JP3092937B2 - ノルボルネン系開環重合体水素添加物、その製造方法、それで作られたデイスク基板、及びディスク - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ノルボルネン系開環重合体水素添加物、そ
の製造方法、それで作られたディスク基板、及びディス
クに関する。更に詳しくは、異物含有量が少なく、記録
信号更生時のノイズの少ない光学式記録媒体用光学材料
として好適なノルボルネン系開環重合体水素添加物、そ
の製造方法、それで作られたディスク基板、及びディス
クに関する。

〔従来の技術〕

テトラシクロドデセン、そのアルキル置換体、エステ
ル型置換体などに代表されるノルボルネン系モノマーの
開環重合体水素添加物は光学材料として好ましい性質を
有している。（例えば特開昭60−26024号、特開昭63−3
17520号、特開平１−132626号など）。とくに数平均分
子量（Mn）が20,000〜50,000、重量平均分子量（Mw）が
40,000〜80,000、分子量分布（Mw/Mn）が、2.5以下であ
り、かつポリマー中の揮発成分が0.3重量％以下である
場合には、射出成形の際にボイドやシルバーストリーク
を発生することがなく、光学用材料としてきわめて優れ
た特性を有している（特願平２−150684号）。

このような水素添加物を製造するに当たっては、一般
にノルボルネン系開環重合体を溶媒中で触媒を用いて水
素添加し、触媒を除去し、次いで重合体溶液に溶媒と同
量以上の貧溶媒、通常２〜３倍のケトンまたはアルコー
ルと接触させることによって析出単離させ、乾燥する方
法が採用されている（例えば特開平１−138257号）。

しかし、この方法の場合には、処理時間が長い、操作
が複雑であるといった問題に加え、水素添加物中に異物
が混入しやすいという問題がある。異物混入の原因とし
て、ポリマーの析出に用いる溶剤中の異物がポリマーに
混入する、析出したポリマーを分離・乾燥する工程での
移動操作時に塵が異物として混入する、重合触媒や水素
添加触媒の除去が不完全であることなどが挙げられる。

光学材料として、中でも光ディスクのごとき情報記録
媒体として使用する場合は、特に、樹脂中の異物が記録
信号の不良と密接な相関があることが公知である。（特
開昭61−90345） 異物含有量が多いポリマーを光学式記録媒体用光学材
料に使用すると記録信号再生時のノイズや信号エラーの
原因となるため好ましくないが、従来の方法では異物の
混入を避けられず、より異物含量の少ないポリマー及び
その製法の実現が望まれていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明は、記録信号再生時のノイズや信号エラーの少
ない光学式記録媒体用光学材料として優れたノルボルネ
ン系開環重合体水素添加物及び該添加物の製造に適した
ノルボルネン系開環重合体水素添加物の製造方法を提供
する。

〔課題を解決するための手段〕

本発明によれば、第１の発明としてノルボルネン系モ
ノマーの開環重合体の水素添加物であって、該水素添加
物の高速液体クロマトグラフィにより測定した数平均分
子量（Mn）が20,000〜50,000、重量平均分子量（Mw）が
40,000〜80,000、分子量分布（Mn/Mw）が2.5以下、該水
素添加物中に含まれる揮発成分0.3重量％以下であり、
かつ0.5μｇ以上の異物量が１×10⁵/g以下であるノルボ
ルネン系開環重合体水素添加物が提供され、第２の発明
として該水素添加物を成形したディスク基板が提供さ
れ、第３の発明として該ディスク基板に金属反射膜を蒸
着した光学式記録媒体ディスクが提供され、さらに第４
の発明としてノルボルネン系開環重合体を溶液中で水素
添加触媒の存在下で水素添加反応した後の反応混液を孔
径が0.5μｍ以下のフィルターで濾過した後、濾液中の
揮発成分を減圧下の加熱により蒸発させることを特徴と
するノルボルネン系開環重合体水素添加物の製造方法が
提供される。

以下、本発明の構成について詳述する。

（ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水素添加物） 本発明のベースポリマーは、ノルボルネン系モノマー
の開環重合体の水素添加物である。

