JP3090278B2 - ポリシロキサン流体の残留塩化物含有量を低下させる方法 - Google Patents
ポリシロキサン流体の残留塩化物含有量を低下させる方法Info
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- -1 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 76
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims description 75
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims description 52
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 title claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 150000001341 alkaline earth metal compounds Chemical class 0.000 claims description 31
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 22
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 21
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims description 14
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 10
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 10
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 claims description 7
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 5
- RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L barium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ba+2] RQPZNWPYLFFXCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910001863 barium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 claims description 3
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 3
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 claims description 3
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 3
- AOPJVJYWEDDOBI-UHFFFAOYSA-N azanylidynephosphane Chemical compound P#N AOPJVJYWEDDOBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 2
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 2
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Chemical group 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001348 alkyl chlorides Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- QEHKBHWEUPXBCW-UHFFFAOYSA-N nitrogen trichloride Chemical compound ClN(Cl)Cl QEHKBHWEUPXBCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/32—Post-polymerisation treatment
- C08G77/34—Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/20—Purification, separation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
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Description
ら残留塩素を除去するための方法である。この方法は、
弱塩基性アルカリ土類金属化合物を塩素を含有している
ポリシロキサン流体と 100℃以下の温度で接触させるこ
とを必要とする。本発明の好ましい態様では、残留塩素
の除去を容易にするためアルカリ土類金属化合物と一緒
