JP3102654B2 - 基板の洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板表面の汚れを取り
除く洗浄装置に係り、特に、表示装置等に使用されるガ
ラス基板の表面を洗浄する基板の洗浄装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶表示、プラズマ表示等のフラ
ットパネル・ディスプレイ等に使用されるガラス基板
は、その製造工程中において表面の汚れを取り除くため
に、複数枚を同時に液中に浸して洗浄する浸漬（ディッ
プ）方式あるいは、一枚ずつ送りながらブラシ等で洗浄
する枚葉方式等の洗浄が行われている。

【０００３】ディップ方式の洗浄は、図４に示すよう
に、複数枚のガラス基板１をラック２に収容し、このラ
ック２を洗剤、水、温純水等の洗浄液を入れた超音波洗
浄槽３中に順次槽を変えて浸し洗浄を行う方式である。
この方式では、例えば、槽を変えながら、洗剤、水、温
純水で数回洗浄し、イソプロピルアルコール等に浸漬後
引き上げて乾燥させるような洗浄工程が用いられ、５〜
６槽から１２〜１５槽程度の槽が並べて使用される。

【０００４】また、枚葉方式の洗浄は、図５に示すよう
に、ガラス基板１を一枚ずつ送りながら洗浄する方式で
あり、例えば、順次、洗剤を使用したブラシ４による洗
浄、水を使用したブラシ４による洗浄、シャワー５によ
る洗浄、超音波洗浄槽６に浸漬した洗浄、シャワー７に
よる洗浄等の洗浄工程を経た後、エアーナイフ８あるい
は絞りロール等で水切りを行っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来のディップ方式の
洗浄は、洗浄液中に浸したガラス基板１を超音波でのみ
洗浄し、ガラス基板１の表面をこすることができないた
め、洗浄能力が十分でなく、また槽３を多数並べるため
全体として洗浄工程が長くなる欠点があった。一方、枚
葉方式の洗浄は、ブラシ等を使用するため表面に付着し
た汚れも取れやすく洗浄能力はあるが、水切り、乾燥が
不十分になるおそれがあり、また洗浄工程も長くなる欠
点があった。従って、一方のみの洗浄方式だけでは十分
でないため、枚葉方式で洗浄した後、再びディップ方式
で洗浄することも行われていた。すなわち、従来の洗浄
方式では、洗浄工程が長くなり時間がかかるとともに、
一方だけでは洗浄能力が十分でない問題点があった。

【０００６】そこで本発明は、洗浄工程が短くなり短時
間に洗浄でき、かつ洗浄能力を向上できる基板の洗浄装
置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の基板の洗浄装置は、複数枚の被洗浄基板を
一定間隔で整列して収容したラックを配置する浸漬式洗
浄槽と、前記槽内に配置したラックを基板の一定間隔ご
とに断続的に槽内を移動させる移動機構と、前記槽の下
部側から前記基板を上方へ押し上げる押し上げ機構と、
前記槽の上部に配置され押し上げられた基板の表面を洗
浄するブラシ機構とを備えたことを特徴とするものであ
る。

【０００８】

【作用】本発明によれば、複数枚の基板をラックに収納
して浸漬式洗浄槽で超音波等によりディップ方式の洗浄
ができると同時に、槽内でラックを移動機構で基板の一
定間隔ごとに断続的に移動させ、押し上げ機構で基板を
一枚ずつ押し上げブラシ機構で洗浄することで枚葉方式
の洗浄ができ、全体として洗浄工程が短くなり短時間に
洗浄でき、かつ洗浄能力が向上する。

【０００９】

【実施例】以下、本発明を図示の一実施例により具体的
に説明する。図１は本発明実施例の基板の洗浄装置の構
成を説明する斜視図、図２は本発明実施例の基板の洗浄
装置の側面図である。

【００１０】これらの図において、本実施例の基板の洗
浄装置１０は、ディップ方式と枚葉方式の洗浄が同時に
できるようにしたものであり、複数枚の洗浄するガラス
基板１１を一定間隔で整列して収容したラック１２を配
置する浸漬式洗浄槽１３と、この槽１３内に配置された
ラック１２をガラス基板１１の一定間隔ごとに断続的に
槽１３内を移動させる移動機構１４と、槽１３の下部側
からガラス基板１１を上方へ押し上げる押し上げ機構１
５と、槽１３の上部に配置され押し上げられたガラス基
板１１の表面を洗浄するブラシ機構１６とから構成され
ている。ガラス基板１１は、例えば、液晶表示等に用い
るフラットパネル・ディスプレイを構成する基板であ
り、すべて同じ大きさの矩形状に形成され、ラック１２
内に表面を垂直にし、かつ一定の間隔で平行に整列して
収容されている。