該水素添加物は、高速液体クロマトグラフィーにより
測定した数平均分子量（Mn）が20,000〜50,000、重量平
均分子量（Mw）が40,000〜80,000、分子量分布（Mw/M
n）が2.5以下であり、かつ、該水素添加物中に含まれる
揮発成分が0.3重量％以下であり、かつ0.5μｍ以上の異
物量が１×10⁵個/g以下のものである。

数平均分子量（Mn）および重量平均分子量（Mw）が上
記範囲より大きいと、複屈折が劣り、かつ、成形性が悪
くなり、グループ転写性も不良となる。数平均分子量
（Mn）が小さいと、機械的強度が劣り、また、分子量分
布（Mw/Mn）が大きいと、複屈折が大きくなる。

揮発成分の含有量が上記範囲より多いと、投影面積が
大きく、厚みの薄い光ディスク基板などを射出成形によ
り成形した場合に、ボイドやシルバーストリークの発生
が見られる。

さらに異物量が多くなると光学式記録媒体ディスクと
したときの記録再生時のノイズや信号エラーを起こしや
すくなる。

また、本発明における水素添加物は、耐熱性および射
出成形性の観点から、ガラス転移温度（Tg）が100℃以
上、好ましくは120〜200℃、さらに好ましくは130〜180
℃であることが望ましい。

ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボル
ネン、ジメタノオクタヒドロナフタレン、トリメタノド
デカヒドロアントラセン、およびそれらの置換体；ジシ
クロペンタジエン、2,3−ジヒドロジシクロペンタジエ
ン、ジメタノオクタヒドロベンゾインデン、ジメタノデ
カヒドロベンゾインデン。ジメタノデカヒドロフルオレ
ン、およびそれらの置換体等を挙げることができる。置
換基は、従来から周知のものであれば、炭化水素基、極
性基のいずれでもよく、例えば、アルキル基、アルキリ
デン基、アリール基、シアノ基、ハロゲン原子、アルコ
キシカルボニル基、ピリジル基などが例示される。

これらのノルボルネン系モノマーは、それぞれ単独で
使用してもよいが、二種以上組合わせて使用することも
できる。目的とする開環重合体水素添加物のTgを100℃
以上とするためには、これらのノルボルネン系モノマー
の中でも四環体または五環体のものを使用するか、ある
いはこれらを主成分とし、二環体や三環体のモノマーと
併用することが好ましい。

特に、複屈折率の点では、四環体の低級アルキル置換
体またはアルキリデン置換体、中でもエチル置換体、エ
チリデン置換体およびプロピル置換体が好ましく、とり
わけエチル置換体またはエチリデン置換体のホモポノリ
マーまたはこれを50重量％以上、好ましくは70重量％以
上重合成分として含むコポリマーが望ましい。

また、共重合成分として、他のシクロオレフィン類、
例えば、シクロプロペン、シクロブテン、シクロペンテ
ン、シクロヘプテン、シクロオクテン、5,6−ジヒドロ
ジシクロペンタンジエン等を本発明の目的を損なわない
範囲、通常、30重量％以下の範囲で用いることができ
る。

また、分子量調節剤として、非環式オレフィンを少量
（通常、10モル％まで）用いてもよく、その中でも、特
に、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン等のα−
オレフィンが好ましい。

このような重合体は、例えば、四ハロゲン化チタンな
どの遷移金属化合物と有機アルミニウム化合物などの有
機金属および第三級アミンから成る触媒系を用いて、チ
タン成分とモノマーとを逐次添加する方法で得ることが
できる。もちろん、他の触媒系で調製したものでも、上
記の各要件に合致するものであればよい。

開環重合は、溶媒を用いなくても可能であるが、通常
は、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素、シクロ
ヘキサンなどの脂環族炭化水素、ジクロルエタンなどの
ハロゲン化炭化水素等の不活性有機溶媒中で実施され
る。また、通常、重合温度は、−20℃〜100℃、重合圧
力は、０〜50kg/cm²以下の範囲から選択される。

ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水素添加物
は、周知の水素添加触媒を使用することにより製造され
る。

水添触媒としては、オレフィン化合物の水素化に際し
て一般に使用されているものであれば使用可能であり、
例えば、ウィルキンソン錯体、酢酸コバルト／トリエチ
ルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリ
イソブチルアルミニウム、パラジウム−カーボン、ルテ
ニウム−カーボン、ニッケル−けいそう土等を挙げられ
るが、次工程での触媒残渣の除去の容易さの見地から固
形触媒であることが必要である。