に水が加えられる。残留塩化物含有量の低下した処理さ
れたポリシロキサン流体は、固形のアルカリ土類金属化
合物を除去するためろ過される。
素は、ポリシロキサン流体中に様々な形態で存在するこ
とができる。例えば、塩素はイオン性塩化物として、塩
化アルキルとして、あるいはケイ素に結合した塩素とし
て存在することができる。塩素の源は恐らく、ポリシロ
キサンを調製するのに使用される供給原料、装置の汚
染、及び加えられたクロロシラン類であろう。ポリシロ
キサン流体中に塩化物の存在することは、色の変化、粘
度の変化、そして導電率の上昇といったような有害な作
用と相互に関係づけられることが示されている。これら
の有害な作用を避けるためには、しばしばポリシロキサ
ンの残留塩化物濃度を低下させることが望ましい。残留
塩化物の減少は、ポリシロキサンに有害な影響を及ぼす
ことなしに達成されなくてはならない。
度において、選ばれた弱塩基性アルカリ土類金属化合物
を使ってポリシロキサン重合体に有害な影響を及ぼすこ
となく当該ポリシロキサン流体中の残留塩化物を減少さ
せることができる、ということをこれまでには誰も教示
していない。更に、ポリシロキサン流体中の残留塩化物
の減少は水を加えることにより促進することができる、
という教示を発明者らは知らない。本発明は、ポリシロ
キサン流体(窒化塩化燐もしくはオルガノポリシロキサ
ンの縮合もしくは平衡化、又は縮合及び平衡化を促進す
る窒化塩化燐の反応生成物を含有するオルガノポリシロ
キサンを除く)の残留塩化物含有量を当該ポリシロキサ
ン重合体に有害な影響を及ぼすことなしに減少させるた
めの方法である。
るポリシロキサン流体(窒化塩化燐もしくはオルガノポ
リシロキサンの縮合もしくは平衡化、又は縮合及び平衡
化を促進する窒化塩化燐の反応生成物を含有するオルガ
ノポリシロキサンを除く)は、選ばれた弱塩基性アルカ
リ土類金属化合物と 100℃より低い温度で接触させられ
る。適切な接触時間の後に、ポリシロキサン流体は固形
のアルカリ土類金属化合物から分離される。本発明の好
ましい態様では、残留塩素の除去を促進するために水が
加えられる。
燐もしくはオルガノポリシロキサンの縮合もしくは平衡
化、又は縮合及び平衡化を促進する窒化塩化燐の反応生
成物を含有するオルガノポリシロキサンを除く)の残留
塩化物含有量を低下させるための方法である。この方法
は、前記ポリシロキサン流体を、酸化マグネシウム、水
酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化カルシウ
ム、酸化バリウム及び水酸化バリウムからなる群より選
ばれたアルカリ土類金属化合物と接触させることを含
む。この方法は、0℃から 100℃までの温度で行われ
る。本発明の好ましい態様では、加水分解可能な塩化物
に関して化学量論的に過剰の水が加えられる。
の有機置換ポリシロキサンから主としてなる。本発明に
とって、重合度に関する唯一の必要条件は、流体の粘度
がアルカリ土類金属化合物を前記ポリシロキサン流体と
混合させることができるような、良好な接触を保証する
のに十分な粘度である、ということである。一般に、本
発明の方法は、粘度が10,000センチポアズ未満である流
体について有効である。より高い粘度の流体を使用して
もよいが、アルカリ土類金属化合物の混合及び分離は恐
らく困難になろう。
化された流体、メチル及びフェニル置換された流体、又
は、ケイ素原子につく少量のペンダントのヒドロキシル
基もしくはビニル基で更に置換されたタイプのうちのど
ちらかの流体でよい。少量とは、約10モル%未満のペン
ダント基を意味する。ポリシロキサンは、線状構造か又
は環式構造のどちらかでよい。ポリシロキサンはジメチ
ル及びメチルフェニル置換共重合体であることができ
る。
ルシリル基でブロックされたメチル及びフェニル置換さ
れたポリシロキサン、末端をトリメチルシリル基でブロ
ックされたジメチルポリシロキサン、末端をジメチルヒ
ドロキシシリル基でブロックされたメチル及びフェニル
置換されたポリシロキサン、末端をビニルジメチルシリ
ル基でブロックされたジメチルポリシロキサン、末端を
ビニルジメチルシリル基でブロックされたビニル及びメ
チル置換されたポリシロキサン、末端をトリメチルシリ
ル基でブロックされたビニル及びメチル置換されたポリ
シロキサン、末端をトリメチルシリル基でブロックされ
たメチル及びヒドロキシ置換されたポリシロキサン、末
端をメチルフェニルヒドロキシシリル基でブロックされ
たメチル及びフェニル置換されたポリシロキサン、ジメ
チルシクロポリシロキサン、並びにメチル及びフェニル
置換されたシクロポリシロキサンでよい。
有量」なる用語は、ポリシロキサン流体中に存在してい
る全塩化物を指称する。これは、イオン性及び非イオン
性の塩化物種の両方を包含することができる。イオン性
塩化物種は、例えば、遊離の塩化水素やケイ素原子へ置
換された塩素を含むものを包含する。非イオン種は、反
応性の有機塩化物を包含する。
化マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化カルシウ
ム、水酸化カルシウム、酸化バリウム及び水酸化バリウ
ムからなる群より選ばれる。酸化マグネシウムが好まし
いアルカリ土類金属化合物である。アルカリ土類金属化
合物は溶液中では弱塩基であることが重要である。これ
は、強塩基性化合物はポリシロキサンの解重合を引き起
