JP3086663B2 - ダイヤモンドロータリードレッサ及びその製造方法 - Google Patents

ダイヤモンドロータリードレッサ及びその製造方法

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正明 山中
利夫 福西
幸生 清水
康祐 三井
由夫 古宇田
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大阪ダイヤモンド工業株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研削盤等に取り付
けられた、WA、GC等の在来砥石又はCBN砥石等を
高精度にドレッシングするのに利用されるダイヤモンド
ロータリードレッサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来のダイヤモンドロータリードレッサ
としては、例えば公開特許公報昭59−47162号公
報に開示されているような、ダイヤモンド粒を外周に一
層固着したものが良く知られている。
【0003】又別の例として、特許公報平1−2211
5号公報に開示されているものが知られている。これら
のような、作用幅が広く、高精度にWA、GC等の在来
砥石又はCBN砥石等をドレッシングするのに用いられ
るダイヤモンドロータリードレッサにおいては、ダイヤ
モンド粒を密に固着し、ダイヤモンド粒の先端部をツル
ーイングして平坦面とし、精度を向上させる手段が用い
られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このダイヤ
モンド粒の平坦面が形成されることにより、ダイヤモン
ドロータリードレッサの切れ味が低下するため、WA、
GC等の在来砥石又はCBN砥石等をドレッシングする
際のドレッシング抵抗が大きく、そのため振動を発生
し、その振動が整形精度に悪影響を及ぼす等の問題点が
あった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
問題点を解決し、ドレッシング抵抗が低く、高精度、高
能率なドレッシングのできるダイヤモンドロータリード
レッサを提供しようとするもので、その特徴の第一は、
ダイヤモンドロータリードレッサに固着されたダイヤモ
ンド粒に溝が形成されていることである。
【0006】即ち該ダイヤモンドロータリードレッサの
ダイヤモンド層にボンド材の表面と同一平面に又は突出
して固着されたダイヤモンド粒の表面に、レーザービー
ムなどにより溝を形成し、ダイヤモンド粒の砥面を分割
したことである。その具体的な特徴は実施例の項におい
て述べる。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態については、
実施例の項で説明する。
【0008】
【実施例】図1は実施例1、2共通のダイヤモンドドレ
ッサの外観形状を示す斜視図で、外径Dが80mm、ダ
イヤモンド層の幅Tは25mmのストレート型である。
【0009】実施例1 図2は実施例1のダイヤモンドロータリードレッサにお
けるダイヤモンド層の断面の形状を示す断面模式図で、
1は#50/60(260〜320μm)のダイヤモン
ド粒、2は溝、3はボンド材となるニッケルメッキ層、
4は低融点合金で形成した接合層、5は鋼製の基台、6
はニッケルメッキ層表面に設けた溝である。
【0010】なお、上記溝2は、ダイヤモンド層表面を
ダイヤモンド砥石により半径で3μmツルーイングした
後、下記条件でレーザービームを照射して形成した。 使用機 YAGレーザー 照射方向 ダイヤモンド層の接線方向 出力 40W 照射により加工された溝の形状は次の通りである。 溝ピッチ 0.5mmのネジ状の溝 溝の開口幅 0.03〜0.08mm 溝の深さ 0.03mm
【0011】上記実施例1のドレッサの性能を確認する
ため、横軸平面研削盤に取り付けた在来砥石を実施例1
のドレッサによって下記条件でドレッシングした。 研削盤 岡本工作機械製横軸平面研削盤 ダイヤモンドロータリードレッサ 大阪ダイヤ製駆動装置SGS−50型 駆動装置 ドレッシングする在来砥石 外径φ300mm 幅10mm の仕様 WA80K ドレッシング条件 周速度比 0.28(ダウンドレス) 切込速度 1.9mm/min 切込量 4mm
【0012】上記ドレッシング時の抵抗値を、溝加工し
ていない従来のダイヤモンドロータリードレッサによる
ものと比較した。溝なしの従来のダイヤモンドロータリ
ードレッサのドレッシング抵抗は、法線方向が4.0N
/10mm、接線方向が0.5N/10mmであった。
これに対し実施例1のダイヤモンドロータリードレッサ
のドレッシング抵抗は、第1表に示すように法線方向が
2.5N/10mm、接線方向が0.25N/10mm
であった。
【0013】
【表1】
【0014】このように、本発明のレーザーにて溝加工
を施したダイヤモンドロータリードレッサは、従来品に
比べドレッシング時の抵抗が少なくとも40%〜50%
低減し、振動を発生することなくスムーズなドレッシン
グが可能であった。またドレッシングされた砥石の精度
も極めて良好であった。
【0015】実施例2 図3は実施例2のダイヤモンドロータリードレッサにお
けるダイヤモンド層の形状を示す断面の一部の模式図で
1はダイヤモンド粒、2は溝、5は基台、7はAg−C
u−Ti系のロウ材よりなるボンド材である。この実施
例2におけるダイヤモンド粒1の粒径、溝2の形状、基
台5の形状、材質は実施例1と同様で、異なる点は基台
5にダイヤモンド粒1を直接ロウ材により固着したこと
である。
【0016】この固着は、ペースト状のロウ材を基台5
に塗布しておき、ダイヤモンド粒1をハンドセットして
炉にいれ、加熱してロウ材を溶融後冷却して行う。従っ
