JP3113145B2 - ウェーハスライスベース剥離装置 - Google Patents
ウェーハスライスベース剥離装置Info
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- JP3113145B2 JP3113145B2 JP06075286A JP7528694A JP3113145B2 JP 3113145 B2 JP3113145 B2 JP 3113145B2 JP 06075286 A JP06075286 A JP 06075286A JP 7528694 A JP7528694 A JP 7528694A JP 3113145 B2 JP3113145 B2 JP 3113145B2
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Description
【産業上の利用分野】本発明は半導体素子の素材となる
シリコン等のウェーハからスライスベースを剥離するウ
ェーハスライスベース剥離装置に関するものである。
シリコン等のウェーハからスライスベースを剥離するウ
ェーハスライスベース剥離装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子の素材となるシリコン等のウ
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシン等
にて切断されて製造されるが、切断時に切り終わり部分
が欠けないようにインゴットにはスライスベースを接着
し、スライスベースも含めて切断する。したがって、切
断後のウェーハは図４に示す形状になっており、スライ
スベース１０ｂは切断後にシリコン等の基材部分１０ａ
から剥離される。
ェーハは、インゴットの状態からスライシングマシン等
にて切断されて製造されるが、切断時に切り終わり部分
が欠けないようにインゴットにはスライスベースを接着
し、スライスベースも含めて切断する。したがって、切
断後のウェーハは図４に示す形状になっており、スライ
スベース１０ｂは切断後にシリコン等の基材部分１０ａ
から剥離される。
【０００３】図５・図６・図７に従来のウェーハスライ
スベース剥離装置の要部を示す。図５はウェーハ搬送方
向の中央断面図（立面図）、図６は図５のＣ−Ｃ断面図
（平面図）、図７は図５のＤ−Ｄ断面図（立面図）で、
ウェーハ１０は図５の左側から搬入され右側へ搬出され
る。ただし、図５はウェーハ１０が温水槽１１内にある
状態を、図７はウェーハ１０が剥離部２０でクランプ台
２１に固定されている状態を表している。ウェーハスラ
イスベース剥離装置は、大きく分けて温水槽１１、剥離
部２０、リフタ部３０、搬送部４０から構成されてい
る。
スベース剥離装置の要部を示す。図５はウェーハ搬送方
向の中央断面図（立面図）、図６は図５のＣ−Ｃ断面図
（平面図）、図７は図５のＤ−Ｄ断面図（立面図）で、
ウェーハ１０は図５の左側から搬入され右側へ搬出され
る。ただし、図５はウェーハ１０が温水槽１１内にある
状態を、図７はウェーハ１０が剥離部２０でクランプ台
２１に固定されている状態を表している。ウェーハスラ
イスベース剥離装置は、大きく分けて温水槽１１、剥離
部２０、リフタ部３０、搬送部４０から構成されてい
る。
【０００４】温水槽１１には温水１２が貯えられ、温水
１２は図示しないヒータによって所定の温度に保たれて
いる。１２ａは温水１２の水面である。温水槽１１はス
ライスベースを接着した接着剤が剥がれやすいようにウ
ェーハ１０を温めるものである。
１２は図示しないヒータによって所定の温度に保たれて
いる。１２ａは温水１２の水面である。温水槽１１はス
ライスベースを接着した接着剤が剥がれやすいようにウ
ェーハ１０を温めるものである。
【０００５】剥離部２０は、温水槽１１の搬出側にあ