こしかねないからであり、あるいはポリシロキサンがシ
ラノール基を含有する場合には、縮合が触媒されてその
結果分子量及び粘度が変化することがあるからである。
ロキサン流体中の残留塩化物との十分な接触を保証する
ために重要である。一般に、2μm未満の平均径を有す
る粒度が好ましい。約 120メッシュまでのより大きな粒
度を使用することができるが、残留塩化物含有量を低下
させる有効性は低下するかもしれない。粒度の下限値
は、ポリシロキサン流体からアルカリ土類金属化合物を
分離する能力によってのみ制限される。
体の塩化物濃度を所望の水準まで低下させるのに十分な
量のアルカリ土類金属化合物と接触させられる。アルカ
リ土類金属化合物は、ポリシロキサン流体と、これら二
つを一緒にした重量の0.02〜10.0重量%の範囲内で接触
させられる。好ましい重量範囲は0.02〜2重量%であ
る。最も好ましいのは、アルカリ土類金属化合物をポリ
シロキサンと接触させる際に残留塩素分の化学量論上の
等量の約2倍から5倍までの量である。
流体と接触させている間は、この接触混合物の温度は、
水が存在している場合には約0℃から 100℃までの範囲
内に維持すべきである。水が存在しない場合は、この工
程の温度の上限はポリシロキサンの温度安定性によって
のみ制限される。好ましい温度範囲は、水があってもな
くても、20℃から75℃までである。アルカリ土類金属化
合物とポリシロキサン流体との接触時間は、10分から4
時間までの範囲内であるべきである。4時間よりも長い
接触時間を使用してもよいが、有意の利益は認められな
い。アルカリ土類金属化合物とポリシロキサンとの好ま
しい接触時間は0.5〜2時間である。最も好ましいのは
約0.5〜1時間である。
類金属化合物との接触中に存在する水はポリシロキサン
流体から残留塩素を取除くのを促進する、ということを
見いだした。発明者らは、この促進作用は次に掲げる代
表的な化学反応により起こるものと信じる。
ン重合体の解重合又は縮合を引き起こさず、且つポリシ
ロキサンにヒドロキシル基やビニル基のようなペンダン
ト基が存在している場合にはそれらの反応を引き起こさ
ない条件下において、水が残留塩素の除去を促進すると
いう発見である。水は、ポリシロキサン流体をアルカリ
土類金属化合物と接触させる同じ時点でポリシロキサン
流体に加えることができる。どのような量の水も本発明
の方法にとって有益であり得る。とは言うものの、実際
には、本発明の方法で使用するのに好ましい水の量は、
ポリシロキサン流体の加水分解可能な塩素の含有量より
わずかに化学量論的に過剰な量であり、且つ、存在して
いるアルカリ土類金属化合物のモル当量未満である。こ
れらの条件下では、過剰の水はアルカリ土類金属化合物
により結合されて、ポリシロキサン流体から水を取除く
ための分離工程は不要である。より多量の水を使用して
もよいが、有利な点は恐らく認められないであろう。
「わずかに化学量論的に過剰」とは、ポリシロキサン流
体中の加水分解可能な塩素に関して化学量論的に約10モ
ル%過剰の水を意味する。
は、先に説明したように温度を除いて、全ての他の処理
条件は水を用いない方法について先に説明したとおりで
ある。
ましい手順は、上述のようにバッチ様式である。利用さ
れる装置及び手順は、そのようなバッチ装置の設計及び
運転の技術分野において公知のものである。
できる。連続様式で実施する場合には、連続式の反応器
を設計する技術分野において公知の、タンク、塔、ある
いは同様の他のものといったような容器に大過剰のアル
カリ土類金属化合物を入れる。この系は、ポリシロキサ
ン流体を予熱し、アルカリ土類金属化合物が入っている
容器を加熱し、あるいは両者を組み合わせることによっ
て、所望の接触温度にしそしてその温度で維持される。
予熱又は加熱は、当該技術分野において公知の慣用的手
段により果すことができる。温度及び接触時間は、バッ
チ様式の運転について先に説明したとおりである。本発
明の方法を水を加えて実施する場合には、水はバッチ様
式について記載された量でもってポリシロキサン流体に
加えられる。
合物と接触させた後に、ポリシロキサン流体は残留固形
物、すなわち未反応のアルカリ土類金属化合物及びアル
カリ土類金属化合物の反応の塩から分離される。固形物
は、処理されたポリシロキサン流体からろ過の手段によ
り分離することができる。ろ過手段は、フィルタープレ
ス、バッグフィルター及びカートリッジフィルターのよ
うな手段でよい。
ることができるように、以下に掲げる例を提供する。こ
れらの例は、例示のために提示されるものであって、こ
の明細書に記載される本発明を限定するものと解釈すべ
きではない。
シシリル基でブロックされたメチル及びフェニル置換さ
れたポリシロキサン流体の塩化物含有量を低下させる能
力を、三つの変数を使い、Box-Behnken 立案の実験を15
回行って評価した。
有量は試験流体の総重量の241ppbであり、また平均の S
i-OH量は5.85重量%(−OHとして) であった。各試験
は、ポリシロキサン流体を35℃と70℃の間の所望の温度
に加熱し、米国コロラド州デンバーのManville Special
ity Chemicals Group のSuper Cel ろ過助剤を1.0重量
%加え、米国ペンシルベニア州ピッツバーグの Fisher
Scientific社のか焼された酸化マグネシウムを0.1〜1.