【００１１】上記浸漬式洗浄槽１３は、槽内の洗剤や水
等の洗浄液中にガラス基盤１１を浸して超音波により洗
浄するディップ方式の超音波洗浄槽であり、内部にはラ
ック１２が配置でき、かつそのラック１２が内部で水平
方向に移動できる程度の大きさに形成されている。

【００１２】上記移動機構１４は、浸漬式洗浄槽１３に
配置されたラック１２を断続的に水平方向に移動させる
ための機構であり、この浸漬式洗浄槽１３の底をラック
１２を載せて水平方向にコロ等により移動する台車１
７、及びこの台車１７の一方の端部側に設けられたラッ
ク１８とピニオン１９等の移動手段からなる。このピニ
オン１９は、所定の駆動手段により断続的に回転し、台
車１７を矢印Ｘ方向にガラス基板１１の一定間隔ごとに
断続的に水平移動するようになっている。

【００１３】上記押し上げ機構１５は、浸漬式洗浄槽１
３の下部側のほぼ中央部に設けれらたシリンダー２０等
からなり、そのピストン２１の先端側は浸漬式洗浄槽１
３の底から垂直上方に槽内中に突出されており、先端部
にはガラス基板１１の下端部を支える上向きのＵ字形に
形成された支持部２２が設けられている。このピストン
２１のストロークは、支持部２２が浸漬式洗浄槽１３の
液中から上方に出る程度になっている。

【００１４】上記ブラシ機構１６は、押し上げ機構１５
で押し上げられたガラス基板１１の表面を両側から洗浄
する２対の洗浄ローラ２３と、この洗浄ローラ２３の両
側から洗浄液をガラス基板１１に供給するシャワーパイ
プ２４等とからなる。この洗浄ローラ２３は、例えば、
スポンジや羽ブラシ等であり、ガラス基板１１の押し上
げ方向と反対方向に回転駆動されている。

【００１５】また、上記ブラシ機構１６の上方には、押
し上げ機構１５で押し上げられたガラス基板１１の上端
部を支持するための下向きのＵ字形に形成された支持部
２５がスプリング２６の下端部に設けられ、このスプリ
ング２６の上端部は上方の固定部に固定されている。す
なわち、押し上げ機構１５で押し上げられたガラス基板
１１の上端部は、支持部２５で支持され、かつ押し上げ
機構１５の上下ストロークに応じてスプリング２６が矢
印Ｙ方向に伸縮するようになっている。

【００１６】図３は本発明実施例の基板の洗浄装置を用
いた洗浄工程の一例を説明する図である。同図におい
て、第１の洗浄工程は、上記説明の基板の洗浄装置１０
で洗浄液として洗剤液が使用される。第２の洗浄工程
は、同じ基板の洗浄装置１０に洗浄液として水が使用さ
れる。第３の洗浄工程は、上記説明のラック１２の移動
機構１４と、押し上げ機構１５と、ブラシ機構１６等と
を備え、ガラス基板１１に洗浄液を供給するシャワー部
３１が設けられた洗浄装置３２である。第４の洗浄工程
は、従来の超音波による温水の浸漬式洗浄槽の洗浄装置
３３である。第５の洗浄工程は、超音波によらない浸漬
式洗浄槽の洗浄装置３４で、引き上げて乾燥させること
ができる。

【００１７】上記構成の基板の洗浄装置１０では、まず
洗浄するガラス基板１１は、ラック１２に一定間隔で整
列して収容され、このラック１２が洗浄液を入れた浸漬
式洗浄槽１３の移動機構１４の台車１７上に配置され
る。ここでガラス基板１１は、浸漬式洗浄槽１３の超音
波によりディップ方式の洗浄が行われる。また、この超
音波によるディップ方式の洗浄中に、移動機構１４によ
りガラス基板１１の一定間隔ごとにＸ方向に断続的に移
動され、押し上げ機構１５の上部に位置するガラス基板
１１が一枚押し上げられ、洗浄液の上部においてブラシ
機構１６で洗浄が行われる。このブラシ機構１６におい
て洗浄されたガラス基板１１は、押し上げ機構１５のピ
ストン２１が下降して、洗浄液中のラック１２に戻さ
れ、再びディップ方式の洗浄が行われる。以下同様にし
て、移動機構１４と押し上げ機構１５の断続的な駆動に
より順次ガラス基板１１がブラシ機構１６で洗浄され
る。すなわち、多数枚のガラス基板１１をディップ方式
で洗浄を行いながら、一枚ずつ洗浄ローラ２３で枚葉方
式による洗浄ができる。