り、ウェーハ１０の基材部分１０ａを受けるクランプ台
２１、ウェーハ１０の基材部分１０ａをクランプ台２１
に押圧して固定するクランパ２５、クランパ２５を上下
に案内するガイド２３（図７でガイド２６の後方にある
が、ガイド２６と同様の形状であるので図には表示され
ていない。）、クランパ２５を駆動するエアシリンダ２
４、スライスベース１０ｂを押圧して剥離するプッシャ
２８、プッシャ２８を上下に案内するガイド２６、プッ
シャ２８を駆動するエアシリンダ２７、ガイド２３・エ
アシリンダ２４・ガイド２６・エアシリンダ２７を支持
する台２２、剥離されたスライスベース１０ｂを格納す
るバスケット２９等から構成されている。そして、クラ
ンプ台２１は温水槽１１の上方で温水１２の水面１２ａ
から離れた位置に設けられているとともに、クランパ２
５はクランプ台２１の真上に位置し、プッシャ２８はク
ランプ台２１と干渉しない位置になっている。
り、ウェーハ１０の基材部分１０ａを受けるクランプ台
２１、ウェーハ１０の基材部分１０ａをクランプ台２１
に押圧して固定するクランパ２５、クランパ２５を上下
に案内するガイド２３（図７でガイド２６の後方にある
が、ガイド２６と同様の形状であるので図には表示され
ていない。）、クランパ２５を駆動するエアシリンダ２
４、スライスベース１０ｂを押圧して剥離するプッシャ
２８、プッシャ２８を上下に案内するガイド２６、プッ
シャ２８を駆動するエアシリンダ２７、ガイド２３・エ
アシリンダ２４・ガイド２６・エアシリンダ２７を支持
する台２２、剥離されたスライスベース１０ｂを格納す
るバスケット２９等から構成されている。そして、クラ
ンプ台２１は温水槽１１の上方で温水１２の水面１２ａ
から離れた位置に設けられているとともに、クランパ２
５はクランプ台２１の真上に位置し、プッシャ２８はク
ランプ台２１と干渉しない位置になっている。
【０００６】リフタ部３０は、温水槽１１の外側（図６
で左側）に固着されたガイド３１、ガイド３１に沿って
上下自在に設けられたスライダ３２、スライダ３２を上
下に駆動するエアシリンダ３３、スライダ３２に固着さ
れたアーム３４、アーム３４の２箇所に固着されたリフ
タ３５等から構成されている。リフタ３５はウェーハ１
０の搬送方向に略コの字形をしていて２個でウェーハ１
０を抱き込む形になっている。これによって、リフタ３
５はウェーハ１０を温水槽１１の上方から温水１２内に
移動させるとともに、温水槽１１の上方ではウェーハ１
０の搬送ガイドとなる。
で左側）に固着されたガイド３１、ガイド３１に沿って
上下自在に設けられたスライダ３２、スライダ３２を上
下に駆動するエアシリンダ３３、スライダ３２に固着さ
れたアーム３４、アーム３４の２箇所に固着されたリフ
タ３５等から構成されている。リフタ３５はウェーハ１
０の搬送方向に略コの字形をしていて２個でウェーハ１
０を抱き込む形になっている。これによって、リフタ３
５はウェーハ１０を温水槽１１の上方から温水１２内に
移動させるとともに、温水槽１１の上方ではウェーハ１
０の搬送ガイドとなる。
【０００７】搬送部４０は、温水槽１１の外側（図６で
右側）に固着された水平ガイド４１、水平ガイド４１に
沿って水平自在に設けられた水平スライダ４２、水平ス
ライダ４２に内蔵された送りナットを駆動する送りネジ
４３、モータ（図示省略）の回転を送りネジ４３に伝達
するプーリ４４、水平スライダ４２に固着された上下ガ
イド４５、上下ガイド４５に沿って上下自在に設けられ
た上下スライダ４６、上下スライダ４６を上下に駆動す
るエアシリンダ４７、上下スライダ４６に固着されたア
ーム４８、アーム４８に固着された搬送ヘッド４９等か
ら構成されている。これによって、搬送ヘッド４９は、
ウェーハ１０を温水槽１１の位置から剥離部へ、さらに
剥離部から次工程へ搬送する。前述したように、搬送時
はリフタ３５がウェーハ１０のガイドとなる。また、搬
