JP3089779B2 - フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法 - Google Patents

フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法

Info

Publication number
JP3089779B2
JP3089779B2 JP03344977A JP34497791A JP3089779B2 JP 3089779 B2 JP3089779 B2 JP 3089779B2 JP 03344977 A JP03344977 A JP 03344977A JP 34497791 A JP34497791 A JP 34497791A JP 3089779 B2 JP3089779 B2 JP 3089779B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sec
butylbenzene
oxidation
methyl ethyl
ethyl ketone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP03344977A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH05178772A (ja
Inventor
清司 岩永
敏男 中山
光久 田村
昌宏 碓氷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP03344977A priority Critical patent/JP3089779B2/ja
Priority to TW081108772A priority patent/TW226011B/zh
Priority to CA002082688A priority patent/CA2082688C/en
Priority to US07/995,971 priority patent/US5298667A/en
Priority to EP92121983A priority patent/EP0548986B1/en
Priority to DE69209030T priority patent/DE69209030T2/de
Publication of JPH05178772A publication Critical patent/JPH05178772A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3089779B2 publication Critical patent/JP3089779B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はフェノール及びメチルエ
チルケトンの製造方法に関するものである。更に詳しく
は、本発明はsec−ブチルベンゼンを出発原料とする
フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】sec−ブチルベンゼンを酸化してse
c−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドとし、次に
該sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドを酸
性触媒により分解し、フェノール及びメチルエチルケト
ンとする技術は公知である(特開昭48−80524号
公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記の技術
においては、フェノールとメチルエチルケトンを含有す
る液以外に、未反応のsec−ブチルベンゼンを含有す
る液が回収され、該sec−ブチルベンゼンは、原料使
用効率の点から酸化反応工程へリサイクルして再利用さ
れる必要がある。ところが、未反応のsec−ブチルベ
ンゼンを酸化工程へリサイクルする場合、分解工程で生
成し、高段数の蒸留塔を用いても分離することが困難な
成分であるスチレン類が含有されてくることを避けるこ
とができない。そして、かかるスチレン類は、sec−
ブチルベンゼンからsec−ブチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイドへの単位時間あたりの収量を低下させると
いう問題が発生する(特開昭48−80524号公報)
【0004】かかる現状に鑑み、本発明が解決しようと
する課題は、sec−ブチルベンゼンを酸化してsec
−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドとし、次に該
sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドを酸性
触媒により分解し、フェノールとメチルエチルケトンと
するフェノール及びメチルエチルケトンの製造方法であ
って、スチレン類を実質上含有しないsec−ブチルベ
ンゼンを酸化工程へリサイクルさせることによりsec
−ブチルベンゼンからsec−ブチルベンゼンハイドロ
パーオキサイドへの単位時間あたりの収量を低下させる
ことなく、未反応のsec−ブチルベンゼンを酸化反応
の原料として有効に再利用でき、かつ酸化反応にとって
好ましくないスチレン類のうち、α,β−ジメチルスチ
レン及びα−エチルスチレンをsec−ブチルベンゼン
に変換し、酸化反応の原料として有効に利用できるとい
う、優れたフェノール及びメチルエチルケトンの製造方
法を提供する点にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決すべく鋭意検討を行い、本発明に到達したもの
である。すなわち、本発明は、下記の工程を含むsec
−ブチルベンゼンからフェノール及びメチルエチルケト
ンを製造する方法において、スチレン類を実質上含有し
ないsec−ブチルベンゼンを酸化工程へリサイクルす
ることを特徴とするフェノール及びメチルエチルケトン
の製造方法であって、精製工程からリサイクルされるs
ec−ブチルベンゼン中に含有されるスチレン類濃度が
0.1重量%以下であるフェノール及びメチルエチルケ
トンの製造方法に係るものである。 酸化工程:sec−ブチルベンゼンを酸化してsec−
ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドを主成分とする
酸化反応液を得る工程 濃縮工程:酸化反応液を蒸留により濃縮し、塔底部から
sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドを主成
分とする塔底液を得、塔頂部からsec−ブチルベンゼ
ンを主成分とする留出液を得、該留出液を酸化工程へリ
サイクルする工程 分解工程:濃縮工程の塔底液を酸性触媒と接触させるこ
とにより、sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサ
イドをフェノールとメチルエチルケトンに分解する工程 中和工程:分解工程で得られた分解液をアルカリ水溶液
により中和し、油層と水層に分離し、水層の一部を再度
中和工程の入口へリサイクルする工程 精製工程:中和工程で得られた油層を蒸留に付し、フェ
ノールを主とする成分、メチルエチルケトンを主とする
成分及びsec−ブチルベンゼンを主成分とする留分に
分離し、該sec−ブチルベンゼンを主成分とする留分
を酸化工程へリサイクルする工程水素還元工程:精製工程で得られたsec−ブチルベン
ゼンを主成分とする留分を水素還元反応に付し、該留分
中に含まれるスチレン類をアルキルベンゼン類に変換す
る工程 分離工程:水素還元工程で得られた水素還元反応液を蒸
留に付すことによりs ec−ブチルベンゼンを回収し、
該sec−ブチルベンゼンを酸化工程へリサイクルする
工程
【0006】以下詳細に説明する。本発明の酸化工程と
は、sec−ブチルベンゼンを酸化してsec−ブチル
ベンゼンハイドロパーオキサイドを主成分とする酸化反
応液を得る工程であり、たとえば次のとおり行われる。
すなわち、液体のsec−ブチルベンゼンを、90〜1
50℃の温度、1〜10kg/cm2 Gの圧力下、酸素
含有ガスと接触させることによりsec−ブチルベンゼ
ンハイドロパーオキサイドとする。
【0007】本発明の濃縮工程とは、酸化反応液を蒸留
により濃縮し、塔底部からsec−ブチルベンゼンハイ
ドロパーオキサイドを主成分とする塔底液を得、塔頂部
からsec−ブチルベンゼンを主成分とする留出液を得
る工程である。濃縮工程における蒸留の条件は、要する
にsec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドを主
成分とする塔底液とsec−ブチルベンゼンを主成分と
する留出液が得られるように設定すればよく、たとえば
塔底温度50〜150℃、塔頂圧力1〜200torr
があげられる。
【0008】本発明の分解工程とは、濃縮工程の塔底液
を酸性触媒と接触させることにより、sec−ブチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイドをフェノールとメチルエ
チルケトンに分解する工程である。酸性触媒としては、
硫酸、無水硫酸、過塩素酸、リン酸などが用いられる。
酸性触媒の使用量は、通常0.01〜1wt%であり、
温度は通常50〜100℃の範囲である。
【0009】本発明の中和工程とは、分解工程で得られ
た分解液をアルカリ水溶液により中和し、油層と水層に
分離し、水層の一部を再度中和工程の入口へリサイクル
する工程である。中和のために用いられるアルカリとし
ては、ナトリウム、カリウム、リチウムなどの水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩などが使用できる。アルカリの使
用量は、水層のpHを通常5〜11、好ましくは6〜1
0に維持するのに十分な量である。温度は常温〜90
℃、油層/水層の重量比は0.5〜5が好ましい。中和
工程は、中和されるべき液層とアルカリ水溶液とを十分
に接触させ、その後油層と水層とを分離できればよく、
たとえば攪拌器付の槽、ラインミキサー、パイプミキサ
ーなどが用いられる。中和工程においては、排水量を減
少させるために、中和工程で使用後の水層の一部を再度
中和工程でリサイクル使用する。その結果、中和工程の
塩濃度は上昇するが、通常1〜30wt%の塩濃度に維
持することが好ましい。中和工程で得られた油層は次の
精製工程へ送られ、一方水層は、その一部を中和工程へ
リサイクルし、残りは廃棄される。
【0010】本発明の精製工程とは、中和工程で得られ
た油層を蒸留に付し、フェノールを主とする成分、メチ
ルエチルケトンを主とする成分及びsec−ブチルベン
ゼンを主成分とする留分に分離し、該sec−ブチルベ
ンゼンを主成分とする留分を酸化工程へリサイクルする
工程であり、通常複数の蒸留塔により実現される。本発
明の特徴は、精製工程から酸化工程へリサイクルされる
sec−ブチルベンゼンが、スチレン類を実質上含有し
ないsec−ブチルベンゼンであることにある。リサイ
クルされるsec−ブチルベンゼン中のスチレン類を
去する方法は次のとおりである。
【0011】すなわち、下記の水素還元工程及び分離工
程を置くことである。水素還元工程とは、精製工程で得
られたsec−ブチルベンゼンを主成分とする留分を水
素還元反応に付し、該成分に含まれるスチレン類をアル
キルベンゼン類に変換する工程である。水素還元反応の
条件は、たとえば次のとおりである。触媒としては、た
とえば白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウムなどの
通常の水素化触媒のうちから選ぶことができる。また、
上記の金属触媒を活性炭、シリカ、アルミナ、シリカア
ルミナ、活性白土などの担体に担持させたものを用いて
もよい。温度は通常常温〜140℃、好ましくは50〜
100℃である。該温度が高すぎる場合は反応の制御が
困難となることがあり、一方該温度が低すぎる場合は反
応の進行が遅くなることがあり、好ましくない。圧力は
通常5〜30kg/cm2G、好ましくは10〜20k
g/cm2Gである。該圧力が高すぎる場合は反応の制
御が困難となることがあり、一方圧力が低すぎる場合は
反応の進行が遅くなることがあり、好ましくない。水素
の供給量はスチレン類1モルあたり1モルでよいが、水
素還元反応を十分に進行させるために過剰に加えること
ができる。この場合の水素供給量は、スチレン類1モル
あたり通常1〜10モル、好ましくは4〜7モルであ
る。なお、過剰に加えた水素は、循環して再利用するこ