【００１８】図３に示すような工程によるガラス基板１
１の洗浄では、まず、第１の洗浄工程で、洗剤を使用し
て超音波によるディップ方式の洗浄を行いつつ一枚ずつ
ブラシ等による枚葉方式の洗浄が行われ、続いて第２の
洗浄工程で、水を使用して同様のディップ方式の洗浄と
枚葉方式の洗浄が行われる。次に、第３の洗浄工程で
は、シャワー部３１から洗浄液を供給しつつ、ブラシ等
による枚葉式洗浄が行われ、続いて第４の洗浄工程で、
従来の温水によるディップ式洗浄が行われる。最後の第
５の洗浄工程では、温水によるディップ洗浄が行われ、
引き上げて乾燥が行われる。

【００１９】以上のように、本実施例では、従来の超音
波によるディップ方式の洗浄だけでは、取れにくかった
汚れもブラシ等を使用した枚葉方式の洗浄を同時に行う
ため、洗浄能力を向上でき、また、枚葉方式の不十分な
水切りや乾燥の問題も同時に解決することができた。さ
らに、ディップ方式の洗浄を行いつつ、枚葉式洗浄を行
うため、全体として洗浄工程を短くすることが可能にな
り、洗浄時間も短縮することができるようになった。

【００２０】なお、上記実施例では、台車１７をラック
１８とピニオン１９で水平方向に移動させる移動機構１
４としているが、これに限ることなく、少なくとも浸漬
式洗浄槽１３の洗浄液中において断続的に移動する機構
であればよい。また、押し上げ機構は、ガラス基板１１
を洗浄液上部に押し上げる機構であればよく、必要によ
りガラス基板１１をガイドする案内部を設けるようにし
てもよい。

【００２１】また、上記実施例では、５つの洗浄工程と
しているが、これに限定されず、本実施例と同様な洗浄
装置１０をさらに途中の工程に追加したり、別のディッ
プ式洗浄装置を追加することもできる。

【００２２】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、複
数枚の基板をラックに収納して浸漬式洗浄槽で超音波等
によりディップ方式の洗浄ができ、槽内でラックを移動
機構で基板の一定間隔ごとに断続的に移動させ、押し上
げ機構で基板を一枚ずつ押し上げブラシ機構で洗浄する
ことで同時に枚葉方式の洗浄ができため、洗浄工程が短
くなるとともに短時間に洗浄でき、かつ洗浄能力が向上
する効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明実施例の基板の洗浄装置の構成を説明す
る斜視図である。

【図２】本発明実施例の基板の洗浄装置の側面図であ
る。

【図３】本発明実施例の基板の洗浄装置を用いた洗浄工
程の一例を説明する図でる。

【図４】従来のディップ方式によるガラス基板の洗浄工
程を説明する図である。

【図５】従来の枚葉方式によるガラス基板の洗浄工程を
説明する図である。

【符号の説明】

１０ 洗浄装置 １１ ガラス基板 １２ ラック １３ 浸漬式洗浄槽 １４ 移動機構 １５ 押し上げ機構 １６ ブラシ機構 １７ 台車 １８ ラック １９ ピニオン ２０ シリンダー ２１ ピストン ２２ 支持部 ２３ 洗浄ローラ ２４ シャワーパイプ ２５ 支持部 ２６ スプリング ３１ シャワー部 ３２、３３、３４ 洗浄装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B08B 1/00 - 7/04

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の被洗浄基板を一定間隔で整列し
   て収容したラックを配置する超音波により洗浄する浸漬
   式洗浄槽と、前記槽内に配置したラックを基板の一定間
   隔ごとに断続的に槽内を水平方向へ移動させる移動機構
   と、前記槽の下部側から前記基板を上方へ押し上げる押
   し上げ機構と、前記槽の上部に配置され押し上げられた
   基板の表面を洗浄するブラシ機構と、前記ブラシ機構の
   上方に設けられ前記押し上げ機構で押し上げられた基板
   の上端部を該押し上げ機構の上下ストロークに応じて伸
   縮するスプリングを介して支持する支持部とを備えたこ
   とを特徴とする基板の洗浄装置。