JP3114397B2 - 光学装置 - Google Patents
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 158
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 claims description 107
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 21
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 45
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 2
- 238000004092 self-diagnosis Methods 0.000 description 2
- 229910019819 Cr—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
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- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学装置に関する。具
体的には、光ビームを走査する共振型の光スキャナを用
いた光学装置に関する。
体的には、光ビームを走査する共振型の光スキャナを用
いた光学装置に関する。
【0002】
【従来の技術】本発明の出願人は、アクチュエータ(駆
動源)の振動によって弾性変形部を共振振動させ、光ビ
ームを走査させるようにした光スキャナの開発をおこな
っている。この光スキャナを用いることにより、光スキ
ャナの小型化、2次元の走査化、高速化、低コスト化な
どを実現することができる。
動源)の振動によって弾性変形部を共振振動させ、光ビ
ームを走査させるようにした光スキャナの開発をおこな
っている。この光スキャナを用いることにより、光スキ
ャナの小型化、2次元の走査化、高速化、低コスト化な
どを実現することができる。
【0003】この光スキャナは、共振振動を利用してい
るため、アクチュエータに加える駆動電圧を検知するこ
とにより、走査位置を求めることができ、光走査装置や
2次元物体形状センサなどの2次元センサなどに適用が
図れる。
るため、アクチュエータに加える駆動電圧を検知するこ
とにより、走査位置を求めることができ、光走査装置や
2次元物体形状センサなどの2次元センサなどに適用が
図れる。
【0004】すなわち、共振状態においては、図13
(a)(b)に示すようにアクチュエータへの電圧信号
と光スキャナの走査位置との関係は、位相がπ/2ずれ
た関係となっており、アクチュエータへの電圧信号と光
スキャナの走査位置すなわち走査角の関係は1対1で関
係づけられるものである。ここに、光スキャナの共振周
波数をω/(2π)、アクチュエータへの電圧信号V
(t)=V0sin(ω・t)とすると、光スキャナの走査角
θ(t)は、θ(t)=θ0sin(ω・t−π/2)=θ0
cos(ω・t)として求められる。ここにθ0は最大
走査角である。
(a)(b)に示すようにアクチュエータへの電圧信号
と光スキャナの走査位置との関係は、位相がπ/2ずれ
た関係となっており、アクチュエータへの電圧信号と光
スキャナの走査位置すなわち走査角の関係は1対1で関
係づけられるものである。ここに、光スキャナの共振周
波数をω/(2π)、アクチュエータへの電圧信号V
(t)=V0sin(ω・t)とすると、光スキャナの走査角
θ(t)は、θ(t)=θ0sin(ω・t−π/2)=θ0
cos(ω・t)として求められる。ここにθ0は最大
走査角である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、周囲の
温度変化により、光スキャナの共振周波数が変化した
り、駆動回路の安定性が劣化するため、共振振動を行な
っている光スキャナが共振状態を外れ、アクチュエータ
への電圧信号V(t)と光スキャナの走査角θ(t)の位相関
係は、共振状態のπ/2からずれることとなる(図1
3、14)。このためアクチュエータへの電圧信号と走
査位置の関係が共振状態の場合と一致しなくなり走査位
置が特定できなくなる。
温度変化により、光スキャナの共振周波数が変化した
り、駆動回路の安定性が劣化するため、共振振動を行な
っている光スキャナが共振状態を外れ、アクチュエータ
への電圧信号V(t)と光スキャナの走査角θ(t)の位相関
係は、共振状態のπ/2からずれることとなる(図1
3、14)。このためアクチュエータへの電圧信号と走
査位置の関係が共振状態の場合と一致しなくなり走査位
置が特定できなくなる。
【0006】したがって、この駆動電圧による走査位置
の検知方式は、周囲環境の安定した条件では適用できる
が、温度変化が大きいような周囲環境の安定していない
条件のもとでは走査位置の検出精度が劣化するので、光
センサなどに適応した場合には測定誤差を生じるという
問題点があった。
の検知方式は、周囲環境の安定した条件では適用できる
が、温度変化が大きいような周囲環境の安定していない
条件のもとでは走査位置の検出精度が劣化するので、光
センサなどに適応した場合には測定誤差を生じるという
問題点があった。
【0007】本発明は叙上の従来例の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、光ビームを
走査する共振型の光スキャナにおいて周囲環境の安定し
ていない条件にあっても、光スキャナの走査位置の検出
精度の劣化を防ぎ、各種光学装置などに適応した場合に
その測定誤差をなくし、光スキャナの走査位置を高精度
に検出することにある。
れたものであり、その目的とするところは、光ビームを
走査する共振型の光スキャナにおいて周囲環境の安定し
ていない条件にあっても、光スキャナの走査位置の検出
精度の劣化を防ぎ、各種光学装置などに適応した場合に
その測定誤差をなくし、光スキャナの走査位置を高精度
に検出することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の光学装置
は、少なくとも1つの弾性変形モードを有する弾性変形
部と、前記弾性変形部の一端に設けられ前記弾性変形部
の弾性変形モードに応じて可動する可動片と、前記弾性
変形部の他端に設けられ前記弾性変形部に振動を伝える
振動入力部と、前記振動入力部に前記弾性変形モードに
対する共振振動を印加する駆動源と、光源と、前記可動
片の可動状態を検知するセンサとを備え、前記可動片を
共振振動させると共に光源からの光ビームを前記可動片
で反射させることにより光ビームを走査する光学装置に
おいて、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、圧
電性を有する圧電薄膜が前記弾性変形部上に設けられ、
該弾性変形部の弾性変形によって発生する電圧信号に基
づいて、可動片の可動状態を検知することを特徴として
いる。本発明の第2の光学装置は、少なくとも1つの弾
性変形モードを有する弾性変形部と、前記弾性変形部の
一端に設けられ前記弾性変形部の弾性変形モードに応じ
て可動する可動片と、前記弾性変形部の他端に設けられ
前記弾性変形部に振動を伝える振動入力部と、前記振動
入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動を印加す
る駆動源と、前記可動片上に形成された発光素子と、前
記可動片の可動状態を検知するセンサとを備え、前記可
動片を共振振動させると共に前記発光素子から光ビーム
を出射させることにより光ビームを走査する光学装置に
おいて、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、圧
電性を有する圧電薄膜が前記弾性変形部上に設けられ、
該弾性変形部の弾性変形によって発生する電圧信号に基
づいて、可動片の可動状態を検知することを特徴として
いる。
は、少なくとも1つの弾性変形モードを有する弾性変形
部と、前記弾性変形部の一端に設けられ前記弾性変形部
の弾性変形モードに応じて可動する可動片と、前記弾性
変形部の他端に設けられ前記弾性変形部に振動を伝える
振動入力部と、前記振動入力部に前記弾性変形モードに
対する共振振動を印加する駆動源と、光源と、前記可動
片の可動状態を検知するセンサとを備え、前記可動片を
共振振動させると共に光源からの光ビームを前記可動片
で反射させることにより光ビームを走査する光学装置に
おいて、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、圧
電性を有する圧電薄膜が前記弾性変形部上に設けられ、
該弾性変形部の弾性変形によって発生する電圧信号に基