送ヘッド４９は、前工程からウェーハ１０が搬入される
ときにはウェーハ１０と干渉しないように上方に移動す
る。
右側）に固着された水平ガイド４１、水平ガイド４１に
沿って水平自在に設けられた水平スライダ４２、水平ス
ライダ４２に内蔵された送りナットを駆動する送りネジ
４３、モータ（図示省略）の回転を送りネジ４３に伝達
するプーリ４４、水平スライダ４２に固着された上下ガ
イド４５、上下ガイド４５に沿って上下自在に設けられ
た上下スライダ４６、上下スライダ４６を上下に駆動す
るエアシリンダ４７、上下スライダ４６に固着されたア
ーム４８、アーム４８に固着された搬送ヘッド４９等か
ら構成されている。これによって、搬送ヘッド４９は、
ウェーハ１０を温水槽１１の位置から剥離部へ、さらに
剥離部から次工程へ搬送する。前述したように、搬送時
はリフタ３５がウェーハ１０のガイドとなる。また、搬
送ヘッド４９は、前工程からウェーハ１０が搬入される
ときにはウェーハ１０と干渉しないように上方に移動す
る。
【０００８】次に、このように構成されたウェーハスラ
イスベース剥離装置でウェーハ１０からスライスベース
１０ｂを剥離する方法を説明する。ウェーハ１０は、リ
フタ３５及び搬送ヘッド４９が上昇端の状態のときに、
前工程の搬送装置によって前工程から温水槽１１の上方
位置のリフタ３５内に搬入される。ウェーハ１０が搬入
されるとリフタ３５が下降してウェーハ１０を温水１２
内に移動する。温水１２内でウェーハ１０が所定の温度
になるとリフタ３５が上昇してウェーハ１０を搬入時の
位置に戻す。次に、搬送ヘッド４９が下降し、搬出側に
移動してウェーハ１０を剥離部２０へ搬送する。剥離部
２０ではクランパ２５が基材部分１０ａをクランプ台２
１に押圧固定した後、プッシャ２８がスライスベース１
０ｂを押圧してスライスベース１０ｂを剥離する。剥離
が完了すると、クランパ２５及びプッシャ２８が上昇し
た後、搬送ヘッド４９は再度搬出側へ移動してウェーハ
１０を次工程へ搬出する。なお、剥離されたスライスベ
ース１０ｂはバスケット２９へ落下し格納される。
イスベース剥離装置でウェーハ１０からスライスベース
１０ｂを剥離する方法を説明する。ウェーハ１０は、リ
フタ３５及び搬送ヘッド４９が上昇端の状態のときに、
前工程の搬送装置によって前工程から温水槽１１の上方
位置のリフタ３５内に搬入される。ウェーハ１０が搬入
されるとリフタ３５が下降してウェーハ１０を温水１２
内に移動する。温水１２内でウェーハ１０が所定の温度
になるとリフタ３５が上昇してウェーハ１０を搬入時の
位置に戻す。次に、搬送ヘッド４９が下降し、搬出側に
移動してウェーハ１０を剥離部２０へ搬送する。剥離部
２０ではクランパ２５が基材部分１０ａをクランプ台２
１に押圧固定した後、プッシャ２８がスライスベース１
０ｂを押圧してスライスベース１０ｂを剥離する。剥離
が完了すると、クランパ２５及びプッシャ２８が上昇し
た後、搬送ヘッド４９は再度搬出側へ移動してウェーハ
１０を次工程へ搬出する。なお、剥離されたスライスベ
ース１０ｂはバスケット２９へ落下し格納される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法では、ウェーハ１０は温水１２で所定の温度に温め
られ、スライスベース１０ｂを接着した接着剤が剥がれ
やすい状態になるが、剥離が温水１２の温度より低い空
気中で行われるため、剥離時には空気やクランプ台２１
・クランパ２５との接触等によって温度が低下する。こ
のために、接着剤が再硬化し剥がれにくい状態になって
剥離時にウェーハ１０が破損しやすくなるという問題が
ある。本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、ウェーハ１０からスライスベース１０ｂを剥離する
ときにウェーハ１０が破損するおそれがないウェーハス
