JP3079341B2 - 蛍光ｘ線膜厚計 - Google Patents
蛍光ｘ線膜厚計Info
- Publication number
- JP3079341B2 JP3079341B2 JP05047017A JP4701793A JP3079341B2 JP 3079341 B2 JP3079341 B2 JP 3079341B2 JP 05047017 A JP05047017 A JP 05047017A JP 4701793 A JP4701793 A JP 4701793A JP 3079341 B2 JP3079341 B2 JP 3079341B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- video signal
- conversion circuit
- image
- frame memory
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- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、Ｘ線を利用した、金
属メッキ等の膜厚測定に関する。
属メッキ等の膜厚測定に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、試料の一次Ｘ線照射位置を観察す
るため、以下の構造がある。図２に示すように、一次Ｘ
線２を平行ビームにし、絞るためのコリメータ５と試料
表面を観察するための傾斜したミラー４を一体にする。
この一体のコリメータ５を、一次Ｘ線２を試料に照射し
ないで試料表面を観察する場合は、図２の（ａ）の状態
から左側にずらし（スライドし）一次Ｘ線のパス上に試
料画像をカメラに導くためのミラーが来るようにする。
るため、以下の構造がある。図２に示すように、一次Ｘ
線２を平行ビームにし、絞るためのコリメータ５と試料
表面を観察するための傾斜したミラー４を一体にする。
この一体のコリメータ５を、一次Ｘ線２を試料に照射し
ないで試料表面を観察する場合は、図２の（ａ）の状態
から左側にずらし（スライドし）一次Ｘ線のパス上に試
料画像をカメラに導くためのミラーが来るようにする。
【０００３】また他に、図３に示すように、測定中に試
料画像のモニタを可能とするために、コリメータ５と測
定試料の間に傾斜させたミラー４を設置することが必要
であった。この場合ミラー４には、一次Ｘ線２が通過す
るための孔４ａを設ける。
料画像のモニタを可能とするために、コリメータ５と測
定試料の間に傾斜させたミラー４を設置することが必要
であった。この場合ミラー４には、一次Ｘ線２が通過す
るための孔４ａを設ける。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の図２の
方法では、一次Ｘ線を試料に照射して、試料の成分また
は膜厚を測定している最中は、ミラー４を移動しなけれ
ばならないために、試料画像をモニタすることができな
い。
方法では、一次Ｘ線を試料に照射して、試料の成分また
は膜厚を測定している最中は、ミラー４を移動しなけれ
ばならないために、試料画像をモニタすることができな
い。
【０００５】また、図３の方法では、コリメータ５を測
定試料に近づけることが困難で、測定試料によっては誤
ってミラーを破損する恐れもある。コリメータ５を測定
試料になるべく近づけて、一次Ｘ線２のビームの広がり
及び強度の低下を抑えることにより、測定精度を向上さ
せることと、測定中に試料画像をモニタしたいという要
求を同時に実現したいという課題があった。
定試料に近づけることが困難で、測定試料によっては誤
ってミラーを破損する恐れもある。コリメータ５を測定
試料になるべく近づけて、一次Ｘ線２のビームの広がり
及び強度の低下を抑えることにより、測定精度を向上さ
せることと、測定中に試料画像をモニタしたいという要
求を同時に実現したいという課題があった。
【０００６】そこで、この発明の目的は、従来のこのよ
うな課題を解決するため、測定中であっても測定試料画
像をモニタすることができ、かつコリメータと測定試料
との間にミラーを設置しなくても良い方法を得ることで
ある。
うな課題を解決するため、測定中であっても測定試料画
像をモニタすることができ、かつコリメータと測定試料
との間にミラーを設置しなくても良い方法を得ることで
ある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、この発明は、一次Ｘ線を絞るコリメータと、試料画
像をカメラに導くためのミラーと、カメラからの映像信
号をフレームメモリに取り込むためのＡＤ変換回路と、
画像情報を蓄積するためのフレームメモリと、フレーム
メモリの情報を映像信号に変換するＤＡ変換回路と、表
示デバイスと、表示デバイスへの信号を切り替える切り
替え器と、画像データの加工及びその他の制御を行うＣ
ＰＵ回路からなる蛍光Ｘ線膜厚計において、図２に示す
ようなタイプのコリメータ及びミラーを使用してＸ線ビ
ームの広がりを抑制し、かつ測定直前の試料画像をフレ
ームメモリに記憶しておき、測定中にその試料画像のモ
ニタを可能にした。また、表示している試料画像がリア
ルタイムの画像であるか否かを判別するといった目的の
ために、フレームメモリに読み込んだ画像データの修
正、Ｘ線の照射位置のマーキングなどの処理がソフトウ
エアにより可能なようにした。
に、この発明は、一次Ｘ線を絞るコリメータと、試料画
像をカメラに導くためのミラーと、カメラからの映像信
号をフレームメモリに取り込むためのＡＤ変換回路と、
画像情報を蓄積するためのフレームメモリと、フレーム
メモリの情報を映像信号に変換するＤＡ変換回路と、表
示デバイスと、表示デバイスへの信号を切り替える切り
替え器と、画像データの加工及びその他の制御を行うＣ
ＰＵ回路からなる蛍光Ｘ線膜厚計において、図２に示す
ようなタイプのコリメータ及びミラーを使用してＸ線ビ
ームの広がりを抑制し、かつ測定直前の試料画像をフレ
ームメモリに記憶しておき、測定中にその試料画像のモ
ニタを可能にした。また、表示している試料画像がリア
ルタイムの画像であるか否かを判別するといった目的の
ために、フレームメモリに読み込んだ画像データの修
正、Ｘ線の照射位置のマーキングなどの処理がソフトウ
エアにより可能なようにした。
【０００８】
【作用】上記のように構成された蛍光Ｘ線膜厚計におい
ては、測定を行っていない状態、即ち一次Ｘ線の光軸上
の本来コリメータのあるべき位置にミラーが位置してい
る状態の時、サンプルの像はカメラに入力される。カメ
ラからの映像信号は、ＡＤ変換器を介して、フレームメ
モリに蓄えられる。同時に、カメラからの信号は、直接
表示デバイスにおくられる。このときＣＰＵは信号切り
替え器によって、カメラからの信号を直接表示デバイス
に表示するようにする。試料測定の時は、信号切り替え
器により、フレームメモリの画像が表示デバイスに送ら
れるように信号切り替え器を動作させ、コリメータを一
次Ｘ線の光軸上に移動し測定を開始する。フレームメモ
リの情報は、測定開始直前の試料画像であり、測定中に
試料を故意に移動することはないので測定中の試料画像
モニタとしての機能を果たすことができる。
ては、測定を行っていない状態、即ち一次Ｘ線の光軸上
の本来コリメータのあるべき位置にミラーが位置してい
る状態の時、サンプルの像はカメラに入力される。カメ
ラからの映像信号は、ＡＤ変換器を介して、フレームメ
モリに蓄えられる。同時に、カメラからの信号は、直接
表示デバイスにおくられる。このときＣＰＵは信号切り
替え器によって、カメラからの信号を直接表示デバイス
に表示するようにする。試料測定の時は、信号切り替え
器により、フレームメモリの画像が表示デバイスに送ら
れるように信号切り替え器を動作させ、コリメータを一
次Ｘ線の光軸上に移動し測定を開始する。フレームメモ
リの情報は、測定開始直前の試料画像であり、測定中に
試料を故意に移動することはないので測定中の試料画像
モニタとしての機能を果たすことができる。
【０００９】
【実施例】以下に、この発明の実施例を図面に基づいて
説明する。図１において、図１ａは、本願発明のコリメ
ータ部分の側面断面図とブロック図である。Ｘ線管球３
は試料６に照射する一次Ｘ線２を発生する。Ｘ線管球３
からの一次Ｘ線２は、下に置かれた試料６との間にコリ
メータ５が配置されている。コリメータ５は、一次Ｘ線
を平行ビームにかつ絞るために備えている。コリメータ
５には光を反射するためのミラー４が図１の手前側に備
えられている。なお、コリメータ５とミラー４とは、図
２の構造と同じである。
説明する。図１において、図１ａは、本願発明のコリメ
ータ部分の側面断面図とブロック図である。Ｘ線管球３
は試料６に照射する一次Ｘ線２を発生する。Ｘ線管球３
からの一次Ｘ線２は、下に置かれた試料６との間にコリ
メータ５が配置されている。コリメータ５は、一次Ｘ線
を平行ビームにかつ絞るために備えている。コリメータ
５には光を反射するためのミラー４が図１の手前側に備
えられている。なお、コリメータ５とミラー４とは、図
２の構造と同じである。
【００１０】試料を観察する場合、コリメータ５とミラ
ー４を図１の紙面に対して裏面側にスライドさせる。そ
して、一次Ｘ線２が試料６に照射する位置の画像を、ミ
ラー４にて反射し、その画像をカメラ１にて観察する。
カメラ１にて観察された試料６の画像の信号は、Ａ／Ｄ
変換器８にてＡ／Ｄ変換され、フレームメモリ９にて画
像として記憶される。フレームメモリ９に記憶された画
像信号は、Ｄ／Ａ変換器１０によりＤ／Ａ変換され、信
号切り替え器１２を介して、表示デバイス１１に送ら
れ、画像は表示デバイス１１にて表示される。
ー４を図１の紙面に対して裏面側にスライドさせる。そ
して、一次Ｘ線２が試料６に照射する位置の画像を、ミ
ラー４にて反射し、その画像をカメラ１にて観察する。
カメラ１にて観察された試料６の画像の信号は、Ａ／Ｄ
変換器８にてＡ／Ｄ変換され、フレームメモリ９にて画
像として記憶される。フレームメモリ９に記憶された画
像信号は、Ｄ／Ａ変換器１０によりＤ／Ａ変換され、信
号切り替え器１２を介して、表示デバイス１１に送ら
れ、画像は表示デバイス１１にて表示される。
【００１１】Ａ／Ｄ変換器８とフレームメモリ９とＤ／
Ａ変換器１０と信号切り替え器１２とはそれぞれＣＰＵ
７に接続されており、それらの操作は制御される。ここ
で、試料６の表面に一次Ｘ線２を照射して、試料６の成
分またはコーティングの膜厚を測定するためには、現在
ミラー４のある位置にコリメータ５を移動させる必要が
あるが、移動させるとこのままでは試料６の表面の画像
は消えてしまう。そこで、コリメータ５を移動させる前
に、まずフレームメモリ９への画像の取り込みを中止
し、フレームメモリ９に記憶された画像データに適当な
修正を施した後、信号切り替え器１２によりフレームメ
モリ９に記憶された画像データがＤ／Ａ変換器１０を介
して表示デバイス１１に表示されるようにする。図４に
示す測定前の試料画像１３に比較して、測定中の試料画
像１４では図５に示すようにＸ線の照射位置を強調する
ために、Ｘ線ビームマーク１５をソフト的にフレームメ
モリを修正することによって表示している。
Ａ変換器１０と信号切り替え器１２とはそれぞれＣＰＵ
７に接続されており、それらの操作は制御される。ここ
で、試料６の表面に一次Ｘ線２を照射して、試料６の成
分またはコーティングの膜厚を測定するためには、現在
ミラー４のある位置にコリメータ５を移動させる必要が
あるが、移動させるとこのままでは試料６の表面の画像
は消えてしまう。そこで、コリメータ５を移動させる前
に、まずフレームメモリ９への画像の取り込みを中止
し、フレームメモリ９に記憶された画像データに適当な
修正を施した後、信号切り替え器１２によりフレームメ
モリ９に記憶された画像データがＤ／Ａ変換器１０を介
して表示デバイス１１に表示されるようにする。図４に
示す測定前の試料画像１３に比較して、測定中の試料画
像１４では図５に示すようにＸ線の照射位置を強調する
ために、Ｘ線ビームマーク１５をソフト的にフレームメ
モリを修正することによって表示している。
【００１２】
【発明の効果】この発明は、以上説明したようにコリメ
ータと測定試料との間にミラーを設けない構造の蛍光Ｘ
線膜厚計に、試料画像を記憶するためのフレームメモリ
を付加した構成としたので、Ｘ線のビームの広がり及び
強度の低下を抑止し、かつ測定中であっても試料画像を
モニタすることが可能であるという効果がある。さらに
試料画像に対する画像処理により、測定状態に関するモ
ニタ機能が充実できるという効果がある。
ータと測定試料との間にミラーを設けない構造の蛍光Ｘ
線膜厚計に、試料画像を記憶するためのフレームメモリ
を付加した構成としたので、Ｘ線のビームの広がり及び
強度の低下を抑止し、かつ測定中であっても試料画像を
モニタすることが可能であるという効果がある。さらに
試料画像に対する画像処理により、測定状態に関するモ
ニタ機能が充実できるという効果がある。
【図１】本発明の実施例を示したコリメータ部の側面図
とブロック図である。
とブロック図である。
【図２】コリメータと測定試料との間にミラーを置かな
いタイプの従来の方法の正面図と側面図である。
いタイプの従来の方法の正面図と側面図である。
【図３】測定中に試料のモニタができるタイプの従来の
方法の正面図と側面図である。
方法の正面図と側面図である。
【図４】カメラが観察した試料表面の画像の模式図であ
る。
る。
【図５】フレームメモリの画像を示した試料表面の画像
の模式図である。
の模式図である。
１ カメラ ２ 一次Ｘ線 ３ Ｘ線管球 ４ ミラー ５ コリメータ ６ 測定試料 ７ ＣＰＵ ８ Ａ／Ｄ変換器 ９ フレームメモリ １０ Ｄ／Ａ変換器 １１ 表示デバイス １２ 信号切り替え器 １３ 測定前の試料画像 １４ 測定中の試料画像 １５ Ｘ線ビームマーク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01B 15/00 - 15/08 G01N 23/00 - 23/227
Claims (3)
- 【請求項１】 一次Ｘ線を絞るコリメタートと、試料画
像をカメラに導くためのミラーと、前記カメラからの映
像信号をＡ／Ｄ変換するＡＤ変換回路と、前記ＡＤ変換
回路からの画像情報を蓄積するためのフレームメモリ
と、前記フレームメモリの情報を映像信号に変換するＤ
Ａ変換回路と、前記カメラからの映像信号、あるいは前
記ＤＡ変換回路からの映像信号を受けてどちらか一方の
試料画像を選択的に表示する表示デバイスと、前記表示
デバイスに入力される前記二つの映像信号を選択的に切
り替える信号切り替え器と、前記各回路、フレームメモ
リ、信号切り替え器の操作の制御を行うＣＰＵ回路とか
らなり、試料測定中に、前記信号切り替え器により前記
ＤＡ変換回路からの映像信号に切り替えることにより、
前記表示デバイスで試料画像をモニタできることを特徴
とする蛍光Ｘ線膜厚計。 - 【請求項２】 試料を照射する一次Ｘ線を絞るコリメー
タと、試料画像をカメラに導くためのミラーと、前記カ
メラからの映像信号をＡ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換回路
と、前記Ａ／Ｄ変換回路からの画像情報を蓄積するため
のフレームメモリと、前記フレームメモリの画像情報を
映像信号に変換するＤ／Ａ変換回路と、前記カメラから
の映像信号あるいは前記Ｄ／Ａ変換回路からの映像信号
を受け試料画像を表示する表示でデバイスと、前記表示
デバイスへの映像信号を切り替える信号切り替え器と、
前記各回路、フレームメモリ、信号切り替え器の操作を
制御するＣＰＵ回路とからなり、試料画像をカメラから
の映像信号を通して表示デバイスに表示した後、試料測
定時には、前記コリメータを試料位置上に移動させると
共に、前記信号切り替え器により映像信号を切り替え、
前記Ｄ／Ａ変換回路からの映像信号を前記表示デバイス
に表示させることを特徴とする蛍光Ｘ線膜厚計。 - 【請求項３】 前記フレームメモリに読み込んだデータ
の修正が、ソフトウェアにより行えることを特徴とする
請求項１または請求項２記載の蛍光Ｘ線膜厚計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05047017A JP3079341B2 (ja) | 1993-03-08 | 1993-03-08 | 蛍光ｘ線膜厚計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP05047017A JP3079341B2 (ja) | 1993-03-08 | 1993-03-08 | 蛍光ｘ線膜厚計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06258061A JPH06258061A (ja) | 1994-09-16 |
| JP3079341B2 true JP3079341B2 (ja) | 2000-08-21 |
Family
ID=12763414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05047017A Expired - Lifetime JP3079341B2 (ja) | 1993-03-08 | 1993-03-08 | 蛍光ｘ線膜厚計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3079341B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4777539B2 (ja) * | 2001-05-29 | 2011-09-21 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 複合ｘ線分析装置 |
| JP4731749B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2011-07-27 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置 |
| WO2018110260A1 (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | 株式会社堀場製作所 | 放射線検出装置 |
-
1993
- 1993-03-08 JP JP05047017A patent/JP3079341B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06258061A (ja) | 1994-09-16 |
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