているように、選択された方向にラビングされ
る。ラビングすることにより、配向層の表面に微細な溝
が形成され、プラスチック基板表面における液晶分子の
方向付けを容易にし、適切な”傾き”角を促進する。ラ
ビング方法及びラビング圧力と速度による傾き角の制御
方法は当業者には公知である。以下に言及されるラビン
グ及び他の処理ステップは当業者には公知であって、Ｌ
ＣＤ形成に一般的に用いられる。
【００３９】ラビングの後、プラスチック基板３ａ及び
３ｂはクリーニングされて乾燥され、ステップ２２０に
おいてコネクタウィンドウが一方の基板を打ち抜くこと
によって形成される。ステップ２３０及び２４０におい
ては、端部の封止剤が適用され、スペーサーが一方のプ
ラスチック基板に形成され、上部及び底部プラスチック
基板３ａ及び３ｂの間の正確な間隙が形成されて維持さ
れる。ステップ２５０に示されているように、上部及び
底部プラスチック基板は重ね合わされてアラインメント
される。アラインメントは、機械的なアラインメントシ
ステム及び合わせ構造を用いて実現される。よりクリテ
ィカルな応用例においては、光アライメントシステムも
用いられ得る。図７のステップ２６０に示されているよ
うに、ステップ２３０において適用された端部の封止剤
が、紫外光あるいは熱によって固化される。その後、液
晶材料がラミネート加工されたプラスチック基板の間に
挿入される（ステップ２７０）。挿入を可能にするため
に、複数個の”プレート”を構成しているプラスチック
基板は、通常、切断された端部を一方にのみ有するこの
種のプレートからなる列あるいは行を構成するように切
断される。最終ステップ２８０においては、偏光子が各
々のプラスチック基板の外側に配設される。
３ｂはクリーニングされて乾燥され、ステップ２２０に
おいてコネクタウィンドウが一方の基板を打ち抜くこと
によって形成される。ステップ２３０及び２４０におい
ては、端部の封止剤が適用され、スペーサーが一方のプ
ラスチック基板に形成され、上部及び底部プラスチック
基板３ａ及び３ｂの間の正確な間隙が形成されて維持さ
れる。ステップ２５０に示されているように、上部及び
底部プラスチック基板は重ね合わされてアラインメント
される。アラインメントは、機械的なアラインメントシ
ステム及び合わせ構造を用いて実現される。よりクリテ
ィカルな応用例においては、光アライメントシステムも
用いられ得る。図７のステップ２６０に示されているよ
うに、ステップ２３０において適用された端部の封止剤
が、紫外光あるいは熱によって固化される。その後、液
晶材料がラミネート加工されたプラスチック基板の間に
挿入される（ステップ２７０）。挿入を可能にするため
に、複数個の”プレート”を構成しているプラスチック
基板は、通常、切断された端部を一方にのみ有するこの
種のプレートからなる列あるいは行を構成するように切
断される。最終ステップ２８０においては、偏光子が各
々のプラスチック基板の外側に配設される。
【００４０】以上の説明は、本発明の一実施例に関する
もので，この技術分野の当業者であれば、本発明の種々
の変形例が考え得るが、それらはいずれも本発明の技術
的範囲に包含される。
もので，この技術分野の当業者であれば、本発明の種々
の変形例が考え得るが、それらはいずれも本発明の技術
的範囲に包含される。
【００４１】
【発明の効果】以上述べたごとく、本発明によれば、液
晶ディスプレイにおいて用いられるプラスチック基板の
両面処理をする方法及び複合材が提供される。
晶ディスプレイにおいて用いられるプラスチック基板の
両面処理をする方法及び複合材が提供される。
【図１】２枚の適切に処理されたプラスチック基板が一
時的にＵＶ阻止基板に貼り付けられた、本発明に係る複
合材の断面図。
時的にＵＶ阻止基板に貼り付けられた、本発明に係る複
合材の断面図。
【図２】図１に係る複合基板を作製する装置の俯瞰図。
【図３】図１及び図２に示された複合材を形成する方法
の一実施例を示すブロック図。
の一実施例を示すブロック図。
【図４】本発明に従った電極形成方法を示すブロック
図。
図。
【図５】本発明に従った液晶ディスプレイ形成方法にお
ける登録及び合わせステップを示す図。
ける登録及び合わせステップを示す図。
【図６】従来技術に係る液晶ディスプレイ形成方法にお
ける、対応するプレートを一体化するステップを示す
図。
ける、対応するプレートを一体化するステップを示す
図。
【図７】従来技術に係る液晶ディスプレイ形成方法にお
ける、対応するプレートを一体化するステップを示す
図。
ける、対応するプレートを一体化するステップを示す
図。