水素化反応は、不均一系で、１〜200気圧の水素圧
下、０〜250℃で行なわれる。

水素添加率は、耐熱劣化性、耐光劣化性などの観点か
ら、90％以上、好ましく95％以上、特に好ましくは99％
以上とする。

（異物の濾過工程） 本発明においては水素添加物の溶液を濾過することに
より異物を除去する異物除去工程が必要である。

この異物除去工程以降の処理は、新たな異物の混入を
防ぐため、クリーン・ルーム中等、クリーン度の高い環
境下、クリーン度クラス1000以下で行うことが好まし
く、特にクリーン度クラス100以下で行うことが好まし
い。

孔径が0.5μｍ以下、好ましくは0.3μｍ以下のフィル
ターで濾過することにより、異物を除去する。孔径が0.
5μｍより大きいフィルターを用いると水素添加物溶液
中の異物含有量が減少せず光学記録式光学材料として記
録再生時のノイズレベルが増大する。

フィルターの種類は特に限定されない。一般に、カー
トリッジフィルターやメンブランフィルターが用いられ
る。濾過の効率を上げるため、減圧、または加圧しても
よい。珪藻土、シリカ、アルミナ等を濾過助剤として使
用することもできる。

濾過の際の溶液濃度は５〜40重量％、好ましくは10〜
25重量％である。濃度が低いと大量の溶液を処理する必
要があり、濃度が高いと濾過性が低下し、共に生産性が
劣り工業的に不利となる。通常、反応後の溶液濃度は10
〜25重量％であるので、濃縮や希釈をすることなく濾過
すればよい。

（揮発成分除去工程） 本発明においては、異物除去工程に続いて、揮発成分
除去工程でポリマー溶液中の揮発分が除去される。揮発
成分としては、水添反応に用いた溶剤や、重合工程の反
応液を直接水素添加反応に供した場合に含有される未反
応モノマーなどがある。

揮発成分の含有量が上記範囲より多いと、投影面積が
大きく、厚みの薄い光ディスク基板（とくに大型の光デ
ィスク基板）などを射出成形により成形した場合に、ボ
イドやシルバーストリークの発生が見られる。

揮発成分の除去はポリマー溶液を減圧下に加熱するこ
とにより行われる。このための装置としてはコントロ
（日立製作所社製）、スミス式（神鋼フアウドラー社
製）などの遠心薄膜連続蒸発器型乾燥器、ボテーター
（ケメトロン社製）、オンレーター（桜製作所社製）な
どの掻面熱交換型連続反応器型乾燥器、SCR（三菱重工
社製）などの高粘度リアクタ装置などが挙げられる。

これらの装置の操作条件は適宜選択しうるが、通常は
200torr以下、好ましくは100torr以下、特に好ましくは
30torr以下で、また、200℃〜300℃、好ましくは250℃
〜270℃で、少なくとも10分間行う。圧力が高いと、蒸
発速度が遅く生産性が悪い。また、温度が300℃より高
いとポリマーの熱分解反応が生じ、200℃未満では揮発
成分が残留し易い。この際、窒素、アルゴンなどの不活
性ガス雰囲気下で処理することが望ましい。水素添加物
は酸素存在下で加熱すると、熱劣化により着色しやす
く、光学記録式光学材料に対する処理として好ましくな
い。

この工程では必要に応じて酸化防止剤、熱安定性剤、
滑剤、紫外線吸収剤などを添加してもよい。

このような方法によれば、0.5μｍ以上の異物量が１
×10⁵個/g以下、好ましくは８×10⁴個/g以下、とくに好
ましくは７×10⁴個/g以下のポリマーを得ることができ
る。

これらの方法によって製造されたポリマー（水素添加
物）は、実質的に非晶性であり、透明性、寸法安定性、
耐熱性、吸水性に優れ、透湿性がほとんど認められな
い。

（酸化防止剤） 本発明において、前記水素添加物100重量部に対し
て、酸化防止剤を0.01〜５重量部の割合で配合すると、
成形加工時のポリマーの分解や着色を効果的に防止する
ことができる。