づいて、可動片の可動状態を検知することを特徴として
いる。本発明の第2の光学装置は、少なくとも1つの弾
性変形モードを有する弾性変形部と、前記弾性変形部の
一端に設けられ前記弾性変形部の弾性変形モードに応じ
て可動する可動片と、前記弾性変形部の他端に設けられ
前記弾性変形部に振動を伝える振動入力部と、前記振動
入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動を印加す
る駆動源と、前記可動片上に形成された発光素子と、前
記可動片の可動状態を検知するセンサとを備え、前記可
動片を共振振動させると共に前記発光素子から光ビーム
を出射させることにより光ビームを走査する光学装置に
おいて、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、圧
電性を有する圧電薄膜が前記弾性変形部上に設けられ、
該弾性変形部の弾性変形によって発生する電圧信号に基
づいて、可動片の可動状態を検知することを特徴として
いる。
【0009】本発明の第3の光学装置は、少なくとも1
つの弾性変形モードを有する弾性変形部と、前記弾性変
形部の一端に設けられ前記弾性変形部の弾性変形モード
に応じて可動する可動片と、前記弾性変形部の他端に設
けられ前記弾性変形部に振動を伝える振動入力部と、前
記振動入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動を
印加する駆動源と、光源と、前記可動片の可動状態を検
知するセンサとを備え、前記可動片を共振振動させると
共に光源からの光ビームを前記可動片で反射させること
により光ビームを走査する光学装置において、前記可動
片の可動状態を検知するセンサは、該可動片に設けた可
動電極と該可動片の近傍に設けた固定電極とにより、こ
れらの電極の静電容量の変化を検出することによって前
記可動片の可動状態を検知することを特徴としている。
本発明の第4の光学装置は、少なくとも1つの弾性変形
モードを有する弾性変形部と、前記弾性変形部の一端に
設けられ前記弾性変形部の弾性変形モードに応じて可動
する可動片と、前記弾性変形部の他端に設けられ前記弾
性変形部に振動を伝える振動入力部と、前記振動入力部
に前記弾性変形モードに対する共振振動を印加する駆動
源と、前記可動片上に形成された発光素子と、前記可動
片の可動状態を検知するセンサとを備え、前記可動片を
共振振動させると共に前記発光素子から光ビームを出射
させることにより光ビームを走査する光学装置におい
て、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、該可動
片に設けた可動電極と該可動片の近傍に設けた固定電極
とにより、これらの電極の静電容量の変化を検出するこ
とによって前記可動片の可動状態を検知することを特徴
としている。
つの弾性変形モードを有する弾性変形部と、前記弾性変
形部の一端に設けられ前記弾性変形部の弾性変形モード
に応じて可動する可動片と、前記弾性変形部の他端に設
けられ前記弾性変形部に振動を伝える振動入力部と、前
記振動入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動を
印加する駆動源と、光源と、前記可動片の可動状態を検
知するセンサとを備え、前記可動片を共振振動させると
共に光源からの光ビームを前記可動片で反射させること
により光ビームを走査する光学装置において、前記可動
片の可動状態を検知するセンサは、該可動片に設けた可
動電極と該可動片の近傍に設けた固定電極とにより、こ
れらの電極の静電容量の変化を検出することによって前
記可動片の可動状態を検知することを特徴としている。
本発明の第4の光学装置は、少なくとも1つの弾性変形
モードを有する弾性変形部と、前記弾性変形部の一端に
設けられ前記弾性変形部の弾性変形モードに応じて可動
する可動片と、前記弾性変形部の他端に設けられ前記弾
性変形部に振動を伝える振動入力部と、前記振動入力部
に前記弾性変形モードに対する共振振動を印加する駆動
源と、前記可動片上に形成された発光素子と、前記可動
片の可動状態を検知するセンサとを備え、前記可動片を
共振振動させると共に前記発光素子から光ビームを出射
させることにより光ビームを走査する光学装置におい
て、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、該可動
片に設けた可動電極と該可動片の近傍に設けた固定電極
とにより、これらの電極の静電容量の変化を検出するこ
とによって前記可動片の可動状態を検知することを特徴
としている。
【0010】また、上記の光学装置においては、前記弾
性変形部は2つの弾性変形モードを有し、前記振動入力
部にこれら2つの弾性変形モードに対する共振振動を印
加することにより前記可動片を2方向に共振振動させ、
2方向に光ビームを走査させることができる。
性変形部は2つの弾性変形モードを有し、前記振動入力
部にこれら2つの弾性変形モードに対する共振振動を印
加することにより前記可動片を2方向に共振振動させ、
2方向に光ビームを走査させることができる。
【0011】さらに上記の光学装置に、受光素子を備え
ることにより、上記可動片により光源からの光ビームを
反射させ、もしくは、上記可動片上に設けた発光素子か
らの光ビームを対象物体に照射すると共に、対象物体か
らの反射光を受光することとしてもよい。
ることにより、上記可動片により光源からの光ビームを
反射させ、もしくは、上記可動片上に設けた発光素子か
らの光ビームを対象物体に照射すると共に、対象物体か
らの反射光を受光することとしてもよい。
【0012】
【0013】なお、第3または第4の光学装置のように
電極間の静電容量が変化することを利用した検知センサ
を用いる場合には、可動片及び固定電極を配設するとこ
ろの固定部を単結晶シリコン基板から一体として作製
し、可動片上に可動電極を、固定部上に固定電極を設け
ることとしてもよい。
電極間の静電容量が変化することを利用した検知センサ
を用いる場合には、可動片及び固定電極を配設するとこ
ろの固定部を単結晶シリコン基板から一体として作製
し、可動片上に可動電極を、固定部上に固定電極を設け
ることとしてもよい。
【0014】また、上記のような各検知センサの信号を
もとに、上記可動片により反射もしくは可動片上の発光
素子から放たれる光ビームの走査位置を決定する回路を
設ける。次には、可動片の振動状態を所望の状態にすべ
く、駆動源の制御を行なわせる回路を設け、併せて、上
記検知センサの信号をもとに、可動片の振動状態が正常
であるかの判定を行わせる回路を設けることとしてもよ
い。
もとに、上記可動片により反射もしくは可動片上の発光
素子から放たれる光ビームの走査位置を決定する回路を
設ける。次には、可動片の振動状態を所望の状態にすべ
く、駆動源の制御を行なわせる回路を設け、併せて、上
記検知センサの信号をもとに、可動片の振動状態が正常
であるかの判定を行わせる回路を設けることとしてもよ
い。
【0015】また、上記の光学装置において、シリコン
基板から弾性変形部、可動片及び振動入力部を作製する
と共に、信号処理回路を可動片や振動入力部などを作製
したシリコン基板上に形成させることとしてもよい。
基板から弾性変形部、可動片及び振動入力部を作製する
と共に、信号処理回路を可動片や振動入力部などを作製
したシリコン基板上に形成させることとしてもよい。
【0016】
【作用】本発明の光学装置によると、圧電性を有する圧
電薄膜が弾性変形部上に設けられ、弾性変形部の弾性変
形によって電圧信号を発生することを利用した検知セン
サや、可動片に可動電極を設けると共に可動片の近傍に
固定電極を設け、弾性変形部の弾性変形によってこれら
の電極間の静電容量が変化することを利用した検知セン
サを設けたので、可動片の回動状態を直接に検知するこ
とができる。このため、駆動源の駆動電圧信号と光学装
置の走査位置の位相のずれを考慮することなく、光学装
置の走査位置を正確に知ることができる。また、温度変
化が激しいような周囲環境下において、光学装置の共振
周波数に変化を生じたり、駆動回路が温度に不安定なた
め、光学装置の共振状態からずれた場合であっても、走
査位置を正確に測定することができる。したがって、本
発明の光学装置を利用することで、測定誤差を少なく走
査位置を高精度に検出でき、適用範囲を広げられる。
電薄膜が弾性変形部上に設けられ、弾性変形部の弾性変
形によって電圧信号を発生することを利用した検知セン
サや、可動片に可動電極を設けると共に可動片の近傍に
固定電極を設け、弾性変形部の弾性変形によってこれら
の電極間の静電容量が変化することを利用した検知セン
サを設けたので、可動片の回動状態を直接に検知するこ
とができる。このため、駆動源の駆動電圧信号と光学装
置の走査位置の位相のずれを考慮することなく、光学装