ライスベース剥離装置を提供することを目的とする。
方法では、ウェーハ１０は温水１２で所定の温度に温め
られ、スライスベース１０ｂを接着した接着剤が剥がれ
やすい状態になるが、剥離が温水１２の温度より低い空
気中で行われるため、剥離時には空気やクランプ台２１
・クランパ２５との接触等によって温度が低下する。こ
のために、接着剤が再硬化し剥がれにくい状態になって
剥離時にウェーハ１０が破損しやすくなるという問題が
ある。本発明はこのような事情に鑑みてなされたもの
で、ウェーハ１０からスライスベース１０ｂを剥離する
ときにウェーハ１０が破損するおそれがないウェーハス
ライスベース剥離装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、ウェーハスライスベース剥離装置を、 （イ）温水槽１１に温水１２を貯えて所定の温度に保
つ。 （ロ）温水槽１１の温水１２内にウェーハ１０の基材部
分１０ａを受けるクランプ台２１を設ける。 （ハ）ウェーハ１０を温水槽１１の上方から温水１２内
に移動させるリフタ３５を設ける。 （ニ）ウェーハ１０の基材部分１０ａをクランプ台２１
に押しつけてウェーハ１０の基材部分１０ａを固定する
クランパ２５を、クランプ台２１の真上に設ける。
（ホ）ウェーハ１０のスライスベース１０ｂを押すプッ
シャ２８をクランプ台２１の上方でクランパ２５の近傍
に設ける。以上のように構成した。
成するために、ウェーハスライスベース剥離装置を、 （イ）温水槽１１に温水１２を貯えて所定の温度に保
つ。 （ロ）温水槽１１の温水１２内にウェーハ１０の基材部
分１０ａを受けるクランプ台２１を設ける。 （ハ）ウェーハ１０を温水槽１１の上方から温水１２内
に移動させるリフタ３５を設ける。 （ニ）ウェーハ１０の基材部分１０ａをクランプ台２１
に押しつけてウェーハ１０の基材部分１０ａを固定する
クランパ２５を、クランプ台２１の真上に設ける。
（ホ）ウェーハ１０のスライスベース１０ｂを押すプッ
シャ２８をクランプ台２１の上方でクランパ２５の近傍
に設ける。以上のように構成した。
【００１１】
【作用】本発明によれば、ウェーハ１０は、リフタ３５
によって温水１２内に移動し、さらにクランパ２５が素
材部分１０ａをクランプ台２１に押圧して固定する。温
水１２内でウェーハ１０が所定の温度になると、プッシ
ャ２８が下降しスライスベース１０ｂを押圧してスライ
スベース１０ｂを剥離する。剥離が温水１２内で行われ
るため、剥離時にウェーハ１０の温度は低下せず接着剤
が剥がれやすい状態を保つ。したがって、剥離時にウェ
ーハ１０を破損するおそれがない。
によって温水１２内に移動し、さらにクランパ２５が素
材部分１０ａをクランプ台２１に押圧して固定する。温
水１２内でウェーハ１０が所定の温度になると、プッシ
ャ２８が下降しスライスベース１０ｂを押圧してスライ
スベース１０ｂを剥離する。剥離が温水１２内で行われ
るため、剥離時にウェーハ１０の温度は低下せず接着剤
が剥がれやすい状態を保つ。したがって、剥離時にウェ
ーハ１０を破損するおそれがない。
【００１２】
【実施例】図１・図２・図３に本発明に係るウェーハス
ライスベース剥離装置の実施例の要部を示す。図１はウ
ェーハ搬送方向の中央断面図（立面図）、図２は図１の
Ａ−Ａ断面図（平面図）、図３は図１のＢ−Ｂ断面図
（側面図）で、ウェーハ１０は図１の左側から搬入され
右側へ搬出される。いずれもウェーハ１０がクランプ台
２１に固定されている状態を表している。本発明に係る
ウェーハスライスベース剥離装置は、従来の例と同じ
く、大きく分けて温水槽１１、剥離部２０、リフタ部３
０、搬送部４０から構成されている。
ライスベース剥離装置の実施例の要部を示す。図１はウ
ェーハ搬送方向の中央断面図（立面図）、図２は図１の
Ａ−Ａ断面図（平面図）、図３は図１のＢ−Ｂ断面図
（側面図）で、ウェーハ１０は図１の左側から搬入され