酸化防止剤としては、20℃における蒸気圧が10^-6Pa以
下、特に好ましくは10^-8Pa以下の酸化防止剤が望まし
い。蒸気圧が10^-6Paより高いものは、射出成形時に蒸発
し、金型や光ディスク基板表面を汚染する。そして、例
えば、記録薄膜形成のための金属蒸着時、高真空に達し
にくくなり、また、装置内部を汚染する等の問題の他
に、蒸着金属膜の膨れや剥離といった問題も発生し易く
なる。

本発明で使用できる酸化防止剤としては、例えば、ペ
ンタエリスリチル−テトラキス［３−（3,5−ジ−ｔ−
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、
1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス（3,5−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、3,9−ビス
［２−〔３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−1,1−ジメチ
ルエチル］−2,4,8,10−テトラオキサスピロ［5.5］ウ
ンデカンなどのごときヒンダードフェノール系を挙げる
ことができる。

（ディスク基板及び光記録媒体） 本発明のノルボルネン系開環重合体水素添加物は、通
常の成形法により各種成形物に成形できるが、特に射出
成形により光ディスク基板を作成するのに適している。

射出成形によって得られた成形物は、常法に従ってさ
らに真空蒸着やスパッタリング等の方法によって、金
属、金属酸化物、金属窒化物、金属硫化物、金属ハロゲ
ン化物等を目的に応じ、単層または多層に成膜すること
ができる。

透明基板上に、光学的に記録および／または読み出し
可能な反射膜や記録薄膜を設けて、記録媒体を製造する
ことができる。

金属反射膜としてはAl、Ni、Auなど使用される。記録
膜としては、孔形成型としてTe−Ｃ、As−Te−Se、Te−
Se−Ｃ系など、相変化型としてTeO_x、Sn−Te−Se、Te−
Sb−Ge、Sb−Se/Bi−Te系など、光磁気型としてTb−F
e、Tb−Fe−Co、Nb−Dy−Fe、Nb−Dy−Fe−Co、Nb−Dy
−Co、Pt−Tb−Fe−Co系などが使用される。しかし、こ
こで例示したもの以外の反射膜や記録膜が適用されても
差し支えない。

（用途） 本発明のノルボルネン系開環重合体水素添加物は、射
出成形、プレス成形、押出成形、回転成形など一般的な
熱可塑性樹脂の加工方法が可能である。

そして、本発明のノルボルネン系重合体水素添加物
は、光ディスク基材（基材、ハブ、スペーサー等）、レ
ンズ、光ファイバー、光学ミラー、プリズム、発光ダイ
オード用封止材、各種カバー用ガラス、窓ガラス、アイ
ロンの水タンク、電子レンジ用品、液晶表示用基板、プ
リント基板、透明導電性シートおよびフィルム、注射
器、ピペット、アニマルゲージ、ハウジング類、フィル
ム、ヘルメット、スピーカーコーン等に用いることがで
きる。また、光記録媒体としては、光ディスク、CD、CD
−ROM、レーザーディスク、光カード、光フロッピー、
光テープ等を挙げることができる。

〔実施例〕

以下、本発明について、実施例および比較例を挙げて
具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例のみに
限定されるものではない。また、以下の実施例および比
較例において、特に断りのない限り、部および％は重量
基準である。

〔参考例１〕 ６−エチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a
−オクタヒドロナフタレン（以下、ETDという）30部を
シクロヘキサン200部に溶解し、分子量調節剤として１
−ヘキセンを１部、トリエチルアルミニウムの15％シク
ロヘキサン溶液10部、およびトリエチルアミン５部を添
加した。この溶液を、30℃に保ちながらETD30部、およ
び四塩化チタンの20％シクロヘキサン溶液10部を１時間
にわたって連続的に反応系に添加して、開環重合を行っ
た。