１ 複合材 ２ 基板３ａ及び３ｂの内側表面 ３ａ、３ｂ プラスチック基板 ４ 基板３ａ及び３ｂの外側表面 ５ａ、５ｂ 透明電極材料層 ７ ＵＶ阻止層 ８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ、８ｅ ローラー ９ａ、９ｂ 保護層 １１ ラミネーティングローラー １３ カッター １５ 複合材１の端部 １７ 複合材１の外側の端部 １９ 接着剤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−313151（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−33718（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−198472（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/13 - 1/141 B32B 7/02 G09F 9/00
Claims (24)
- 【請求項１】 液晶ディスプレイを形成するのに適した
複合材において、当該複合材が、 （Ａ）第一及び第二表面を各々有する第一基板及び第二
基板と、 ここで、前記第一基板及び第二基板の各々の前記第一表
面上には透明電極材料が形成されており、 （Ｂ）前記第一基板及び第二基板の前記第二表面の間に
密着して挟持された紫外光を阻止するのに適した層と、 よりなることを特徴とする液晶ディスプレイ用複合材。 - 【請求項２】 前記複合材が、さらに、（Ｃ）前記透明
電極材料に密着した保護層を有することを特徴とする請
求項１に記載の液晶ディスプレイ用複合材。 - 【請求項３】 前記第一基板及び第二基板が、ポリエチ
レンテレフタレートとポリエーテルスルホンとから構成
されるグループより選択されたプラスチックであること
を特徴とする請求項１に記載の液晶ディスプレイ用複合
材。 - 【請求項４】 前記透明電極材料が、インジウム−錫酸
化物と、インジウム−錫酸化物及び金よりなる合金とか
ら構成されるグループより選択されていることを特徴と
する請求項１に記載の液晶ディスプレイ用複合材。 - 【請求項５】 紫外光を阻止するのに適した前記層が、
プラスチック、金属及び紙より構成されるグループから
選択されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶
ディスプレイ用複合材。 - 【請求項６】 前記保護層がポリエチレンテレフタレー
トであることを特徴とする請求項２に記載の液晶ディス
プレイ用複合材。 - 【請求項７】 少なくとも前記第一基板が４００ナノメ
ートル以下の範囲の少なくとも一波長において３以上の
光学濃度を有するイミド化されたアクリレートであるこ
とを特徴とする請求項第１項に記載の液晶ディスプレイ
用複合材。 - 【請求項８】 少なくとも前記第一基板が４００ナノメ
ートル以下の範囲の少なくとも一波長において３以上の
光学濃度を有するように適切な量のベンゾトリアゾル誘
導体を含有させたプラスチックであることを特徴とする
請求項１に記載の液晶ディスプレイ用複合材。 - 【請求項９】 前記透明電極材料が光レジストの堆積を
必要とする光リソグラフィによって電極にパターニング
されており、少なくとも前記第一基板が前記光レジスト
が応答する波長あるいは波長範囲において３以上の光学
濃度を有するプラスチックであることを特徴とする請求
項１に記載の液晶ディスプレイ用複合材。 - 【請求項１０】 液晶ディプレイを形成するのに適した
複合材を製造する方法において、当該方法が、 （Ａ）第一及び第二表面を各々有する第一基板及び第二
基板を準備するステップと、ここで、前記第一及び第二
基板の各々は、前記第一表面上に形成された透明電極材
料を有しており、 （Ｂ）紫外光を阻止するのに適した、第一及び第二表面
を有する層を準備するステップと、 （Ｃ）前記紫外光を阻止するのに適した層を前記第一基
板及び第二基板の前記第二表面の間に配置するステップ
と、及び、 （Ｄ）前記第一基板、前記紫外光を阻止するのに適した
層及び前記第二基板を一体に接合して複合材を形成する
ステップと、 を有することを特徴とする液晶ディスプレイ用複合材製
造方法。 - 【請求項１１】前記接合ステップ（Ｄ）が、 （Ｄ１）少なくとも前記第一基板の前記第二表面あるい
は前記紫外光を阻止するのに適した層の前記第一及び第
二表面に対して接着剤を塗布するステップと、（Ｄ２）
前記第一基板、前記紫外光を阻止するのに適した層及び
前記第二基板を一体に圧着するステップと、 を有することを特徴とする請求項１０に記載の液晶ディ
スプレイ用複合材製造方法。 - 【請求項１２】 前記接着剤塗布ステップ（Ｄ１）が、
少なくとも前記第一基板の前記第二表面の両側の端部に
接着剤を適用するステップを有することを特徴とする請