右側へ搬出される。いずれもウェーハ１０がクランプ台
２１に固定されている状態を表している。本発明に係る
ウェーハスライスベース剥離装置は、従来の例と同じ
く、大きく分けて温水槽１１、剥離部２０、リフタ部３
０、搬送部４０から構成されている。
【００１３】温水槽１１には、従来の例と同様に、温水
１２が貯えられ、温水１２は図示しないヒータによって
所定の温度に保たれている。１２ａは温水１２の水面で
ある。
１２が貯えられ、温水１２は図示しないヒータによって
所定の温度に保たれている。１２ａは温水１２の水面で
ある。
【００１４】剥離部２０の位置が本発明の特徴であり、
従来の例と異なって温水槽１１の内側（搬出側）にあっ
て、ウェーハ１０の基材部分１０ａを受けるクランプ台
２１が温水１２内に設けられ、クランプ台２１の上面は
温水１２の水面１２ａより下に位置している。また、従
来の例と同様に、クランプ台２１の上方に、ウェーハ１
０の基材部分１０ａをクランプ台２１に押圧して固定す
るクランパ２５、クランパ２５を上下に案内するガイド
２３（図３でガイド２６の後方にあるが、ガイド２６と
同様の形状であるので図には表示されていない。）、ク
ランパ２５を駆動するエアシリンダ２４、スライスベー
ス１０ｂを押圧して剥離するプッシャ２８、プッシャ２
８を上下に案内するガイド２６、プッシャ２８を駆動す
るエアシリンダ２７、ガイド２３・エアシリンダ２４・
ガイド２６・エアシリンダ２７を支持する台２２、剥離
されたスライスベース１０ｂを格納するバスケット２９
等が設けられている。この場合、従来の例と同様に、ク
ランパ２５はクランプ台２１の真上に位置し、プッシャ
２８はクランプ台２１と干渉しない位置になっている。
また、バスケット２９は従来の例と異なって温水槽１１
の内側に設けられている。
従来の例と異なって温水槽１１の内側（搬出側）にあっ
て、ウェーハ１０の基材部分１０ａを受けるクランプ台
２１が温水１２内に設けられ、クランプ台２１の上面は
温水１２の水面１２ａより下に位置している。また、従
来の例と同様に、クランプ台２１の上方に、ウェーハ１
０の基材部分１０ａをクランプ台２１に押圧して固定す
るクランパ２５、クランパ２５を上下に案内するガイド
２３（図３でガイド２６の後方にあるが、ガイド２６と
同様の形状であるので図には表示されていない。）、ク
ランパ２５を駆動するエアシリンダ２４、スライスベー
ス１０ｂを押圧して剥離するプッシャ２８、プッシャ２
８を上下に案内するガイド２６、プッシャ２８を駆動す
るエアシリンダ２７、ガイド２３・エアシリンダ２４・
ガイド２６・エアシリンダ２７を支持する台２２、剥離
されたスライスベース１０ｂを格納するバスケット２９
等が設けられている。この場合、従来の例と同様に、ク
ランパ２５はクランプ台２１の真上に位置し、プッシャ
２８はクランプ台２１と干渉しない位置になっている。
また、バスケット２９は従来の例と異なって温水槽１１
の内側に設けられている。
【００１５】リフタ部３０は、従来の例と同様に、温水
槽１１の外側（図２で左側）に固着されたガイド３１、
ガイド３１に沿って上下自在に設けられたスライダ３
２、スライダ３２を上下に駆動するエアシリンダ３３、
スライダ３２に固着されたアーム３４、アーム３４の２
箇所に固着されたリフタ３５等から構成されている。リ
フタ３５はウェーハ１０の搬送方向に略コの字形をして
いて２個でウェーハ１０を抱き込む形になっている。こ
れによって、リフタ３５はウェーハ１０を温水槽１１の
上方から温水１２内に移動させるとともに、温水槽１１
の上方ではウェーハ１０の搬送ガイドとなる。
槽１１の外側（図２で左側）に固着されたガイド３１、
ガイド３１に沿って上下自在に設けられたスライダ３
２、スライダ３２を上下に駆動するエアシリンダ３３、
スライダ３２に固着されたアーム３４、アーム３４の２