0重量%加え、そして規定された時間の間所望の温度で
保持し、次いでろ過することからなる試験であった。塩
素量の減少をイオン交換クロマトグラフィーにより測定
した。 Si-OH量はフーリエ変換赤外分析により測定し
た。得られた結果を表1に示す。
の安定度に関して、最適な条件は1.0重量%のMgO 、55
〜60℃の接触温度、そして30〜35分の接触時間であるこ
とが示された。
クされたメチル及びフェニル置換されたポリシロキサン
流体の残留塩化物含有量を低下させる能力を評価した。
このポリシロキサン流体は、残留塩化物の一つの源とし
てトリメチルクロロシランを含有していることが分って
いた。平衡させた流体 (16,000ポンド(7,260kg)) を 1
00℃未満の温度まで冷却し、そしてこの流体に0.4ポン
ド(0.18kg) の水及び1.0ポンド(0.45kg)の酸化マグ
ネシウムを加えた。これらの流体、水及び MgOを、一定
の攪拌を行いながらおよそ1時間接触させた。この接触
期間の終了後に、流体をろ過して沈殿した金属塩を取除
いた。使用した MgOは、米国ペンシルベニア州バレーフ
ォージ(Valley Forge)のC-E Refractories社のMAGOX 98
HR Fineであって、その表面積は38〜62m2 /g、平均
粒度は2μm未満であった。処理されたポリシロキサン
流体の塩素分をイオン交換クロマトグラフィーで測定し
た。
測定された平均の塩素分は1506ppbであった。ろ過する
前に MgOと5〜10分間接触させた六つのポリシロキサン
試料について測定された平均の塩素分は449ppbであっ
た。接触時間を1時間に増加させると、ポリシロキサン
の平均の塩素分は 73ppbになった。このデータは、 MgO
が末端をトリメチルシリル基でブロックされたメチル及
びフェニル置換されたポリシロキサンの塩化物含有量を
低下させることができること、そして適切な接触時間が
重要であることを証明する。
Claims (2)
- 【請求項1】 ポリシロキサン流体(窒化塩化燐もしく
はオルガノポリシロキサンの縮合もしくは平衡化、又は
縮合及び平衡化を促進する窒化塩化燐の反応生成物を含
有するオルガノポリシロキサンを除く)を、酸化マグネ
シウム、水酸化マグネシウム、酸化カルシウム、水酸化
カルシウム、酸化バリウム及び水酸化バリウムからなる
群より選ばれたアルカリ土類金属化合物と接触させるこ
とを含み、この接触を0℃から 100℃までの接触温度で
行う、ポリシロキサン流体のイオン性及び非イオン性の
塩化物種の両方を包含する残留塩化物含有量を低下させ
るための方法。 - 【請求項2】 当該ポリシロキサン流体の加水分解可能
な塩素の含有量より化学量論的に10モル%以上過剰な
量であり、且つ前記アルカリ土類金属化合物のモル当量
未満の量の水が存在する、請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US492014 | 1990-03-12 | ||
US07/492,014 US4962221A (en) | 1990-03-12 | 1990-03-12 | Chloride reduction in polysiloxanes |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05279480A JPH05279480A (ja) | 1993-10-26 |
JP3090278B2 true JP3090278B2 (ja) | 2000-09-18 |
Family
ID=23954592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03044867A Expired - Lifetime JP3090278B2 (ja) | 1990-03-12 | 1991-03-11 | ポリシロキサン流体の残留塩化物含有量を低下させる方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4962221A (ja) |
EP (1) | EP0446831B1 (ja) |
JP (1) | JP3090278B2 (ja) |
DE (1) | DE69104875T2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101995481B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2019-07-02 | 주식회사 나우메디 | 저주파 발생패드가 구비된 운동기구 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0798828B2 (ja) * | 1990-05-18 | 1995-10-25 | 東芝シリコーン株式会社 | アルコキシシランの精製方法 |
US5084588A (en) * | 1990-07-05 | 1992-01-28 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Reducing halide contamination in alkoxy silanes |
JP2552950B2 (ja) * | 1990-11-13 | 1996-11-13 | 信越化学工業株式会社 | アルコキシシランの製造方法 |
US5399624A (en) * | 1990-12-21 | 1995-03-21 | Loctite Corporation | High purity resins for thiol-ene polymerizations and method for producing same |
US5138081A (en) * | 1991-04-30 | 1992-08-11 | The Dow Chemical Company | Process for purifying vinylically-unsaturated organosilicon compounds |