求項１１に記載の液晶ディスプレイ用複合材製造方法。 - 【請求項１３】 前記接着剤塗布ステップ（Ｄ１）が、
前記紫外光を阻止するのに適した層の前記第一及び第二
表面の両側の端部に接着剤を塗布するステップを有する
ことを特徴とする請求項１１に記載の液晶ディスプレイ
用複合材製造方法。 - 【請求項１４】 前記第一基板及び第二基板を準備する
ステップ（Ａ）が、さらに、接着剤が少なくとも一方に
対して塗布された第一基板及び第二基板を準備するステ
ップを有していることを特徴とする請求項１０に記載の
液晶ディスプレイ用複合材製造方法。 - 【請求項１５】 前記紫外光を阻止するのに適した層を
準備するステップ（Ｂ）が、さらに、接着剤が第一及び
第二表面の双方に対して塗布された前記紫外光を阻止す
るのに適した層を準備するステップを有していることを
特徴とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ用複合
材製造方法。 - 【請求項１６】 前記接合ステップ（Ｄ）が、（Ｄ１）
前記第一基板、前記紫外光を阻止するのに適した層及び
前記第二基板を一体に圧着するステップと、及び、 （Ｄ２）前記第一基板及び第二基板及び前記紫外光を阻
止するのに適した層のそれぞれの端部を一体に溶着する
ステップと、 を有していることを特徴とする請求項１０に記載の液晶
ディスプレイ用複材製造方法。 - 【請求項１７】 前記方法が、さらに、 （Ｅ）前記複合材を所定の長さを有するシートに切断す
るステップを有していることを特徴とする請求項１０に
記載の液晶ディスプレイ用複合材製造方法。 - 【請求項１８】 前記方法が、さらに、 （Ｅ）前記透明電極材料を保護するのに適した第一及び
第二保護層を準備するステップと、及び、 （Ｆ）前記基板及び前記紫外光阻止層を前記第一及び第
二保護層の間に配置するステップ、を有することを特徴
とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ用複合材製
造方法。 - 【請求項１９】 前記第一基板及び第二基板を準備する
前記ステップ（Ａ）が、さらに、前記基板をローラーに
巻き取られた形で準備するステップを有することを特徴
とする請求項１０に記載の液晶ディスプレイ用複合材製
造方法。 - 【請求項２０】 前記接合ステップ（Ｃ）が、 （Ｃ１）前記第一基板及び第二基板をラミネーティング
ローラーの間から引き抜くステップを有しており、この
ことによって前記基板が一体に圧着されることを特徴と
する請求項１９に記載の液晶ディスプレイ用複合材製造
方法。 - 【請求項２１】 前記圧着ステップ（Ｃ１）が、さら
に、接着剤あるいはプラスチック溶着技法を用いて前記
複合材の少なくとも２つの端部を封止するステップを有
することを特徴とする請求項２０に記載の液晶ディスプ
レイ用複合材製造方法。 - 【請求項２２】 両面処理技法を用いて液晶ディスプレ
イを形成する方法において、前記ディスプレイ用のプレ
ートとして機能する複数のプラスチック基板が複合材を
形成するように接合されていて電極をパターニングする
ために同時に処理されてその後に合わせ構造がされ、前
記方法が、 （Ａ）第一基板及び第二基板と、前記第一基板及び第二
基板の間に挟持された、紫外線を阻止するのに適した層
と、よりなる複合材を形成するステップと、 （Ｂ）前記基板の各々の第一表面上に形成された透明電
極材料をパターニングするステップと、 （Ｃ）前記第一基板及び第二基板に合わせ構造を形成す
るステップと、及び、（Ｄ）前記複合材を液晶ディスプ
レイの形成に係るさらなる処理のために個別の前記第一
基板と第二基板とに分離するステップと、を有すること
を特徴とする液晶ディスプレイ製造方法。 - 【請求項２３】 前記ステップ（Ｄ）が、さらに、 （Ｄ１）前記第一基板及び第二基板の各々の前記パター
ニングされた透明電極材料上に配向層を形成するステッ
プと、 （Ｄ２）各々の配向層をラビングするステップと、 （Ｄ３）前記合わせ構造をアラインメントすることによ
って前記第一及び第二基板をラミネート加工をするため
に準備するステップと、 （Ｄ４）前記第一及び第二基板を一体にラミネート加工
するステップと、 （Ｄ５）前記ラミネート加工された基板の間に液晶材料
を挿入するステップと、及び、 （Ｄ６）前記第一及び第二基板に対して偏光子を配設す
るステップと、 を有することを特徴とする請求項２２に記載の液晶ディ
スプレイ製造方法。 - 【請求項２４】 前記ステップ（Ｄ１）が前記複合材を
分離する前に実行されることを特徴とする請求項２３に
記載の液晶ディスプレイ製造方法。
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