置の走査位置を正確に知ることができる。また、温度変
化が激しいような周囲環境下において、光学装置の共振
周波数に変化を生じたり、駆動回路が温度に不安定なた
め、光学装置の共振状態からずれた場合であっても、走
査位置を正確に測定することができる。したがって、本
発明の光学装置を利用することで、測定誤差を少なく走
査位置を高精度に検出でき、適用範囲を広げられる。
【0017】なお、本発明の光学装置に用いる検知セン
サは、極めて小さなものであるため、光学装置自体を大
きくすることもなく光学装置上または光学装置近傍に設
けることが可能で、光学装置を小型のままで走査精度を
向上させることができる。
サは、極めて小さなものであるため、光学装置自体を大
きくすることもなく光学装置上または光学装置近傍に設
けることが可能で、光学装置を小型のままで走査精度を
向上させることができる。
【0018】本発明の光学装置に受光素子を設けると、
各種の光走査センサとして応用が可能になる。また本発
明の光学装置の弾性変形部に、2つの弾性変形モードを
有する弾性変形部を持たせると2方向に光ビームを走査
することができ、2次元物体認識センサなどにも適用が
可能となる。ここで、半導体レーザー装置や発光ダイオ
ード等の発光素子による光源を可動片上に設けること
で、光学装置をさらに小型化することが可能である。
各種の光走査センサとして応用が可能になる。また本発
明の光学装置の弾性変形部に、2つの弾性変形モードを
有する弾性変形部を持たせると2方向に光ビームを走査
することができ、2次元物体認識センサなどにも適用が
可能となる。ここで、半導体レーザー装置や発光ダイオ
ード等の発光素子による光源を可動片上に設けること
で、光学装置をさらに小型化することが可能である。
【0019】さらに、検知センサにより光学装置の可動
片の回動状態を直接計測しているため、光学装置の可動
片を振動させている駆動回路へフィードバックを行い、
光学装置を安定にしかも正確に走査させることができ
る。併せて、光学装置の故障判定を行なうなどの自己故
障診断によって、光学装置の信頼性を高めることにもな
る。
片の回動状態を直接計測しているため、光学装置の可動
片を振動させている駆動回路へフィードバックを行い、
光学装置を安定にしかも正確に走査させることができ
る。併せて、光学装置の故障判定を行なうなどの自己故
障診断によって、光学装置の信頼性を高めることにもな
る。
【0020】
【実施例】図1に、本発明の一実施例による光スキャナ
Aを示す。光スキャナAは、図1に示すように、薄板状
の振動プレート1及び圧電素子2からなる。振動プレー
ト1は、シリコン製の薄板材(シリコンウエハ)等によ
って形成されており、ねじれ変形モードで共振する軸状
の弾性変形部3の一端に可動片4を設け、他端に振動入
力部5を設けたものである。振動入力部5には積層型の
圧電素子2が接合されており、可動片4の表面には鏡面
加工を施すことによってミラー面6が形成されていて、
半導体レーザや発光ダイオード等の発光素子7からの光
ビームを反射するようになっている。したがって、振動
プレート1は振動入力部5において圧電素子2に支持さ
れており、可動片4は弾性変形部3によってフリーに支
持されている。さらに、弾性変形部3の表面には、圧電
性を有する圧電薄膜8aを形成してある。この圧電薄膜
8aは、ZnOなどの圧電材料を蒸着して形成してあ
る。
Aを示す。光スキャナAは、図1に示すように、薄板状
の振動プレート1及び圧電素子2からなる。振動プレー
ト1は、シリコン製の薄板材(シリコンウエハ)等によ
って形成されており、ねじれ変形モードで共振する軸状
の弾性変形部3の一端に可動片4を設け、他端に振動入
力部5を設けたものである。振動入力部5には積層型の
圧電素子2が接合されており、可動片4の表面には鏡面
加工を施すことによってミラー面6が形成されていて、
半導体レーザや発光ダイオード等の発光素子7からの光
ビームを反射するようになっている。したがって、振動
プレート1は振動入力部5において圧電素子2に支持さ
れており、可動片4は弾性変形部3によってフリーに支
持されている。さらに、弾性変形部3の表面には、圧電
性を有する圧電薄膜8aを形成してある。この圧電薄膜
8aは、ZnOなどの圧電材料を蒸着して形成してあ
る。
【0021】しかして、この光スキャナAにあっては、
圧電素子2に交流電圧を印加することによって弾性変形
部3におけるねじれ変形モードの共振周波数ωT/(2
π)と等しい振動数の振動を振動入力部5に印加する
と、弾性変形部3は共振して当該振動が増幅され、可動
片4がθT方向に振動する。可動片4がθT方向に回動す
ると、ミラー面6で反射された光ビームは可動片4の走
査角の2倍の角度で走査される。同時に、可動片4が振
動することにより、弾性変形部3の表面に形成されてあ
る圧電薄膜8aに歪みが加わり、弾性変形部3の表面に
形成された圧電薄膜8aは、圧電効果により圧電薄膜8
aの歪みに応じた電圧を発生し、発生する検出電圧は光
スキャナAの可動片4の振動に対応したものとなる。
圧電素子2に交流電圧を印加することによって弾性変形
部3におけるねじれ変形モードの共振周波数ωT/(2
π)と等しい振動数の振動を振動入力部5に印加する
と、弾性変形部3は共振して当該振動が増幅され、可動
片4がθT方向に振動する。可動片4がθT方向に回動す
ると、ミラー面6で反射された光ビームは可動片4の走
査角の2倍の角度で走査される。同時に、可動片4が振
動することにより、弾性変形部3の表面に形成されてあ
る圧電薄膜8aに歪みが加わり、弾性変形部3の表面に
形成された圧電薄膜8aは、圧電効果により圧電薄膜8
aの歪みに応じた電圧を発生し、発生する検出電圧は光
スキャナAの可動片4の振動に対応したものとなる。
【0022】図2(a)(b)には、圧電薄膜8aに発
生した検出電圧V(t)と可動片4の振動すなわち可動片
4の走査角θ(t)との関係を示す。ここにおいて、検出
電圧V(t)の最大値(+V0)、最小値(−V0)は、弾
性変形部3の歪みが最大、すなわち可動片4の走査角θ
(t)が最大値(+θ0)、最小値(−θ0)であることを
示している。検出電圧V(t)と走査角θ(t)とは周波数及
び位相が一致しており、各検出電圧V(t)が0のとき
は、弾性変形部3に歪みが生じていない状態、すなわち
可動片4の走査角θ(t)が0であることを示す。したが
って、弾性変形部3に形成された圧電薄膜8aに発生し
た検出電圧の大きさを検知することにより、光スキャナ
Aの走査位置を決定することができる。
生した検出電圧V(t)と可動片4の振動すなわち可動片
4の走査角θ(t)との関係を示す。ここにおいて、検出
電圧V(t)の最大値(+V0)、最小値(−V0)は、弾
性変形部3の歪みが最大、すなわち可動片4の走査角θ
(t)が最大値(+θ0)、最小値(−θ0)であることを
示している。検出電圧V(t)と走査角θ(t)とは周波数及
び位相が一致しており、各検出電圧V(t)が0のとき
は、弾性変形部3に歪みが生じていない状態、すなわち
可動片4の走査角θ(t)が0であることを示す。したが
って、弾性変形部3に形成された圧電薄膜8aに発生し
た検出電圧の大きさを検知することにより、光スキャナ
Aの走査位置を決定することができる。
【0023】図3は、本発明の別な一実施例による光ス
キャナBを示す。光スキャナBは、光スキャナAと同じ
く、薄板状の振動プレート1及び圧電素子2からなる。
振動プレート1は、シリコン製の薄板材等によって形成
されており、この振動プレート1は、ねじれ変形モード
で共振する弾性変形部3、可動片4、振動入力部5が設
けられ、振動入力部5に圧電素子2が接合されている。
この光スキャナBの可動片4には半導体レーザー等の発
光素子7aが設けられ、弾性変形部3には圧電薄膜8a
が形成されており、光スキャナAと同様、可動片4が振
動することにより発生する検出電圧は光スキャナBの可
動片4の振動に対応したものとなる。しかして、可動片
4が、回動させられると、発光素子7aから出射された
光ビームがθT方向に走査され、その走査角は圧電薄膜
8aによって検出される。
キャナBを示す。光スキャナBは、光スキャナAと同じ
く、薄板状の振動プレート1及び圧電素子2からなる。
振動プレート1は、シリコン製の薄板材等によって形成
されており、この振動プレート1は、ねじれ変形モード
で共振する弾性変形部3、可動片4、振動入力部5が設
けられ、振動入力部5に圧電素子2が接合されている。
この光スキャナBの可動片4には半導体レーザー等の発
光素子7aが設けられ、弾性変形部3には圧電薄膜8a
が形成されており、光スキャナAと同様、可動片4が振
動することにより発生する検出電圧は光スキャナBの可
動片4の振動に対応したものとなる。しかして、可動片
4が、回動させられると、発光素子7aから出射された
光ビームがθT方向に走査され、その走査角は圧電薄膜