DE4122206A1 (de) * | 1991-07-04 | 1993-01-14 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur reinigung von organopolysiloxanen |
DE4130643A1 (de) * | 1991-09-14 | 1993-03-18 | Degussa | Verfahren zur reinigung von alkoxysilanen |
US5210254A (en) * | 1992-03-31 | 1993-05-11 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Acidic halide neutralization in alkoxysilanes |
JP2730427B2 (ja) * | 1992-09-24 | 1998-03-25 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン類の精製方法 |
US5276173A (en) * | 1992-10-05 | 1994-01-04 | Dow Corning Corporation | Method for removal for ionic chloride from hydroxyl-terminated siloxanes |
DE19902270C1 (de) * | 1999-01-21 | 2000-01-05 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum Entfernen von Chlorkohlenwasserstoffen aus Organochlorsilanen |
EP3002262B1 (de) * | 2014-10-01 | 2018-06-27 | Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG | Verfahren zur Herstellung von synthetischem Quarzglas mittels einer polymerisierbaren Polyalkylsiloxanverbindung |
CN107746413B (zh) * | 2017-11-06 | 2020-04-28 | 浙江衢州硅宝化工有限公司 | 一种三乙酰氧基烃基硅烷的制备方法 |
CN112358616A (zh) * | 2020-07-27 | 2021-02-12 | 南京蓝胜环保科技有限公司 | 一种聚硅氧烷水解物端羟基残余氯去除工艺方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4127598A (en) * | 1977-02-22 | 1978-11-28 | Mcentee Harry R | Process for removing biphenyls from chlorosilanes |
US4156689A (en) * | 1978-02-13 | 1979-05-29 | General Electric Company | Purification of hydrosilanes and siloxanes |
JPS6049033A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Shin Etsu Chem Co Ltd | オルガノポリシロキサンの製造方法 |
DE3534218A1 (de) * | 1984-11-13 | 1987-03-26 | Licentia Gmbh | Verfahren zur reinigung von siliconoel |
DE3533028A1 (de) * | 1985-09-16 | 1987-03-19 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zum stabilisieren von organopolysiloxanen |
-
1990
- 1990-03-12 US US07/492,014 patent/US4962221A/en not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-03-11 JP JP03044867A patent/JP3090278B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-11 EP EP91103681A patent/EP0446831B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-03-11 DE DE69104875T patent/DE69104875T2/de not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101995481B1 (ko) * | 2017-10-31 | 2019-07-02 | 주식회사 나우메디 | 저주파 발생패드가 구비된 운동기구 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4962221A (en) | 1990-10-09 |
JPH05279480A (ja) | 1993-10-26 |
DE69104875D1 (de) | 1994-12-08 |
EP0446831A2 (en) | 1991-09-18 |
EP0446831B1 (en) | 1994-11-02 |
EP0446831A3 (en) | 1992-03-11 |
DE69104875T2 (de) | 1995-03-30 |
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