ETDと四塩化チタンの全量を添加し、30分後、転化率8
5％の時点で六塩化タングステンの0.8％シクロヘキサン
溶液５部を添加し、更に30分間攪拌した。

単量体の重合体への転化率は98％であった。

〔実施例１〕 （水添工程） 参考例１の方法で得られた重合体溶液100部に、イソ
プロピルアルコール１部を添加し、室温で10分間攪拌し
た。さらに蒸留水を１部添加して、80℃で１時間攪拌し
た。反応終了後、無水硫酸マグネシウム３部を添加して
攪拌しながら溶液を室温まで冷却し、珪藻土（ラジオラ
イト＃800昭和化学製）を濾過層として不溶化物を含ん
だ溶液を2.5kg/cm²加圧濾過し、淡黄色透明のポリマー
溶液を得た。

上記のポリマー溶液100部に、ニッケル−珪藻土触媒
１部を添加して、オートクレーブ中に入れ、攪拌混合後
に中の空気を水素で置換して、水素圧を45kg/cm²にて攪
拌しながら温度190℃まで加温した後、４時間不均一系
で反応させた。

（濾過工程） 不溶化物を含んだポリマー含量20％の反応液をラジオ
ライト＃800をろ過床として、加圧ろ過器（フンダフィ
ルター、石川島播磨重工社製）を使用し、圧力2.5kg/cm
²で加圧濾過して、無色透明な溶液を得た。この溶液100
部に酸化防止剤としてペンタエリスリチル−テトラキス
〔３−（3,5−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート〕0.01部を加えて溶解し、クリーン
度クラス100の環境下で、この濾液をさらに0.2μｍのフ
ィルターにて濾過し、異物を除去した。

（揮発成分除去工程） 上記溶液100部を用いて、揮発成分であるシクロヘキ
サン及び残留モノマーの蒸発を縦置円筒型濃縮器日立コ
ントロ（日立製作所製）によって行った。運転条件は、
ポリマー溶液温度251℃、圧力57torr、ポリマー溶液流
量5.9kg/hrにて行い、水素添加物19部を得た。残留溶剤
およびモノマーは水素添加物を10％含むトルエン溶液を
ガスクロマトグラフィで分析した結果、得られた水素添
加物中のシクロヘキサン含量0.08wt％、残留モノマー水
素添加物含量0.73％であった。

この回収した水素添加物溶融物100部を同濃縮器を用
いて、水素添加物溶融物温度260℃、圧力5torr、水素添
加物溶融物流量16.8kg/hrで処理した。溶融物をダイか
ら押し出し、ペレタイザー（OSP−２、長田製作所製）
でカッティングし、ペレット73部（ポリマーＡ）を得
た。得られたペレットを10％含むトルエン溶液をガスク
ロマトグラフィで分析した結果、残留シクロヘキサン
量、残留モノマー水素添化物量共に、測定限界以下であ
った。最終的に回収された水素添加物は、無色透明で、
Mnは29,000、Mwは59,500、Mn/Mwは2.05であった。ま
た、示差走査熱量分析（DSC）により測定したTgは140℃
であった。さらに、四塩化炭素溶液として¹H−NMRスペ
クトルにより測定したを水素添加率はほぼ100％であっ
た。得られた水素添加物を0.1カートリッジフィルター
にて濾過精製したシクロヘキサンを用いて0.2％溶液に
調整し、光散乱式粒子検出器（KS−58、リオン社製）を
用いて異物個数を測定した結果、１μｍ以上の異物量21
0個/g、0.5μｍ以上の異物量６×10⁴個/gであった。

〔実施例２〕 揮発成分除去工程の装置を縦置円筒型濃縮器に代えて
高粘度リアクタ装置SCR（三菱重工社製）とし、操作条
件を水素添加物溶融物温度250℃、圧力1torr、水素添加
物溶融物流量3.22kg/hrで１段で処理を行った以外は実
施例１と同様に処理して、水素添加物100部からペレッ
ト12部（ポリマーＢ）を得た。得られた水素添加物は無
色透明であり、Mnは28,800、Mwは59,000、Mw/Mnは2.0
5、Tgは140℃であった。残留シクロヘキサン量、残留モ
ノマー水素添加物量は検出限界以下であった。水素添加
物中の１μｍ以上の異物量は290個/g、0.5μｍ以上の異
物量は７×10⁴個/gであった。

〔実施例３〕 モノマーとして６−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,
4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナルタレンを使用する
以外は参考例１、実施例１と同様にして、開環重合体水
素添加物ペレット（ポリマーＣ）を得た。得られた水素
添加物のペレットは無色透明で、Mnは31,000、Mwは63,0
00、Mw/Mnは2.03、Tgは149℃であり水素添加率はほぼ10
0％であった。

また残留シクロヘキサン量、残留モノマー水素添加物
量は検出限界以下であった。水素添加物中の１μｍ以上
の異物量は320個/g、0.5μｇ以上の異物量は６×10⁴個/
gであった。

〔実施例４〕 濾過工程において酸化防止剤を添加しないこと以外は
実施例１と同様にしてペレットを得た。得られた水素添
加物のペレットは、ごくわずかに黄色味を帯びていた
が、Mnは29,000、Mwは59,500、Mw/Mnは2.05、Tgは141℃
であった。残留シクロヘキサン量、残留モノマー水素添
加物量は検出限界以下であった。水素添加物中の１μｍ
以上の異物は340個/g、0.5μｍ以上の異物量は９×10⁴
個/gであった。

〔実施例５〕 濾過工程において用いる酸化防止剤をイルガノックス
1330（チバガイギー社製）に代えること以外は実施例１
と同様にしてペレットを得た。得られた水素添加物のペ
レットは、無色透明で、Mnは29,000、Mwは59,500、Mw/M
nは2.05、Tgは140℃であった。残留シクロヘキサン量、
残留モノマー水素添加物量は検出限界以下であった。水
素添加物中の１μｍ以上の異物は240個/g、0.5μｍ以上
の異物量は６×10⁴個/gであった。

〔比較例１〕 実施例１における水添工程終了後、実施例１と同様に
して濾過、引き続き精密濾過して、無色透明な溶液を得
た。クリーン度クラス1000のクリーンルーム内に設置し
たクリーンベンチ内のクリーン度クラス100の環境下
で、この溶液を0.1フィルターにて濾過精製したシクロ
ヘキサンを用いて水素添加物濃度5.0％に希釈した溶液1
00部を、300部のイソプルピルアルコール中に注ぎ入
れ、撹拌して水素添加物を析出させた。

析出した水素添加物と溶剤とは400メッシュステンレ
スフィルターにて分離し、回収された水素添加物はクリ
ーンルーム内に設置した真空乾燥器にて120℃、1torr以
下で24時間乾燥し、水素添加物4.2部を得た。得られた
水素添加物100部に実施例１に使用したのと同じ酸化防
止剤0.05部を配合し、クリーンルーム内に設置したスク
リュー径40mmの単軸押し出し器（SV−40、田辺プラスチ
ックス機械社製）にて240℃で溶融押し出しし、ペレタ
イザーでカッティングしてペレット91部（ポリマーＤ）
を得た。得られた水素添加物は無色透明で、Mnは29,00
0、Mwは59,700、Mw/Mnは2.06、Tgは137℃であった。得
られた水素添加物中の揮発成分は0.5％であり、異物個
数は、１μｍ以上で730個/g、0.5μｍ以上で３×10⁵個/
gであった。

〔比較例２〕 比較例１と同様にして得られた、１度だけ凝固したの
ち、乾燥した水素添加物をシクロヘキサンに５％濃度に
再溶解して得られた溶液100部を0.2μｍのフィルターに
て濾過し比較例１と同様にして再度凝固・乾燥・ペレッ
ト化して揮発成分含量0.2％のポリマー（ポリマーＥ）
を得た。

乾燥した水素添加物（ポリマーＥ）を、0.1フィルタ
ーにて濾過精製したシクロヘキサンを用いて0.5％溶液
に調整し、パーティクルカウンターにて異物個数を測定
した結果、１μｍ以上の異物量890個/g、0.5μｍ以上の
異物量４×10⁵個/gであった。

以上の結果から、本発明の方法で回収したノルボルネ
ン系開環重合体水素添加物は、従来法と比較して0.5μ
ｍ以上の異物の量が少ないことが判る。

〔実施例６〕 （光ディスク基板の作成） 前記の各ペレットを用い、射出成形機（住友重機械工
業社製、DISC 5M III）により、樹脂温度330℃、金型
温度110℃の条件で射出成形を行ない、直径130mm、厚さ
1.2mmの光ディスク基板を成形した。波長830nmにおける
光線透過率はいずれも90％以上であった。