とができる。該供給量が過少の場合は水素還元反応の進
行が不十分となることがあり、一方該供給量が過多な場
合は循環する水素の量が過大となり、好ましくない。水
素還元反応における反応形態は特に限定されるものでは
なく、固定床、流動床又は懸濁床のいずれで行ってもよ
い。かくして、スチレン類はアルキルベンゼン類に変換
される。なお、α,β−ジメチルスチレン及びα−エチ
ルスチレンは、本工程により酸化反応工程の原料である
sec−ブチルベンゼンに変換され、該sec−ブチル
ベンゼンは次工程の蒸留を経て回収再利用される。
【0012】分離工程とは、水素還元工程で得られた水
素還元反応液を蒸留に付すことによりsec−ブチルベ
ンゼンを回収し、該sec−ブチルベンゼンを酸化工程
へリサイクルする工程である。蒸留の条件としては、s
ec−ブチルベンゼン主成分とする留出液が得られるよ
うに設定すればよく、たとえば塔底温度50〜150
℃、塔頂圧力1〜200torrがあげられる。
【0013】上記の水素還元工程及び分離工程を用いた
方法は、酸化反応におけるsec−ブチルベンゼンから
sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドへの単
位時間あたりの収量を低下させることなく、未反応のs
ec−ブチルベンゼンを酸化反応の原料として有効に再
利用でき、かつ酸化反応にとって好ましくない化合物で
あるα,β−ジメチルスチレン及びα−エチルスチレン
をsec−ブチルベンゼンに変換して酸化反応の原料と
して有効に利用でき、特に工業的実施上、極めて優れた
方法である。
【0014】本発明によると、精製工程からリサイクル
されるsec−ブチルベンゼン中に含有されるスチレン
類濃度(通常10wt%程度)は0.1重量%以下に維
持される。
【0015】
【実施例】次に、実施例により本発明を説明する。 実施例1 ガラス製容器に、スチレン類を含有しないsec−ブチ
ルベンゼン及びsec−ブチルベンゼンハイドロパーオ
キサイド溶液の合計100gを仕込んだ。なお、sec
−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドの濃度が2.
wt%となるように調整した。次に、溶液を激しく攪
拌しながら加熱し、液の温度が120℃に達した時点で
500ml/minの流量で空気を吹き込みながら7時
間酸化反応を実施した。反応後の反応液について分析し
た結果、sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイ
ド濃度11.9wt%を得た。
【0016】比較例1 酸化反応に供する液として、5wt%相当のα−エチル
スチレンを含有するsec−ブチルベンゼン及びsec
−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液を用いた
こと以外は実施例1と同様に行った。その結果、sec
−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイド濃度8.5w
t%を得た。すなわち、比較例においては、sec−ブ
チルベンゼンハイドロパーオキサイドの単位時間あたり
の収量が極めて低いことがわかる。
【0017】参考例1 平均粒子径3mmのアルミナに0.1重量%のパラジウ
ムを担持させた水素添加用触媒80mlを、垂直に配し
た内径28mmの反応管に充填し、温度80℃、圧力1
5kg/cm2 Gの条件下、水素添加反応を行った。原
料としては、sec−ブチルベンゼン59.6wt%、
アセトフェノン32.4wt%、α,β−ジメチルスチ
レン4.9wt%、α−エチルスチレン0.4wt%及
びその他の飽和炭化水素2.7wt%からなる混合溶液
を用い、水素対オレフィンのモル比は5.4とした。原
料供給量は160ml/hrとし、水素ガス120ml
/min(NTP換算)を反応管の下部から供給した。
60時間後の反応液の組成は、sec−ブチルベンゼン
64.8wt%、アセトフェノン32.83wt%、α
−メチルベンジルアルコール0.07wt%、α,β−
ジメチルスチレン0.05wt%、α−エチルスチレン
0.01wt%及びその他の飽和炭化水素2.7wt%
であった。すなわち、スチレン類の反応率は98.9%
であった。次に、上記で得た反応液を、ヘリパックを充
填した蒸留塔の中段に150g/hで供給した。蒸留圧
力は100mmHg、塔頂温度を105℃とし、塔頂か
ら100g/hで留出液を回収した。留出液の組成を分
析した結果、sec−ブチルベンゼン97.08wt
%、アセトフェノン2.31wt%、α−メチルベンジ
ルアルコール0.01wt%、α,β−ジメチルスチレ
ン0.04wt%、α−エチルスチレン0.01wt%
及びその他の飽和炭化水素0.50wt%であった。
【0018】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明により、s
ec−ブチルベンゼンを出発原料とするフェノールの製
造方法であって、sec−ブチルベンゼンからsec−
ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドへの単位時間あ
たりの収量を低下させることなく、未反応のsec−ブ
チルベンゼンを酸化反応の原料として有効に再利用でき
るという、優れたフェノール及びメチルエチルケトンの
製造方法を提供することができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C07C 49/10 C07C 49/10 407/00 407/00 409/08 409/08 // C07B 61/00 300 C07B 61/00 300 (72)発明者 碓氷 昌宏 千葉県市原市姉崎海岸5の1 住友化学 工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭53−95928(JP,A) 特開 昭63−252547(JP,A) 特開 昭61−5034(JP,A) 特開 昭56−103124(JP,A) 特公 昭32−1321(JP,B1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 27/00 C07C 37/08 C07C 39/02 - 39/11 C07C 45/53 C07C 49/04 - 49/185