8aによって検出される。
【0024】図4に示す光スキャナCは、本発明のさら
に別なる一実施例を示す。圧電薄膜8aで発生する圧電
効果による電圧は微弱であり、これを増幅させる必要が
あるので、この増幅回路をはじめとして、その他の処理
回路を光スキャナ基板上に一体に形成することができ
る。
に別なる一実施例を示す。圧電薄膜8aで発生する圧電
効果による電圧は微弱であり、これを増幅させる必要が
あるので、この増幅回路をはじめとして、その他の処理
回路を光スキャナ基板上に一体に形成することができ
る。
【0025】光スキャナCは、薄板状の振動プレート1
及び薄板状の固定プレート9及び圧電素子2からなる。
振動プレート1及び固定プレート9は、一枚のシリコン
製の薄板材等により一体に形成され、振動プレート1及
び固定プレート9は、ねじれ変形モードで共振する軸状
の弾性変形部3でつながれ、一体となっている。振動プ
レート1はこの弾性変形部3の一端に可動片4を設け、
他端には固定プレート9が可動片4の外周を囲むように
形成されている。振動プレート1の振動入力部5は固定
プレート9と重複するように形成されており、振動入力
部5には積層型の圧電素子2が接合され、可動片4の表
面には鏡面加工を施すことによってミラー面6が形成さ
れている。また、弾性変形部3には、圧電薄膜8aを形
成してある。
及び薄板状の固定プレート9及び圧電素子2からなる。
振動プレート1及び固定プレート9は、一枚のシリコン
製の薄板材等により一体に形成され、振動プレート1及
び固定プレート9は、ねじれ変形モードで共振する軸状
の弾性変形部3でつながれ、一体となっている。振動プ
レート1はこの弾性変形部3の一端に可動片4を設け、
他端には固定プレート9が可動片4の外周を囲むように
形成されている。振動プレート1の振動入力部5は固定
プレート9と重複するように形成されており、振動入力
部5には積層型の圧電素子2が接合され、可動片4の表
面には鏡面加工を施すことによってミラー面6が形成さ
れている。また、弾性変形部3には、圧電薄膜8aを形
成してある。
【0026】さらに、固定プレート9には、圧電薄膜8
aで発生した電圧を増幅及び信号処理する信号処理回路
部10やその検出電圧により可動片4の走査角を求め、
光スキャナCの走査位置を求める走査位置検出部11、
さらには光スキャナCの異常を判定する光スキャナ異常
判定回路部12などの処理回路を実装し、あるいは半導
体製造技術を用いて作り込んである。
aで発生した電圧を増幅及び信号処理する信号処理回路
部10やその検出電圧により可動片4の走査角を求め、
光スキャナCの走査位置を求める走査位置検出部11、
さらには光スキャナCの異常を判定する光スキャナ異常
判定回路部12などの処理回路を実装し、あるいは半導
体製造技術を用いて作り込んである。
【0027】上記実施例の各光スキャナにおいては、圧
電薄膜8aを検知センサとして用いたが、この検知セン
サの代わりに歪みゲージを用いることもできる。図5に
検知センサとして歪みゲージを用いた本発明のさらに別
な実施例による光スキャナDを示す。光スキャナDも振
動プレート1及び圧電素子2からなる。振動プレート1
は、シリコン製の薄板材等によって形成されており、弾
性変形部3に歪みにより抵抗率が変化する歪みゲージ8
bが形成してある他は、光スキャナAと同様の構造を有
している。この歪みゲージ8bは、圧電体同様、Ni−
Cr−Siやpoly−Siなどの歪みゲージ部材を蒸
着したり、スパッタリングによる薄膜形成法などにより
形成することができる。
電薄膜8aを検知センサとして用いたが、この検知セン
サの代わりに歪みゲージを用いることもできる。図5に
検知センサとして歪みゲージを用いた本発明のさらに別
な実施例による光スキャナDを示す。光スキャナDも振
動プレート1及び圧電素子2からなる。振動プレート1
は、シリコン製の薄板材等によって形成されており、弾
性変形部3に歪みにより抵抗率が変化する歪みゲージ8
bが形成してある他は、光スキャナAと同様の構造を有
している。この歪みゲージ8bは、圧電体同様、Ni−
Cr−Siやpoly−Siなどの歪みゲージ部材を蒸
着したり、スパッタリングによる薄膜形成法などにより
形成することができる。
【0028】ここで、光スキャナDにおいても、圧電素
子2によって弾性変形部3のねじれ変形モードの共振周
波数ωT/(2π)と等しい振動数の振動を振動入力部5
に印加すると、可動片4がθT方向に振動する。可動片
4が振動することにより、弾性変形部3に形成された歪
みゲージ8bに歪みが加わり、歪みゲージ8bの歪みの
変化に応じて弾性変形部3に形成された歪みゲージ8b
の抵抗値が変化する。
子2によって弾性変形部3のねじれ変形モードの共振周
波数ωT/(2π)と等しい振動数の振動を振動入力部5
に印加すると、可動片4がθT方向に振動する。可動片
4が振動することにより、弾性変形部3に形成された歪
みゲージ8bに歪みが加わり、歪みゲージ8bの歪みの
変化に応じて弾性変形部3に形成された歪みゲージ8b
の抵抗値が変化する。
【0029】図6(a)(b)に、歪みゲージ8bの抵
抗値の変化率ΔR(t)と可動片4の振動すなわち可動片
4の走査角θ(t)との関係を示す。ここにおいて、抵抗
値の変化率ΔR(t)の最大値(ΔR0)は、弾性変形部3
の歪みが最大、すなわち可動片4の走査角が最大値(+
θ0)または最小値(−θ0)の状態を示し、抵抗値の変
化率ΔR(t)が0のときは、弾性変形部3に歪みが生じ
ていない状態、すなわち可動片4の走査角θ(t)が0で
あることを示す。したがって、弾性変形部3に圧電薄膜
8aを設けた場合と同様に弾性変形部3に形成された歪
みゲージ8bの抵抗値を検出することにより、光スキャ
ナDの走査位置を決定することができる。なお、歪みゲ
ージ8bの抵抗変化率からは走査方向の判別ができない
が、圧電素子2に印加する駆動電圧を参照することによ
って走査方向の判別は可能である。
抗値の変化率ΔR(t)と可動片4の振動すなわち可動片
4の走査角θ(t)との関係を示す。ここにおいて、抵抗
値の変化率ΔR(t)の最大値(ΔR0)は、弾性変形部3
の歪みが最大、すなわち可動片4の走査角が最大値(+
θ0)または最小値(−θ0)の状態を示し、抵抗値の変
化率ΔR(t)が0のときは、弾性変形部3に歪みが生じ
ていない状態、すなわち可動片4の走査角θ(t)が0で
あることを示す。したがって、弾性変形部3に圧電薄膜
8aを設けた場合と同様に弾性変形部3に形成された歪
みゲージ8bの抵抗値を検出することにより、光スキャ
ナDの走査位置を決定することができる。なお、歪みゲ
ージ8bの抵抗変化率からは走査方向の判別ができない
が、圧電素子2に印加する駆動電圧を参照することによ
って走査方向の判別は可能である。
【0030】この実施例においても、光スキャナCと同
様、歪みゲージ8bの抵抗値を電圧または電流に変換す
る変換回路及びその変換信号を増幅する増幅回路などの
処理回路を、一枚の基板から作製された光スキャナ基板
の固定プレート9に設けることも可能である。
様、歪みゲージ8bの抵抗値を電圧または電流に変換す
る変換回路及びその変換信号を増幅する増幅回路などの
処理回路を、一枚の基板から作製された光スキャナ基板
の固定プレート9に設けることも可能である。
【0031】上述の各実施例においては、ねじれ変形モ
ードによる一軸走査方式について説明した。この一軸走
査の光スキャナにおいて、可動片4の可動状態を検知す
る検知センサは、任意の位置に配置することが可能であ
るが、例えば曲げ変形モード及びねじれ変形モードの2
方向に光ビームを走査する二軸走査を行う光スキャナに
おいては、それぞれの走査方向に対応する検知信号が得
られるように検知センサを配置するのが好ましい。
ードによる一軸走査方式について説明した。この一軸走
査の光スキャナにおいて、可動片4の可動状態を検知す
る検知センサは、任意の位置に配置することが可能であ
るが、例えば曲げ変形モード及びねじれ変形モードの2
方向に光ビームを走査する二軸走査を行う光スキャナに
おいては、それぞれの走査方向に対応する検知信号が得
られるように検知センサを配置するのが好ましい。
【0032】図7には二軸走査の光スキャナにおいて、
検知センサに歪みゲージ8b1、8b2を用いた場合の光
スキャナを示す。光スキャナEも、薄板状の振動プレー
ト1及び圧電素子2からなり、光スキャナDと同じ構造
を有しているが、弾性変形部3は、2つの弾性変形モー
ド、ここでは曲げ変形モード及びねじれ変形モードにお
ける弾性変形軸に沿ってそれぞれ、歪みゲージ8b1、
8b2を設けてある。すなわち弾性変形部3の幅方向す
なわち曲げ変形モードの弾性変形軸Bに平行して歪みゲ
ージ8b1、弾性変形部3の長手方向すなわちねじれ変
形モードの弾性変形軸Tに平行して歪みゲージ8b2を
形成する。