て実施例1においては、ダイヤモンド粒の露出面はボン
ド材表面と殆ど同一であるが、本件においてはボンド材
表面より突出している。その突出先端をツルーイングに
よって平らにし、その平坦面上に実施例1と同様なレー
ザービームを照射して溝を形成する。場合によってはツ
ルーイングを省略することもできる。
【0017】このロウ付型のダイヤモンドロータリード
レッサは、上記のようにダイヤモンド粒の突出量が実施
例1のダイヤモンドロータリードレッサに比べて大き
く、砥粒空間が極めて大となるので、ドレッシング時の
切り粉の排除が円滑に行われ、ドレッシング抵抗が低い
だけでなく、目詰まりの発生が無い優れた特徴を有す
る。また溝2の形成により、各ダイヤモンド粒1の刃先
端は複数個に増大されることとなり、所謂有効砥粒数が
増加されることになるので、切れ味、精度共に向上され
る。因みに、実施例2によったドレッシングの場合、そ
の所要時間は従来品による場合より30%程度以上短縮
することができた。
【0018】実施例2においてロウ材としては用いたA
g−Cu−Ti系の活性化ロウ材は、ダイヤモンドと基
材となる鋼製台金とを容易に強く固着し得る点で秀れて
いるが、その硬度はHv100程度で低いため、ドレッ
シング時にはダイヤモンド粒に摩損を生じることはなく
ても切り粉の接触によりこのロウ材が表面から次々と侵
食されて、ついにはダイヤモンドを脱落させてしまいダ
イヤモンドロータリードレッサの寿命を急速に縮める心
配がある。
【0019】そこでこのロウ材が切り粉から侵食される
のを防止するため、ロウ材中に硬質粒子を含有させてロ
ウ材の耐摩耗性を上げることが大変有効である。硬質粒
子にはロータリードレッサに使用されるダイヤモンド粒
の1/2以下の粒径のダイヤモンド、CBN、SiC砥
粒、Al203砥粒、WC粒子等の内一種類以上のもの
を含有させることにより侵食防止に大きな効果が期待で
きる。これらの硬質粒子の含有割合は、ロウ材体積に対
し10〜50%の範囲で用いられ、30〜50%の範囲
がより好ましい。
【0020】即ち本発明は、前記実施例1のようにニッ
ケルメッキ層を反転メッキ法によって形成し、これに溝
を設けることによっても、またメタルボンドとして知れ
られる金属粉、合金粉を焼結してボンド材としたものに
溝を設けることによっても実施できるが、上記ロウ材で
固着したロウ付型のものが最も高精度でかつドレッシン
グ抵抗が低い。しかも長寿命でその製作時間は短縮可能
と言う期待を持つことができる。
【0021】
【発明の効果】以上各項で述べたように、本発明のダイ
ヤモンドロータリードレッサによれば、ドレッシング時
の抵抗値が低減でき、ドレッシング時の振動の発生を防
止して、ドレッシング精度を一層向上し、高能率なドレ
ッシング作業をすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例ダイヤモンドロータリードレッ
サの外観形状を示す斜視図である。
【図2】実施例1のダイヤモンドロータリードレッサの
ダイヤモンド層の断面を示す断面の一部の模式図であ
る。
【図3】実施例2のダイヤモンドロータリードレッサの
ダイヤモンド層の断面を示す断面の一部の模式図であ
る。
【符号の説明】
1 ダイヤモンド粒 2 ダイヤモンド粒の溝 3 ニッケルメッキ層 4 接合層 5 基台 6 ロウ材 7 ニッケルメッキ層の溝
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 清水 幸生 大阪府堺市鳳北町2丁80番地 大阪ダイ ヤモンド工業株式会社内 (72)発明者 三井 康祐 大阪府堺市鳳北町2丁80番地 大阪ダイ ヤモンド工業株式会社内 (72)発明者 古宇田 由夫 大阪府堺市鳳北町2丁80番地 大阪ダイ ヤモンド工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−257772(JP,A) 特開 平7−96461(JP,A) 特開 平7−299751(JP,A) 特開 平4−210381(JP,A) 特開 平8−206960(JP,A) 実開 昭58−102047(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B24D 3/00 310 B24D 3/00 320 B24B 53/14 B24D 3/00 330

Claims (5)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ダイヤモンド粒をボンド材で結合してな
    るダイヤモンド層を有するダイヤモンドロータリードレ
    ッサにおいて、 該ダイヤモンド粒のダイヤモンド層露出表面が、レーザ
    ービームを照射して形成された溝によって分割されてい
    ることを特徴とするダイヤモンドロータリードレッサ。
  2. 【請求項2】 ダイヤモンド粒のダイヤモンド層露出
    、ボンド材の露出表面より突出していることを特徴
    とする請求項1記載のダイヤモンドロータリードレッ
    サ。
  3. 【請求項3】 ダイヤモンド層のボンド材の露出表面に
    も溝が形成されていることを特徴とする請求項1または
    2記載のダイヤモンドロータリードレッサ。
  4. 【請求項4】 ボンド材が、ロウ材またはロウ材に硬質
    粒子を含有したロウ材によって形成されていることを特
    徴とする請求項1、2または3記載のダイヤモンドロー
    タリードレッサ。
  5. 【請求項5】 ツルーイングによって、ダイヤモンド粒
    表面が平坦に形成されていることを特徴とする請求項
    1、2、3または4記載のダイヤモンドロータリードレ
    ッサ。
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