この光ディスク基板について、目視検査による外観、
分子量（Mw）変化率、顕微鏡観察によるボイドの有無、
複屈折値（半径:25〜60mmの範囲）、オーブン中で、110
℃、48時間加熱した後の着色の状況（目視検査）を測定
した。結果を第１表に示した。

第１表から明らかなように、本発明の光ディスク基板
は、複屈折が小さく、ミクロボイドやシルバーストリー
クの発生がない。また、酸化防止剤を配合すると、成形
時の分子量低下がなく、長期にわたって着色を生じな
い。これに対して、揮発成分の含有量が多い対照例のも
のは、光ディスク基板の外周部にミクロボイドが発生
し、気泡を伴うこともあり、特に大型の光ディスク基板
を作成するときに重大な障害となる。

〔実施例７〕 第２表に示す材料を用いて得た光ディスク基板を、ク
リーンルーム内でイソプロピルアルコールで超音波洗浄
を行なった後、フレオン蒸気で乾燥を行なった。その
後、日本真空技術社製RFマグネトロンスパッタリング装
置を用い記録膜としてSi₃N₄/TbFeCo/Si₃N₄ ３層膜（膜
厚は各層とも500オングストローム）を成膜した。

得られた光ディスクについて、各種物性試験を行な
い、その結果を第２表に示す。

物性測定 ＜C/N比＞ 光ディスクのC/N値（dB）の測定は、次の条件で行な
った。

書き込みレーザーパワー 5.5mW 再生レーザパワー 1.0mW ディスク回転数 1800rpm キャリア周波数 2MHz 印加磁界 300Oe レーザー波長 830nm ＜耐久性試験＞ 光ディスクを60℃、80％RHの恒温高湿槽に投入し、一
定時間後のC/N値、およびソリを測定した。

＜ソリの測定＞ 日本光学社製反り角自動測定器を使用してソリ（mra
d）を測定した。

＜機械強度＞ 機械強度は、1mの高さから光ディスクの落下試験を行
ない、割れや欠けの有無を観察した。

＜エラー発生状況＞ 耐久性試験を行う前に、C/N比の測定と同条件で測定
した。

〔発明の効果〕 本発明により、光学用材料として優れた性能を有する
ノルボルネン系開環重合体水素添加物が提供される。特
に、本発明のノルボルネン系開環重合体水素添加物は、
光学用透明基板を射出成形により成形した場合に、機械
的強度の劣化がなく、ボイドやシルバーストリークなど
の発生がない。また本発明の成形材料から得た透明基板
を用いて耐久性に優れ、かつ記録再生時のノイズの少な
い光記録媒体を製造することができる。

さらに本発明の方法により、異物含量の少ないポリマ
ーを効率よく製造することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−286712（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−132626（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−24826（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08G 61/08

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ノルボルネン系モノマーの開環重合体の水
   素添加物であって、該水素添加物の高速液体クロマトグ
   ラフィにより測定した数平均分子量（Mn）が20,000〜5
   0,000、重量平均分子量（Mw）が40,000〜80,000、分子
   量分布（Mw/Mn）が2.5以下、該水素添加物中に含まれる
   揮発成分量が0.3重量％以下であり、かつ、0.5μｍ以上
   の異物量が１×10⁵個/g以下であることを特徴とするノ
   ルボルネン系開環重合体水素添加物。
2. 【請求項２】請求項１記載のノルボルネン系開環重合体
   水素添加物を成形したディスク基板。
3. 【請求項３】請求項２記載のディスク基板に金属反射膜
   を蒸着した光学式記録媒体ディスク。
4. 【請求項４】ノルボルネン系開環重合体を溶液中で水素
   添加触媒の存在下で水素添加反応する過程（Ａ）、前記
   過程（Ａ）の反応液を孔径が0.5μｍ以下のフィルター
   で濾過し、水素添加物を濾液として分離する過程
   （Ｂ）、該濾液を減圧下に加熱して揮発成分を蒸発させ
   ることにより水素添加物を取得する過程（Ｃ）から成る
   ことを特徴とするノルボルネン系開環重合体水素添加物
   の製造方法。