箇所に固着されたリフタ３５等から構成されている。リ
フタ３５はウェーハ１０の搬送方向に略コの字形をして
いて２個でウェーハ１０を抱き込む形になっている。こ
れによって、リフタ３５はウェーハ１０を温水槽１１の
上方から温水１２内に移動させるとともに、温水槽１１
の上方ではウェーハ１０の搬送ガイドとなる。
【００１６】搬送部４０は、従来の例と異なり、ウェー
ハ１０を温水槽１１の位置から次工程への搬送のみを行
う。ただし、構成は従来の例と同様で、温水槽１１の外
側（図２で右側）に固着された水平ガイド４１、水平ガ
イド４１に沿って水平自在に設けられた水平スライダ４
２、水平スライダ４２に内蔵された送りナットを駆動す
る送りネジ４３、モータ（図示省略）の回転を送りネジ
４３に伝達するプーリ４４、水平スライダ４２に固着さ
れた上下ガイド４５、上下ガイド４５に沿って上下自在
に設けられた上下スライダ４６、上下スライダ４６を上
下に駆動するエアシリンダ４７、上下スライダ４６に固
着されたアーム４８、アーム４８に固着された搬送ヘッ
ド４９等から構成されている。また、搬送ヘッド４９は
前工程からウェーハ１０が搬入されるときにはウェーハ
１０と干渉しないように上方に移動する。
ハ１０を温水槽１１の位置から次工程への搬送のみを行
う。ただし、構成は従来の例と同様で、温水槽１１の外
側（図２で右側）に固着された水平ガイド４１、水平ガ
イド４１に沿って水平自在に設けられた水平スライダ４
２、水平スライダ４２に内蔵された送りナットを駆動す
る送りネジ４３、モータ（図示省略）の回転を送りネジ
４３に伝達するプーリ４４、水平スライダ４２に固着さ
れた上下ガイド４５、上下ガイド４５に沿って上下自在
に設けられた上下スライダ４６、上下スライダ４６を上
下に駆動するエアシリンダ４７、上下スライダ４６に固
着されたアーム４８、アーム４８に固着された搬送ヘッ
ド４９等から構成されている。また、搬送ヘッド４９は
前工程からウェーハ１０が搬入されるときにはウェーハ
１０と干渉しないように上方に移動する。
【００１７】次に、このように構成されたウェーハスラ
イスベース剥離装置でウェーハ１０からスライスベース
１０ｂを剥離する方法を説明する。ウェーハ１０は、リ
フタ３５及び搬送ヘッド４９が上昇端の状態のときに、
前工程の搬送装置によって前工程から温水槽１１の上方
位置のリフタ３５内に搬入される。ウェーハ１０が搬入
されるとリフタ３５が下降してウェーハ１０を温水１２
内に移動し、さらにクランパ２５が基材部分１０ａをク
ランプ台２１に押圧固定する。温水１２内でウェーハ１
０が所定の温度になると、プッシャ２８が下降しスライ
スベース１０ｂを押圧してスライスベース１０ｂを剥離
する。剥離が完了するとクランパ２５とプッシャ２８が
上昇した後、リフタ３５が上昇してウェーハ１０を搬入
時の位置に戻す。次に、搬送ヘッド４９が下降し、搬出
側に移動してウェーハ１０を次工程へ搬出する。なお、
剥離されたスライスベース１０ｂはバスケット２９へ落
下し格納される。
イスベース剥離装置でウェーハ１０からスライスベース
１０ｂを剥離する方法を説明する。ウェーハ１０は、リ
フタ３５及び搬送ヘッド４９が上昇端の状態のときに、
前工程の搬送装置によって前工程から温水槽１１の上方
位置のリフタ３５内に搬入される。ウェーハ１０が搬入
されるとリフタ３５が下降してウェーハ１０を温水１２
内に移動し、さらにクランパ２５が基材部分１０ａをク
ランプ台２１に押圧固定する。温水１２内でウェーハ１
０が所定の温度になると、プッシャ２８が下降しスライ
スベース１０ｂを押圧してスライスベース１０ｂを剥離
する。剥離が完了するとクランパ２５とプッシャ２８が
上昇した後、リフタ３５が上昇してウェーハ１０を搬入
時の位置に戻す。次に、搬送ヘッド４９が下降し、搬出
側に移動してウェーハ１０を次工程へ搬出する。なお、
剥離されたスライスベース１０ｂはバスケット２９へ落
下し格納される。
【００１８】なお、搬送部４０については、実施例で示
した以外に、水平方向の駆動をエアシリンダ等による方
法でもよい。また、特に、本発明に係るウェーハスライ
スベース剥離装置ではウェーハ１０の搬送は温水槽１１
の上方位置から次工程のみでよいので、搬送方法はどの
ような方法でもよく、前工程と共用の搬送装置を用いて
もよいし、ウェーハ１０のリフタ３５への搬入及びリフ
タ３５からの搬出を手動で行う場合にも本発明は適用で
きる。
した以外に、水平方向の駆動をエアシリンダ等による方
法でもよい。また、特に、本発明に係るウェーハスライ
スベース剥離装置ではウェーハ１０の搬送は温水槽１１
の上方位置から次工程のみでよいので、搬送方法はどの
ような方法でもよく、前工程と共用の搬送装置を用いて
もよいし、ウェーハ１０のリフタ３５への搬入及びリフ
タ３５からの搬出を手動で行う場合にも本発明は適用で
きる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るウェー
ハスライスベース剥離装置によれば、ウェーハ１０は、
リフタ３５によって温水１２内に移動し、さらにクラン
パ２５が素材部分１０ａをクランプ台２１に押圧固定す
る。温水１２内でウェーハ１０が所定の温度になると、
プッシャ２８が下降しスライスベース１０ｂを押圧して
スライスベース１０ｂを剥離する。剥離が温水１２内で
行われるため、剥離時にウェーハ１０の温度は低下せず
接着剤が剥がれやすい状態を保つことができる。したが
って、剥離時にウェーハ１０を破損するおそれがないウ
ェーハスライスベース剥離装置を提供することができ
る。また、ウェーハ１０の搬送は温水槽１１の上方位置
から次工程のみでよいので、搬送装置を安価に製作する
ことができる。
ハスライスベース剥離装置によれば、ウェーハ１０は、
リフタ３５によって温水１２内に移動し、さらにクラン
パ２５が素材部分１０ａをクランプ台２１に押圧固定す
る。温水１２内でウェーハ１０が所定の温度になると、
プッシャ２８が下降しスライスベース１０ｂを押圧して
スライスベース１０ｂを剥離する。剥離が温水１２内で
行われるため、剥離時にウェーハ１０の温度は低下せず
接着剤が剥がれやすい状態を保つことができる。したが
って、剥離時にウェーハ１０を破損するおそれがないウ
ェーハスライスベース剥離装置を提供することができ
る。また、ウェーハ１０の搬送は温水槽１１の上方位置
から次工程のみでよいので、搬送装置を安価に製作する
ことができる。
【図１】本発明に係るウェーハスライスベース剥離装置
の実施例の要部を示すウェーハ搬送方向の中央断面図
（立面図）
の実施例の要部を示すウェーハ搬送方向の中央断面図
（立面図）
【図２】図１のＡ−Ａ断面図（平面図）
【図３】図１のＢ−Ｂ断面図（側面図）
【図４】ウェーハの外形を示す図
【図５】従来のウェーハスライスベース剥離装置の要部
を示すウェーハ搬送方向の中央断面図（立面図）で、ウ
ェーハが温水槽内にある状態を表す
を示すウェーハ搬送方向の中央断面図（立面図）で、ウ
ェーハが温水槽内にある状態を表す
【図６】図５のＣ−Ｃ断面図（平面図）
【図７】図５のＤ−Ｄ断面図（側面図）で、ウェーハが
剥離部でクランプ台に固定されている状態を表す
剥離部でクランプ台に固定されている状態を表す
１０……ウェーハ １１……温水槽 １２……温水 ２１……クランプ台 ２５……クランパ ２８……プッシャ ２９……バスケット ３５……リフタ ４９……搬送ヘッド
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B28D 5/02 B28D 5/04 B28D 7/00 H01L 21/304 611
Claims (1)
- 【請求項１】 温水を貯えるとともに温水を所定の温度
に保つ温水槽と、 前記温水槽の温水内に設けられ、ウェーハの基材部分を