検知センサに歪みゲージ8b1、8b2を用いた場合の光
スキャナを示す。光スキャナEも、薄板状の振動プレー
ト1及び圧電素子2からなり、光スキャナDと同じ構造
を有しているが、弾性変形部3は、2つの弾性変形モー
ド、ここでは曲げ変形モード及びねじれ変形モードにお
ける弾性変形軸に沿ってそれぞれ、歪みゲージ8b1、
8b2を設けてある。すなわち弾性変形部3の幅方向す
なわち曲げ変形モードの弾性変形軸Bに平行して歪みゲ
ージ8b1、弾性変形部3の長手方向すなわちねじれ変
形モードの弾性変形軸Tに平行して歪みゲージ8b2を
形成する。
【0033】今、圧電素子2によって弾性変形部3の曲
げ変形モードの共振周波数ωB/(2π)と等しい振動数
の振動を振動入力部5に印加すると、弾性変形部3は共
振して当該曲げ変形モードの振動が増幅され、可動片4
がθB方向に振動する。さらに、弾性変形部3のねじれ
変形モードの共振周波数ωT/(2π)と等しい振動数の
振動を振動入力部5に印加すると、弾性変形部3は共振
して当該ねじれ変形モードの振動が増幅され、可動片4
がθT方向に振動し、θBとθTの方向に光スキャナ歪み
を発生し、光ビームを2次元状に走査させることができ
る。
げ変形モードの共振周波数ωB/(2π)と等しい振動数
の振動を振動入力部5に印加すると、弾性変形部3は共
振して当該曲げ変形モードの振動が増幅され、可動片4
がθB方向に振動する。さらに、弾性変形部3のねじれ
変形モードの共振周波数ωT/(2π)と等しい振動数の
振動を振動入力部5に印加すると、弾性変形部3は共振
して当該ねじれ変形モードの振動が増幅され、可動片4
がθT方向に振動し、θBとθTの方向に光スキャナ歪み
を発生し、光ビームを2次元状に走査させることができ
る。
【0034】このとき弾性変形部3に発生している弾性
歪みを、歪みゲージ8b1、8b2の2つの歪みゲージに
よって各方向を分離して検出する。θT方向の変形に対
しては、弾性変形部3の幅方向に引っ張り応力が生じる
ので歪みゲージ8b1で歪みを検知することができる。
またθB方向の変形に対しては、弾性変形部3の長手方
向に引っ張り、圧縮応力が生じるので歪みゲージ8b2
で歪みを検知できる。このように、2軸走査の光スキャ
ナに応用する場合にはセンサの配置を工夫する必要があ
る。もちろん、ここで示した配置は一例であるので、こ
の他の配置を設けて2方向の可動状態を検知してもよ
い。
歪みを、歪みゲージ8b1、8b2の2つの歪みゲージに
よって各方向を分離して検出する。θT方向の変形に対
しては、弾性変形部3の幅方向に引っ張り応力が生じる
ので歪みゲージ8b1で歪みを検知することができる。
またθB方向の変形に対しては、弾性変形部3の長手方
向に引っ張り、圧縮応力が生じるので歪みゲージ8b2
で歪みを検知できる。このように、2軸走査の光スキャ
ナに応用する場合にはセンサの配置を工夫する必要があ
る。もちろん、ここで示した配置は一例であるので、こ
の他の配置を設けて2方向の可動状態を検知してもよ
い。
【0035】次に、可動片4の可動状態を検知する検知
センサとして、光スキャナの可動片4に設けた可動電極
14と該可動片4の近傍に設けた固定電極16とによ
り、これらの電極14、16間の静電容量の変化を検出
することを利用した光スキャナを図8に示す。
センサとして、光スキャナの可動片4に設けた可動電極
14と該可動片4の近傍に設けた固定電極16とによ
り、これらの電極14、16間の静電容量の変化を検出
することを利用した光スキャナを図8に示す。
【0036】光スキャナFは、薄板状の振動プレート1
及び薄板状の固定プレート9及び圧電素子2からなる。
振動プレート1及び固定プレート9は、一枚のシリコン
製の薄板材等により形成され、振動プレート1及び固定
プレート9は、弾性変形部3でつながれ、一体となって
いる。振動プレート1はこの弾性変形部3の一端に可動
片4を設け、他端には固定プレート9が可動片4の外周
を囲むように形成されている。
及び薄板状の固定プレート9及び圧電素子2からなる。
振動プレート1及び固定プレート9は、一枚のシリコン
製の薄板材等により形成され、振動プレート1及び固定
プレート9は、弾性変形部3でつながれ、一体となって
いる。振動プレート1はこの弾性変形部3の一端に可動
片4を設け、他端には固定プレート9が可動片4の外周
を囲むように形成されている。
【0037】ねじれ変形モードの弾性変形軸Tと平行な
可動片4の辺13には、固定プレート9の内周に対向さ
せて可動電極14を設け、辺13に向かい合う固定プレ
ート9の辺15には、可動電極14に平行して固定電極
16を設ける。この時、可動片4及び固定プレート9を
接近させ、可動電極14及び固定電極16の間に静電容
量C0を生じるようにしておく。
可動片4の辺13には、固定プレート9の内周に対向さ
せて可動電極14を設け、辺13に向かい合う固定プレ
ート9の辺15には、可動電極14に平行して固定電極
16を設ける。この時、可動片4及び固定プレート9を
接近させ、可動電極14及び固定電極16の間に静電容
量C0を生じるようにしておく。
【0038】ここにおいて、圧電素子2によって弾性変
形部3のねじれ変形モードの共振周波数ωT/(2π)と
等しい振動数の振動を振動入力部5に印加すると、弾性
変形部3はねじれ変形モードで共振して当該振動が増幅
され、可動片4がθT方向に回転する。図9に示すよう
に可動片4が回転することにより、可動電極14と固定
電極16との対向する電極面積はAからA´へ変化し、
電極間距離はDからD´へと変化することになる(図
9)。
形部3のねじれ変形モードの共振周波数ωT/(2π)と
等しい振動数の振動を振動入力部5に印加すると、弾性
変形部3はねじれ変形モードで共振して当該振動が増幅
され、可動片4がθT方向に回転する。図9に示すよう
に可動片4が回転することにより、可動電極14と固定
電極16との対向する電極面積はAからA´へ変化し、
電極間距離はDからD´へと変化することになる(図
9)。
【0039】ここで、可動電極14と固定電極16との
間で生じる静電容量C(t)は、可動電極14と固定電極
16の電極間距離に反比例し、電極面積に比例する関係
がある。したがって、可動片4が振動することにより、
可動電極14と固定電極16との相対する電極面積及び
電極間距離が変化し、可動電極14と固定電極16との
間で生じる静電容量C(t)が変化することになる。した
がってこの静電容量C(t)を検出することにより、可動
片4の走査角θ(t)すなわち光スキャナFの走査位置を
検出することができる。
間で生じる静電容量C(t)は、可動電極14と固定電極
16の電極間距離に反比例し、電極面積に比例する関係
がある。したがって、可動片4が振動することにより、
可動電極14と固定電極16との相対する電極面積及び
電極間距離が変化し、可動電極14と固定電極16との
間で生じる静電容量C(t)が変化することになる。した
がってこの静電容量C(t)を検出することにより、可動
片4の走査角θ(t)すなわち光スキャナFの走査位置を
検出することができる。
【0040】図10に、静電容量C(t)と可動片4の振
動すなわち可動片4の走査角θ(t)との関係を示す。こ
こにおいて、可動片4の走査角θ(t)が0の時、静電容
量C(t)は最大値C0であり、可動片4の走査角θ(t)が
最大(+θ0)、最小(−θ0)の時に、静電容量C(t)
は最小値Cminであることを示す。従って、静電容量C
(t)は、走査角θ(t)の2倍の周波数で変化し、静電容量
C(t)の変化を検出することによって直接に走査角θ(t)
を検出することができる。
動すなわち可動片4の走査角θ(t)との関係を示す。こ
こにおいて、可動片4の走査角θ(t)が0の時、静電容
量C(t)は最大値C0であり、可動片4の走査角θ(t)が
最大(+θ0)、最小(−θ0)の時に、静電容量C(t)
は最小値Cminであることを示す。従って、静電容量C
(t)は、走査角θ(t)の2倍の周波数で変化し、静電容量
C(t)の変化を検出することによって直接に走査角θ(t)
を検出することができる。
【0041】この可動電極14及び固定電極16を備え
た振動プレート1及び固定プレート9は、一枚の薄板状
のシリコンウエハよりエッチングにより作製することが
できるが、電極間距離も高精度な異方性エッチングの手
法を適用することで、例えば10ミクロン程度の設定が
できる。この手法を適用すれば、電極間距離を微小にす
ることができ、それだけ静電容量C0を大きくすること
ができる。これにより、走査位置の検出精度を上げるこ
とも可能となる。
た振動プレート1及び固定プレート9は、一枚の薄板状
のシリコンウエハよりエッチングにより作製することが
できるが、電極間距離も高精度な異方性エッチングの手
法を適用することで、例えば10ミクロン程度の設定が
できる。この手法を適用すれば、電極間距離を微小にす