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記の工程を含むsec−ブチルベンゼン
    からフェノール及びメチルエチルケトンを製造する方法
    において、スチレン類を実質上含有しないsec−ブチ
    ルベンゼンを酸化工程へリサイクルすることを特徴とす
    るフェノール及びメチルエチルケトンの製造方法であっ
    て、精製工程からリサイクルされるsec−ブチルベン
    ゼン中に含有されるスチレン類濃度が0.1重量%以下
    であるフェノール及びメチルエチルケトンの製造方法。 酸化工程:sec−ブチルベンゼンを酸化してsec−
    ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドを主成分とする
    酸化反応液を得る工程 濃縮工程:酸化反応液を蒸留により濃縮し、塔底部から
    sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサイドを主成
    分とする塔底液を得、塔頂部からsec−ブチルベンゼ
    ンを主成分とする留出液を得、該留出液を酸化工程へリ
    サイクルする工程 分解工程:濃縮工程の塔底液を酸性触媒と接触させるこ
    とにより、sec−ブチルベンゼンハイドロパーオキサ
    イドをフェノールとメチルエチルケトンに分解する工程 中和工程:分解工程で得られた分解液をアルカリ水溶液
    により中和し、油層と水層に分離し、水層の一部を再度
    中和工程の入口へリサイクルする工程 精製工程:中和工程で得られた油層を蒸留に付し、フェ
    ノールを主とする成分、メチルエチルケトンを主とする
    成分及びsec−ブチルベンゼンを主成分とする留分に
    分離し、該sec−ブチルベンゼンを主成分とする留分
    を酸化工程へリサイクルする工程水素還元工程:精製工程で得られたsec−ブチルベン
    ゼンを主成分とする留分を水素還元反応に付し、該留分
    中に含まれるスチレン類をアルキルベンゼン類に変換す
    る工程 分離工程:水素還元工程で得られた水素還元反応液を蒸
    留に付すことによりsec−ブチルベンゼンを回収し、
    該sec−ブチルベンゼンを酸化工程へリサイクルする
    工程
  2. 【請求項2】水素還元工程が、水素化触媒の存在下、常
    温〜140℃の温度範囲、5〜30kg/cm2Gの圧
    力範囲で水素還元を行う請求項2記載の方法。
JP03344977A 1991-12-26 1991-12-26 フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法 Expired - Fee Related JP3089779B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03344977A JP3089779B2 (ja) 1991-12-26 1991-12-26 フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法
TW081108772A TW226011B (ja) 1991-12-26 1992-11-03
CA002082688A CA2082688C (en) 1991-12-26 1992-11-12 Process for producing phenol and methyl ethyl ketone
US07/995,971 US5298667A (en) 1991-12-26 1992-12-23 Process for producing phenol and methyl ethyl ketone
EP92121983A EP0548986B1 (en) 1991-12-26 1992-12-24 Process for producing phenol and methyl ethyl ketone
DE69209030T DE69209030T2 (de) 1991-12-26 1992-12-24 Verfahren zur Herstellung von Phenol und Methylethylketon