受けるクランプ台と、 ウェーハを前記温水槽の上方から前記温水内に移動させ
るリフタと、 前記クランプ台の真上に設けられ、ウェーハの基材部分
を前記クランプ台に押しつけてウェーハの基材部分を固
定するクランパと、 前記クランプ台の上方で前記クランパの近傍に設けら
れ、ウェーハのスライスベースを押すプッシャと、 から構成されたことを特徴とするウェーハスライスベー
ス剥離装置。 【０００１】
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06075286A JP3113145B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | ウェーハスライスベース剥離装置 |
| KR1019950005961A KR0183513B1 (ko) | 1994-03-22 | 1995-03-21 | 웨이퍼 슬라이스 베이스 박리장치 |
| US08/835,637 US5759344A (en) | 1994-03-22 | 1997-04-10 | Wafer slicer base peeling system |
| US09/027,207 US5853533A (en) | 1994-03-22 | 1998-02-20 | Wafer slice base peeling system |
| US09/027,209 US5849147A (en) | 1994-03-22 | 1998-02-20 | Wafer slice base peeling system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06075286A JP3113145B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | ウェーハスライスベース剥離装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07256633A JPH07256633A (ja) | 1995-10-09 |
| JP3113145B2 true JP3113145B2 (ja) | 2000-11-27 |
Family
ID=13571842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06075286A Expired - Fee Related JP3113145B2 (ja) | 1994-03-22 | 1994-03-22 | ウェーハスライスベース剥離装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3113145B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105479604B (zh) * | 2015-12-28 | 2017-10-31 | 浙江芯能光伏科技股份有限公司 | 一种切片机硅片脱胶用水的循环利用装置 |
| CN105946126B (zh) * | 2016-05-23 | 2019-01-29 | 天通日进精密技术有限公司 | 硅棒流水作业系统及硅棒流水作业方法 |
-
1994
- 1994-03-22 JP JP06075286A patent/JP3113145B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07256633A (ja) | 1995-10-09 |
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Legal Events
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