ることができ、それだけ静電容量C0を大きくすること
ができる。これにより、走査位置の検出精度を上げるこ
とも可能となる。
【0042】なお、光スキャナCの場合と同様に、静電
容量C(t)を電圧または周波数に変換する変換回路及び
その変換信号を増幅する増幅回路などの処理回路を固定
プレート9に設けることも可能である。
容量C(t)を電圧または周波数に変換する変換回路及び
その変換信号を増幅する増幅回路などの処理回路を固定
プレート9に設けることも可能である。
【0043】また2次状の光走査が可能な光スキャナに
おいて、検知センサに可動電極14及び固定電極16間
の静電容量の変化を用いた場合にも、前述のように2方
向への変動を分離して検知できるような電極配置が必要
となる。図11にその一例を示す。ねじれ変形モードの
弾性変形軸Tに平行に、曲げ振動モードの弾性変形軸B
と各電極の中心とを一致させて、可動片4及び固定プレ
ート9に可動電極14a及び固定電極16aが向かい合
うように、可動電極14a及び固定電極16aを配置す
る。一方、曲げ変形モードの弾性変形軸Bに平行に、ね
じれ振動モードの弾性変形軸Tと電極の中心とを一致さ
せて、可動片4及び固定プレート9に可動電極14b及
び固定電極16bが向かい合うように、可動電極14b
及び固定電極16bを配置する。この光スキャナGで
は、ねじれ変形モードの回転方向θTに対しては可動電
極14a及び固定電極16aが検知し〔可動電極14b
及び固定電極16bは、ねじれ変形モードの弾性変形軸
とその中心を一致させてあるので、可動電極14b及び
固定電極16bで生じる静電容量C2(t)は変化しな
い〕、曲げ変形モードの回転方向θBに対しては可動電
極14b及び固定電極16bが検知する〔可動電極14
a及び固定電極16aは、曲げ変形モードの弾性変形軸
とその中心を一致させてあるので、可動電極14a及び
固定電極16aで生じる静電容量C1(t)は変化しな
い〕。ここで示した電極配置は一例であるので、この他
の配置で構成してもよい。
おいて、検知センサに可動電極14及び固定電極16間
の静電容量の変化を用いた場合にも、前述のように2方
向への変動を分離して検知できるような電極配置が必要
となる。図11にその一例を示す。ねじれ変形モードの
弾性変形軸Tに平行に、曲げ振動モードの弾性変形軸B
と各電極の中心とを一致させて、可動片4及び固定プレ
ート9に可動電極14a及び固定電極16aが向かい合
うように、可動電極14a及び固定電極16aを配置す
る。一方、曲げ変形モードの弾性変形軸Bに平行に、ね
じれ振動モードの弾性変形軸Tと電極の中心とを一致さ
せて、可動片4及び固定プレート9に可動電極14b及
び固定電極16bが向かい合うように、可動電極14b
及び固定電極16bを配置する。この光スキャナGで
は、ねじれ変形モードの回転方向θTに対しては可動電
極14a及び固定電極16aが検知し〔可動電極14b
及び固定電極16bは、ねじれ変形モードの弾性変形軸
とその中心を一致させてあるので、可動電極14b及び
固定電極16bで生じる静電容量C2(t)は変化しな
い〕、曲げ変形モードの回転方向θBに対しては可動電
極14b及び固定電極16bが検知する〔可動電極14
a及び固定電極16aは、曲げ変形モードの弾性変形軸
とその中心を一致させてあるので、可動電極14a及び
固定電極16aで生じる静電容量C1(t)は変化しな
い〕。ここで示した電極配置は一例であるので、この他
の配置で構成してもよい。
【0044】図12に、本発明による光スキャナを利用
した光学装置Hの一実施例を示す。7は光源である半導
体レーザー素子や発光ダイオード(LED)等の発光素
子、21は発光素子7から出射された光ビームαを集光
もしくはコリメート化するための光ビーム成形用のレン
ズ、Eは光ビームを2次元的に走査させるための光スキ
ャナ、22は検出領域からの反射光または散乱光を検出
するフォトダイオード等の受光素子である。23は光ス
キャナEの共振周波数信号aを出力する周波数発生装
置、24は周波数発生装置23から出力された共振周波
数信号aを増幅して光スキャナEの圧電素子2に印加す
る圧電素子駆動装置(増幅器)、25は光スキャナEの
可動片4の可動状態を示す検知センサからの検知信号c
を処理する信号処理回路部、26は信号処理回路部25
からのセンサ信号dにより周波数発生装置23への制御
信号eを出力する周波数制御回路部、28は信号処理回
路部25からのセンサ信号dにより光スキャナの異常を
判定する光学装置異常判定回路部、29は受光素子22
からの受光信号gにより検出物体30の存在を検知する
物体検出回路部、27は信号処理回路部25からのセン
サ信号d及び物体検出回路部29からの走査位置信号f
により光ビームαの走査角θ(t)を検出する走査位置検
出部である。
した光学装置Hの一実施例を示す。7は光源である半導
体レーザー素子や発光ダイオード(LED)等の発光素
子、21は発光素子7から出射された光ビームαを集光
もしくはコリメート化するための光ビーム成形用のレン
ズ、Eは光ビームを2次元的に走査させるための光スキ
ャナ、22は検出領域からの反射光または散乱光を検出
するフォトダイオード等の受光素子である。23は光ス
キャナEの共振周波数信号aを出力する周波数発生装
置、24は周波数発生装置23から出力された共振周波
数信号aを増幅して光スキャナEの圧電素子2に印加す
る圧電素子駆動装置(増幅器)、25は光スキャナEの
可動片4の可動状態を示す検知センサからの検知信号c
を処理する信号処理回路部、26は信号処理回路部25
からのセンサ信号dにより周波数発生装置23への制御
信号eを出力する周波数制御回路部、28は信号処理回
路部25からのセンサ信号dにより光スキャナの異常を
判定する光学装置異常判定回路部、29は受光素子22
からの受光信号gにより検出物体30の存在を検知する
物体検出回路部、27は信号処理回路部25からのセン
サ信号d及び物体検出回路部29からの走査位置信号f
により光ビームαの走査角θ(t)を検出する走査位置検
出部である。
【0045】しかして、光ビームαの走査領域に物体3
0が存在すると、発光素子7から出射され、光スキャナ
Eでスキャンニングされた光ビームαが物体30の表面
に当たって反射され、物体30で反射した散乱光βが受
光素子22に受光され、物体30の存在が検出される。
受光素子22が受光すると、その受光信号gは物体処理
検出回路部29へ出力される。
0が存在すると、発光素子7から出射され、光スキャナ
Eでスキャンニングされた光ビームαが物体30の表面
に当たって反射され、物体30で反射した散乱光βが受
光素子22に受光され、物体30の存在が検出される。
受光素子22が受光すると、その受光信号gは物体処理
検出回路部29へ出力される。
【0046】一方信号処理回路部25は、検知センサか
らの検知信号cを受け取ると、可動片4の可動状態を示
すセンサ信号dを出力する。この入力されたセンサ信号
dおよび走査位置信号fに基づき、走査位置検出部27
は、受光素子22が受光した瞬間のセンサ信号dを読み
取り、これを座標に変換して物体30の2次元的な位置
を検出する。
らの検知信号cを受け取ると、可動片4の可動状態を示
すセンサ信号dを出力する。この入力されたセンサ信号
dおよび走査位置信号fに基づき、走査位置検出部27
は、受光素子22が受光した瞬間のセンサ信号dを読み
取り、これを座標に変換して物体30の2次元的な位置
を検出する。
【0047】次に信号処理回路部25より出力されたセ
ンサ信号dを受信した周波数制御回路部26は、入力さ
れたセンサ信号dをもとに求められた可動片4の振動周
波数と周波数発生装置23の設定周波数が異なっていれ
ば、周波数発生装置23へ制御信号eを出力し、設定周
波数となるように周波数信号aをフィードバック調整す
る。また、センサ信号dをもとに求められた可動片4の
走査位置と圧電素子2に印加している交流電圧bの位相
のずれが、所定のずれ(π/2)と異なっていれば、周
波数発生装置23へ制御信号eを出力し、位相のずれが
π/2となるように周波数信号aを調整することによ
り、圧電素子2の周波数が共振周波数と等しくなるよう
自動調節することもできる。
ンサ信号dを受信した周波数制御回路部26は、入力さ
れたセンサ信号dをもとに求められた可動片4の振動周
波数と周波数発生装置23の設定周波数が異なっていれ
ば、周波数発生装置23へ制御信号eを出力し、設定周
波数となるように周波数信号aをフィードバック調整す
る。また、センサ信号dをもとに求められた可動片4の
走査位置と圧電素子2に印加している交流電圧bの位相
のずれが、所定のずれ(π/2)と異なっていれば、周
波数発生装置23へ制御信号eを出力し、位相のずれが
π/2となるように周波数信号aを調整することによ
り、圧電素子2の周波数が共振周波数と等しくなるよう
自動調節することもできる。
【0048】また光学装置異常判定回路部28は、信号
処理回路部25から出力されたセンサ信号dをもとに求
められた可動片4の振動周波数と圧電素子2に印加して
いる共振周波数とのずれがある一定の異常レベル(周波
数の差)を越えていないか、または、可動片4の走査位
置と圧電素子2に印加している交流電圧bの位相のずれ
がある一定の異常レベル(位相差)を越えていないか、
また、可動片4の最大走査角が所定の角度(θ0)より
も小さくないかなど、振動波形を分析することにより、
光スキャナEの走査状態の異常を判定し、異常と判定す
ればアラームを発生したり、光スキャナの作動を止める
という処理を行なう。なお、上記光学装置Hは、例え
ば、2次元領域型の光電センサやバーコードリーダー等
に用いることができる。
処理回路部25から出力されたセンサ信号dをもとに求
められた可動片4の振動周波数と圧電素子2に印加して
いる共振周波数とのずれがある一定の異常レベル(周波
数の差)を越えていないか、または、可動片4の走査位
置と圧電素子2に印加している交流電圧bの位相のずれ
がある一定の異常レベル(位相差)を越えていないか、
また、可動片4の最大走査角が所定の角度(θ0)より
も小さくないかなど、振動波形を分析することにより、
光スキャナEの走査状態の異常を判定し、異常と判定す
ればアラームを発生したり、光スキャナの作動を止める
という処理を行なう。なお、上記光学装置Hは、例え
ば、2次元領域型の光電センサやバーコードリーダー等
に用いることができる。
【0049】
【発明の効果】本発明の光学装置によると、可動片の回
動状態を検知する検知センサを設けたので、可動片の回
動状態を直接に検知することができる。このため、駆動
源の駆動電圧信号と光学装置の走査位置の位相のずれを
考慮することなく、光学装置の走査位置を正確に知るこ
とができる。また、温度変化が激しいような周囲環境下
において、光学装置の共振周波数に変化を生じたり、駆
動回路が温度に不安定なため、光学装置の共振状態から
ずれた場合であっても、走査位置を正確に測定すること
ができる。したがって、本発明の光学装置を利用するこ
とで、測定誤差を少なく走査位置を高精度に検出でき、
適用範囲を広げられる。
動状態を検知する検知センサを設けたので、可動片の回
動状態を直接に検知することができる。このため、駆動
源の駆動電圧信号と光学装置の走査位置の位相のずれを
考慮することなく、光学装置の走査位置を正確に知るこ
とができる。また、温度変化が激しいような周囲環境下
において、光学装置の共振周波数に変化を生じたり、駆
動回路が温度に不安定なため、光学装置の共振状態から
ずれた場合であっても、走査位置を正確に測定すること
ができる。したがって、本発明の光学装置を利用するこ
とで、測定誤差を少なく走査位置を高精度に検出でき、
適用範囲を広げられる。
【0050】また、半導体レーザー素子や発光ダイオー
ド(LED)等の発光素子を光学装置上に設けることが
できるため、新たにこれらの発光素子を光学装置から離
れた場所に設ける必要がなく、光学装置をより小型化す
ることができる。また、光学装置に、受光素子を備える
ことにより、前記可動片から放たれる(出射もしくは反
射される)光ビームを対象物体に照射すると共に、該対
象物体からの反射光を受光させることとすれば、小型の
光走査センサとしての応用が可能になる。
ド(LED)等の発光素子を光学装置上に設けることが
できるため、新たにこれらの発光素子を光学装置から離
れた場所に設ける必要がなく、光学装置をより小型化す
ることができる。また、光学装置に、受光素子を備える
ことにより、前記可動片から放たれる(出射もしくは反
射される)光ビームを対象物体に照射すると共に、該対
象物体からの反射光を受光させることとすれば、小型の
光走査センサとしての応用が可能になる。
【0051】さらに、これらの光学装置に、2つの弾性
変形モードを有する弾性変形部を持たせることとすれ
ば、この2つの弾性変形モードに対する共振振動を印加
し、光ビームを2方向に走査することができるので、2
次元の光走査センサとして適用できる。
変形モードを有する弾性変形部を持たせることとすれ
ば、この2つの弾性変形モードに対する共振振動を印加
し、光ビームを2方向に走査することができるので、2
次元の光走査センサとして適用できる。
【0052】ここで、光学装置の可動片の可動状態を検
知する検知センサとして、圧電性を有する薄膜センサ
を光学装置の弾性変形部上に設けること、歪みにより
抵抗率が変化する歪みゲージを光学装置の弾性変形部上
に設けること、あるいは、光学装置の可動片および該
可動片の近傍に電極を設けることとしたので、可動片の
共振振動によってその検知センサに生じる電圧の変化、
抵抗値の変化あるいは静電容量の変化のいずれかを検知
することにより、可動片の可動状態を直接検知すること
ができ、走査位置を正確に知ることができる。しかも、
これらの検知センサは、光学装置に比べ小さなものであ
るため、光学装置上または光学装置近傍に設けることが
可能であり、光学装置を大きくする必要もなく、光学装
置を小型のままで走査精度を向上させることができる。
知する検知センサとして、圧電性を有する薄膜センサ
を光学装置の弾性変形部上に設けること、歪みにより
抵抗率が変化する歪みゲージを光学装置の弾性変形部上
に設けること、あるいは、光学装置の可動片および該
可動片の近傍に電極を設けることとしたので、可動片の
共振振動によってその検知センサに生じる電圧の変化、
抵抗値の変化あるいは静電容量の変化のいずれかを検知
することにより、可動片の可動状態を直接検知すること
ができ、走査位置を正確に知ることができる。しかも、
これらの検知センサは、光学装置に比べ小さなものであ
るため、光学装置上または光学装置近傍に設けることが
可能であり、光学装置を大きくする必要もなく、光学装
置を小型のままで走査精度を向上させることができる。
【0053】上述の検知センサにより光学装置の可動片
の可動状態を直接計測しているため、検知センサの検知
信号を基に、前記可動片を駆動させている駆動源の駆動
電圧信号の駆動周波数を調整することや、駆動電圧信号
と光学装置の走査位置の位相ずれを上記駆動電圧信号の
調整をすることで、光学装置を安定に走査させることが
でき、しかも、光学装置の故障判定を行なうなどの自己
故障診断を行なわせることもできるため、光学装置の信
頼性を高めることが可能になる。
の可動状態を直接計測しているため、検知センサの検知
信号を基に、前記可動片を駆動させている駆動源の駆動
電圧信号の駆動周波数を調整することや、駆動電圧信号
と光学装置の走査位置の位相ずれを上記駆動電圧信号の
調整をすることで、光学装置を安定に走査させることが
でき、しかも、光学装置の故障判定を行なうなどの自己
故障診断を行なわせることもできるため、光学装置の信
頼性を高めることが可能になる。
【0054】さらにシリコン基板から弾性変形部、可動
片及び振動入力部を作製すると共に、該シリコン基板上
に光学装置の可動片の可動状態を検知するセンサからの
検知信号を処理する回路等の信号処理回路を形成するこ
とにより、この信号処理回路を別に取り出して設ける必
要がなく、光学装置をさらに小型化でき、しかもこれら
の信号処理回路を基板上に一体形成することができるた
め、本発明の光学装置を容易に製造することができる。
片及び振動入力部を作製すると共に、該シリコン基板上
に光学装置の可動片の可動状態を検知するセンサからの
検知信号を処理する回路等の信号処理回路を形成するこ
とにより、この信号処理回路を別に取り出して設ける必
要がなく、光学装置をさらに小型化でき、しかもこれら
の信号処理回路を基板上に一体形成することができるた
め、本発明の光学装置を容易に製造することができる。
【図1】本発明の一実施例による光スキャナを示す斜視
図である。
図である。
【図2】同上の実施例における圧電薄膜の検知電圧と走
査角の関係を示す図である。
査角の関係を示す図である。
【図3】本発明の別な実施例による光スキャナを示す斜
視図である。
視図である。
【図4】本発明のさらに別な実施例による光スキャナを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図5】本発明のさらに別な実施例による光スキャナを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図6】同上の実施例における歪みゲージの抵抗変化率
と走査角の関係を示す図である。
と走査角の関係を示す図である。
【図7】本発明のさらに別な実施例による光スキャナを
示す図である。
示す図である。
【図8】本発明のさらに別な実施例による光スキャナを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図9】同上の電極部分を示す一部破断した断面図であ
る。
る。
【図10】同上の実施例における電極間の静電容量と走
査角の関係を示す図である。
査角の関係を示す図である。
【図11】本発明のさらに別な実施例による光スキャナ
を示す正面図である。
を示す正面図である。
【図12】本発明の別な実施例による光学装置を示す概
略構成図である。
略構成図である。
【図13】駆動電圧の周波数と光スキャナの走査角の振
幅との関係を示す図、および駆動電圧の周波数とその走
査角との位相のずれとの関係を示す図である。
幅との関係を示す図、および駆動電圧の周波数とその走
査角との位相のずれとの関係を示す図である。
【図14】光スキャナの駆動電圧と走査角との関係を示
す図である。
す図である。
3 弾性変形部 4 可動片 7,7a 発光素子 8a 圧電薄膜 8b 歪みゲージ 9 固定プレート 10,25 信号処理回路部 14 可動電極 16 固定電極 22 受光素子 26 周波数制御回路部 27 走査位置検出部 28 光学装置異常判定回路部
Claims (11)
- 【請求項1】 少なくとも1つの弾性変形モードを有す
る弾性変形部と、 前記弾性変形部の一端に設けられ前記弾性変形部の弾性
変形モードに応じて可動する可動片と、 前記弾性変形部の他端に設けられ前記弾性変形部に振動
を伝える振動入力部と、 前記振動入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動
を印加する駆動源と、 光源と、 前記可動片の可動状態を検知するセンサ とを備え、 前記可動片を共振振動させると共に光源からの光ビーム
を前記可動片で反射させることにより光ビームを走査す
る光学装置において、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、圧電性を有
する圧電薄膜が前記弾性変形部上に設けられ、該弾性変
形部の弾性変形によって発生する電圧信号に基づいて、
可動片の可動状態を検知する ことを特徴とする光学装
置。 - 【請求項2】 少なくとも1つの弾性変形モードを有す
る弾性変形部と、 前記弾性変形部の一端に設けられ前記弾性変形部の弾性
変形モードに応じて可動する可動片と、 前記弾性変形部の他端に設けられ前記弾性変形部に振動
を伝える振動入力部と、 前記振動入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動
を印加する駆動源と、 前記可動片上に形成された発光素子と、 前記可動片の可動状態を検知するセンサ とを備え、 前記可動片を共振振動させると共に前記発光素子から光
ビームを出射させることにより光ビームを走査する光学
装置において、前記可動片の可動状態を検知するセンサは、圧電性を有
する圧電薄膜が前記弾性変形部上に設けられ、該弾性変
形部の弾性変形によって発生する電圧信号に基づいて、
可動片の可動状態を検知する ことを特徴とする光学装
置。 - 【請求項3】 少なくとも1つの弾性変形モードを有す
る弾性変形部と、 前記弾性変形部の一端に設けられ前記弾性変形部の弾性
変形モードに応じて可 動する可動片と、 前記弾性変形部の他端に設けられ前記弾性変形部に振動
を伝える振動入力部と、 前記振動入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動
を印加する駆動源と、 光源と、 前記可動片の可動状態を検知するセンサとを備え、 前記可動片を共振振動させると共に光源からの光ビーム
を前記可動片で反射させることにより光ビームを走査す
る光学装置において、 前記可動片の可動状態を検知するセンサは、該可動片に
設けた可動電極と該可動片の近傍に設けた固定電極とに
より、これらの電極の静電容量の変化を検出することに
よって前記可動片の可動状態を検知することを特徴とす
る 光学装置。 - 【請求項4】 少なくとも1つの弾性変形モードを有す
る弾性変形部と、 前記弾性変形部の一端に設けられ前記弾性変形部の弾性
変形モードに応じて可動する可動片と、 前記弾性変形部の他端に設けられ前記弾性変形部に振動
を伝える振動入力部と、 前記振動入力部に前記弾性変形モードに対する共振振動
を印加する駆動源と、 前記可動片上に形成された発光素子と、 前記可動片の可動状態を検知するセンサとを備え、 前記可動片を共振振動させると共に前記発光素子から光
ビームを出射させることにより光ビームを走査する光学
装置において、 前記可動片の可動状態を検知するセンサは、該可動片に
設けた可動電極と該可動片の近傍に設けた固定電極とに
より、これらの電極の静電容量の変化を検出することに
よって前記可動片の可動状態を検知することを特徴とす
る 光学装置。 - 【請求項5】 前記弾性変形部は2つの弾性変形モード
を有し、振動入力部にこれら2つの弾性変形モードに対
する共振振動を印加することにより前記可動片を2方向
に共振振動させ、2方向に光ビームを走査することを特
徴とする請求項1、2、3または4に記載の光学装置。 - 【請求項6】 さらに受光素子を備え、前記可動片から
放たれる光ビームを対象物体に照射すると共に、該対象
物体からの反射光を受光することを特徴とする請求項
1、2、3、4または5に記載の光学装置。 - 【請求項7】 前記可動片は単結晶シリコン基板から作
製され、該単結晶シリコン基板から該可動片と一体で作
製された固定部に前記固定電極を設けたことを特徴とす
る請求項3または4に記載の光学装置。 - 【請求項8】 前記可動片の可動状態を検知するセンサ
の信号をもとに、前記光ビームの走査位置を決定するこ
とを特徴とする請求項1、2、3、4、5、6または7
に記載の光学装置。 - 【請求項9】 前記可動片の可動状態を検知するセンサ
の信号をもとに、前記駆動源の制御を行うことを特徴と
する請求項1、2、3、4、5、6または7に記載の光
学装置。 - 【請求項10】 前記可動片の可動状態を検知するセン
サーの信号をもとに、異常を判定することを特徴とする
請求項1、2、3、4、5、6または7に記載の光学装
置。 - 【請求項11】 シリコン基板から弾性変形部、可動
片、及び振動入力部を作製すると共に、該シリコン基板
上に信号処理回路を形成したことを特徴とする請求項
1、2、3、4、5、6、7、8、9または10に記載
の光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04300488A JP3114397B2 (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04300488A JP3114397B2 (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06123845A JPH06123845A (ja) | 1994-05-06 |
| JP3114397B2 true JP3114397B2 (ja) | 2000-12-04 |
Family
ID=17885418
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04300488A Expired - Fee Related JP3114397B2 (ja) | 1992-10-12 | 1992-10-12 | 光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3114397B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3833988B2 (ja) * | 2002-11-01 | 2006-10-18 | 日本電信電話株式会社 | 光スイッチ装置 |
| JP5188024B2 (ja) | 2006-02-09 | 2013-04-24 | キヤノン株式会社 | 揺動体装置、電位測定装置、及び光偏向装置 |
| JP4288275B2 (ja) | 2006-08-30 | 2009-07-01 | 富士通株式会社 | 光スイッチ装置 |
| JP5519614B2 (ja) * | 2011-10-25 | 2014-06-11 | 日本電信電話株式会社 | 光通信装置およびミラー素子 |
| JP6634667B2 (ja) | 2014-07-18 | 2020-01-22 | 船井電機株式会社 | レーザ走査装置 |
| JP2023163946A (ja) | 2022-04-28 | 2023-11-10 | 富士フイルム株式会社 | 光走査装置及び異常検知方法 |
-
1992
- 1992-10-12 JP JP04300488A patent/JP3114397B2/ja not_active Expired - Fee Related
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