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP03344977A JP3089779B2 (ja) 1991-12-26 1991-12-26 フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05178772A JPH05178772A (ja) 1993-07-20
JP3089779B2 true JP3089779B2 (ja) 2000-09-18

Family

ID=18373442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP03344977A Expired - Fee Related JP3089779B2 (ja) 1991-12-26 1991-12-26 フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3089779B2 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI376361B (en) * 2004-08-13 2012-11-11 Exxonmobil Chem Patents Inc Process for producing phenol and methyl ethyl ketone
US7834218B2 (en) * 2006-02-14 2010-11-16 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Process for producing phenol and methyl ethyl ketone
TW200744986A (en) * 2006-02-14 2007-12-16 Exxonmobil Chemical Patents Inc Process for producing phenol and methyl ethyl ketone

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05178772A (ja) 1993-07-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0548986B1 (en) Process for producing phenol and methyl ethyl ketone
EP0523728B1 (en) Continuous process for preparing dimethyl carbonate
CA2105637C (en) Two-stage cleavage of cumene hydroperoxide
WO2001062692A1 (en) Process for preparing cumene which is used in the preparation of phenol
JPH01146837A (ja) シクロヘキセノンの脱水素方法
JP2774607B2 (ja) フェノールの製造方法およびその製造時の副生アセトンからプロピレンを得る方法
JP2979232B2 (ja) 過酸化水素の製法
CS277195B6 (en) Cyclohexanol and/or cyclohexanone production method
JP3089779B2 (ja) フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法
JP4651612B2 (ja) 高純度フェノールの製造方法
JP5185623B2 (ja) 固定床反応器内でのベンゼンからフェノールの連続製造方法
EP0256479A2 (en) Process for the catalytic transhalogenation of a poly-iodo-benzene
US4814511A (en) Working up cyclohexyl hydroperoxide containing reaction mixtures
JP2795360B2 (ja) 炭酸ジメチルの連続的製法
JPS61238743A (ja) シクロヘキサノール、シクロヘキサン及びシクロヘキシルヒドロペルオキシドを含有する反応混合物を後処理する方法
JP3225605B2 (ja) フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法
US4994625A (en) Production of hydrogen peroxide
US5041680A (en) Production of hydrogen peroxide
JPS62164635A (ja) フエノ−ル蒸留残渣からの有用物質の回収方法
JP2005314269A (ja) ジヒドロキシベンゼンとジイソプロペニルベンゼンの併産方法
JP2003183265A (ja) プロピレンオキサイドの精留塔
JPH05229972A (ja) フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法
JP2000001458A (ja) メタクリル酸メチルの製造方法
JPH05178773A (ja) フェノール及びメチルエチルケトンの製造方法
KR100231625B1 (ko) 페놀 및 메틸 에틸 케톤의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080721

Year of fee payment: 8

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D05

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090721

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100721

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110721

Year of fee payment: 11

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees