JP3059078B2 - 多価エーテルアルコール誘導体、及びその製造方法 - Google Patents
多価エーテルアルコール誘導体、及びその製造方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は極性油、有機溶剤、潤滑
剤、合成潤滑油、冷凍機油等として、又これらの製造中
間体として有用な多価エーテルアルコール誘導体及びそ
の製造方法、並びに該多価エーテルアルコール誘導体を
基油とする冷凍機作動流体用組成物に関する。
剤、合成潤滑油、冷凍機油等として、又これらの製造中
間体として有用な多価エーテルアルコール誘導体及びそ
の製造方法、並びに該多価エーテルアルコール誘導体を
基油とする冷凍機作動流体用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】最
近、オゾン層保護のため冷蔵庫やカークーラーに使用さ
れているジクロロジフルオロメタン(CFC12)が使
用規制され、将来的には使用禁止されることが決まっ
た。また、続いてルームエアコン等に使用されているク
ロロジフルオロメタン(HCFC22)の使用も規制さ
れようとしている。そのため、このCFC12やHCF
C22の代替品として、オゾン層を破壊することのない
ハイドロフルオロカーボン、例えば 1,1,1,2−テトラフ
ルオロエタン(HFC134a)やジフルオロメタン
(HFC32)やペンタフルオロエタン(HFC12
5)が開発されている。
近、オゾン層保護のため冷蔵庫やカークーラーに使用さ
れているジクロロジフルオロメタン(CFC12)が使
用規制され、将来的には使用禁止されることが決まっ
た。また、続いてルームエアコン等に使用されているク
ロロジフルオロメタン(HCFC22)の使用も規制さ
れようとしている。そのため、このCFC12やHCF
C22の代替品として、オゾン層を破壊することのない
ハイドロフルオロカーボン、例えば 1,1,1,2−テトラフ
ルオロエタン(HFC134a)やジフルオロメタン
(HFC32)やペンタフルオロエタン(HFC12
5)が開発されている。
【0003】しかし、ハイドロフルオロカーボンはCF
C12やHCFC22に比べて極性が高いため、冷凍機
油として従来より一般に使用されているナフテン系鉱油
やポリα−オレフィン、アルキルベンゼン等の潤滑油を
用いると、これらの潤滑油とハイドロフルオロカーボン
との相溶性が悪く、低温において二層分離を起こす。二
層分離を起こすと、オイル戻りが悪くなり、熱交換器と
しての凝縮器や蒸発器の付近に厚い油膜が付着して伝熱
を妨げ、また潤滑不良や起動時の発泡の発生等の重要欠
陥の原因となる。そのため、従来の冷凍機油はこれらの
新しい冷媒雰囲気下での冷凍機油として使用することが
できない。
C12やHCFC22に比べて極性が高いため、冷凍機
油として従来より一般に使用されているナフテン系鉱油
やポリα−オレフィン、アルキルベンゼン等の潤滑油を
用いると、これらの潤滑油とハイドロフルオロカーボン
との相溶性が悪く、低温において二層分離を起こす。二
層分離を起こすと、オイル戻りが悪くなり、熱交換器と
しての凝縮器や蒸発器の付近に厚い油膜が付着して伝熱
を妨げ、また潤滑不良や起動時の発泡の発生等の重要欠
陥の原因となる。そのため、従来の冷凍機油はこれらの
新しい冷媒雰囲気下での冷凍機油として使用することが
できない。
【0004】また、潤滑性についてもCFC12やHC
FC22においては、それが一部分解して塩化水素を発
生させ、この塩化水素が摩擦面と反応して、塩化物皮膜
を形成して潤滑性を良好にするという効果があった。し
かしながら、塩素原子を含んでいないハイドロフルオロ
カーボンにはこのような効果が期待できないため、ハイ
ドロフルオロカーボンと共に使用する冷凍機油には従来
のものより一層優れた潤滑性が求められる。
FC22においては、それが一部分解して塩化水素を発
生させ、この塩化水素が摩擦面と反応して、塩化物皮膜
を形成して潤滑性を良好にするという効果があった。し
かしながら、塩素原子を含んでいないハイドロフルオロ
カーボンにはこのような効果が期待できないため、ハイ
ドロフルオロカーボンと共に使用する冷凍機油には従来
のものより一層優れた潤滑性が求められる。
【0005】さらにハイドロフルオロカーボンと共に用
いられる冷凍機油としては、ハイドロフルオロカーボン
共存下での熱安定性の良いことが必要である。また、こ
の他、電気冷蔵庫やルームエアコン等の圧縮式冷凍機に
は、絶縁材やエナメル線など、モーターに用いられてい
る有機材料が存在するため、ハイドロフルオロカーボン
と冷凍機油からなる作動流体としては、これらの有機材
料に悪影響を及ぼさないことが必要であるし、電気絶縁
性も良好であることが必要である。
いられる冷凍機油としては、ハイドロフルオロカーボン
共存下での熱安定性の良いことが必要である。また、こ
の他、電気冷蔵庫やルームエアコン等の圧縮式冷凍機に
は、絶縁材やエナメル線など、モーターに用いられてい
る有機材料が存在するため、ハイドロフルオロカーボン
と冷凍機油からなる作動流体としては、これらの有機材
料に悪影響を及ぼさないことが必要であるし、電気絶縁
性も良好であることが必要である。
【0006】ハイドロフルオロカーボン、例えば 1,1,
1,2−テトラフルオロエタン(HFC134a)と共に
用いることができる冷凍機油として、米国特許第 4,75
5,316号明細書や特開平2−129294号公報等に2価以上
の多価アルコールにアルキレンオキサイドを付加して合
成されるポリアルキレングリコール系の末端がキャップ
されていないエーテル化合物(PAG−OHと略す)が
開示されている。前者には多価アルコールの例としてト
リメチロールプロパン、後者にはグリセリンが例示され
ている。
1,2−テトラフルオロエタン(HFC134a)と共に
用いることができる冷凍機油として、米国特許第 4,75
5,316号明細書や特開平2−129294号公報等に2価以上
の多価アルコールにアルキレンオキサイドを付加して合
成されるポリアルキレングリコール系の末端がキャップ
されていないエーテル化合物(PAG−OHと略す)が
開示されている。前者には多価アルコールの例としてト
リメチロールプロパン、後者にはグリセリンが例示され
ている。
【0007】さらに上記化合物のHFCとの相溶性や吸
湿性等の種々の欠点を改善するために上記の化合物の末
端をキャップした化合物(PAGと略す)が、特開平3
−14894 号公報、特開平3−205492号公報、特開平4−
20596 号公報、特開平4−359996号公報、特開平5−98
275 号公報等に開示されている。
湿性等の種々の欠点を改善するために上記の化合物の末
端をキャップした化合物(PAGと略す)が、特開平3
−14894 号公報、特開平3−205492号公報、特開平4−
20596 号公報、特開平4−359996号公報、特開平5−98
275 号公報等に開示されている。
【0008】PAG−OHやPAGはナフテン系鉱油に
比べ極性が高いのでHFC134aとの低温での相溶性
は確かに良好である。しかしながら、米国特許第 4,75
5,316号明細書に述べられているように、PAG−OH
やPAGは逆に温度が上昇すると二層分離を起こすとい
う問題がある。また、PAG−OHやPAGにはこの他
にもいくつかの問題がある。一つは電気絶縁性が劣ると
いうことである。これは非常に大きな問題であり、モー
ターがコンプレッサーに内蔵されている電気冷蔵庫用冷
凍機やエアコン用冷凍機には用いることができない。従
って、これらの化合物はそのような心配のないカーエア
コン用途としての使用が示唆されている。もう一つの問
題は吸湿性の大きいことである。PAG−OHやPAG
中の水分のためにHFC134aの共存下での熱安定性
を悪くしたり、有機材料であるPETフィルム等を加水
分解させたりする。
比べ極性が高いのでHFC134aとの低温での相溶性
は確かに良好である。しかしながら、米国特許第 4,75
5,316号明細書に述べられているように、PAG−OH
やPAGは逆に温度が上昇すると二層分離を起こすとい
う問題がある。また、PAG−OHやPAGにはこの他
にもいくつかの問題がある。一つは電気絶縁性が劣ると
いうことである。これは非常に大きな問題であり、モー
ターがコンプレッサーに内蔵されている電気冷蔵庫用冷
凍機やエアコン用冷凍機には用いることができない。従
って、これらの化合物はそのような心配のないカーエア
コン用途としての使用が示唆されている。もう一つの問
題は吸湿性の大きいことである。PAG−OHやPAG
中の水分のためにHFC134aの共存下での熱安定性
を悪くしたり、有機材料であるPETフィルム等を加水
分解させたりする。
【0009】このような電気絶縁性、吸湿性等のポリエ
ーテル化合物の問題点を改善するためにエステル系化合
物やカーボネート系化合物が開発されている。例えば
1,1,1,2−テトラフルオロエタン(HFC134a)と
共に用いることができる冷凍機油として、米国特許第
4,851,144号明細書(特開平2−276894号公報)や特開
平2−158693号公報に、ポリエーテル油とエステル油の
混合油が開示され、特開平3−505602号公報、特開平3
−128991号公報、特開平3−128992号公報にエステル油
が開示されている。また、特開平2−132178号公報、特
開平3−149295号公報、ヨーロッパ特許第 421,298号明
細書にカーボネート油が開示されている。
ーテル化合物の問題点を改善するためにエステル系化合
物やカーボネート系化合物が開発されている。例えば
1,1,1,2−テトラフルオロエタン(HFC134a)と
共に用いることができる冷凍機油として、米国特許第
4,851,144号明細書(特開平2−276894号公報)や特開
平2−158693号公報に、ポリエーテル油とエステル油の
混合油が開示され、特開平3−505602号公報、特開平3
−128991号公報、特開平3−128992号公報にエステル油
が開示されている。また、特開平2−132178号公報、特
開平3−149295号公報、ヨーロッパ特許第 421,298号明
細書にカーボネート油が開示されている。
【0010】エステル系化合物やカーボネート系化合物
は、ハイドロフルオロカーボンとの相溶性に優れ、ハイ
ドロフルオロカーボン共存下での熱安定性にも優れてい
る。また、ポリエーテル系化合物に比べ、電気絶縁性が
極めて優れており、また吸湿性もかなり低い。
は、ハイドロフルオロカーボンとの相溶性に優れ、ハイ
ドロフルオロカーボン共存下での熱安定性にも優れてい
る。また、ポリエーテル系化合物に比べ、電気絶縁性が
極めて優れており、また吸湿性もかなり低い。
【0011】しかしながら、従来の作動流体であるCF
C12−鉱物油系に比べると、ハイドロフルオロカーボ
ン−エステル油系やハイドロフルオロカーボン−カーボ
ネート油系では、フロン、油とも極性が高くなり、水を
含みやすい。そのため、エステル油は加水分解を起こ
し、カルボン酸を生成し、生成したカルボン酸が金属を
腐食し、磨耗を引き起こすという問題がある。また、カ
ーボネート油は加水分解を起こし、非凝縮性の二酸化炭
素を生成し、冷凍能力を低下させるという問題も生じ
る。
C12−鉱物油系に比べると、ハイドロフルオロカーボ
ン−エステル油系やハイドロフルオロカーボン−カーボ
ネート油系では、フロン、油とも極性が高くなり、水を
含みやすい。そのため、エステル油は加水分解を起こ
し、カルボン酸を生成し、生成したカルボン酸が金属を
腐食し、磨耗を引き起こすという問題がある。また、カ
ーボネート油は加水分解を起こし、非凝縮性の二酸化炭
素を生成し、冷凍能力を低下させるという問題も生じ
る。
【0012】特に、ルームエアコンでは冷媒の現場充填
がもっぱら行われるので工場充填が行われる冷蔵庫の場
合と異なり、水分の混入を防止するのは不可能に近く、
ハイドロフルオロカーボン−エステル油系やハイドロフ
ルオロカーボン−カーボネート油系ではルームエアコン
に使用する場合の信頼性が心配される。
がもっぱら行われるので工場充填が行われる冷蔵庫の場
合と異なり、水分の混入を防止するのは不可能に近く、
ハイドロフルオロカーボン−エステル油系やハイドロフ
ルオロカーボン−カーボネート油系ではルームエアコン
に使用する場合の信頼性が心配される。
【0013】また、WO93/24435においてポリ
ビニルエーテル系化合物がビニルエーテル系モノマーを
重合し、水素添加することによって得られており、この
ものがハイドロフルオロカーボンとの相溶性が良好で、
電気絶縁性においても良好であることが開示されてい
る。しかしながら、ポリビニルエーテル系化合物は重合
法によって合成されており、生成物は分子量分布を持っ
ているため、一部の高分子量物がキャピラリー詰まりの
原因となる場合があり、ハイドロフルオロカーボンとの
相溶性を悪化させる原因ともなっている。また、後処理
方法が煩雑であったり、不安定なビニルエーテル系モノ
マーを原料に使用しており必ずしも収率良く得られてい
るとは言いがたい。特に、低重合度のもの(重合度6付
近)は収率が低くなってしまうという欠点がある。ま
た、ビニルエーテル系モノマーは構造によっては原料の
入手が困難で価格が高価なものとなっている。
ビニルエーテル系化合物がビニルエーテル系モノマーを
重合し、水素添加することによって得られており、この
ものがハイドロフルオロカーボンとの相溶性が良好で、
電気絶縁性においても良好であることが開示されてい
る。しかしながら、ポリビニルエーテル系化合物は重合
法によって合成されており、生成物は分子量分布を持っ
ているため、一部の高分子量物がキャピラリー詰まりの
原因となる場合があり、ハイドロフルオロカーボンとの
相溶性を悪化させる原因ともなっている。また、後処理
方法が煩雑であったり、不安定なビニルエーテル系モノ
マーを原料に使用しており必ずしも収率良く得られてい
るとは言いがたい。特に、低重合度のもの(重合度6付
近)は収率が低くなってしまうという欠点がある。ま
た、ビニルエーテル系モノマーは構造によっては原料の
入手が困難で価格が高価なものとなっている。
【0014】このようにポリビニルエーテル系化合物
は、分子量分布を持つ為に、高分子量物により性能が低
下する場合があり、また原料種の入手が限られ、低重合
度のものについては収率が低く価格が高価なものとなっ
てしまうという欠点がある。
は、分子量分布を持つ為に、高分子量物により性能が低
下する場合があり、また原料種の入手が限られ、低重合
度のものについては収率が低く価格が高価なものとなっ
てしまうという欠点がある。
【0015】以上のように、今まで開発されたハイドロ
フルオロカーボン−PAG(PAG−OH)油系は吸湿
性・電気絶縁性に、ハイドロフルオロカーボン−エステ
ル油系およびハイドロフルオロカーボン−カーボネート
油系は耐加水分解に問題があり、またいずれの系も従来
のCFC12−鉱物油系に比べ水を含みやすく、熱安定
性の低下や有機材料の劣化、金属の腐食や磨耗等を引き
起し、冷凍機作動流体として満足できるものではない。
また、ポリビニルエーテル系化合物は分子量分布を持つ
ために一部高分子量化合物を含み、これが相溶性を低下
させる欠点があり、原料種が限られ、高価なものとなっ
てしまうという欠点がある。
フルオロカーボン−PAG(PAG−OH)油系は吸湿
性・電気絶縁性に、ハイドロフルオロカーボン−エステ
ル油系およびハイドロフルオロカーボン−カーボネート
油系は耐加水分解に問題があり、またいずれの系も従来
のCFC12−鉱物油系に比べ水を含みやすく、熱安定
性の低下や有機材料の劣化、金属の腐食や磨耗等を引き
起し、冷凍機作動流体として満足できるものではない。
また、ポリビニルエーテル系化合物は分子量分布を持つ
ために一部高分子量化合物を含み、これが相溶性を低下
させる欠点があり、原料種が限られ、高価なものとなっ
てしまうという欠点がある。
【0016】従って、本発明の目的は、上記のような問
題を解決すべく、相溶性、熱安定性に優れ、加水分解性
の心配が無く、適度の動粘度を有しており、低温流動性
も良好で、特に体積抵抗率に優れている、安価な冷凍機
作動流体用組成物の基油となり得る新規な多価エーテル
アルコール誘導体を提供することにある。また本発明の
別の目的はそのような多価エーテルアルコール誘導体を
工業的に有利に製造する方法を提供することにある。ま
た、本発明の別の目的はそのような多価エーテルアルコ
ール誘導体を基油とする冷凍機油およびハイドロフルオ
ロカーボンを含有してなる冷凍機作動流体用組成物を提
供することにある。
題を解決すべく、相溶性、熱安定性に優れ、加水分解性
の心配が無く、適度の動粘度を有しており、低温流動性
も良好で、特に体積抵抗率に優れている、安価な冷凍機
作動流体用組成物の基油となり得る新規な多価エーテル
アルコール誘導体を提供することにある。また本発明の
別の目的はそのような多価エーテルアルコール誘導体を
工業的に有利に製造する方法を提供することにある。ま
た、本発明の別の目的はそのような多価エーテルアルコ
ール誘導体を基油とする冷凍機油およびハイドロフルオ
ロカーボンを含有してなる冷凍機作動流体用組成物を提
供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】従来、ソルビトール、マ
ンニトール等の6価アルコールをアルコール残基とする
多価エーテルアルコール誘導体としては、例えば、ヘキ
サメチルエーテル、ヘキサビニルエーテル、ヘキサオレ
イルエーテル、1,3,4,5,6−ペンタメチルエーテル(モ
ノオール)、2,3,4,5,6−ペンタベンジルエーテル(モ
ノオール)、1,3,5−トリメチル−6−トリフェニルメ
チルエーテル(ジオール)、1,2,5,6−テトラキステト
ラデシルエーテル(ジオール)、1,4,5−トリエチルエ
ーテル(トリオール)、2,3,5−トリスドデシルエーテ
ル(トリオール)、1,6−ジドデシルエーテル(テトラ
オール)、2,5−ジベンジルエーテル(テトラオー
ル)、1−t−ブチルエーテル(ペンタオール)、1−
ヘキサデシルエーテル(ペンタオール)等が知られてい
る。
ンニトール等の6価アルコールをアルコール残基とする
多価エーテルアルコール誘導体としては、例えば、ヘキ
サメチルエーテル、ヘキサビニルエーテル、ヘキサオレ
イルエーテル、1,3,4,5,6−ペンタメチルエーテル(モ
ノオール)、2,3,4,5,6−ペンタベンジルエーテル(モ
ノオール)、1,3,5−トリメチル−6−トリフェニルメ
チルエーテル(ジオール)、1,2,5,6−テトラキステト
ラデシルエーテル(ジオール)、1,4,5−トリエチルエ
ーテル(トリオール)、2,3,5−トリスドデシルエーテ
ル(トリオール)、1,6−ジドデシルエーテル(テトラ
オール)、2,5−ジベンジルエーテル(テトラオー
ル)、1−t−ブチルエーテル(ペンタオール)、1−
ヘキサデシルエーテル(ペンタオール)等が知られてい
る。
【0018】しかしながら、α−分岐したエーテルアル
キル基、即ち2級もしくは3級アルキル基をエーテルの
アルキル基とするものや炭素数が3〜17であって鎖上
のいずれかが分岐しているようなアルキル基をエーテル
のアルキル基とするものについては、t−ブチル基であ
るものを除き、これまでその誘導体は知られていない。
本発明者らは、上記課題を解決するためにこれらの新規
化合物について鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を持
った、分子内にアルキレンオキサイド残基を含まない多
価エーテルアルコール誘導体が、前記目的を達成し得る
ことを見出した。
キル基、即ち2級もしくは3級アルキル基をエーテルの
アルキル基とするものや炭素数が3〜17であって鎖上
のいずれかが分岐しているようなアルキル基をエーテル
のアルキル基とするものについては、t−ブチル基であ
るものを除き、これまでその誘導体は知られていない。
本発明者らは、上記課題を解決するためにこれらの新規
化合物について鋭意研究を重ねた結果、特定の構造を持
った、分子内にアルキレンオキサイド残基を含まない多
価エーテルアルコール誘導体が、前記目的を達成し得る
ことを見出した。
【0019】一方、この多価エーテルアルコール誘導体
の製造方法としては、6価アルコールを硫酸ジアルキ
ル、アルキルトシレート、ハロゲン化アルキル等のアル
キル化剤と反応させる方法が知られている。しかしなが
らこれらの方法では、エーテル化剤のアルキル基が1級
以外では、収率よく目的物が得られないことに加えて、
特にエーテル化度を高めた場合、硫酸塩、食塩等の副生
物が大量に生じ、製造上あるいは経済的にも好ましくな
いという問題が発生する。そこで本発明者らは、6価ア
ルコールをカルボニル化合物と反応させることにより一
旦環状アセタール類に誘導し、ついでこれを水素添加あ
るいはさらにアルキルキャップすることにより容易に製
造できることを見いだした。本発明はこれらの発見に基
づきさらに研究を重ねて完成するに至ったものである。
の製造方法としては、6価アルコールを硫酸ジアルキ
ル、アルキルトシレート、ハロゲン化アルキル等のアル
キル化剤と反応させる方法が知られている。しかしなが
らこれらの方法では、エーテル化剤のアルキル基が1級
以外では、収率よく目的物が得られないことに加えて、
特にエーテル化度を高めた場合、硫酸塩、食塩等の副生
物が大量に生じ、製造上あるいは経済的にも好ましくな
いという問題が発生する。そこで本発明者らは、6価ア
ルコールをカルボニル化合物と反応させることにより一
旦環状アセタール類に誘導し、ついでこれを水素添加あ
るいはさらにアルキルキャップすることにより容易に製
造できることを見いだした。本発明はこれらの発見に基
づきさらに研究を重ねて完成するに至ったものである。
【0020】即ち、本発明の要旨は、(1) 下記一般
式(I)〜(IV)
式(I)〜(IV)
【0021】
【化17】
【0022】
【化18】
【0023】
【化19】
【0024】
【化20】
【0025】(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基であり、R2 はR
1 が水素原子の場合は炭素数3〜17の分岐アルキル基
を示し、R1 が炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基の場合は炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐の
アルキル基を示す。あるいはR1 、R2 は一緒になって
炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。2〜6組の
R1 、R2 は同一でも異なっていても良い。k1 は0〜
5、p1 は0〜2、m1 は0もしくは1でk1 +(m1
+2)p1 =5を満たす数である。k2 、n2 は0〜
4、p2 は0〜2、m2 は0もしくは1でk2 +(m2
+2)p2 +n2 =4を満たす数である。R3 は水素原
子または炭素数1〜8の直鎖もしくは分岐のアルキル基
を示す。一般式(I)におけるk1 個のオキシメチレン
基とp1 個の環状アセタール類(アセタールもしくはケ
タール)ユニット、一般式(II)におけるk2 個および
n2 個のオキシメチレン基とp2 個の環状アセタール
(アセタールもしくはケタール)ユニット、一般式(II
I) におけるオキシメチレン基と環状アセタール類(ア
セタールもしくはケタール)ユニットの配列はランダム
でもブロックでもよい。)のいずれかで表される多価エ
ーテルアルコール誘導体、(2) 多価エーテルアルコ
ールのアルコール残基がソルビトール由来のものである
前記(1)記載の多価エーテルアルコール誘導体、
(3) 下記式(V)
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基であり、R2 はR
1 が水素原子の場合は炭素数3〜17の分岐アルキル基
を示し、R1 が炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基の場合は炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐の
アルキル基を示す。あるいはR1 、R2 は一緒になって
炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。2〜6組の
R1 、R2 は同一でも異なっていても良い。k1 は0〜
5、p1 は0〜2、m1 は0もしくは1でk1 +(m1
+2)p1 =5を満たす数である。k2 、n2 は0〜
4、p2 は0〜2、m2 は0もしくは1でk2 +(m2
+2)p2 +n2 =4を満たす数である。R3 は水素原
子または炭素数1〜8の直鎖もしくは分岐のアルキル基
を示す。一般式(I)におけるk1 個のオキシメチレン
基とp1 個の環状アセタール類(アセタールもしくはケ
タール)ユニット、一般式(II)におけるk2 個および
n2 個のオキシメチレン基とp2 個の環状アセタール
(アセタールもしくはケタール)ユニット、一般式(II
I) におけるオキシメチレン基と環状アセタール類(ア
セタールもしくはケタール)ユニットの配列はランダム
でもブロックでもよい。)のいずれかで表される多価エ
ーテルアルコール誘導体、(2) 多価エーテルアルコ
ールのアルコール残基がソルビトール由来のものである
前記(1)記載の多価エーテルアルコール誘導体、
(3) 下記式(V)
【0026】
【化21】
【0027】で示される6価アルコールと一般式(VI)
【0028】
【化22】
【0029】(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、R2 は炭
素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示
す。)で表されるカルボニル化合物またはその反応性誘
導体(アセタールもしくはケタール)を酸触媒下に反応
させることにより環状アセタール類(アセタールもしく
はケタール)を製造し、これを水素添加あるいはさらに
アルキルキャップすることを特徴とする一般式(VII) 〜
(X)のいずれかで表される多価エーテルアルコール誘
導体の製造方法、
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、R2 は炭
素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示
す。)で表されるカルボニル化合物またはその反応性誘
導体(アセタールもしくはケタール)を酸触媒下に反応
させることにより環状アセタール類(アセタールもしく
はケタール)を製造し、これを水素添加あるいはさらに
アルキルキャップすることを特徴とする一般式(VII) 〜
(X)のいずれかで表される多価エーテルアルコール誘
導体の製造方法、
【0030】
【化23】
【0031】
【化24】
【0032】
【化25】
【0033】
【化26】
【0034】(式中、R1 は水素原子または炭素数1〜
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、R2 は炭
素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。
あるいはR1 、R2 は一緒になって炭素数2〜13のア
ルキレン基を形成する。2〜6組のR1 、R2 は同一で
も異なっていても良い。k1 は0〜5、p1 は0〜2、
m1 は0もしくは1でk1 +(m1 +2)p1 =5を満
たす数である。k2 、n 2 は0〜4、p2 は0〜2、m
2 は0もしくは1でk2 +(m2 +2)p2 +n2 =4
を満たす数である。R3 は水素原子または炭素数1〜8
の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。一般式(VII)
におけるk1 個のオキシメチレン基とp1個の環状アセ
タール類(アセタールもしくはケタール)ユニット、一
般式(VIII)におけるk2 個およびn2 個のオキシメチレ
ン基とp2 個の環状アセタール(アセタールもしくはケ
タール)ユニット、一般式(IX) におけるオキシメチレ
ン基と環状アセタール類(アセタールもしくはケター
ル)ユニットの配列はランダムでもブロックでもよ
い。)(4) 式(V)で示される6価アルコールがソ
ルビトールである前記(3)記載の多価エーテルアルコ
ール誘導体の製造方法、(5) 一般式(VII) 〜(X)
において、R1 が水素原子で、R2 が炭素数1〜13の
直鎖もしくは分岐のアルキル基であるか、R1 が炭素数
1〜13の直鎖もしくは分岐のアルキル基で、R2 が炭
素数1〜13の直鎖もしくは分岐のアルキル基である前
記(3)または(4)記載の多価エーテルアルコール誘
導体の製造方法、(6) 下記一般式(XI)
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示し、R2 は炭
素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。
あるいはR1 、R2 は一緒になって炭素数2〜13のア
ルキレン基を形成する。2〜6組のR1 、R2 は同一で
も異なっていても良い。k1 は0〜5、p1 は0〜2、
m1 は0もしくは1でk1 +(m1 +2)p1 =5を満
たす数である。k2 、n 2 は0〜4、p2 は0〜2、m
2 は0もしくは1でk2 +(m2 +2)p2 +n2 =4
を満たす数である。R3 は水素原子または炭素数1〜8
の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。一般式(VII)
におけるk1 個のオキシメチレン基とp1個の環状アセ
タール類(アセタールもしくはケタール)ユニット、一
般式(VIII)におけるk2 個およびn2 個のオキシメチレ
ン基とp2 個の環状アセタール(アセタールもしくはケ
タール)ユニット、一般式(IX) におけるオキシメチレ
ン基と環状アセタール類(アセタールもしくはケター
ル)ユニットの配列はランダムでもブロックでもよ
い。)(4) 式(V)で示される6価アルコールがソ
ルビトールである前記(3)記載の多価エーテルアルコ
ール誘導体の製造方法、(5) 一般式(VII) 〜(X)
において、R1 が水素原子で、R2 が炭素数1〜13の
直鎖もしくは分岐のアルキル基であるか、R1 が炭素数
1〜13の直鎖もしくは分岐のアルキル基で、R2 が炭
素数1〜13の直鎖もしくは分岐のアルキル基である前
記(3)または(4)記載の多価エーテルアルコール誘
導体の製造方法、(6) 下記一般式(XI)
【0035】
【化27】
【0036】(式中、R1 〜R6 は同一でも異なってい
ても良く、それぞれ炭素数1〜14の直鎖、分岐もしく
は環状のアルキル基を示す。但し、R1 〜R6 の合計炭
素数は8〜40である。)で示される多価エーテルアル
コール誘導体を基油とする冷凍機油およびハイドロフル
オロカーボンを含有してなる冷凍機作動流体用組成物、
(7) 一般式(XI) で示される化合物が、ソルビトー
ルにより6価アルコール残基を与えられたものである前
記(6)記載の冷凍機作動流体用組成物、(8) 一般
式(XI)で示される化合物が、式(V)
ても良く、それぞれ炭素数1〜14の直鎖、分岐もしく
は環状のアルキル基を示す。但し、R1 〜R6 の合計炭
素数は8〜40である。)で示される多価エーテルアル
コール誘導体を基油とする冷凍機油およびハイドロフル
オロカーボンを含有してなる冷凍機作動流体用組成物、
(7) 一般式(XI) で示される化合物が、ソルビトー
ルにより6価アルコール残基を与えられたものである前
記(6)記載の冷凍機作動流体用組成物、(8) 一般
式(XI)で示される化合物が、式(V)
【0037】
【化28】
【0038】で示される6価アルコールと下記一般式
(XII)
(XII)
【0039】
【化29】
【0040】(式中、R7 は水素原子、又は炭素数1〜
13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示し、R
8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキ
ル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒になって炭素数
2〜13のアルキレン基を形成する。但し、R7 とR8
はR7 とR8 のα位のいずれかに少なくとも1個の水素
原子を有するアルキル基であり、R7 とR8 の合計炭素
数は1〜13である。)で示されるカルボニル化合物
(ケトンあるいはアルデヒド)またはその反応性誘導体
(ケタールあるいはアセタール)の1種類以上からケタ
ール化もしくはアセタール化またはトランスケタール化
もしくはトランスアセタール化により環状ケタールある
いは環状アセタールを合成し、これを水素添加して多価
エーテルアルコールを得、さらにこれにアルキルキャッ
プして合成されるものである前記(6)または(7)記
載の冷凍機作動流体用組成物、(9) 一般式(XI)で
示される多価エーテルアルコール誘導体100重量部に
対して、a)エポキシ基を有する化合物0.05〜2.
0重量部、b)オルトエステル0.01〜100重量
部、c)アセタールまたはケタール0.01〜100重
量部、およびd)カルボジイミド0.05〜5重量部よ
りなる群から選ばれた少なくとも1種以上を更に配合し
てなる前記(6)〜(8)いずれか記載の冷凍機作動流
体用組成物、(10) 下記一般式(XIIIAA)または
(XIIIBB)
13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示し、R
8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキ
ル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒になって炭素数
2〜13のアルキレン基を形成する。但し、R7 とR8
はR7 とR8 のα位のいずれかに少なくとも1個の水素
原子を有するアルキル基であり、R7 とR8 の合計炭素
数は1〜13である。)で示されるカルボニル化合物
(ケトンあるいはアルデヒド)またはその反応性誘導体
(ケタールあるいはアセタール)の1種類以上からケタ
ール化もしくはアセタール化またはトランスケタール化
もしくはトランスアセタール化により環状ケタールある
いは環状アセタールを合成し、これを水素添加して多価
エーテルアルコールを得、さらにこれにアルキルキャッ
プして合成されるものである前記(6)または(7)記
載の冷凍機作動流体用組成物、(9) 一般式(XI)で
示される多価エーテルアルコール誘導体100重量部に
対して、a)エポキシ基を有する化合物0.05〜2.
0重量部、b)オルトエステル0.01〜100重量
部、c)アセタールまたはケタール0.01〜100重
量部、およびd)カルボジイミド0.05〜5重量部よ
りなる群から選ばれた少なくとも1種以上を更に配合し
てなる前記(6)〜(8)いずれか記載の冷凍機作動流
体用組成物、(10) 下記一般式(XIIIAA)または
(XIIIBB)
【0041】
【化30】
【0042】(式中、R1 〜R6 は同一でも異なってい
ても良く、それぞれ炭素数1〜14の直鎖、分岐もしく
は環状のアルキル基を示し、R7 は水素原子、又は炭素
数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示
し、R8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状の
アルキル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒になって
炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。但し、一般
式(XIIIAA)におけるR1 〜R3 及びR6 〜R8 、また
は一般式(XIIIBB)におけるR1 及びR4 〜R8の合計
炭素数は8〜40であり、R7 とR8 の合計炭素数は1
〜13である。なお、a〜eは構造単位の配列を表わす
ために付した符号であり、a〜cまたはd〜eはどのよ
うな順序に配列していてもよい。)で示される多価エー
テルアルコール誘導体を基油とする冷凍機油およびハイ
ドロフルオロカーボンを含有してなる冷凍機作動流体用
組成物、(11) 一般式(XIIIAA)または(XIIIBB)
で示される化合物が、ソルビトールにより6価アルコー
ル残基を与えられたものである前記(10)記載の冷凍
機作動流体用組成物、(12) 一般式(XIIIAA)また
は(XIIIBB)で示される化合物が、式(V)
ても良く、それぞれ炭素数1〜14の直鎖、分岐もしく
は環状のアルキル基を示し、R7 は水素原子、又は炭素
数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示
し、R8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状の
アルキル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒になって
炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。但し、一般
式(XIIIAA)におけるR1 〜R3 及びR6 〜R8 、また
は一般式(XIIIBB)におけるR1 及びR4 〜R8の合計
炭素数は8〜40であり、R7 とR8 の合計炭素数は1
〜13である。なお、a〜eは構造単位の配列を表わす
ために付した符号であり、a〜cまたはd〜eはどのよ
うな順序に配列していてもよい。)で示される多価エー
テルアルコール誘導体を基油とする冷凍機油およびハイ
ドロフルオロカーボンを含有してなる冷凍機作動流体用
組成物、(11) 一般式(XIIIAA)または(XIIIBB)
で示される化合物が、ソルビトールにより6価アルコー
ル残基を与えられたものである前記(10)記載の冷凍
機作動流体用組成物、(12) 一般式(XIIIAA)また
は(XIIIBB)で示される化合物が、式(V)
【0043】
【化31】
【0044】で示される6価アルコールと一般式(XII)
【0045】
【化32】
【0046】(式中、R7 は水素原子、又は炭素数1〜
13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示し、R
8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキ
ル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒になって炭素数
2〜13のアルキレン基を形成する。但し、R7 とR8
はR7 とR8 のα位のいずれかに少なくとも1個の水素
原子を有するアルキル基であり、R7 とR8 の合計炭素
数は1〜13である。)で示されるカルボニル化合物
(ケトンあるいはアルデヒド)またはその反応性誘導体
(ケタールあるいはアセタール)の1種類以上からケタ
ール化もしくはアセタール化またはトランスケタール化
もしくはトランスアセタール化により環状ケタールある
いは環状アセタールを合成し、これを水素添加して多価
エーテルケタールアルコールもしくは多価エーテルアセ
タールアルコールを得、さらにこれにアルキルキャップ
して合成されるものである前記(10)または(11)
記載の冷凍機作動流体用組成物、並びに(13) 一般
式(XIIIAA)または(XIIIBB)で示される多価エーテル
アルコール誘導体100重量部に対して、a)エポキシ
基を有する化合物0.05〜2.0重量部、b)オルト
エステル0.01〜100重量部、c)アセタールまた
はケタール0.01〜100重量部、およびd)カルボ
ジイミド0.05〜5重量部よりなる群から選ばれた少
なくとも1種以上を更に配合してなる前記(10)〜
(12)いずれか記載の冷凍機作動流体用組成物、に関
する。
13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示し、R
8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキ
ル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒になって炭素数
2〜13のアルキレン基を形成する。但し、R7 とR8
はR7 とR8 のα位のいずれかに少なくとも1個の水素
原子を有するアルキル基であり、R7 とR8 の合計炭素
数は1〜13である。)で示されるカルボニル化合物
(ケトンあるいはアルデヒド)またはその反応性誘導体
(ケタールあるいはアセタール)の1種類以上からケタ
ール化もしくはアセタール化またはトランスケタール化
もしくはトランスアセタール化により環状ケタールある
いは環状アセタールを合成し、これを水素添加して多価
エーテルケタールアルコールもしくは多価エーテルアセ
タールアルコールを得、さらにこれにアルキルキャップ
して合成されるものである前記(10)または(11)
記載の冷凍機作動流体用組成物、並びに(13) 一般
式(XIIIAA)または(XIIIBB)で示される多価エーテル
アルコール誘導体100重量部に対して、a)エポキシ
基を有する化合物0.05〜2.0重量部、b)オルト
エステル0.01〜100重量部、c)アセタールまた
はケタール0.01〜100重量部、およびd)カルボ
ジイミド0.05〜5重量部よりなる群から選ばれた少
なくとも1種以上を更に配合してなる前記(10)〜
(12)いずれか記載の冷凍機作動流体用組成物、に関
する。
【0047】以下に本発明について詳細に説明する。便
宜上、本発明の新規な多価エーテルアルコール誘導
体、多価エーテルアルコール誘導体の新規な製造方
法、および多価エーテルアルコール誘導体を基油とす
る冷凍機油およびハイドロフルオロカーボンを含む冷凍
機作動流体用組成物、に分けて説明する。尚、本明細書
の一般式における置換基の定義は、各式においてそれぞ
れ定義されたものを意味している。例えば、R2 の定義
は一般式(I)〜(IV)と一般式(VI)〜(X)におい
て異なっているが、それぞれの定義に従って解釈され
る。また、一般式(XI)、(XIIIAA)、(XIIIBB)など
においてはR2 などのようにR2 とは異なる表示をして
一般式(I)〜(IV)や一般式(VI)〜(X)などとは
異なる定義であることを明示した。
宜上、本発明の新規な多価エーテルアルコール誘導
体、多価エーテルアルコール誘導体の新規な製造方
法、および多価エーテルアルコール誘導体を基油とす
る冷凍機油およびハイドロフルオロカーボンを含む冷凍
機作動流体用組成物、に分けて説明する。尚、本明細書
の一般式における置換基の定義は、各式においてそれぞ
れ定義されたものを意味している。例えば、R2 の定義
は一般式(I)〜(IV)と一般式(VI)〜(X)におい
て異なっているが、それぞれの定義に従って解釈され
る。また、一般式(XI)、(XIIIAA)、(XIIIBB)など
においてはR2 などのようにR2 とは異なる表示をして
一般式(I)〜(IV)や一般式(VI)〜(X)などとは
異なる定義であることを明示した。
【0048】本発明の新規な多価エーテルアルコール
誘導体 本発明の新規な多価エーテルアルコール誘導体は、一般
式(I)〜(IV) のいずれかで示される化合物である。
誘導体 本発明の新規な多価エーテルアルコール誘導体は、一般
式(I)〜(IV) のいずれかで示される化合物である。
【0049】一般式(I)〜(IV)において、R1 は水
素原子または炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアル
キル基である。炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基の具体例としては、直鎖のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、ウンデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘ
プタデシル基、ノナデシル基、ヘンエイコシル基等が挙
げられる。又、分岐のアルキル基としては、後述する炭
素数3〜17の分岐のアルキル基の具体例に加えて、1
−メチルオクタデシル基、1−デシルウンデシル基、2
−メチルエイコシル基等が挙げられる。
素原子または炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアル
キル基である。炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のア
ルキル基の具体例としては、直鎖のアルキル基として
は、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペン
チル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、ウンデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基、ヘ
プタデシル基、ノナデシル基、ヘンエイコシル基等が挙
げられる。又、分岐のアルキル基としては、後述する炭
素数3〜17の分岐のアルキル基の具体例に加えて、1
−メチルオクタデシル基、1−デシルウンデシル基、2
−メチルエイコシル基等が挙げられる。
【0050】一般式(I)〜(IV) において、R1 が水
素原子の場合、R2 は炭素数3〜17の分岐アルキル基
であり、好ましくは炭素数3〜12の分岐アルキル基で
ある。R2 で示される炭素数3〜17の分岐アルキル基
としては、具体的には以下のものが挙げられる。α−メ
チル分岐のアルキル基としては、イソプロピル基、1−
メチルプロピル基、1−メチルブチル基、1−メチルペ
ンチル基、1−メチルヘキシル基、1−メチルヘプチル
基、1−メチルオクチル基、1−メチルノニル基、1−
メチルデシル基、1−メチルウンデシル基、1−メチル
ヘキサデシル基等が挙げられる。
素原子の場合、R2 は炭素数3〜17の分岐アルキル基
であり、好ましくは炭素数3〜12の分岐アルキル基で
ある。R2 で示される炭素数3〜17の分岐アルキル基
としては、具体的には以下のものが挙げられる。α−メ
チル分岐のアルキル基としては、イソプロピル基、1−
メチルプロピル基、1−メチルブチル基、1−メチルペ
ンチル基、1−メチルヘキシル基、1−メチルヘプチル
基、1−メチルオクチル基、1−メチルノニル基、1−
メチルデシル基、1−メチルウンデシル基、1−メチル
ヘキサデシル基等が挙げられる。
【0051】その他、α−分岐のアルキル基としては1
−エチルプロピル基、1−エチルブチル基、1−エチル
ペンチル基、1−プロピルブチル基、1−エチルヘキシ
ル基、1−プロピルペンチル基、1−エチルヘプチル
基、1−プロピルヘキシル基、1−ブチルペンチル基、
1−ペンチルヘキシル基、1−ヘキシルヘプチル基、1
−オクチルノニル基、1−ヘキシルウンデシル基等が挙
げられる。また、α−位で環状のアルキル基としては、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、3−(2',2',5'
−トリメチルシクロヘキシル)プロピル基、1−シクロ
ヘキシルメチル基等が挙げられる。
−エチルプロピル基、1−エチルブチル基、1−エチル
ペンチル基、1−プロピルブチル基、1−エチルヘキシ
ル基、1−プロピルペンチル基、1−エチルヘプチル
基、1−プロピルヘキシル基、1−ブチルペンチル基、
1−ペンチルヘキシル基、1−ヘキシルヘプチル基、1
−オクチルノニル基、1−ヘキシルウンデシル基等が挙
げられる。また、α−位で環状のアルキル基としては、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、3−(2',2',5'
−トリメチルシクロヘキシル)プロピル基、1−シクロ
ヘキシルメチル基等が挙げられる。
【0052】α−分岐とα−分岐以外にさらに1個以上
の分岐が存在するようなα−多分岐のアルキル基として
は、1,2−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルブチル
基、1,3−ジメチルブチル基、1−エチル−2−メチル
プロピル基、ジイソプロピルメチル基、1,4−ジメチル
ペンチル基、1−イソプロピルブチル基、1,3,3−トリ
メチルブチル基、1,5−ジメチルヘキシル基、1−エチ
ル−2−メチルペンチル基、1−ブチル−2−メチルプ
ロピル基、1−エチル−3−メチルペンチル基、ジイソ
ブチルメチル基、1,5,9−トリメチルデシル基等が挙げ
られる。
の分岐が存在するようなα−多分岐のアルキル基として
は、1,2−ジメチルプロピル基、1,2−ジメチルブチル
基、1,3−ジメチルブチル基、1−エチル−2−メチル
プロピル基、ジイソプロピルメチル基、1,4−ジメチル
ペンチル基、1−イソプロピルブチル基、1,3,3−トリ
メチルブチル基、1,5−ジメチルヘキシル基、1−エチ
ル−2−メチルペンチル基、1−ブチル−2−メチルプ
ロピル基、1−エチル−3−メチルペンチル基、ジイソ
ブチルメチル基、1,5,9−トリメチルデシル基等が挙げ
られる。
【0053】β−分岐のアルキル基としては、2−メチ
ルプロピル基、2−メチルブチル基、2−メチルペンチ
ル基、2−エチルブチル基、2−メチルヘキシル基、2
−エチルペンチル基、2−メチルヘプチル基、2−エチ
ルヘキシル基、2−プロピルペンチル基等が挙げられ
る。
ルプロピル基、2−メチルブチル基、2−メチルペンチ
ル基、2−エチルブチル基、2−メチルヘキシル基、2
−エチルペンチル基、2−メチルヘプチル基、2−エチ
ルヘキシル基、2−プロピルペンチル基等が挙げられ
る。
【0054】β−分岐とα−分岐およびβ−分岐以外に
更に1個以上の分岐が存在するようなβ−多分岐のアル
キル基としては、 2,3−ジメチルブチル基、 2,4,4−ト
リメチルペンチル基、2−イソプロピル−5−メチルヘ
キシル基等が挙げられる。
更に1個以上の分岐が存在するようなβ−多分岐のアル
キル基としては、 2,3−ジメチルブチル基、 2,4,4−ト
リメチルペンチル基、2−イソプロピル−5−メチルヘ
キシル基等が挙げられる。
【0055】α−分岐およびβ−分岐以外に1個以上の
分岐が存在するようなその他の分岐のアルキル基として
は、3−メチルブチル基、3−メチルペンチル基、4−
メチルペンチル基、 3,3−ジメチルブチル基、3−メチ
ルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキ
シル基、 3,5,5−トリメチルヘキシル基、イソデシル
基、 3,7−ジメチルオクチル基、イソヘプタデシル基等
が挙げられる。
分岐が存在するようなその他の分岐のアルキル基として
は、3−メチルブチル基、3−メチルペンチル基、4−
メチルペンチル基、 3,3−ジメチルブチル基、3−メチ
ルヘキシル基、4−メチルヘキシル基、5−メチルヘキ
シル基、 3,5,5−トリメチルヘキシル基、イソデシル
基、 3,7−ジメチルオクチル基、イソヘプタデシル基等
が挙げられる。
【0056】β−位に水素原子が存在せず、β−位が3
級炭素を持ったようなアルキル基としては、 2,2−ジメ
チルプロピル基、 2,2−ジメチルブチル基、 1,2,2−ト
リメチルプロピル基、1−エチル− 2,2−ジメチルプロ
ピル基、 2,2−ジメチルペンチル基、 2,3−ジメチル−
2−イソプロピルブチル基等が挙げられる。
級炭素を持ったようなアルキル基としては、 2,2−ジメ
チルプロピル基、 2,2−ジメチルブチル基、 1,2,2−ト
リメチルプロピル基、1−エチル− 2,2−ジメチルプロ
ピル基、 2,2−ジメチルペンチル基、 2,3−ジメチル−
2−イソプロピルブチル基等が挙げられる。
【0057】一般式(I)〜(IV)において、R1 が炭
素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基である場
合、R2 は炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基となる。好ましくはR1 が炭素数1〜12の直鎖も
しくは分岐のアルキル基である場合であり、その場合、
R2 が炭素数1〜12の直鎖もしくは分岐のアルキル基
であることが好ましい。R2 で示される炭素数1〜21
の直鎖もしくは分岐のアルキル基としては、具体的には
R1 の具体例として前述したものが挙げられる。
素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基である場
合、R2 は炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基となる。好ましくはR1 が炭素数1〜12の直鎖も
しくは分岐のアルキル基である場合であり、その場合、
R2 が炭素数1〜12の直鎖もしくは分岐のアルキル基
であることが好ましい。R2 で示される炭素数1〜21
の直鎖もしくは分岐のアルキル基としては、具体的には
R1 の具体例として前述したものが挙げられる。
【0058】また、あるいはR1 、R2 は一緒になって
炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。具体的には
エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペン
タメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルテトラメ
チレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−メチルペ
ンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メ
チルペンタメチレン基、1,3 −ジメチルペンタメチレン
基、1,5 −ジメチルペンタメチレン基、2,2,4 −トリメ
チルペンタメチレン基、1−tert−ブチルペンタメチレ
ン基、3−tert−ブチルペンタメチレン基、1−イソプ
ロピル−3−メチルペンタメチレン基、ノナメチレン基
等が挙げられる。R3 で示される炭素数1〜8の直鎖も
しくは分岐のアルキル基としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、2
−エチルヘキシル基等が挙げられるが、メチル基、エチ
ル基が好ましい。
炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。具体的には
エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペン
タメチレン基、ヘキサメチレン基、1−メチルテトラメ
チレン基、2−メチルテトラメチレン基、1−メチルペ
ンタメチレン基、2−メチルペンタメチレン基、3−メ
チルペンタメチレン基、1,3 −ジメチルペンタメチレン
基、1,5 −ジメチルペンタメチレン基、2,2,4 −トリメ
チルペンタメチレン基、1−tert−ブチルペンタメチレ
ン基、3−tert−ブチルペンタメチレン基、1−イソプ
ロピル−3−メチルペンタメチレン基、ノナメチレン基
等が挙げられる。R3 で示される炭素数1〜8の直鎖も
しくは分岐のアルキル基としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、2
−エチルヘキシル基等が挙げられるが、メチル基、エチ
ル基が好ましい。
【0059】以上のような一般式(I)〜(IV)で示さ
れる多価エーテルアルコール誘導体としては、なかでも
多価エーテルアルコールのアルコール残基がソルビトー
ル由来のものであるのが好ましい。次に一般式(I)〜
(IV)で示される多価エーテルアルコール誘導体の具体
例(化合物名と構造式)を例示するが、本発明において
はこれらに限定されるものではない。
れる多価エーテルアルコール誘導体としては、なかでも
多価エーテルアルコールのアルコール残基がソルビトー
ル由来のものであるのが好ましい。次に一般式(I)〜
(IV)で示される多価エーテルアルコール誘導体の具体
例(化合物名と構造式)を例示するが、本発明において
はこれらに限定されるものではない。
【0060】
【化33】
【0061】
【化34】
【0062】
【化35】
【0063】多価エーテルアルコール誘導体の新規な
製造方法 次に、本発明の多価エーテルアルコール誘導体の製造方
法について詳細に説明する。本発明の製造方法は、式
(V)で示される6価アルコールと一般式(VI)で表さ
れるカルボニル化合物(ケトン又はアルデヒド)または
その反応性誘導体(ケタールあるいはアセタール)を酸
触媒下に反応させることにより環状アセタール類(アセ
タールもしくはケタール)を製造し、これを水素添加あ
るいはさらにアルキルキャップすることを特徴とするも
のである。これにより一般式(VII)〜(X)で表される
多価エーテルアルコール誘導体が製造される。当該反応
の反応式を示すと次のようになる。
製造方法 次に、本発明の多価エーテルアルコール誘導体の製造方
法について詳細に説明する。本発明の製造方法は、式
(V)で示される6価アルコールと一般式(VI)で表さ
れるカルボニル化合物(ケトン又はアルデヒド)または
その反応性誘導体(ケタールあるいはアセタール)を酸
触媒下に反応させることにより環状アセタール類(アセ
タールもしくはケタール)を製造し、これを水素添加あ
るいはさらにアルキルキャップすることを特徴とするも
のである。これにより一般式(VII)〜(X)で表される
多価エーテルアルコール誘導体が製造される。当該反応
の反応式を示すと次のようになる。
【0064】
【化36】
【0065】ここで、これらの式において、R1 は水素
原子または炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基であり、R1 が水素原子の場合、R2 は炭素数1〜
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基であり、好ましく
は炭素数1〜17、より好ましくは炭素数1〜13の直
鎖もしくは分岐のアルキル基である。R1 が炭素数1〜
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基である場合、R2
は炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基であ
る。好ましくはR1 が炭素数1〜13の直鎖もしくは分
岐のアルキル基であり、R2 が炭素数1〜13の直鎖も
しくは分岐のアルキル基である。
原子または炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキ
ル基であり、R1 が水素原子の場合、R2 は炭素数1〜
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基であり、好ましく
は炭素数1〜17、より好ましくは炭素数1〜13の直
鎖もしくは分岐のアルキル基である。R1 が炭素数1〜
21の直鎖もしくは分岐のアルキル基である場合、R2
は炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基であ
る。好ましくはR1 が炭素数1〜13の直鎖もしくは分
岐のアルキル基であり、R2 が炭素数1〜13の直鎖も
しくは分岐のアルキル基である。
【0066】また、R3 で示される炭素数1〜8の直鎖
もしくは分岐のアルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル
基、2−エチルヘキシル基等が挙げられるが、メチル
基、エチル基が好ましい。またR4 は炭素数1〜6の直
鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。Yはアルキル化剤
の残基を示す。
もしくは分岐のアルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル
基、2−エチルヘキシル基等が挙げられるが、メチル
基、エチル基が好ましい。またR4 は炭素数1〜6の直
鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。Yはアルキル化剤
の残基を示す。
【0067】即ち、式(V)で表されるソルビトールや
マンニトール等の6価アルコールと一般式(VI)で表さ
れるケトンやアルデヒドのようなカルボニル化合物、あ
るいは一般式(2−VI')で表されるその反応性誘導体か
ら酸触媒を用いて脱水反応、あるいは脱アルコール反応
をすることによって、一般式(2−XIV)等の環状アセタ
ール類をつくり、これを水素添加して一般式(2−X
VA ) 、(2−XVB ) 等で表される多価エーテルアルコ
ール又は多価エーテルアセタール(またはケタール)ア
ルコールを得る。あるいはさらにアルキルキャップする
ことにより一般式(2−XVI A ) 、(2−XVI B ) 等で
表されるキャップトエーテルを得る。
マンニトール等の6価アルコールと一般式(VI)で表さ
れるケトンやアルデヒドのようなカルボニル化合物、あ
るいは一般式(2−VI')で表されるその反応性誘導体か
ら酸触媒を用いて脱水反応、あるいは脱アルコール反応
をすることによって、一般式(2−XIV)等の環状アセタ
ール類をつくり、これを水素添加して一般式(2−X
VA ) 、(2−XVB ) 等で表される多価エーテルアルコ
ール又は多価エーテルアセタール(またはケタール)ア
ルコールを得る。あるいはさらにアルキルキャップする
ことにより一般式(2−XVI A ) 、(2−XVI B ) 等で
表されるキャップトエーテルを得る。
【0068】以上の反応に用いられる原料化合物につい
て以下に説明する。6価アルコール 本発明の方法に用いられる6価アルコールとしては、前
記の式(V)で示されるものが挙げられ、具体的にはヘ
キソースの還元で得られるヘキシトールであるソルビト
ール、マンニトール、ガラクチトール、イディトール、
タリトール、アリトール等が挙げられる。このうち、入
手性や価格の点からソルビトールが最も好ましい。
て以下に説明する。6価アルコール 本発明の方法に用いられる6価アルコールとしては、前
記の式(V)で示されるものが挙げられ、具体的にはヘ
キソースの還元で得られるヘキシトールであるソルビト
ール、マンニトール、ガラクチトール、イディトール、
タリトール、アリトール等が挙げられる。このうち、入
手性や価格の点からソルビトールが最も好ましい。
【0069】カルボニル化合物 本発明の方法に用いられる一般式(VI)で表されるカル
ボニル化合物にはケトン及びアルデヒドがあるが、この
うちケトンは、脂肪酸の高温脱炭酸二量化反応やオレフ
ィンの触媒酸化反応(ワッカー法)や第2級アルコール
の酸化、脱水素やシクロアルカンの酸化等によって容易
に得られる。ワッカー法の場合、得られるケトンは分布
を持つが精密蒸留により単品に分離精製することができ
る。ケトンの具体例を挙げると以下のようになるが必ず
しもこれらに限定されるものではない。
ボニル化合物にはケトン及びアルデヒドがあるが、この
うちケトンは、脂肪酸の高温脱炭酸二量化反応やオレフ
ィンの触媒酸化反応(ワッカー法)や第2級アルコール
の酸化、脱水素やシクロアルカンの酸化等によって容易
に得られる。ワッカー法の場合、得られるケトンは分布
を持つが精密蒸留により単品に分離精製することができ
る。ケトンの具体例を挙げると以下のようになるが必ず
しもこれらに限定されるものではない。
【0070】例えば、メチルアルキルケトンとしてアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メ
チルブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルヘキシ
ルケトン、メチルヘプチルケトン、メチルオクチルケト
ン、メチルノニルケトン、メチルウンデシルケトン、メ
チルヘプタデシルケトン等が挙げられる。
トン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メ
チルブチルケトン、メチルアミルケトン、メチルヘキシ
ルケトン、メチルヘプチルケトン、メチルオクチルケト
ン、メチルノニルケトン、メチルウンデシルケトン、メ
チルヘプタデシルケトン等が挙げられる。
【0071】ジアルキルケトンとして、ジエチルケト
ン、エチルプロピルケトン、エチルブチルケトン、ジプ
ロピルケトン、エチルペンチルケトン、エチルヘキシル
ケトン、ジブチルケトン、ジペンチルケトン、ジヘキシ
ルケトン、ジウンデシルケトン、ジヘプタデシルケトン
等が挙げられる。
ン、エチルプロピルケトン、エチルブチルケトン、ジプ
ロピルケトン、エチルペンチルケトン、エチルヘキシル
ケトン、ジブチルケトン、ジペンチルケトン、ジヘキシ
ルケトン、ジウンデシルケトン、ジヘプタデシルケトン
等が挙げられる。
【0072】多分岐ケトンとして、メチルイソプロピル
ケトン、メチル−sec−ブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、エチルイソプロピルケトン、メチル−te
rt−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイ
ソアミルケトン、イソプロピルプロピルケトン、メチル
ネオペンチルケトン、エチル−tert−ブチルケト
ン、6−メチル−2−ヘプタノン、4−メチル−3−ヘ
プタノン、2−メチル−3−ヘプタノン、5−メチル−
3−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、6,10−ジメチル
−2−ウンデカノン等が挙げられる。
ケトン、メチル−sec−ブチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、エチルイソプロピルケトン、メチル−te
rt−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイ
ソアミルケトン、イソプロピルプロピルケトン、メチル
ネオペンチルケトン、エチル−tert−ブチルケト
ン、6−メチル−2−ヘプタノン、4−メチル−3−ヘ
プタノン、2−メチル−3−ヘプタノン、5−メチル−
3−ヘプタノン、ジイソブチルケトン、6,10−ジメチル
−2−ウンデカノン等が挙げられる。
【0073】環状ケトンとして、シクロプロパノン、シ
クロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、
2−メチルシクロペンタノン、3−メチルシクロペンタ
ノン、2−メチルシクロヘキサノン、3−メチルシクロ
ヘキサノン、4−メチルシクロヘキサノン、シクロヘプ
タノン、2,4 −ジメチルシクロヘキサノン、2,6 −ジメ
チルシクロヘキサノン、3,3,5 −トリメチルシクロヘキ
サノン、2−tert−ブチルシクロヘキサノン、4−
tert−ブチルシクロヘキサノン、2−イソプロピル
−4−メチルシクロヘキサノン、シクロデカノン等が挙
げられる。
クロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、
2−メチルシクロペンタノン、3−メチルシクロペンタ
ノン、2−メチルシクロヘキサノン、3−メチルシクロ
ヘキサノン、4−メチルシクロヘキサノン、シクロヘプ
タノン、2,4 −ジメチルシクロヘキサノン、2,6 −ジメ
チルシクロヘキサノン、3,3,5 −トリメチルシクロヘキ
サノン、2−tert−ブチルシクロヘキサノン、4−
tert−ブチルシクロヘキサノン、2−イソプロピル
−4−メチルシクロヘキサノン、シクロデカノン等が挙
げられる。
【0074】環状アルキルケトンとして、メチルシクロ
ヘキシルケトン、5−(2',2',5' −トリメチルシクロヘ
キシル)−2−ペンタノン等が挙げられる。
ヘキシルケトン、5−(2',2',5' −トリメチルシクロヘ
キシル)−2−ペンタノン等が挙げられる。
【0075】また、用いられるアルデヒドは、例えば脂
肪アルコールの脱水素反応、オレフィンのヒドロホルミ
ル化反応(オキソ法)、脂肪酸クロライドのローゼムン
ト還元や脂肪酸よりの直接水添等によって容易に得られ
る。オキソ法の場合、直鎖体と分岐体が生成するが精密
蒸留により単品に分離精製することができる。当該アル
キルアルデヒドの具体例を挙げると以下のようになる
が、必ずしもこれらに限定されるものではない。
肪アルコールの脱水素反応、オレフィンのヒドロホルミ
ル化反応(オキソ法)、脂肪酸クロライドのローゼムン
ト還元や脂肪酸よりの直接水添等によって容易に得られ
る。オキソ法の場合、直鎖体と分岐体が生成するが精密
蒸留により単品に分離精製することができる。当該アル
キルアルデヒドの具体例を挙げると以下のようになる
が、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【0076】例えば、直鎖アルキルアルデヒドとして、
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアル
デヒド、バレルアルデヒド、カプロアルデヒド、ヘプタ
ナール、オクタナール、デシルアルデヒド、ドデカナー
ル、テトラデカナール、オクタデカナール、ベヘニンア
ルデヒド等が挙げられる。
アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアル
デヒド、バレルアルデヒド、カプロアルデヒド、ヘプタ
ナール、オクタナール、デシルアルデヒド、ドデカナー
ル、テトラデカナール、オクタデカナール、ベヘニンア
ルデヒド等が挙げられる。
【0077】α−分岐アルキルアルデヒドとして、イソ
ブチルアルデヒド、2−メチルブチルアルデヒド、2−
メチルペンタナール、2−エチルブタナール、2−メチ
ルヘキサナール、2−エチルペンタナール、2−メチル
ヘプタナール、2−エチルヘキサナール、2−プロピル
ペンタナール等が挙げられる。α−分岐でα−分岐以外
にさらに1個以上の分岐が存在するようなα−多分岐の
アルキル基としては 2,3−ジメチルブタナール、2,4,4
−トリメチルペンタナール、2−イソプロピル−5−メ
チルヘキサナール等が挙げられる。
ブチルアルデヒド、2−メチルブチルアルデヒド、2−
メチルペンタナール、2−エチルブタナール、2−メチ
ルヘキサナール、2−エチルペンタナール、2−メチル
ヘプタナール、2−エチルヘキサナール、2−プロピル
ペンタナール等が挙げられる。α−分岐でα−分岐以外
にさらに1個以上の分岐が存在するようなα−多分岐の
アルキル基としては 2,3−ジメチルブタナール、2,4,4
−トリメチルペンタナール、2−イソプロピル−5−メ
チルヘキサナール等が挙げられる。
【0078】α−分岐以外に1個以上の分岐が存在する
ような、その他の分岐アルキルアルデヒドとしては、イ
ソバレルアルデヒド、3−メチルペンタナール、4−メ
チルペンタナール、3,3 −ジメチルブタナール、3−メ
チルヘキサナール、4−メチルヘキサナール、5−メチ
ルヘキサナール、3,5,5 −トリメチルヘキサナール、イ
ソデシルアルデヒド、3,7 −ジメチルオクタナール、イ
ソオクタデカナール等が挙げられる。
ような、その他の分岐アルキルアルデヒドとしては、イ
ソバレルアルデヒド、3−メチルペンタナール、4−メ
チルペンタナール、3,3 −ジメチルブタナール、3−メ
チルヘキサナール、4−メチルヘキサナール、5−メチ
ルヘキサナール、3,5,5 −トリメチルヘキサナール、イ
ソデシルアルデヒド、3,7 −ジメチルオクタナール、イ
ソオクタデカナール等が挙げられる。
【0079】環状アルキルアルデヒドとしては、シクロ
ぺンチルアセトアルデヒド、シクロヘキシルアセトアル
デヒド等が挙げられる。
ぺンチルアセトアルデヒド、シクロヘキシルアセトアル
デヒド等が挙げられる。
【0080】カルボニル化合物の反応性誘導体 本発明に用いられるカルボニル化合物の反応性誘導体と
しては、上記に述べたケトン、アルデヒドと炭素数1〜
6の低級アルコールとから酸触媒によって容易に合成さ
れる一般式(2− VI')で示されるケタールとアセター
ルが挙げられる。R4 残基を与える、炭素数1〜6の低
級アルコールの具体例としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イ
ソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノ
ール、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ネオ
ペンチルアルコール、1−メチルブタノール、1,1 −ジ
メチルプロパノール、1−エチルプロパノール、ヘキサ
ノール、イソヘキサノール、2−エチルブタノール、1
−メチルアミルアルコール、1,3 −ジメチルブタノー
ル、1−エチルブタノール等が挙げられる。
しては、上記に述べたケトン、アルデヒドと炭素数1〜
6の低級アルコールとから酸触媒によって容易に合成さ
れる一般式(2− VI')で示されるケタールとアセター
ルが挙げられる。R4 残基を与える、炭素数1〜6の低
級アルコールの具体例としては、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イ
ソブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノ
ール、アミルアルコール、イソアミルアルコール、ネオ
ペンチルアルコール、1−メチルブタノール、1,1 −ジ
メチルプロパノール、1−エチルプロパノール、ヘキサ
ノール、イソヘキサノール、2−エチルブタノール、1
−メチルアミルアルコール、1,3 −ジメチルブタノー
ル、1−エチルブタノール等が挙げられる。
【0081】ケタール化反応 本発明において、式(V)で示される6価アルコールと
ケトンとの反応はケタール化反応であり、式(V)で示
される6価アルコールに対するケトンのモル比は1〜1
5、好ましくは1.5〜7.5である。この反応は、触
媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、
硫酸などの酸触媒を式(V)で示される6価アルコール
に対して0.05〜10モル%、好ましくは0.1〜7
モル%、さらに好ましくは0.5〜5モル%用いて行
う。
ケトンとの反応はケタール化反応であり、式(V)で示
される6価アルコールに対するケトンのモル比は1〜1
5、好ましくは1.5〜7.5である。この反応は、触
媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、
硫酸などの酸触媒を式(V)で示される6価アルコール
に対して0.05〜10モル%、好ましくは0.1〜7
モル%、さらに好ましくは0.5〜5モル%用いて行
う。
【0082】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケトンの沸点にもよるが40〜160
℃、好ましくは60〜100℃の温度にて生成する水を
除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で
反応を行うことも有効である。温度がこれらの範囲であ
ると、反応が好適に進行し、副反応による着色も少ない
傾向があるからである。また窒素流通条件下、窒素雰囲
気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間
は種々の条件によって変わりうるが通常5〜200時間
が好ましい。得られた環状ケタール(2−XIV )等は中
和したのち濾過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着処
理、晶析、蒸留などの操作によって精製することができ
る。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケトンの沸点にもよるが40〜160
℃、好ましくは60〜100℃の温度にて生成する水を
除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で
反応を行うことも有効である。温度がこれらの範囲であ
ると、反応が好適に進行し、副反応による着色も少ない
傾向があるからである。また窒素流通条件下、窒素雰囲
気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間
は種々の条件によって変わりうるが通常5〜200時間
が好ましい。得られた環状ケタール(2−XIV )等は中
和したのち濾過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着処
理、晶析、蒸留などの操作によって精製することができ
る。
【0083】アセタール化反応 また、式(V)で示される6価アルコールとアルデヒド
との反応はアセタール化反応であり、式(V)で示され
る6価アルコールに対するアルデヒドのモル比は1〜6
好ましくは1.5〜3.8である。この反応は触媒とし
てパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸な
どの酸触媒を式(V)で示される6価アルコールに対し
て0.01〜5モル%、好ましくは0.05〜3モル
%、さらに好ましくは0.1〜2モル%用いて行う。
との反応はアセタール化反応であり、式(V)で示され
る6価アルコールに対するアルデヒドのモル比は1〜6
好ましくは1.5〜3.8である。この反応は触媒とし
てパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸な
どの酸触媒を式(V)で示される6価アルコールに対し
て0.01〜5モル%、好ましくは0.05〜3モル
%、さらに好ましくは0.1〜2モル%用いて行う。
【0084】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアルデヒドの沸点にもよるが2
0〜130℃、好ましくは40〜100℃の温度にて生
成する水を除去しながら行うのが好ましい。場合によ
り、減圧下で反応を行うことも有効である。温度がこれ
らの範囲であると、反応が好適に進行し、副反応による
着色も少ない傾向があるからである。また、窒素流通条
件下、窒素雰囲気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでも
よい。反応時間は、種々の条件によって変わりうるが通
常1〜30時間が好ましい。得られた環状アセタール
(2−XIV )等は中和したのち濾過、洗浄等の前処理を
行ったのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操作によって
精製できる。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアルデヒドの沸点にもよるが2
0〜130℃、好ましくは40〜100℃の温度にて生
成する水を除去しながら行うのが好ましい。場合によ
り、減圧下で反応を行うことも有効である。温度がこれ
らの範囲であると、反応が好適に進行し、副反応による
着色も少ない傾向があるからである。また、窒素流通条
件下、窒素雰囲気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでも
よい。反応時間は、種々の条件によって変わりうるが通
常1〜30時間が好ましい。得られた環状アセタール
(2−XIV )等は中和したのち濾過、洗浄等の前処理を
行ったのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操作によって
精製できる。
【0085】トランスケタール化反応 また、式(V)で示される6価アルコールとケトンの反
応性誘導体であるケタール(2− VI') との反応はトラ
ンスケタール化反応であって、式(V)で示される6価
アルコールに対するケタール(2− VI') のモル比は1
〜15、好ましくは1.5〜7.5である。この反応は
触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、硫酸などの酸触媒を式(V) で示される6価アルコ
ールに対して0.05〜10モル%、好ましくは0.1
〜7モル%、さらに好ましくは0.5〜5モル%用いて
行う。
応性誘導体であるケタール(2− VI') との反応はトラ
ンスケタール化反応であって、式(V)で示される6価
アルコールに対するケタール(2− VI') のモル比は1
〜15、好ましくは1.5〜7.5である。この反応は
触媒としてパラトルエンスルホン酸、メタンスルホン
酸、硫酸などの酸触媒を式(V) で示される6価アルコ
ールに対して0.05〜10モル%、好ましくは0.1
〜7モル%、さらに好ましくは0.5〜5モル%用いて
行う。
【0086】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケタール(2−VI')及び生成する低級
アルコールの沸点にもよるが40〜160℃、好ましく
は60〜130℃の温度にて生成する低級アルコールを
除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で
反応を行うことも有効である。温度がこれらの範囲であ
ると、反応が好適に進行し、副反応による着色も少ない
傾向があるからである。また窒素流通条件下、窒素雰囲
気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間
は、種々の条件によって変わりうるが通常5〜200時
間が好ましい。得られた環状ケタール(2−XIV )等は
中和したのち濾過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着
処理、晶析、蒸留などの操作によって精製することがで
きる。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石
油エーテルなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶
媒中で、使用するケタール(2−VI')及び生成する低級
アルコールの沸点にもよるが40〜160℃、好ましく
は60〜130℃の温度にて生成する低級アルコールを
除去しながら行うのが好ましい。場合により、減圧下で
反応を行うことも有効である。温度がこれらの範囲であ
ると、反応が好適に進行し、副反応による着色も少ない
傾向があるからである。また窒素流通条件下、窒素雰囲
気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよい。反応時間
は、種々の条件によって変わりうるが通常5〜200時
間が好ましい。得られた環状ケタール(2−XIV )等は
中和したのち濾過、洗浄等の前処理を行ったのち、吸着
処理、晶析、蒸留などの操作によって精製することがで
きる。
【0087】トランスアセタール化反応 本発明における式(V)で示される6価アルコールとア
ルデヒドの反応性誘導体であるアセタール(2− VI')
との反応はトランスアセタール化反応であって、式
(V) で示される6価アルコールに対するアセタール
(2− VI') のモル比は1.5〜6、好ましくは2.7
〜3.8である。この反応は触媒としてパラトルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの酸触媒を式
(V) で示される6価アルコールに対して0.01〜5
モル%、好ましくは0.05〜3モル%、さらに好まし
くは0.1〜2モル%用いて行う。
ルデヒドの反応性誘導体であるアセタール(2− VI')
との反応はトランスアセタール化反応であって、式
(V) で示される6価アルコールに対するアセタール
(2− VI') のモル比は1.5〜6、好ましくは2.7
〜3.8である。この反応は触媒としてパラトルエンス
ルホン酸、メタンスルホン酸、硫酸などの酸触媒を式
(V) で示される6価アルコールに対して0.01〜5
モル%、好ましくは0.05〜3モル%、さらに好まし
くは0.1〜2モル%用いて行う。
【0088】この反応は無溶媒あるいはキシレン、トル
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアセタール(2− VI') 及び生
成する低級アルコールの沸点にもよるが20〜150
℃、好ましくは40〜130℃の温度にて生成する低級
アルコールを除去しながら行うのが好ましい。場合によ
り、減圧下で反応を行うことも有効である。温度がこれ
らの範囲であると、反応が好適に進行し、副反応による
着色も少ない傾向があるからである。また窒素流通条件
下、窒素雰囲気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよ
い。反応時間は、種々の条件によって変わりうるが通常
1〜30時間が好ましい。得られた環状アセタール(2
−XIV )等は中和したのち濾過、洗浄等の前処理を行っ
たのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操作によって精製
できる。
エン、ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ペンタン、ブタン、リグロ
イン、石油エーテルなどの不活性溶媒あるいはこれらの
混合溶媒中で、使用するアセタール(2− VI') 及び生
成する低級アルコールの沸点にもよるが20〜150
℃、好ましくは40〜130℃の温度にて生成する低級
アルコールを除去しながら行うのが好ましい。場合によ
り、減圧下で反応を行うことも有効である。温度がこれ
らの範囲であると、反応が好適に進行し、副反応による
着色も少ない傾向があるからである。また窒素流通条件
下、窒素雰囲気下及び乾燥空気雰囲気下のいずれでもよ
い。反応時間は、種々の条件によって変わりうるが通常
1〜30時間が好ましい。得られた環状アセタール(2
−XIV )等は中和したのち濾過、洗浄等の前処理を行っ
たのち、吸着処理、晶析、蒸留などの操作によって精製
できる。
【0089】水素添加反応 一般式(2−XIV )等で示される環状ケタールあるいは
環状アセタールの水素添加反応は、パラジウム、ロジウ
ム、ルテニウム、プラチナ等、通常の水素化分解触媒を
環状アセタールあるいは環状ケタールに対し、5〜50
00ppm添加し、水素圧を常圧〜250kg/c
m2 、温度を50〜250℃とし、1〜30時間反応さ
せればよい。上記水素化分解触媒は、これらをカーボ
ン、アルミナ、シリカ、ケイソウ土、酸化チタン等に
0.1〜20%担持させたものを使用してもよい。な
お、水素化分解触媒としては、パラジウムが特に好まし
く、そのpHは5〜8のものが特に好ましい。又、水分
はあらかじめ除去されていることが好ましい。この反応
は無溶媒でも、デカン、オクタン、イソオクタン、ヘプ
タン、ヘキサン、シクロヘキサン等の不活性溶媒を用い
ても良い。また、環状アセタール、環状ケタールの原料
である式(V)で示される6価アルコールやアルデヒ
ド、ケトンを添加してもよい。さらに、リン酸などの酸
性物質を微量添加してもよい。反応は密閉方式でも、水
素流通方式でもよい。
環状アセタールの水素添加反応は、パラジウム、ロジウ
ム、ルテニウム、プラチナ等、通常の水素化分解触媒を
環状アセタールあるいは環状ケタールに対し、5〜50
00ppm添加し、水素圧を常圧〜250kg/c
m2 、温度を50〜250℃とし、1〜30時間反応さ
せればよい。上記水素化分解触媒は、これらをカーボ
ン、アルミナ、シリカ、ケイソウ土、酸化チタン等に
0.1〜20%担持させたものを使用してもよい。な
お、水素化分解触媒としては、パラジウムが特に好まし
く、そのpHは5〜8のものが特に好ましい。又、水分
はあらかじめ除去されていることが好ましい。この反応
は無溶媒でも、デカン、オクタン、イソオクタン、ヘプ
タン、ヘキサン、シクロヘキサン等の不活性溶媒を用い
ても良い。また、環状アセタール、環状ケタールの原料
である式(V)で示される6価アルコールやアルデヒ
ド、ケトンを添加してもよい。さらに、リン酸などの酸
性物質を微量添加してもよい。反応は密閉方式でも、水
素流通方式でもよい。
【0090】この反応においては、アセタール又はケタ
ール炭素と酸素結合が還元的に切断され、エーテルとア
ルコールが生成するとともに分子間でアセタール又はケ
タールの交換反応が生じる。従って、トリアセタール又
はトリケタールを出発原料とするものであっても通常1
〜5の置換数のアルキルエーテルの混合物を得ることが
できる。同一置換数のアルキルエーテルでは通常1位及
び/又は6位の水酸基がエーテル化されたものが主成分
となる。また反応を途中で止めればアセタール環又はケ
タール環を含有するエーテルアルコールを得ることもで
きる。アルキルあるいはアルキリデンによる置換度の低
いものを得るにはアルデヒドやケトンあるいはその反応
性誘導体を6価アルコールに対して当量より少ない比率
で反応させて得たアセタールあるいはケタールを水素添
加すると良い。またトリアセタールやトリケタールに6
価アルコールを添加して水素添加することによっても置
換度の低いものを得ることができる。
ール炭素と酸素結合が還元的に切断され、エーテルとア
ルコールが生成するとともに分子間でアセタール又はケ
タールの交換反応が生じる。従って、トリアセタール又
はトリケタールを出発原料とするものであっても通常1
〜5の置換数のアルキルエーテルの混合物を得ることが
できる。同一置換数のアルキルエーテルでは通常1位及
び/又は6位の水酸基がエーテル化されたものが主成分
となる。また反応を途中で止めればアセタール環又はケ
タール環を含有するエーテルアルコールを得ることもで
きる。アルキルあるいはアルキリデンによる置換度の低
いものを得るにはアルデヒドやケトンあるいはその反応
性誘導体を6価アルコールに対して当量より少ない比率
で反応させて得たアセタールあるいはケタールを水素添
加すると良い。またトリアセタールやトリケタールに6
価アルコールを添加して水素添加することによっても置
換度の低いものを得ることができる。
【0091】アセタール環あるいはケタール環を含まな
い、アルキル置換度の低いエーテルアルコールを得るに
は、水添反応を途中で止め、パラトルエンスルホン酸、
硫酸、塩酸等を触媒として、メタノール水溶液やエタノ
ール水溶液中で加水分解してもよい。一方、アルキル基
の置換度の高いものを多く得るにはアセタールやケター
ルを添加し水素添加すればよい。
い、アルキル置換度の低いエーテルアルコールを得るに
は、水添反応を途中で止め、パラトルエンスルホン酸、
硫酸、塩酸等を触媒として、メタノール水溶液やエタノ
ール水溶液中で加水分解してもよい。一方、アルキル基
の置換度の高いものを多く得るにはアセタールやケター
ルを添加し水素添加すればよい。
【0092】このようにして得られたアルキル置換度の
異なる多価エーテルアルコール(2-XVA ) 等の混合物ま
たは多価エーテルアセタールアルコールもしくは多価エ
ーテルケタールアルコール( 2-XVB ) 等の混合物はこの
まま次のアルキルキャップ反応に用いても良いし、必要
に応じて目的のアルコールを単離して次の反応に使用し
てもよい。反応混合物から目的のアルコールを単離する
には濾過を行って触媒を除去したのち、常法により、例
えば溶媒留去、洗浄、再結晶、蒸留、クロマトグラフィ
ー等を単独または組み合わせて行うことができる。
異なる多価エーテルアルコール(2-XVA ) 等の混合物ま
たは多価エーテルアセタールアルコールもしくは多価エ
ーテルケタールアルコール( 2-XVB ) 等の混合物はこの
まま次のアルキルキャップ反応に用いても良いし、必要
に応じて目的のアルコールを単離して次の反応に使用し
てもよい。反応混合物から目的のアルコールを単離する
には濾過を行って触媒を除去したのち、常法により、例
えば溶媒留去、洗浄、再結晶、蒸留、クロマトグラフィ
ー等を単独または組み合わせて行うことができる。
【0093】アルキルキャップ化反応 このようにして得られた多価エーテルアルコール(2−
XVA ) 及び多価エーテルケタールアルコール又は多価エ
ーテルアセタールアルコール(2−XVB ) 等のヒドロキ
シル基部分に、ナトリウム、NaH、NaOCH3 、N
aOH、KOH等の塩基を作用させて当該アルコラート
を作り、続いてハロゲン化アルキルや硫酸ジアルキル、
アルキルトシレート等のアルキル化剤によってエーテル
キャップ化(アルキルキャップ化)を行えば、一般式
(2− XVIA ) 及び (2− XVIB )で示されるエーテル
化合物が得られる。
XVA ) 及び多価エーテルケタールアルコール又は多価エ
ーテルアセタールアルコール(2−XVB ) 等のヒドロキ
シル基部分に、ナトリウム、NaH、NaOCH3 、N
aOH、KOH等の塩基を作用させて当該アルコラート
を作り、続いてハロゲン化アルキルや硫酸ジアルキル、
アルキルトシレート等のアルキル化剤によってエーテル
キャップ化(アルキルキャップ化)を行えば、一般式
(2− XVIA ) 及び (2− XVIB )で示されるエーテル
化合物が得られる。
【0094】ここで用いるハロゲン化アルキルとして
は、以下のハロゲン化低級アルキルが挙げられる。例え
ば、塩化直鎖アルキルとして塩化メチル、塩化エチル、
塩化プロピル、塩化ブチル、塩化アミル、塩化ヘキシ
ル、塩化オクチル等が挙げられる。塩化分岐アルキルと
して塩化イソプロピル、塩化イソブチル、塩化sec−
ブチル、塩化イソアミル、塩化ネオペンチル、塩化1−
メチルブチル、塩化1−エチルプロピル、塩化イソヘキ
シル、塩化2−エチルブチル、塩化1−メチルアミル、
塩化1−エチルブチル、塩化2−エチルヘキシル等が挙
げられる。臭化直鎖アルキルとして臭化メチル、臭化エ
チル、臭化プロピル、臭化ブチル、臭化アミル、臭化ヘ
キシル等が挙げられる。臭化分岐アルキルとして臭化イ
ソプロピル、臭化イソブチル、臭化sec−ブチル、臭
化イソアミル、臭化ネオペンチル、臭化1−メチルブチ
ル、臭化1−エチルプロピル、臭化イソヘキシル、臭化
2−エチルブチル、臭化1−メチルアミル、臭化1−エ
チルブチル、臭化2−エチルヘキシル等が挙げられる。
沃化直鎖アルキルとして沃化メチル、沃化エチル、沃化
プロピル、沃化ブチル、沃化アミル、沃化ヘキシル等が
挙げられる。沃化分岐アルキルとして沃化イソプロピ
ル、沃化イソブチル、沃化sec−ブチル、沃化イソア
ミル、沃化ネオペンチル、沃化1−メチルブチル、沃化
1−エチルプロピル、沃化イソヘキシル、沃化2−エチ
ルブチル、沃化1−メチルアミル、沃化1,3−ジメチ
ルブチル、沃化1−エチルブチル等が挙げられる。これ
らのハロゲン化アルキルは反応性の点から1級アルキル
のものが好ましい。また塩素や臭素や沃素を残留させな
いために沸点が50℃以下のものが好ましい。
は、以下のハロゲン化低級アルキルが挙げられる。例え
ば、塩化直鎖アルキルとして塩化メチル、塩化エチル、
塩化プロピル、塩化ブチル、塩化アミル、塩化ヘキシ
ル、塩化オクチル等が挙げられる。塩化分岐アルキルと
して塩化イソプロピル、塩化イソブチル、塩化sec−
ブチル、塩化イソアミル、塩化ネオペンチル、塩化1−
メチルブチル、塩化1−エチルプロピル、塩化イソヘキ
シル、塩化2−エチルブチル、塩化1−メチルアミル、
塩化1−エチルブチル、塩化2−エチルヘキシル等が挙
げられる。臭化直鎖アルキルとして臭化メチル、臭化エ
チル、臭化プロピル、臭化ブチル、臭化アミル、臭化ヘ
キシル等が挙げられる。臭化分岐アルキルとして臭化イ
ソプロピル、臭化イソブチル、臭化sec−ブチル、臭
化イソアミル、臭化ネオペンチル、臭化1−メチルブチ
ル、臭化1−エチルプロピル、臭化イソヘキシル、臭化
2−エチルブチル、臭化1−メチルアミル、臭化1−エ
チルブチル、臭化2−エチルヘキシル等が挙げられる。
沃化直鎖アルキルとして沃化メチル、沃化エチル、沃化
プロピル、沃化ブチル、沃化アミル、沃化ヘキシル等が
挙げられる。沃化分岐アルキルとして沃化イソプロピ
ル、沃化イソブチル、沃化sec−ブチル、沃化イソア
ミル、沃化ネオペンチル、沃化1−メチルブチル、沃化
1−エチルプロピル、沃化イソヘキシル、沃化2−エチ
ルブチル、沃化1−メチルアミル、沃化1,3−ジメチ
ルブチル、沃化1−エチルブチル等が挙げられる。これ
らのハロゲン化アルキルは反応性の点から1級アルキル
のものが好ましい。また塩素や臭素や沃素を残留させな
いために沸点が50℃以下のものが好ましい。
【0095】また、硫酸ジアルキルとしては、以下の硫
酸ジ低級アルキルが挙げられる。例えば、硫酸ジ直鎖ア
ルキルとして硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、硫酸ジプロ
ピル、硫酸ジブチル、硫酸ジアミル、硫酸ジヘキシル等
が挙げられる。硫酸ジ分岐アルキルとして硫酸ジイソプ
ロピル、硫酸ジイソブチル、硫酸ジsec−ブチル、硫
酸ジイソアミル、硫酸ジネオペンチル、硫酸ジ(1−メ
チルブチル)、硫酸ジ(1−エチルプロピル)、硫酸ジ
イソヘキシル、硫酸ジ(2−エチルブチル)、硫酸ジ
(1−メチルアミル)、硫酸ジ(1−エチルブチル)等
が挙げられる。これらの硫酸ジアルキルは反応性の点か
ら1級アルキル基のものが好ましい。
酸ジ低級アルキルが挙げられる。例えば、硫酸ジ直鎖ア
ルキルとして硫酸ジメチル、硫酸ジエチル、硫酸ジプロ
ピル、硫酸ジブチル、硫酸ジアミル、硫酸ジヘキシル等
が挙げられる。硫酸ジ分岐アルキルとして硫酸ジイソプ
ロピル、硫酸ジイソブチル、硫酸ジsec−ブチル、硫
酸ジイソアミル、硫酸ジネオペンチル、硫酸ジ(1−メ
チルブチル)、硫酸ジ(1−エチルプロピル)、硫酸ジ
イソヘキシル、硫酸ジ(2−エチルブチル)、硫酸ジ
(1−メチルアミル)、硫酸ジ(1−エチルブチル)等
が挙げられる。これらの硫酸ジアルキルは反応性の点か
ら1級アルキル基のものが好ましい。
【0096】またアルキルトシレートとしては、以下の
低級アルキルトシレートが挙げられる。例えば、直鎖ア
ルキルトシレートとしてメチルトシレート、エチルトシ
レート、プロピルトシレート、ブチルトシレート、アミ
ルトシレート、ヘキシルトシレート等が挙げられる。分
岐アルキルトシレートとしてイソプロピルトシレート、
イソブチルトシレート、sec−ブチルトシレート、イ
ソアミルトシレート、ネオペンチルトシレート、1−メ
チルブチルトシレート、1−エチルプロピルトシレー
ト、イソヘキシルトシレート、2−エチルブチルトシレ
ート、1−メチルアミルトシレート、1,3−ジメチル
トシレート、1−エチルブチルトシレート等が挙げられ
る。これらのアルキルトシレートは反応性の点から1級
アルキルのものが好ましい。
低級アルキルトシレートが挙げられる。例えば、直鎖ア
ルキルトシレートとしてメチルトシレート、エチルトシ
レート、プロピルトシレート、ブチルトシレート、アミ
ルトシレート、ヘキシルトシレート等が挙げられる。分
岐アルキルトシレートとしてイソプロピルトシレート、
イソブチルトシレート、sec−ブチルトシレート、イ
ソアミルトシレート、ネオペンチルトシレート、1−メ
チルブチルトシレート、1−エチルプロピルトシレー
ト、イソヘキシルトシレート、2−エチルブチルトシレ
ート、1−メチルアミルトシレート、1,3−ジメチル
トシレート、1−エチルブチルトシレート等が挙げられ
る。これらのアルキルトシレートは反応性の点から1級
アルキルのものが好ましい。
【0097】一方、多価エーテルアルコール (2-XVA )
等、及び多価エーテルケタールアルコール又は多価エー
テルアセタールアルコール (2-XVB )等の1水酸基当た
り対する塩基の比率(モル比)は1.0〜3.0、好ま
しくは1.0〜1.5であり、アルキル化剤の比率(モ
ル比)は1.0〜3.0、好ましくは1.0〜1.5で
ある。まずアルコラート化反応はキシレン、トルエン、
ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石油エー
テル、ジメチルスルホキシド、1,2−ジメトキシエタ
ンなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶媒中で、
用いる溶媒の沸点、安定性にもよるが、室温〜110℃
の温度で行い、引き続きアルキル化剤の反応性にもよる
が、室温〜130℃の温度でアルキル化剤を徐々に滴下
しながら行う。アルコラート化反応は0.5時間〜2時
間、O−アルキル化反応は発熱の程度にもよるが制御で
きる範囲内で0.5〜6時間が好ましい。反応終了後、
未反応のアルコラート及びアルキル化剤を水酸化ナトリ
ウム等のアルカリ水溶液で分解したのち、得られた一般
式(2− XVIA )及び (2− XVIB )で示されるエーテ
ル化合物は、抽出、濾過、洗浄等の前処理を行ったの
ち、吸着処理、スチーミング、脱水、蒸留等の操作によ
って、精製することができる。
等、及び多価エーテルケタールアルコール又は多価エー
テルアセタールアルコール (2-XVB )等の1水酸基当た
り対する塩基の比率(モル比)は1.0〜3.0、好ま
しくは1.0〜1.5であり、アルキル化剤の比率(モ
ル比)は1.0〜3.0、好ましくは1.0〜1.5で
ある。まずアルコラート化反応はキシレン、トルエン、
ベンゼン、オクタン、イソオクタン、ヘプタン、ヘキサ
ン、シクロヘキサン、ペンタン、リグロイン、石油エー
テル、ジメチルスルホキシド、1,2−ジメトキシエタ
ンなどの不活性溶媒中あるいはこれらの混合溶媒中で、
用いる溶媒の沸点、安定性にもよるが、室温〜110℃
の温度で行い、引き続きアルキル化剤の反応性にもよる
が、室温〜130℃の温度でアルキル化剤を徐々に滴下
しながら行う。アルコラート化反応は0.5時間〜2時
間、O−アルキル化反応は発熱の程度にもよるが制御で
きる範囲内で0.5〜6時間が好ましい。反応終了後、
未反応のアルコラート及びアルキル化剤を水酸化ナトリ
ウム等のアルカリ水溶液で分解したのち、得られた一般
式(2− XVIA )及び (2− XVIB )で示されるエーテ
ル化合物は、抽出、濾過、洗浄等の前処理を行ったの
ち、吸着処理、スチーミング、脱水、蒸留等の操作によ
って、精製することができる。
【0098】多価エーテルアルコール誘導体を基油と
する冷凍機油およびハイドロフルオロカーボンを含む冷
凍機作動流体用組成物 本発明の冷凍機作動流体用組成物は、一般式(XI)で示
される多価エーテルアルコール誘導体を冷凍機油の基油
とすることを特徴とする。
する冷凍機油およびハイドロフルオロカーボンを含む冷
凍機作動流体用組成物 本発明の冷凍機作動流体用組成物は、一般式(XI)で示
される多価エーテルアルコール誘導体を冷凍機油の基油
とすることを特徴とする。
【0099】一般式(XI)において、R1 〜R6 は同一
でも異なっていても良く、それぞれ炭素数1〜14の直
鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示す。但し、R1
〜R6 の合計炭素数は8〜40である。
でも異なっていても良く、それぞれ炭素数1〜14の直
鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示す。但し、R1
〜R6 の合計炭素数は8〜40である。
【0100】一般に、ハイドロフルオロカーボンとの相
溶性は化合物の極性が高くなるほど優れており、逆に電
気絶縁性は化合物の極性が低くなるほど優れているた
め、冷凍機油においては基油となる化合物の極性のバラ
ンスが重要である。このため、粘度を考慮すると、3
価、4価のような価数の低いアルコール残基を用いたア
ルキルエーテルの場合は所定の粘度を得るために炭素数
の大きいアルキル基のエーテルにする必要があり、その
ため、極性が低くなり、ハイドロフルオロカーボンとの
相溶性が悪くなる。逆に12価や13価のような価数の
高いアルコール残基を用いる場合は、所定の粘度を得る
ためには炭素数の小さいアルキル基のエーテルにする必
要があり、そのため極性が高くなり、電気絶縁性が悪く
なる。したがって、6価のアルコール残基が前記のバラ
ンスを良好にする上で特に好ましいものとなる。
溶性は化合物の極性が高くなるほど優れており、逆に電
気絶縁性は化合物の極性が低くなるほど優れているた
め、冷凍機油においては基油となる化合物の極性のバラ
ンスが重要である。このため、粘度を考慮すると、3
価、4価のような価数の低いアルコール残基を用いたア
ルキルエーテルの場合は所定の粘度を得るために炭素数
の大きいアルキル基のエーテルにする必要があり、その
ため、極性が低くなり、ハイドロフルオロカーボンとの
相溶性が悪くなる。逆に12価や13価のような価数の
高いアルコール残基を用いる場合は、所定の粘度を得る
ためには炭素数の小さいアルキル基のエーテルにする必
要があり、そのため極性が高くなり、電気絶縁性が悪く
なる。したがって、6価のアルコール残基が前記のバラ
ンスを良好にする上で特に好ましいものとなる。
【0101】一般式(XI)に示される化合物において、
R1 O〜R6 Oを除いた6価アルコール残基を与える6
価アルコールとしては、前記の「多価エーテルアルコ
ール誘導体の新規な製造方法」の項において原料化合物
として具体的に例示したものが挙げられる。これらのう
ち、入手性や価格の点からソルビトールが最も好まし
い。
R1 O〜R6 Oを除いた6価アルコール残基を与える6
価アルコールとしては、前記の「多価エーテルアルコ
ール誘導体の新規な製造方法」の項において原料化合物
として具体的に例示したものが挙げられる。これらのう
ち、入手性や価格の点からソルビトールが最も好まし
い。
【0102】一般式(XI) において、R1 〜R6 で示さ
れる炭素数1〜14の直鎖でも分岐でも環状でもよいア
ルキル基としては具体的には以下のものが挙げられる。
れる炭素数1〜14の直鎖でも分岐でも環状でもよいア
ルキル基としては具体的には以下のものが挙げられる。
【0103】すなわち、直鎖もしくは分岐のアルキル基
としては、前記の「本発明の新規な多価エーテルアル
コール誘導体」の項においてR1 として示した炭素数1
〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基の具体例のうち
炭素数1〜14のものが挙げられる他、α−位に水素原
子が存在せず、α−位が3級炭素を持ったようなアルキ
ル基として、1,1 −ジメチルエチル基、1−メチルシク
ロプロピル基、1,1 −ジメチルプロピル基、1−メチル
シクロブチル基、1,1 −ジメチルブチル基、1,1,2 −ト
リメチルプロピル基、1−メチルシクロペンチル基、1,
1 −ジメチルペンチル基、1−メチル−1−エチルブチ
ル基、1,1 −ジエチルプロピル基、1,1−ジエチルブチ
ル基等が挙げられる。
としては、前記の「本発明の新規な多価エーテルアル
コール誘導体」の項においてR1 として示した炭素数1
〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基の具体例のうち
炭素数1〜14のものが挙げられる他、α−位に水素原
子が存在せず、α−位が3級炭素を持ったようなアルキ
ル基として、1,1 −ジメチルエチル基、1−メチルシク
ロプロピル基、1,1 −ジメチルプロピル基、1−メチル
シクロブチル基、1,1 −ジメチルブチル基、1,1,2 −ト
リメチルプロピル基、1−メチルシクロペンチル基、1,
1 −ジメチルペンチル基、1−メチル−1−エチルブチ
ル基、1,1 −ジエチルプロピル基、1,1−ジエチルブチ
ル基等が挙げられる。
【0104】また、環状のアルキル基としては、α−位
で環状のアルキル基として、シクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
ロヘプチル基、2−メチルシクロペンチル基、3−メチ
ルシクロペンチル基、2−メチルシクロヘキシル基、3
−メチルシクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル
基、2,4 −ジメチルシクロヘキシル基、2,6 −ジメチル
シクロヘキシル基、3,3,5 −トリメチルシクロヘキシル
基、2-tert- ブチルシクロヘキシル基、4-tert- ブチル
シクロヘキシル基、2−イソプロピル−4−メチルシク
ロヘキシル基、シクロデシル基等が挙げられる
で環状のアルキル基として、シクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シク
ロヘプチル基、2−メチルシクロペンチル基、3−メチ
ルシクロペンチル基、2−メチルシクロヘキシル基、3
−メチルシクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル
基、2,4 −ジメチルシクロヘキシル基、2,6 −ジメチル
シクロヘキシル基、3,3,5 −トリメチルシクロヘキシル
基、2-tert- ブチルシクロヘキシル基、4-tert- ブチル
シクロヘキシル基、2−イソプロピル−4−メチルシク
ロヘキシル基、シクロデシル基等が挙げられる
【0105】1個以上の炭素を介する環状のアルキル基
として、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチ
ル基、1−メチル−4−(2'2'5'−トリメチルシクロヘ
キシル)ブチル基、1−シクロヘキシルエチル基等が挙
げられる。
として、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチ
ル基、1−メチル−4−(2'2'5'−トリメチルシクロヘ
キシル)ブチル基、1−シクロヘキシルエチル基等が挙
げられる。
【0106】α−位、β−位共に水素原子が存在せず、
α−位、β−位が共に3級炭素を持ったようなアルキル
基としては、1,1,2,2−テトラメチルプロピル
基、1,1,2,2−テトラメチルブチル基、1,1,
2,2−テトラメチルヘキシル基等が挙げられる。
α−位、β−位が共に3級炭素を持ったようなアルキル
基としては、1,1,2,2−テトラメチルプロピル
基、1,1,2,2−テトラメチルブチル基、1,1,
2,2−テトラメチルヘキシル基等が挙げられる。
【0107】ハイドロフルオロカーボンとの相溶性と電
気絶縁性を満足させるためには一分子中の全炭素原子数
と全酸素原子数の比(C/O)が2.5〜7.5の範囲
であることが好ましく、さらに好ましくは3.0〜7.
0の範囲、特に好ましくは4.0〜6.0の範囲であ
る。
気絶縁性を満足させるためには一分子中の全炭素原子数
と全酸素原子数の比(C/O)が2.5〜7.5の範囲
であることが好ましく、さらに好ましくは3.0〜7.
0の範囲、特に好ましくは4.0〜6.0の範囲であ
る。
【0108】したがってアルキル基の合計炭素数は通常
8〜40であり、なかでも9〜39が好ましく、さらに
好ましくは12〜36、特に好ましくは18〜30であ
る。合計炭素数が8より小さいと電気絶縁性が劣り、合
計炭素数が40を超えるとハイドロフルオロカーボンと
の相溶性が劣る。
8〜40であり、なかでも9〜39が好ましく、さらに
好ましくは12〜36、特に好ましくは18〜30であ
る。合計炭素数が8より小さいと電気絶縁性が劣り、合
計炭素数が40を超えるとハイドロフルオロカーボンと
の相溶性が劣る。
【0109】またハイドロフルオロカーボンとの相溶性
の点から、アルキル基の構造については直鎖構造よりも
分岐や環状構造が好ましく、環状構造よりも分岐構造が
さらに好ましい。また不飽和結合を持つアルケニル基や
アルキニル基は熱安定性が悪くなるので好ましくない。
の点から、アルキル基の構造については直鎖構造よりも
分岐や環状構造が好ましく、環状構造よりも分岐構造が
さらに好ましい。また不飽和結合を持つアルケニル基や
アルキニル基は熱安定性が悪くなるので好ましくない。
【0110】このような一般式(XI)で示される多価エー
テルアルコール誘導体は、以下にその具体例(化合物名
と構造式)を例示するが、必ずしもこれらに限定される
ものではなく、一般式(XIIIAA)又は(XIIIBB)で示さ
れる化合物も含まれる。
テルアルコール誘導体は、以下にその具体例(化合物名
と構造式)を例示するが、必ずしもこれらに限定される
ものではなく、一般式(XIIIAA)又は(XIIIBB)で示さ
れる化合物も含まれる。
【0111】1)2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6
−ジ−O−(3,5,5 −トリメチルヘキシル)ソルビトー
ル
−ジ−O−(3,5,5 −トリメチルヘキシル)ソルビトー
ル
【0112】
【化37】
【0113】2)2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −
トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール
トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール
【0114】
【化38】
【0115】3)1,6 −ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘ
キシル)−ジ−O−メチル−ジ−O−(3,5,5−トリメチ
ルヘキシル)ソルビトール
キシル)−ジ−O−メチル−ジ−O−(3,5,5−トリメチ
ルヘキシル)ソルビトール
【0116】
【化39】
【0117】4)2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチル−1
−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール
−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール
【0118】
【化40】
【0119】5)2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6
−ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
−ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
【0120】
【化41】
【0121】6)2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −
トリ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
トリ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
【0122】
【化42】
【0123】7)1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)−ジ−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチリデ
ン)ソルビトール
ル)−ジ−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチリデ
ン)ソルビトール
【0124】
【化43】
【0125】8)1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチル)−O−
(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール
ル)−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチル)−O−
(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール
【0126】
【化44】
【0127】9)2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6
−ジ−O−(1−メチルプロピル)ソルビトール
−ジ−O−(1−メチルプロピル)ソルビトール
【0128】
【化45】
【0129】10)2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6
−トリ−O−(1−メチルプロピル)ソルビトール
−トリ−O−(1−メチルプロピル)ソルビトール
【0130】
【化46】
【0131】11)1,6 −ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)−ジ−O−メチル−O−(1−メチルプロピリデ
ン)ソルビトール
ル)−ジ−O−メチル−O−(1−メチルプロピリデ
ン)ソルビトール
【0132】
【化47】
【0133】12)1,6 −ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)−ジ−O−メチル−ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)ソルビトール
ル)−ジ−O−メチル−ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)ソルビトール
【0134】
【化48】
【0135】13)1,6 −ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)−ジ−O−エチル−ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)ソルビトール
ル)−ジ−O−エチル−ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)ソルビトール
【0136】
【化49】
【0137】14)2,4,5 −トリ−O−エチル−1,3,6
−トリ−O−(1,3 −ジメチルブチル)ソルビトール
−トリ−O−(1,3 −ジメチルブチル)ソルビトール
【0138】
【化50】
【0139】15)2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,
6 −ジ−O−(シクロヘキシル)ソルビトール
6 −ジ−O−(シクロヘキシル)ソルビトール
【0140】
【化51】
【0141】16)2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6
−トリ−O−(シクロヘキシル)ソルビトール
−トリ−O−(シクロヘキシル)ソルビトール
【0142】
【化52】
【0143】17)1,6 −ジ−O−(シクロヘキシル)
−ジ−O−メチル−ジ−O−(シクロヘキシル)ソルビ
トール
−ジ−O−メチル−ジ−O−(シクロヘキシル)ソルビ
トール
【0144】
【化53】
【0145】18)2,3,4,5 −テトラ−O−イソプロピ
ル−1,6 −ジ−O−(シクロヘキシル)ソルビトール
ル−1,6 −ジ−O−(シクロヘキシル)ソルビトール
【0146】
【化54】
【0147】19)O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)
−ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−トリ−O−(エチ
ル)ソルビトール
−ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−トリ−O−(エチ
ル)ソルビトール
【0148】
【化55】
【0149】20)O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)
−ジ−O−(2−メチルプロピル)−トリ−O−(ブチ
ル)ソルビトール
−ジ−O−(2−メチルプロピル)−トリ−O−(ブチ
ル)ソルビトール
【0150】
【化56】
【0151】21)ジ−O−(2−エチルヘキシル)−
O−(1−メチルプロピル)−トリ−O−(メチル)ソ
ルビトール
O−(1−メチルプロピル)−トリ−O−(メチル)ソ
ルビトール
【0152】
【化57】
【0153】22)ジ−O−(1−イソプロピル−2−
メチルプロピル)−O−(1−メチルプロピル)−トリ
−O−(エチル)ソルビトール
メチルプロピル)−O−(1−メチルプロピル)−トリ
−O−(エチル)ソルビトール
【0154】
【化58】
【0155】23)トリ−O−(1,3−ジメチルブチル)
−O−(シクロヘキシル)−ジ−O−(メチル)ソルビ
トール
−O−(シクロヘキシル)−ジ−O−(メチル)ソルビ
トール
【0156】
【化59】
【0157】24)ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−
ジ−O−(1−メチルプロピル)ジ−O−(2−メチル
プロピル)
ジ−O−(1−メチルプロピル)ジ−O−(2−メチル
プロピル)
【0158】
【化60】
【0159】25)2,4,5 −トリ−O−エチル−1,3,6
−トリ−O−(1−メチルプロピル)ソルビトール
−トリ−O−(1−メチルプロピル)ソルビトール
【0160】
【化61】
【0161】26)2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチル−
1−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
1−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
【0162】
【化62】
【0163】27)1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)−ジ−O−メチル−ジ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)ソルビトール
ル)−ジ−O−メチル−ジ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)ソルビトール
【0164】
【化63】
【0165】以上のような一般式(XI)で示される多価
エーテルアルコール誘導体の製造は、種々の方法で行う
ことが可能である。例えばヘキシトールの反応性誘導体
であるヘキシトールのアルコラートとアルキルハライド
との反応で製造できる。しかし、この方法では塩素、臭
素あるいはヨウ素等のハロゲン元素が生成物には微量残
留し、熱安定性を悪くするため、好ましくない。
エーテルアルコール誘導体の製造は、種々の方法で行う
ことが可能である。例えばヘキシトールの反応性誘導体
であるヘキシトールのアルコラートとアルキルハライド
との反応で製造できる。しかし、この方法では塩素、臭
素あるいはヨウ素等のハロゲン元素が生成物には微量残
留し、熱安定性を悪くするため、好ましくない。
【0166】したがって前述の「多価エーテルアルコ
ール誘導体の新規な製造方法」の項において示した方法
が塩素、臭素あるいはヨウ素等のハロゲン元素を含有す
る化合物を用いず、安価で簡便な製造法である。
ール誘導体の新規な製造方法」の項において示した方法
が塩素、臭素あるいはヨウ素等のハロゲン元素を含有す
る化合物を用いず、安価で簡便な製造法である。
【0167】すなわち、一般式(XI)で示される多価エ
ーテルアルコール誘導体の製造は、式(V)で示される
6価アルコールと一般式(XII) で示されるカルボニル化
合物(ケトンあるいはアルデヒド)またはその反応性誘
導体(ケタールあるいはアセタール)の1種類以上から
ケタール化もしくはアセタール化またはトランスケター
ル化もしくはトランスアセタール化により環状ケタール
あるいは環状アセタールを合成し、これを水素添加して
多価エーテルアルコールを得、さらにこれにアルキルキ
ャップして合成される。
ーテルアルコール誘導体の製造は、式(V)で示される
6価アルコールと一般式(XII) で示されるカルボニル化
合物(ケトンあるいはアルデヒド)またはその反応性誘
導体(ケタールあるいはアセタール)の1種類以上から
ケタール化もしくはアセタール化またはトランスケター
ル化もしくはトランスアセタール化により環状ケタール
あるいは環状アセタールを合成し、これを水素添加して
多価エーテルアルコールを得、さらにこれにアルキルキ
ャップして合成される。
【0168】一般式(XII)において、R7 は水素原子、
又は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキ
ル基を示し、R8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしく
は環状のアルキル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒
になって炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。但
し、R7 とR8 はR7 とR8 のα位のいずれかに少なく
とも1個の水素原子を有するアルキル基であり、R7 と
R8 の合計炭素数は1〜13である。
又は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキ
ル基を示し、R8 は炭素数1〜13の直鎖、分岐もしく
は環状のアルキル基を示す。あるいはR7 とR8 は一緒
になって炭素数2〜13のアルキレン基を形成する。但
し、R7 とR8 はR7 とR8 のα位のいずれかに少なく
とも1個の水素原子を有するアルキル基であり、R7 と
R8 の合計炭素数は1〜13である。
【0169】本反応の反応スキームは、例えば次のよう
になる
になる
【0170】
【化64】
【0171】この反応では多価エーテルアルコール(3-
XVIII)として、主に2モル付加体(3− XVIIIA ) 、3
モル付加体(3− XVIIIB ) 、4モル付加体(3− XVI
IIC) と少量の1モル付加体(3− XVIIID ) 、5モル
付加体(3− XVIIIE ) が生じる。
XVIII)として、主に2モル付加体(3− XVIIIA ) 、3
モル付加体(3− XVIIIB ) 、4モル付加体(3− XVI
IIC) と少量の1モル付加体(3− XVIIID ) 、5モル
付加体(3− XVIIIE ) が生じる。
【0172】
【化65】
【0173】ここで、式中のR1 〜R6 は、一般式(X
I)におけるものと同義であるが、前述の反応スキーム
に対応させると、それぞれが一般式(XII) のカルボニル
化合物の残基またはその反応性誘導体の残基に相当し、
下記の一般式で示すことができる。 アルキル基:−CHR7 R8
I)におけるものと同義であるが、前述の反応スキーム
に対応させると、それぞれが一般式(XII) のカルボニル
化合物の残基またはその反応性誘導体の残基に相当し、
下記の一般式で示すことができる。 アルキル基:−CHR7 R8
【0174】このような多価エーテルアルコール(3-XV
III )は蒸留、クロマトグラフィ、液−液抽出等によっ
て( 3-XVIIIA ) 〜( 3-XVIIIE ) に精製できる。ま
た、これらの多価エーテルアルコール( 3-XVIIIA ) 〜
( 3-XVIIIE ) は単離し、単独で次のアルキル化に用い
ても良いし、あるいは混合物のままアルキル化に用いて
もよい。
III )は蒸留、クロマトグラフィ、液−液抽出等によっ
て( 3-XVIIIA ) 〜( 3-XVIIIE ) に精製できる。ま
た、これらの多価エーテルアルコール( 3-XVIIIA ) 〜
( 3-XVIIIE ) は単離し、単独で次のアルキル化に用い
ても良いし、あるいは混合物のままアルキル化に用いて
もよい。
【0175】本発明の方法に用いられる式(V)で示さ
れる6価アルコールとして、具体的には前述の「多価
エーテルアルコール誘導体の新規な製造方法」の項にお
いて示したようなヘキソースの還元で得られるヘキシト
ールであるソルビトール、マンニトール、ガラクチトー
ル、イディトール、タリトール、アリトール等が挙げら
れる。
れる6価アルコールとして、具体的には前述の「多価
エーテルアルコール誘導体の新規な製造方法」の項にお
いて示したようなヘキソースの還元で得られるヘキシト
ールであるソルビトール、マンニトール、ガラクチトー
ル、イディトール、タリトール、アリトール等が挙げら
れる。
【0176】本発明の方法に用いられる一般式(XII)で
表されるカルボニル化合物として具体的には、前述の
「多価エーテルアルコール誘導体の新規な製造方法」
の項において例示した化合物のうちカルボニル炭素を含
め、炭素数2〜14のものが挙げられる。
表されるカルボニル化合物として具体的には、前述の
「多価エーテルアルコール誘導体の新規な製造方法」
の項において例示した化合物のうちカルボニル炭素を含
め、炭素数2〜14のものが挙げられる。
【0177】製造方法として具体的には前述の「多価
エーテルアルコール誘導体の新規な製造方法」の項にお
いて示した方法を用いることができる。また、水素添加
反応では副生成物として反応中間体である多価エーテル
ケタールアルコールあるいは多価エーテルアセタールア
ルコール等が生じる。このような化合物の具体例とし
て、下記の( 3-XIXA )〜( 3-XIXC )等のケタール環
あるいはアセタール環と、エーテル結合を同一分子中に
含むものが挙げられる。
エーテルアルコール誘導体の新規な製造方法」の項にお
いて示した方法を用いることができる。また、水素添加
反応では副生成物として反応中間体である多価エーテル
ケタールアルコールあるいは多価エーテルアセタールア
ルコール等が生じる。このような化合物の具体例とし
て、下記の( 3-XIXA )〜( 3-XIXC )等のケタール環
あるいはアセタール環と、エーテル結合を同一分子中に
含むものが挙げられる。
【0178】
【化66】
【0179】多価エーテルケタールアルコールあるいは
多価エーテルアセタールアルコール(3− XIXA 〜3−
XIXC など)を含有するような多価エーテルアルコール
(3−XVIII)の混合物が得られた場合には、このものを
濾過し、エバポレートした後、充分量の0.1〜1Nの
塩酸等の酸触媒とエタノールの混合酸性水溶液中で加水
分解することによりケタール環あるいはアセタール環を
含有しない多価エーテルアルコール(3−XVIII)を得る
ことができる。
多価エーテルアセタールアルコール(3− XIXA 〜3−
XIXC など)を含有するような多価エーテルアルコール
(3−XVIII)の混合物が得られた場合には、このものを
濾過し、エバポレートした後、充分量の0.1〜1Nの
塩酸等の酸触媒とエタノールの混合酸性水溶液中で加水
分解することによりケタール環あるいはアセタール環を
含有しない多価エーテルアルコール(3−XVIII)を得る
ことができる。
【0180】一方、ケタール環やアセタール環を有する
ものを含有する多価エーテルアルコール(3−XVIII)の
混合物は、この副生成物を含有する状態で、そのまま次
のアルキルエーテル化に用いてもよい。その場合、多価
エーテルケタールアルコールあるいは多価エーテルアセ
タールアルコール(3− XIXA 〜3− XIXC など)は、
アルキルエーテル化により、一般式(XIIIAA)または
(XIIIBB)で示されるエーテル化合物を生成する。
ものを含有する多価エーテルアルコール(3−XVIII)の
混合物は、この副生成物を含有する状態で、そのまま次
のアルキルエーテル化に用いてもよい。その場合、多価
エーテルケタールアルコールあるいは多価エーテルアセ
タールアルコール(3− XIXA 〜3− XIXC など)は、
アルキルエーテル化により、一般式(XIIIAA)または
(XIIIBB)で示されるエーテル化合物を生成する。
【0181】一般式(XIIIAA)、(XIIIBB)において、
R1 〜R6 は同一でも異なっていても良く、それぞれ炭
素数1〜14の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を
示し、R7 は水素原子、又は炭素数1〜13の直鎖、分
岐もしくは環状のアルキル基を示し、R8 は炭素数1〜
13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示す。あ
るいはR7 とR8 は一緒になって炭素数2〜13のアル
キレン基を形成する。但し、一般式(XIIIAA)における
R1 〜R3 及びR6 〜R8 、または一般式(XIIIBB)に
おけるR1 及びR4 〜R8 の合計炭素数は8〜40であ
り、R7 とR8の合計炭素数は1〜13である。なお、
a〜eは構造単位の配列を表わすために付した符号であ
り、a〜cまたはd〜eはどのような順序に配列してい
てもよい。
R1 〜R6 は同一でも異なっていても良く、それぞれ炭
素数1〜14の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を
示し、R7 は水素原子、又は炭素数1〜13の直鎖、分
岐もしくは環状のアルキル基を示し、R8 は炭素数1〜
13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示す。あ
るいはR7 とR8 は一緒になって炭素数2〜13のアル
キレン基を形成する。但し、一般式(XIIIAA)における
R1 〜R3 及びR6 〜R8 、または一般式(XIIIBB)に
おけるR1 及びR4 〜R8 の合計炭素数は8〜40であ
り、R7 とR8の合計炭素数は1〜13である。なお、
a〜eは構造単位の配列を表わすために付した符号であ
り、a〜cまたはd〜eはどのような順序に配列してい
てもよい。
【0182】なお、このエーテル化合物も、冷凍機作動
流体用の冷凍機油の基油として、一般式(XI)で示され
る多価エーテルアルコール誘導体と同等の効果を示すた
め、本発明の冷凍機作動流体用組成物に同様に用いられ
る。その場合、一般式(XIIIAA)または(XIIIBB)で示
される多価エーテルアルコール誘導体は、単独で用いて
もよく、また一般式(XI)で示される多価エーテルアル
コール誘導体との混合物として用いてもよい。単独で用
いる場合、多価エーテルアルコールの混合物の段階で、
ケタール環やアセタール環を有するものを単離した後、
それをアルキルエーテル化してもよく、またアルキルエ
ーテル化後の多価エーテルアルコール誘導体の段階で、
ケタール環やアセタール環を有するものを単離してもよ
い。そのとき、単離の方法やアルキルエーテル化の方法
は、一般式(XI)で示される多価エーテルアルコール誘
導体の場合と同様である。また、一般式(XIIIAA)及び
(XIIIBB)におけるアルキル基等は、一般式(XI)で示
される多価エーテルアルコール誘導体の場合と同様であ
る。
流体用の冷凍機油の基油として、一般式(XI)で示され
る多価エーテルアルコール誘導体と同等の効果を示すた
め、本発明の冷凍機作動流体用組成物に同様に用いられ
る。その場合、一般式(XIIIAA)または(XIIIBB)で示
される多価エーテルアルコール誘導体は、単独で用いて
もよく、また一般式(XI)で示される多価エーテルアル
コール誘導体との混合物として用いてもよい。単独で用
いる場合、多価エーテルアルコールの混合物の段階で、
ケタール環やアセタール環を有するものを単離した後、
それをアルキルエーテル化してもよく、またアルキルエ
ーテル化後の多価エーテルアルコール誘導体の段階で、
ケタール環やアセタール環を有するものを単離してもよ
い。そのとき、単離の方法やアルキルエーテル化の方法
は、一般式(XI)で示される多価エーテルアルコール誘
導体の場合と同様である。また、一般式(XIIIAA)及び
(XIIIBB)におけるアルキル基等は、一般式(XI)で示
される多価エーテルアルコール誘導体の場合と同様であ
る。
【0183】このようにして得られた一般式(XI)及び
(XIIIAA)又は(XIIIBB)で示される多価エーテルアル
コール誘導体は、精製して副生成物や未反応物を除去し
てもよいが、少量の副生成物や未反応物は本発明の効果
を損なわない限り、存在していても支障はない。例え
ば、一般式(XIIIAA)又は(XIIIBB)以外の反応途中に
生じる未水添のケタールやアセタール(3−XVII)等が
一部残っていても良いし、またアルキル化されていない
水酸基が残っていてもかまわない。
(XIIIAA)又は(XIIIBB)で示される多価エーテルアル
コール誘導体は、精製して副生成物や未反応物を除去し
てもよいが、少量の副生成物や未反応物は本発明の効果
を損なわない限り、存在していても支障はない。例え
ば、一般式(XIIIAA)又は(XIIIBB)以外の反応途中に
生じる未水添のケタールやアセタール(3−XVII)等が
一部残っていても良いし、またアルキル化されていない
水酸基が残っていてもかまわない。
【0184】本発明において一般式(XI)及び(XII
IAA)又は(XIIIBB)で示される多価エーテルアルコー
ル誘導体(以下、「本発明に係わるエーテル化合物」と
いう)の分子量は、特に限定されるものではないが、冷
凍機油として用いる場合、圧縮機の密封性やハイドロフ
ルオロカーボンとの相溶性、潤滑性等の点から、平均分
子量が200〜800のものが好ましく使用され、平均
分子量300〜700のものがより好ましく使用され
る。
IAA)又は(XIIIBB)で示される多価エーテルアルコー
ル誘導体(以下、「本発明に係わるエーテル化合物」と
いう)の分子量は、特に限定されるものではないが、冷
凍機油として用いる場合、圧縮機の密封性やハイドロフ
ルオロカーボンとの相溶性、潤滑性等の点から、平均分
子量が200〜800のものが好ましく使用され、平均
分子量300〜700のものがより好ましく使用され
る。
【0185】さらに本発明に係わるエーテル化合物は、
100℃での粘度が0.5〜30mm2 /sが好まし
く、さらに好ましくは1〜15mm2 /sである。10
0℃での粘度が30mm2 /sを越えると、この化合物
とハイドロフルオロカーボンとの相溶性が悪くなる。ま
た、40℃での粘度は1〜300mm2 /sが好まし
く、さらに好ましくは5〜100mm2 /sである。ま
た、上記の粘度範囲のものの中でも、ハイドロフルオロ
カーボンとの低温での二層分離温度が低いことが望まし
く、臨界溶解温度が10℃以下、好ましくは0℃以下、
さらに好ましくは−10℃以下のものである。
100℃での粘度が0.5〜30mm2 /sが好まし
く、さらに好ましくは1〜15mm2 /sである。10
0℃での粘度が30mm2 /sを越えると、この化合物
とハイドロフルオロカーボンとの相溶性が悪くなる。ま
た、40℃での粘度は1〜300mm2 /sが好まし
く、さらに好ましくは5〜100mm2 /sである。ま
た、上記の粘度範囲のものの中でも、ハイドロフルオロ
カーボンとの低温での二層分離温度が低いことが望まし
く、臨界溶解温度が10℃以下、好ましくは0℃以下、
さらに好ましくは−10℃以下のものである。
【0186】電気絶縁性が要求される冷蔵庫やルームエ
アコン用途の冷凍機油としては、本発明に係わるエーテ
ル化合物は25℃での体積抵抗率が1011Ω・cm以
上、好ましくは1012Ω・cm以上、さらに好ましくは
1013Ω・cm以上のものが望ましい。又、本発明に係
わるエーテル化合物の流動点は低温時の冷凍機油の固化
を防ぐために−10℃以下、好ましくは−20℃以下で
あることが望ましい。
アコン用途の冷凍機油としては、本発明に係わるエーテ
ル化合物は25℃での体積抵抗率が1011Ω・cm以
上、好ましくは1012Ω・cm以上、さらに好ましくは
1013Ω・cm以上のものが望ましい。又、本発明に係
わるエーテル化合物の流動点は低温時の冷凍機油の固化
を防ぐために−10℃以下、好ましくは−20℃以下で
あることが望ましい。
【0187】本発明に係わるエーテル化合物を基油とす
る冷凍機油は、ハイドロフルオロカーボンとの相溶性を
損なわない範囲で、鉱物油やポリα−オレフィン、アル
キルベンゼン、上記以外のエーテルやポリエーテル、P
AG、PAG−OH、ケトン、エステル、パーフルオロ
ポリエーテル、リン酸エステル等の合成油を混合しても
良い。又、本発明に係わるエーテル化合物を基油とする
冷凍機油において、前記のようなエーテル化合物は単独
であるいは2種以上を混合して使用される。
る冷凍機油は、ハイドロフルオロカーボンとの相溶性を
損なわない範囲で、鉱物油やポリα−オレフィン、アル
キルベンゼン、上記以外のエーテルやポリエーテル、P
AG、PAG−OH、ケトン、エステル、パーフルオロ
ポリエーテル、リン酸エステル等の合成油を混合しても
良い。又、本発明に係わるエーテル化合物を基油とする
冷凍機油において、前記のようなエーテル化合物は単独
であるいは2種以上を混合して使用される。
【0188】本発明に係わるエーテル化合物は単独で用
いても良いが、必要に応じて各種の添加剤を加えても良
い。
いても良いが、必要に応じて各種の添加剤を加えても良
い。
【0189】例えば、ルームエアコン等では冷媒は現場
充填がもっぱら行われるため、水分が混入する可能性が
非常に高い。本発明に係わるエーテル化合物はそれ自
身、水が共存しても化学的に安定であり問題はないが、
絶縁材であるPETフィルム等は加水分解し、PETオ
リゴマーを生じ、キャピラリーチューブ等を詰まらせる
可能性がある。従って、水を除去するために、エポキシ
基を有する化合物や、オルトエステル、アセタール(ケ
タール)、カルボジイミド等の添加剤を加えることが好
ましい。
充填がもっぱら行われるため、水分が混入する可能性が
非常に高い。本発明に係わるエーテル化合物はそれ自
身、水が共存しても化学的に安定であり問題はないが、
絶縁材であるPETフィルム等は加水分解し、PETオ
リゴマーを生じ、キャピラリーチューブ等を詰まらせる
可能性がある。従って、水を除去するために、エポキシ
基を有する化合物や、オルトエステル、アセタール(ケ
タール)、カルボジイミド等の添加剤を加えることが好
ましい。
【0190】即ち、本発明に係わるエーテル化合物に
a)エポキシ基を有する化合物、b)オルトエステル、
c)アセタール(ケタール)、d)カルボジイミドより
なる群から選ばれた1種以上を配合してなる冷凍機油
は、冷凍機油としてより完成度の高い冷凍機油であり、
非常に好ましく、またこの冷凍機油とハイドロフルオロ
カーボンからなる冷凍機作動流体は、冷凍機作動流体と
してより完成度の高いものであり、非常に好ましいもの
である。
a)エポキシ基を有する化合物、b)オルトエステル、
c)アセタール(ケタール)、d)カルボジイミドより
なる群から選ばれた1種以上を配合してなる冷凍機油
は、冷凍機油としてより完成度の高い冷凍機油であり、
非常に好ましく、またこの冷凍機油とハイドロフルオロ
カーボンからなる冷凍機作動流体は、冷凍機作動流体と
してより完成度の高いものであり、非常に好ましいもの
である。
【0191】a)エポキシ基を有する化合物としては、
炭素数4〜60、好ましくは炭素数5〜25のものであ
る。具体的にはフェニルグリシジルエーテル、ブチルグ
リシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエー
テル、クレジルグリシジルエーテル、ネオペンチルグリ
コールジグリシジルエーテル、1,6 −ヘキサンジオール
ジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等
のグリシジルエーテル類や、フタル酸ジグリシジルエス
テル、シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステ
ル、アジピン酸ジグリシジルエステル、2−エチルヘキ
サン酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類
や、エポキシ化ステアリン酸メチル、エポキシ化ステア
リン酸ブチル等のエポキシ化脂肪酸モノエステル類や、
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等のエポキシ化
植物油類や、エポキシシクロオクタン、エポキシシクロ
ヘプタン、後に述べるエポキシシクロヘキシル基を有す
る化合物、エポキシシクロペンチル基を有する化合物等
の脂環式エポキシ化合物が挙げられる。
炭素数4〜60、好ましくは炭素数5〜25のものであ
る。具体的にはフェニルグリシジルエーテル、ブチルグ
リシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエー
テル、クレジルグリシジルエーテル、ネオペンチルグリ
コールジグリシジルエーテル、1,6 −ヘキサンジオール
ジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエー
テル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル等
のグリシジルエーテル類や、フタル酸ジグリシジルエス
テル、シクロヘキサンジカルボン酸ジグリシジルエステ
ル、アジピン酸ジグリシジルエステル、2−エチルヘキ
サン酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類
や、エポキシ化ステアリン酸メチル、エポキシ化ステア
リン酸ブチル等のエポキシ化脂肪酸モノエステル類や、
エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油等のエポキシ化
植物油類や、エポキシシクロオクタン、エポキシシクロ
ヘプタン、後に述べるエポキシシクロヘキシル基を有す
る化合物、エポキシシクロペンチル基を有する化合物等
の脂環式エポキシ化合物が挙げられる。
【0192】本発明に用いられるエポキシシクロヘキシ
ル基を有する化合物、エポキシシクロペンチル基を有す
る化合物は、炭素数5〜40、好ましくは炭素数5〜2
5のものであり、具体的には特開平5−209171号
公報のカラム11、34〜46行目に記載のものが挙げ
られ、特に限定されるものではないが、好ましくは1,2
−エポキシシクロヘキサン、1,2 −エポキシシクロペン
タン、ビス(3,4 −エポキシシクロヘキシルメチル)ア
ジペート、ビス(3,4 −エポキシ−6 −メチルシクロヘ
キシルメチル)アジペート、3,4 −エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4 −エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、2 −(7 −オキサビシクロ[4.1.0 ]ヘプト−
3 −イル)−スピロ(1,3 −ジオキサン−5,3'−[7 ]
オキサビシクロ[4.1.0 ]ヘプタン)である。
ル基を有する化合物、エポキシシクロペンチル基を有す
る化合物は、炭素数5〜40、好ましくは炭素数5〜2
5のものであり、具体的には特開平5−209171号
公報のカラム11、34〜46行目に記載のものが挙げ
られ、特に限定されるものではないが、好ましくは1,2
−エポキシシクロヘキサン、1,2 −エポキシシクロペン
タン、ビス(3,4 −エポキシシクロヘキシルメチル)ア
ジペート、ビス(3,4 −エポキシ−6 −メチルシクロヘ
キシルメチル)アジペート、3,4 −エポキシシクロヘキ
シルメチル−3,4 −エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、2 −(7 −オキサビシクロ[4.1.0 ]ヘプト−
3 −イル)−スピロ(1,3 −ジオキサン−5,3'−[7 ]
オキサビシクロ[4.1.0 ]ヘプタン)である。
【0193】本発明においては、これらのエポキシ基を
有する化合物の単独又は2種以上を併用してもよい。そ
の添加量は、本発明に係わるエーテル化合物100重量
部に対し、通常0.05〜2.0重量部、好ましくは
0.1〜1.5重量部、さらに好ましくは0.1〜1.
0重量部である。
有する化合物の単独又は2種以上を併用してもよい。そ
の添加量は、本発明に係わるエーテル化合物100重量
部に対し、通常0.05〜2.0重量部、好ましくは
0.1〜1.5重量部、さらに好ましくは0.1〜1.
0重量部である。
【0194】b)本発明に用いられるオルトエステルは
炭素数4〜70のものであり、さらに好ましくは炭素数
4〜50のものである。具体的には、特開平6−170
73号公報のカラム10、7〜41行目に記載のものが
挙げられる。オルトエステルの添加量は、本発明に係わ
るエーテル化合物100重量部に対し通常0.01〜1
00重量部であり、好ましくは0.05〜30重量部で
ある。
炭素数4〜70のものであり、さらに好ましくは炭素数
4〜50のものである。具体的には、特開平6−170
73号公報のカラム10、7〜41行目に記載のものが
挙げられる。オルトエステルの添加量は、本発明に係わ
るエーテル化合物100重量部に対し通常0.01〜1
00重量部であり、好ましくは0.05〜30重量部で
ある。
【0195】c)本発明に用いられるアセタールまたは
ケタールは炭素数4〜70のものであり、さらに好まし
くは炭素数4〜50のものである。具体的には、特開平
6−17073号公報のカラム10、47行目〜カラム
11、21行目に記載のものが挙げられる。アセタール
またはケタールの添加量は、本発明に係わるエーテル化
合物100重量部に対し通常0.01〜100重量部で
あり、好ましくは0.05〜30重量部である。
ケタールは炭素数4〜70のものであり、さらに好まし
くは炭素数4〜50のものである。具体的には、特開平
6−17073号公報のカラム10、47行目〜カラム
11、21行目に記載のものが挙げられる。アセタール
またはケタールの添加量は、本発明に係わるエーテル化
合物100重量部に対し通常0.01〜100重量部で
あり、好ましくは0.05〜30重量部である。
【0196】d)本発明に用いられるカルボジイミドは
下式で表されるものである。 R10−N=C=N−R11 ここで、R10、R11は炭素数1〜20の炭化水素基を表
し、さらに好ましくは炭素数1〜12のものである。R
10、R11は同一でも異なっていても良い。
下式で表されるものである。 R10−N=C=N−R11 ここで、R10、R11は炭素数1〜20の炭化水素基を表
し、さらに好ましくは炭素数1〜12のものである。R
10、R11は同一でも異なっていても良い。
【0197】R10、R11の具体例としては、メチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピ
ル基、ブチル基、1-メチルプロピル基、2-メチルプロピ
ル基、t-ブチル基、ペンチル基、1-メチルブチル基、2-
メチルブチル基、3-メチルブチル基、1-エチルプロピル
基、1,1-ジメチルプロピル基、1,2-ジメチルプロピル
基、2,2-ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ヘキ
シル基、1-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、3-
メチルペンチル基、4-メチルペンチル基、1-エチルブチ
ル基、2-エチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,3-
ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,1-ジメチ
ルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチ
ル基、1-エチル-2- メチルプロピル基、1-エチル-1- メ
チルプロピル基、1,1,2-トリメチルプロピル基、1,2,2-
トリメチルプロピル基、シクロヘキシル基、シクロペン
チルメチル基、メチルシクロペンチル基、ヘプチル基、
1-メチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘ
キシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、
1-エチルペンチル基、2-エチルペンチル基、2,4-ジメチ
ルペンチル基、3,4-ジメチルペンチル基、1,1-ジメチル
ペンチル基、1,4-ジメチルペンチル基、1-プロピルブチ
ル基、1-イソプロピルブチル基、1,3,3-トリメチルブチ
ル基、1,1-ジエチルプロピル基、2,2-ジメチル-1- エチ
ルプロピル基、1,2-ジメチル-1- エチルプロピル基、1-
イソプロピル-2- メチルプロピル基、シクロヘプチル
基、シクロヘキシルメチル基、メチルシクロヘキシル
基、オクチル基、1-メチルヘプチル基、2-メチルヘプチ
ル基、1-エチルヘキシル基、2-エチルヘキシル基、1,1,
3,3-テトラメチルブチル基、1,1-ジイソプロピルエチル
基、1-エチル-1,2,2- トリメチルプロピル基、1,5-ジメ
チルヘキシル基、3,5-ジメチルヘキシル基、2-プロピル
ペンチル基、2,4,4-トリメチルペンチル基、1-エチル-2
- メチルペンチル基、2,2-ジメチルヘキシル基、1,1-ジ
メチルヘキシル基、シクロヘプチルメチル基、ジメチル
シクロヘキシル基、4-メチルシクロヘキシルメチル基、
シクロヘプチルメチル基、シクロオクチル基、1-シクロ
ヘキシルエチル基、2-シクロヘキシルエチル基、エチル
シクロヘキシル基、ノニル基、1-メチルオクチル基、5-
メチルオクチル基、1-(2'-メチルプロピル)-3-メチルブ
チル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、1,1-ジエチル-
2,2- ジメチルプロピル基、3-シクロヘキシルプロピル
基、1,1-ジメチルヘプチル基、デシル基、1-メチルノニ
ル基、1-プロピルヘプチル基、3,7-ジメチルオクチル
基、2,4,6-トリメチルヘプチル基、4-シクロヘキシルブ
チル基、ブチルシクロヘキシル基、3,3,5,5-テトラメチ
ルシクロヘキシル基、ウンデシル基、1-メチルデシル
基、2-メチルデシル基、2-エチルノニル基、ドデシル
基、1-メチルウンデシル基、2-メチルウンデシル基、2-
エチルデシル基、1-(2'-メチルプロピル)-3,5-ジメチル
ヘキシル基、トリデシル基、2,4,6,8-テトラメチルノニ
ル基、2-メチルドデシル基、2-エチルウンデシル基、1-
(3'-メチルブチル)-6-メチルヘプチル基、1-(1'-メチル
ブチル)-4-メチルヘプチル基、テトラデシル基、1-メチ
ルトリデシル基、2-メチルトリデシル基、2-エチルドデ
シル基、2-(3'-メチルブチル)-7-メチルオクチル基、2-
(1'-メチルブチル)-5-メチルオクチル基、ペンタデシル
基、1-ヘキシルノニル基、2-メチルテトラデシル基、2-
エチルトリデシル基、ヘキサデシル基、1-メチルペンタ
デシル基、2-ヘキシルデシル基、ヘプタデシル基、1-ヘ
プチルデシル基、1-(1',3',3'-トリメチルブチル)-4,6,
6-トリメチルヘプチル基、1-(3'-メチルヘキシル)-6-メ
チルノニル基、オクタデシル基、2-ヘプチルウンデシル
基、2-(1',3',3'-トリメチルブチル)-5,7,7-トリメチル
オクチル基、2-(3'-メチルヘキシル)-7-メチルデシル
基、2-オクチルドデシル基等のアルキル基や、フェニル
基、2-又は3-又は4-メチルフェニル基、2-又は3-又は4-
エチルフェニル基、2,3-又は2,4-又は2,5-又は2,6-又は
3,4-又は3,5-ジメチルフェニル基、2-又は3-又は4-イソ
プロピルフェニル基、2-又は3-又は4-プロピルフェニル
基、2,3,5-又は2,3,6-又は2,4,6-又は3,4,5-トリメチル
フェニル基、2-又は3-又は4-tert- ブチルフェニル基、
2-又は3-又は4-sec-ブチルフェニル基、4-又は5-イソプ
ロピル-3- メチルフェニル基、4-tert- アミルフェニル
基、3-又は4-又は5-メチル-2-tert-ブチルフェニル基、
ペンタメチルフェニル基、ナフチル基、2-メチルナフチ
ル基、2,6-ジイソプロピルフェニル基、4-tert- オクチ
ルフェニル基、2,4-又は2,6-又は3,5-ジ-tert-ブチルフ
ェニル基、ジ-sec- ブチルフェニル基、2,6-ジ-tert-ブ
チル-4- メチルフェニル基、2,4,6-トリ-tert-ブチルフ
ェニル基等のアリール基、アルキルアリール基や、ベン
ジル基、2-又は3-又は4-メチルベンシル基、フェネチル
基、sec-フェネチル基、2,4-又は2,5-又は3,4-又は3,5-
ジメチルベンジル基、4-エチルベンジル基、2-又は3-又
は4-メチルフェネチル基、α- 又はβ- メチルフェネチ
ル基、α, α- ジメチルベンジル基、1-又は3-フェニル
プロピル基、α- 又はβ-エチルフェネチル基、4-イソ
プロピルベンジル基、α- イソプロピルベンジル基、
α, α- ジメチルフェネチル基、1-又は3-又は4-フェニ
ルブチル基、α- エチル- α- メチルベンジル基、4-ブ
チルベンジル基、4-tert- ブチルベンジル基、1,1-ジメ
チル-3- フェニルプロピル基、1-又は3-フェニル-2,2-
ジメチルプロピル基、α- プロピルフェネチル基、5-フ
ェニルペンチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル
基、6-フェニルヘキシル基等のアラルキル基が挙げられ
る。
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピ
ル基、ブチル基、1-メチルプロピル基、2-メチルプロピ
ル基、t-ブチル基、ペンチル基、1-メチルブチル基、2-
メチルブチル基、3-メチルブチル基、1-エチルプロピル
基、1,1-ジメチルプロピル基、1,2-ジメチルプロピル
基、2,2-ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ヘキ
シル基、1-メチルペンチル基、2-メチルペンチル基、3-
メチルペンチル基、4-メチルペンチル基、1-エチルブチ
ル基、2-エチルブチル基、1,2-ジメチルブチル基、1,3-
ジメチルブチル基、2,3-ジメチルブチル基、1,1-ジメチ
ルブチル基、2,2-ジメチルブチル基、3,3-ジメチルブチ
ル基、1-エチル-2- メチルプロピル基、1-エチル-1- メ
チルプロピル基、1,1,2-トリメチルプロピル基、1,2,2-
トリメチルプロピル基、シクロヘキシル基、シクロペン
チルメチル基、メチルシクロペンチル基、ヘプチル基、
1-メチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘ
キシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、
1-エチルペンチル基、2-エチルペンチル基、2,4-ジメチ
ルペンチル基、3,4-ジメチルペンチル基、1,1-ジメチル
ペンチル基、1,4-ジメチルペンチル基、1-プロピルブチ
ル基、1-イソプロピルブチル基、1,3,3-トリメチルブチ
ル基、1,1-ジエチルプロピル基、2,2-ジメチル-1- エチ
ルプロピル基、1,2-ジメチル-1- エチルプロピル基、1-
イソプロピル-2- メチルプロピル基、シクロヘプチル
基、シクロヘキシルメチル基、メチルシクロヘキシル
基、オクチル基、1-メチルヘプチル基、2-メチルヘプチ
ル基、1-エチルヘキシル基、2-エチルヘキシル基、1,1,
3,3-テトラメチルブチル基、1,1-ジイソプロピルエチル
基、1-エチル-1,2,2- トリメチルプロピル基、1,5-ジメ
チルヘキシル基、3,5-ジメチルヘキシル基、2-プロピル
ペンチル基、2,4,4-トリメチルペンチル基、1-エチル-2
- メチルペンチル基、2,2-ジメチルヘキシル基、1,1-ジ
メチルヘキシル基、シクロヘプチルメチル基、ジメチル
シクロヘキシル基、4-メチルシクロヘキシルメチル基、
シクロヘプチルメチル基、シクロオクチル基、1-シクロ
ヘキシルエチル基、2-シクロヘキシルエチル基、エチル
シクロヘキシル基、ノニル基、1-メチルオクチル基、5-
メチルオクチル基、1-(2'-メチルプロピル)-3-メチルブ
チル基、3,5,5-トリメチルヘキシル基、1,1-ジエチル-
2,2- ジメチルプロピル基、3-シクロヘキシルプロピル
基、1,1-ジメチルヘプチル基、デシル基、1-メチルノニ
ル基、1-プロピルヘプチル基、3,7-ジメチルオクチル
基、2,4,6-トリメチルヘプチル基、4-シクロヘキシルブ
チル基、ブチルシクロヘキシル基、3,3,5,5-テトラメチ
ルシクロヘキシル基、ウンデシル基、1-メチルデシル
基、2-メチルデシル基、2-エチルノニル基、ドデシル
基、1-メチルウンデシル基、2-メチルウンデシル基、2-
エチルデシル基、1-(2'-メチルプロピル)-3,5-ジメチル
ヘキシル基、トリデシル基、2,4,6,8-テトラメチルノニ
ル基、2-メチルドデシル基、2-エチルウンデシル基、1-
(3'-メチルブチル)-6-メチルヘプチル基、1-(1'-メチル
ブチル)-4-メチルヘプチル基、テトラデシル基、1-メチ
ルトリデシル基、2-メチルトリデシル基、2-エチルドデ
シル基、2-(3'-メチルブチル)-7-メチルオクチル基、2-
(1'-メチルブチル)-5-メチルオクチル基、ペンタデシル
基、1-ヘキシルノニル基、2-メチルテトラデシル基、2-
エチルトリデシル基、ヘキサデシル基、1-メチルペンタ
デシル基、2-ヘキシルデシル基、ヘプタデシル基、1-ヘ
プチルデシル基、1-(1',3',3'-トリメチルブチル)-4,6,
6-トリメチルヘプチル基、1-(3'-メチルヘキシル)-6-メ
チルノニル基、オクタデシル基、2-ヘプチルウンデシル
基、2-(1',3',3'-トリメチルブチル)-5,7,7-トリメチル
オクチル基、2-(3'-メチルヘキシル)-7-メチルデシル
基、2-オクチルドデシル基等のアルキル基や、フェニル
基、2-又は3-又は4-メチルフェニル基、2-又は3-又は4-
エチルフェニル基、2,3-又は2,4-又は2,5-又は2,6-又は
3,4-又は3,5-ジメチルフェニル基、2-又は3-又は4-イソ
プロピルフェニル基、2-又は3-又は4-プロピルフェニル
基、2,3,5-又は2,3,6-又は2,4,6-又は3,4,5-トリメチル
フェニル基、2-又は3-又は4-tert- ブチルフェニル基、
2-又は3-又は4-sec-ブチルフェニル基、4-又は5-イソプ
ロピル-3- メチルフェニル基、4-tert- アミルフェニル
基、3-又は4-又は5-メチル-2-tert-ブチルフェニル基、
ペンタメチルフェニル基、ナフチル基、2-メチルナフチ
ル基、2,6-ジイソプロピルフェニル基、4-tert- オクチ
ルフェニル基、2,4-又は2,6-又は3,5-ジ-tert-ブチルフ
ェニル基、ジ-sec- ブチルフェニル基、2,6-ジ-tert-ブ
チル-4- メチルフェニル基、2,4,6-トリ-tert-ブチルフ
ェニル基等のアリール基、アルキルアリール基や、ベン
ジル基、2-又は3-又は4-メチルベンシル基、フェネチル
基、sec-フェネチル基、2,4-又は2,5-又は3,4-又は3,5-
ジメチルベンジル基、4-エチルベンジル基、2-又は3-又
は4-メチルフェネチル基、α- 又はβ- メチルフェネチ
ル基、α, α- ジメチルベンジル基、1-又は3-フェニル
プロピル基、α- 又はβ-エチルフェネチル基、4-イソ
プロピルベンジル基、α- イソプロピルベンジル基、
α, α- ジメチルフェネチル基、1-又は3-又は4-フェニ
ルブチル基、α- エチル- α- メチルベンジル基、4-ブ
チルベンジル基、4-tert- ブチルベンジル基、1,1-ジメ
チル-3- フェニルプロピル基、1-又は3-フェニル-2,2-
ジメチルプロピル基、α- プロピルフェネチル基、5-フ
ェニルペンチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル
基、6-フェニルヘキシル基等のアラルキル基が挙げられ
る。
【0198】具体的な例としては、1,3 −ジイソプロピ
ルカルボジイミド、1,3 −ジ-tert-−ブチルカルボジイ
ミド、1,3 −ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,3 −
ジ−p−トリルカルボジイミド、1,3 −(2,6−ジイソプ
ロピルフェニル)カルボジイミド等である。好ましく
は、1,3 −ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,3 −ジ
−p−トリルカルボジイミド、1,3 −ビス−(2,6−ジイ
ソプロピルフェニル)カルボジイミドである。
ルカルボジイミド、1,3 −ジ-tert-−ブチルカルボジイ
ミド、1,3 −ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,3 −
ジ−p−トリルカルボジイミド、1,3 −(2,6−ジイソプ
ロピルフェニル)カルボジイミド等である。好ましく
は、1,3 −ジシクロヘキシルカルボジイミド、1,3 −ジ
−p−トリルカルボジイミド、1,3 −ビス−(2,6−ジイ
ソプロピルフェニル)カルボジイミドである。
【0199】ここでカルボジイミドの添加量は、本発明
に係わるエーテル化合物100重量部に対し通常0.0
1〜10重量部であり、好ましくは0.05〜5重量部
である。
に係わるエーテル化合物100重量部に対し通常0.0
1〜10重量部であり、好ましくは0.05〜5重量部
である。
【0200】また、水を除去する添加剤の他に潤滑性を
向上させるためにトリアリールフォスフェート及び/又
はトリアリールフォスファイトを添加したり、熱安定性
を向上させるために、ラジカルトラップ能を有するフェ
ノール系化合物やキレート能を有する金属不活性剤を添
加したり、金属表面を保護するために、ベンゾトリアゾ
ール及び/又はベンゾトリアゾール誘導体を添加するこ
とも有効である。
向上させるためにトリアリールフォスフェート及び/又
はトリアリールフォスファイトを添加したり、熱安定性
を向上させるために、ラジカルトラップ能を有するフェ
ノール系化合物やキレート能を有する金属不活性剤を添
加したり、金属表面を保護するために、ベンゾトリアゾ
ール及び/又はベンゾトリアゾール誘導体を添加するこ
とも有効である。
【0201】本発明に用いられるトリアリールフォスフ
ェートやトリアリールフォスファイトは、炭素数18〜
70のものであり、さらに好ましくは炭素数18〜50
のものである。具体的には、特開平5−209171号
公報、カラム12、26行目〜41行目に記載されてい
る。その中でも特に好ましいのは、トリフェニルフォス
フェート、トリクレジルフォスフェート、トリキシレニ
ルフォスフェート、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニ
ル)フォスフェート、トリフェニルフォスファイト、ト
リクレジルフォスファイト、トリキシレニルフォスファ
イト、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)フォスフ
ァイトである。
ェートやトリアリールフォスファイトは、炭素数18〜
70のものであり、さらに好ましくは炭素数18〜50
のものである。具体的には、特開平5−209171号
公報、カラム12、26行目〜41行目に記載されてい
る。その中でも特に好ましいのは、トリフェニルフォス
フェート、トリクレジルフォスフェート、トリキシレニ
ルフォスフェート、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニ
ル)フォスフェート、トリフェニルフォスファイト、ト
リクレジルフォスファイト、トリキシレニルフォスファ
イト、トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)フォスフ
ァイトである。
【0202】ここで、トリアリールフォスフェート及び
/又はトリアリールフォスファイトの添加量は、本発明
に係わるエーテル化合物100重量部に対し通常0.1
〜5.0重量部であり、好ましくは0.5〜2.0重量
部である。
/又はトリアリールフォスファイトの添加量は、本発明
に係わるエーテル化合物100重量部に対し通常0.1
〜5.0重量部であり、好ましくは0.5〜2.0重量
部である。
【0203】本発明に用いられるラジカルトラップ能を
有するフェノール系化合物は、炭素数が6 〜100 のもの
であり、好ましくは10〜80のものである。具体的には、
特開平5−209171号公報、カラム12、32行目
〜カラム13、18行目に記載されている。その中でも
特に好ましいのは、2,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2,
6-ジ-tert-ブチル-4- メチルフェノール、4,4'ーメチレ
ンビス(2,6-ジ-tert-ブチルフェノール)、4,4'- ブチ
リデンビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、2,
2'- メチレンビス(4-エチル-6-tert-ブチルフェノー
ル)、2,2'- メチレンビス(4-メチル-6-tert-ブチルフ
ェノール)、4,4'- イソプロピリデンビスフェノール、
2,4-ジメチル-6-tert-ブチルフェノール、テトラキス
[メチレン-3- (3,5-ジ-tert-ブチル-4- ヒドロキシフ
ェニル)プロピオネート]メタン、1,1,3-トリス(2-メ
チル-4- ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)ブタン、
1,3,5-トリメチル-2,4,6- トリス(3,5-ジ-tert-ブチル
-4- ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,6-ジ-tert-ブチ
ル-4- エチルフェノール、2,6-ビス(2'- ヒドロキシ-
3'-tert- ブチル-5'-メチルベンジル)-4- メチルフェ
ノール、ビス[2-(2-ヒドロキシ-5- メチル-3-tert-ブ
チルベンジル)-4- メチル-6-tert-ブチルフェニル]テ
レフタレート、トリエチレングリコール- ビス[3-(3,
5-ジ-tert-ブチル-5- メチル-4- ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]、1,6-ヘキサンジオール-ビス[3-
(3,5-ジ-tert-ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート]等である。ここで、フェノール系化合物の添
加量は、本発明に係わるエーテル化合物100重量部に
対し、通常0.05〜2.0重量部であり。好ましくは
0.05〜0.5重量部である。
有するフェノール系化合物は、炭素数が6 〜100 のもの
であり、好ましくは10〜80のものである。具体的には、
特開平5−209171号公報、カラム12、32行目
〜カラム13、18行目に記載されている。その中でも
特に好ましいのは、2,6-ジ-tert-ブチルフェノール、2,
6-ジ-tert-ブチル-4- メチルフェノール、4,4'ーメチレ
ンビス(2,6-ジ-tert-ブチルフェノール)、4,4'- ブチ
リデンビス(3-メチル-6-tert-ブチルフェノール)、2,
2'- メチレンビス(4-エチル-6-tert-ブチルフェノー
ル)、2,2'- メチレンビス(4-メチル-6-tert-ブチルフ
ェノール)、4,4'- イソプロピリデンビスフェノール、
2,4-ジメチル-6-tert-ブチルフェノール、テトラキス
[メチレン-3- (3,5-ジ-tert-ブチル-4- ヒドロキシフ
ェニル)プロピオネート]メタン、1,1,3-トリス(2-メ
チル-4- ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)ブタン、
1,3,5-トリメチル-2,4,6- トリス(3,5-ジ-tert-ブチル
-4- ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,6-ジ-tert-ブチ
ル-4- エチルフェノール、2,6-ビス(2'- ヒドロキシ-
3'-tert- ブチル-5'-メチルベンジル)-4- メチルフェ
ノール、ビス[2-(2-ヒドロキシ-5- メチル-3-tert-ブ
チルベンジル)-4- メチル-6-tert-ブチルフェニル]テ
レフタレート、トリエチレングリコール- ビス[3-(3,
5-ジ-tert-ブチル-5- メチル-4- ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]、1,6-ヘキサンジオール-ビス[3-
(3,5-ジ-tert-ブチル-4- ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート]等である。ここで、フェノール系化合物の添
加量は、本発明に係わるエーテル化合物100重量部に
対し、通常0.05〜2.0重量部であり。好ましくは
0.05〜0.5重量部である。
【0204】本発明に用いられる金属不活性剤はキレー
ト能を持つものが好ましく、炭素数が5〜50のもので
あり、好ましくは5〜20である。具体的には、特開平
5−209171号公報、カラム13、38行目〜カラ
ム14、8行目に記載されている。その中でも特に好ま
しいのは、N,N'- ジサリチリデン-1,2-ジアミノエタ
ン、N,N'- ジサリチリデン-1,2-ジアミノプロパン、ア
セチルアセトン、アセト酢酸エステル、アリザリン、キ
ニザリン等である。
ト能を持つものが好ましく、炭素数が5〜50のもので
あり、好ましくは5〜20である。具体的には、特開平
5−209171号公報、カラム13、38行目〜カラ
ム14、8行目に記載されている。その中でも特に好ま
しいのは、N,N'- ジサリチリデン-1,2-ジアミノエタ
ン、N,N'- ジサリチリデン-1,2-ジアミノプロパン、ア
セチルアセトン、アセト酢酸エステル、アリザリン、キ
ニザリン等である。
【0205】ここで、金属不活性剤の添加量は、本発明
に係わるエーテル化合物100重量部に対し、通常0.00
1 〜2.0 重量部であり、好ましくは0.003 〜0.5 重量部
である。
に係わるエーテル化合物100重量部に対し、通常0.00
1 〜2.0 重量部であり、好ましくは0.003 〜0.5 重量部
である。
【0206】本発明に用いられるベンゾトリアゾール、
ベンゾトリアゾール誘導体は炭素数6〜50のものであ
り、好ましくは6〜30のものである。具体的には、特
開平5−209171号公報、カラム13、9行目〜2
9行目に記載されている。その中でも特に好ましいの
は、ベンゾトリアゾール、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾ
ール等である。
ベンゾトリアゾール誘導体は炭素数6〜50のものであ
り、好ましくは6〜30のものである。具体的には、特
開平5−209171号公報、カラム13、9行目〜2
9行目に記載されている。その中でも特に好ましいの
は、ベンゾトリアゾール、5-メチル-1H-ベンゾトリアゾ
ール等である。
【0207】ここで、ベンゾトリアゾール及び/または
ベンゾトリアゾール誘導体の添加量は、本発明に係わる
エーテル化合物100重量部に対し、通常0.001 〜0.1
重量部であり、好ましくは0.003 〜0.03重量部である。
ベンゾトリアゾール誘導体の添加量は、本発明に係わる
エーテル化合物100重量部に対し、通常0.001 〜0.1
重量部であり、好ましくは0.003 〜0.03重量部である。
【0208】また、必要に応じて前記に示した以外の通
常使用される酸化防止剤、極圧剤、油性向上剤、消泡剤
等の潤滑油添加剤を添加することもできる。例えば、酸
化防止剤として使用可能なものは、p,p −ジオクチルフ
ェニルアミン、モノオクチルジフェニルアミン、フェノ
チアジン、3,7 −ジオクチルフェノチアジン、フェニル
−1 −ナフチルアミン、フェニル−2 −ナフチルアミ
ン、アルキルフェニル−1 −ナフチルアミン、アルキル
フェニル−2 −ナフチルアミン等のアミン系酸化防止剤
や、アルキルジサルファイド、チオジプロピオン酸エス
テル、ベンゾチアゾール等の硫黄系酸化防止剤や、ジア
ルキルジチオリン酸亜鉛、ジアリールジチオリン酸亜鉛
などである。その添加量は本発明に係わるエーテル化合
物100重量部に対し0.05〜2.0重量部である。
常使用される酸化防止剤、極圧剤、油性向上剤、消泡剤
等の潤滑油添加剤を添加することもできる。例えば、酸
化防止剤として使用可能なものは、p,p −ジオクチルフ
ェニルアミン、モノオクチルジフェニルアミン、フェノ
チアジン、3,7 −ジオクチルフェノチアジン、フェニル
−1 −ナフチルアミン、フェニル−2 −ナフチルアミ
ン、アルキルフェニル−1 −ナフチルアミン、アルキル
フェニル−2 −ナフチルアミン等のアミン系酸化防止剤
や、アルキルジサルファイド、チオジプロピオン酸エス
テル、ベンゾチアゾール等の硫黄系酸化防止剤や、ジア
ルキルジチオリン酸亜鉛、ジアリールジチオリン酸亜鉛
などである。その添加量は本発明に係わるエーテル化合
物100重量部に対し0.05〜2.0重量部である。
【0209】極圧剤、油性向上剤として使用可能なもの
は、例えばジアルキルジチオリン酸亜鉛、ジアリールジ
チオリン酸亜鉛などの亜鉛化合物や、チオジプロピオン
酸エステル、ジアルキルサルファイド、ジベンジルサル
ファイド、ジアルキルポリサルファイド、アルキルメル
カプタン、ジベンゾチオフェン、2,2'−ジチオビス(ベ
ンゾチアゾール)等の硫黄化合物、トリアルキルフォス
ファイトやトリアルキルフォスフェート等の燐化合物、
塩素化パラフィン等の塩素化合物、モリブデンジチオカ
ーバメイト、モリブデンジチオフォスフェート、二硫化
モリブデン等のモリブデン化合物、パーフルオロアルキ
ルポリエーテルや、三沸化塩化エチレン重合物、フッ化
黒鉛などの沸素化合物、脂肪酸変性シリコーンなどのケ
イ素化合物、グラファイト等である。その添加量は本発
明に係わるエーテル化合物100重量部に対し0.05
〜10重量部である。
は、例えばジアルキルジチオリン酸亜鉛、ジアリールジ
チオリン酸亜鉛などの亜鉛化合物や、チオジプロピオン
酸エステル、ジアルキルサルファイド、ジベンジルサル
ファイド、ジアルキルポリサルファイド、アルキルメル
カプタン、ジベンゾチオフェン、2,2'−ジチオビス(ベ
ンゾチアゾール)等の硫黄化合物、トリアルキルフォス
ファイトやトリアルキルフォスフェート等の燐化合物、
塩素化パラフィン等の塩素化合物、モリブデンジチオカ
ーバメイト、モリブデンジチオフォスフェート、二硫化
モリブデン等のモリブデン化合物、パーフルオロアルキ
ルポリエーテルや、三沸化塩化エチレン重合物、フッ化
黒鉛などの沸素化合物、脂肪酸変性シリコーンなどのケ
イ素化合物、グラファイト等である。その添加量は本発
明に係わるエーテル化合物100重量部に対し0.05
〜10重量部である。
【0210】消泡剤としての使用されるものは、ジメチ
ルポリシロキサン等のシリコーン油やジエチルシリケー
ト等のオルガノシリケート類等である。その添加量は本
発明に係わるエーテル化合物100重量部に対し0.0
005〜1重量部である。
ルポリシロキサン等のシリコーン油やジエチルシリケー
ト等のオルガノシリケート類等である。その添加量は本
発明に係わるエーテル化合物100重量部に対し0.0
005〜1重量部である。
【0211】また、有機錫化合物、ホウ素化合物等のフ
ロン冷媒を安定させる添加剤を加えてもよい。その添加
量は本発明に係わるエーテル化合物100重量部に対し
0.001〜10重量部である。
ロン冷媒を安定させる添加剤を加えてもよい。その添加
量は本発明に係わるエーテル化合物100重量部に対し
0.001〜10重量部である。
【0212】本発明の冷凍機作動流体用組成物中のハイ
ドロフルオロカーボンと、本発明に係わるエーテル化合
物を基油とする冷凍機油あるいはその基油に添加剤を加
えた冷凍機油との混合比率は、通常、ハイドロフルオロ
カーボン/油=50/1〜1/20(重量比)、好まし
くは10/1〜1/5(重量比)である。ハイドロフル
オロカーボン/油=50/1よりハイドロフルオロカー
ボンの比率が高くなるとハイドロフルオロカーボン・油
混合溶液の粘度が低くなり、潤滑性が悪くなる可能性が
あり好ましくない。また、ハイドロフルオロカーボン/
油=1/20より、ハイドロフルオロカーボンの比率が
低くなると、冷凍能力が不足する可能性があり、好まし
くない。
ドロフルオロカーボンと、本発明に係わるエーテル化合
物を基油とする冷凍機油あるいはその基油に添加剤を加
えた冷凍機油との混合比率は、通常、ハイドロフルオロ
カーボン/油=50/1〜1/20(重量比)、好まし
くは10/1〜1/5(重量比)である。ハイドロフル
オロカーボン/油=50/1よりハイドロフルオロカー
ボンの比率が高くなるとハイドロフルオロカーボン・油
混合溶液の粘度が低くなり、潤滑性が悪くなる可能性が
あり好ましくない。また、ハイドロフルオロカーボン/
油=1/20より、ハイドロフルオロカーボンの比率が
低くなると、冷凍能力が不足する可能性があり、好まし
くない。
【0213】本発明に用いられるハイドロフルオロカー
ボンとは、ジフルオロメタン(HFC32)、1,1 −ジ
フルオロエタン(HFC152a)、1,1,1 −トリフル
オロエタン(HFC143a)、1,1,1,2 −テトラフル
オロエタン(HFC134a)、1,1,2,2 −テトラフル
オロエタン(HFC134)、ペンタフルオロエタン
(HFC125)等であり、特に1,1,1,2 −テトラフル
オロエタン、ペンタフルオロエタン、ジフルオロメタン
が好ましい。
ボンとは、ジフルオロメタン(HFC32)、1,1 −ジ
フルオロエタン(HFC152a)、1,1,1 −トリフル
オロエタン(HFC143a)、1,1,1,2 −テトラフル
オロエタン(HFC134a)、1,1,2,2 −テトラフル
オロエタン(HFC134)、ペンタフルオロエタン
(HFC125)等であり、特に1,1,1,2 −テトラフル
オロエタン、ペンタフルオロエタン、ジフルオロメタン
が好ましい。
【0214】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例等によりなんら限定
されるものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例等によりなんら限定
されるものではない。
【0215】実施例1−11,6−ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビト
ール(1b)の合成 1)1.2 : 3.4 : 5.6 −トリ−O−(3,5,5−トリメチル
ヘキシリデン)ソルビトール(1a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌器を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール170.76g(0.937モ
ル)、3,5,5 −トリメチルヘキサナール400g(2.
812モル)、パラトルエンスルホン酸1水和物1.7
8g(0.00936モル)及びヘキサン400mlを
仕込んだ。攪拌しながら昇温し、79〜81℃で8時間
反応を行い計算量の水を留去した。反応終了後70℃に
冷却し、炭酸ナトリウム1.99g(0.0188モ
ル)を加えて中和し、70℃で30分間攪拌したのち水
100gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置分層し
た。下層を除いたのち飽和食塩水100gで洗浄し、エ
バポレートして粗標記化合物(1a)529.51gを
得た。
ール(1b)の合成 1)1.2 : 3.4 : 5.6 −トリ−O−(3,5,5−トリメチル
ヘキシリデン)ソルビトール(1a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌器を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール170.76g(0.937モ
ル)、3,5,5 −トリメチルヘキサナール400g(2.
812モル)、パラトルエンスルホン酸1水和物1.7
8g(0.00936モル)及びヘキサン400mlを
仕込んだ。攪拌しながら昇温し、79〜81℃で8時間
反応を行い計算量の水を留去した。反応終了後70℃に
冷却し、炭酸ナトリウム1.99g(0.0188モ
ル)を加えて中和し、70℃で30分間攪拌したのち水
100gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置分層し
た。下層を除いたのち飽和食塩水100gで洗浄し、エ
バポレートして粗標記化合物(1a)529.51gを
得た。
【0216】このものを減圧蒸留によってトップカット
して得た残渣500.87gをヘキサン500mlに溶
解し、活性白土25.04g(5重量%対残渣)を通し
て加圧濾過(PTFE、0.2μm)を行い、ヘキサン
洗浄して得たヘキサン溶液からヘキサンを完全にエバポ
レートし標記化合物(1a)501.14gを得た(収
率96.4%)。ガスクロマトグラフィー純度は96.
3%、水酸基価は27.2(理論値0)であった。
して得た残渣500.87gをヘキサン500mlに溶
解し、活性白土25.04g(5重量%対残渣)を通し
て加圧濾過(PTFE、0.2μm)を行い、ヘキサン
洗浄して得たヘキサン溶液からヘキサンを完全にエバポ
レートし標記化合物(1a)501.14gを得た(収
率96.4%)。ガスクロマトグラフィー純度は96.
3%、水酸基価は27.2(理論値0)であった。
【0217】2)1,6 −ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘ
キシル)ソルビトール(1b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(1a)487.1g(0.878モル)及び5%Pd
/C(乾燥品:50%含水品を真空ポンプで減圧、室温
で1日乾燥したもの)(エヌ.イー.ケムキャット社製
「5%Pdカーボン粉末5.0%含水品、E−typ
e、pH6.0」)9.74g(2重量%)を仕込ん
だ。水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇温し、
190℃にて水素圧200kg/cm2 で8時間反応さ
せた。反応終了時の水酸基価243.3〔理論値30
0.9(平均アルキル置換数3.0のエーテルアルコー
ルとして)〕。反応終了後、イソプロパノール300m
lに溶解し、メンブランフィルター(PTFE、0.2
μm)を通して加圧濾過し、エバポレートして、粗多価
エーテルアルコール混合物475.85gを得た(粗収
率96.6%)。このもののガスクロマトグラフィーに
よる組成はジアルキル体19%、トリアルキル体47
%、テトラアルキル体18%、モノアルキル体3%、ペ
ンタアルキル体2%であった。このうち200gをヘキ
サン/エタノール=95/5(Vol/Vol)を展開
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、標記化合物(1b)18.2gを得た。ガスク
ロマトグラフィー純度は90.5%;水酸基価は471
(理論値517)であった。
キシル)ソルビトール(1b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(1a)487.1g(0.878モル)及び5%Pd
/C(乾燥品:50%含水品を真空ポンプで減圧、室温
で1日乾燥したもの)(エヌ.イー.ケムキャット社製
「5%Pdカーボン粉末5.0%含水品、E−typ
e、pH6.0」)9.74g(2重量%)を仕込ん
だ。水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇温し、
190℃にて水素圧200kg/cm2 で8時間反応さ
せた。反応終了時の水酸基価243.3〔理論値30
0.9(平均アルキル置換数3.0のエーテルアルコー
ルとして)〕。反応終了後、イソプロパノール300m
lに溶解し、メンブランフィルター(PTFE、0.2
μm)を通して加圧濾過し、エバポレートして、粗多価
エーテルアルコール混合物475.85gを得た(粗収
率96.6%)。このもののガスクロマトグラフィーに
よる組成はジアルキル体19%、トリアルキル体47
%、テトラアルキル体18%、モノアルキル体3%、ペ
ンタアルキル体2%であった。このうち200gをヘキ
サン/エタノール=95/5(Vol/Vol)を展開
溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製し、標記化合物(1b)18.2gを得た。ガスク
ロマトグラフィー純度は90.5%;水酸基価は471
(理論値517)であった。
【0218】IR (NEAT, cm-1):3465(O−H伸
縮)、2954(C−H伸縮)、1473、1395、1368(C−H
変角)、1122(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.77〜1.35(28H、多重
線、-CH(CH3)CH2C(CH3 )3) 1.35〜1.75(2H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.03 (4H、一重線、-OH) 3.43〜4.02(12H、多重線、-CH(OH)-, -CH2 O CH2-) MASS(FD):436(M+1)
縮)、2954(C−H伸縮)、1473、1395、1368(C−H
変角)、1122(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.77〜1.35(28H、多重
線、-CH(CH3)CH2C(CH3 )3) 1.35〜1.75(2H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.03 (4H、一重線、-OH) 3.43〜4.02(12H、多重線、-CH(OH)-, -CH2 O CH2-) MASS(FD):436(M+1)
【0219】実施例1−21,3,6−トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソル
ビトール(2)の合成 実施例1−1で得られた粗多価エーテルアルコール混合
物100gを実施例1−1と同様にヘキサン/エタノー
ル=95/5(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化
合物(2)32.3gを得た。ガスクロマトグラフィー
純度は93.3%;水酸基価280(理論値301)で
あった。
ビトール(2)の合成 実施例1−1で得られた粗多価エーテルアルコール混合
物100gを実施例1−1と同様にヘキサン/エタノー
ル=95/5(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化
合物(2)32.3gを得た。ガスクロマトグラフィー
純度は93.3%;水酸基価280(理論値301)で
あった。
【0220】IR (NEAT, cm-1):3466(O−H伸
縮)、2956(C−H伸縮)、1473、1395、1368(C−H
変角)、1122(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.77〜1.35(42H、多重
線、-CH(CH3)CH2C (CH3) 3 1.35〜1.80(9H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.40〜4.00(14H、多重線、-CH(OH)-, -CH2 O CH2-) MASS(FD):688(M+1)
縮)、2956(C−H伸縮)、1473、1395、1368(C−H
変角)、1122(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.77〜1.35(42H、多重
線、-CH(CH3)CH2C (CH3) 3 1.35〜1.80(9H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.40〜4.00(14H、多重線、-CH(OH)-, -CH2 O CH2-) MASS(FD):688(M+1)
【0221】実施例1−31,3,6,x−テトラ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)
ソルビトール(3)の合成 (xは2,4,5のいずれかの数
字を示す。以下同じ。) 実施例1−1で得られた粗多価エーテルアルコール混合
物100gを実施例1−1と同様にヘキサン/エタノー
ル=95/5(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化
合物(3)24.0gを得た。ガスクロマトグラフィー
純度は83.5%;水酸基価174(理論値163)で
あった。
ソルビトール(3)の合成 (xは2,4,5のいずれかの数
字を示す。以下同じ。) 実施例1−1で得られた粗多価エーテルアルコール混合
物100gを実施例1−1と同様にヘキサン/エタノー
ル=95/5(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化
合物(3)24.0gを得た。ガスクロマトグラフィー
純度は83.5%;水酸基価174(理論値163)で
あった。
【0222】IR(NEAT, cm-1):3465(O−H伸
縮)、2954(C−H伸縮)、1473、1394、1367(C−H
変角)、1120(C−O伸縮) MASS(FD):351(M+1)
縮)、2954(C−H伸縮)、1473、1394、1367(C−H
変角)、1120(C−O伸縮) MASS(FD):351(M+1)
【0223】実施例1−41−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール,
1,6−ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビト
ール,1,3,6−トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシ
ル)ソルビトール,1,3,6,x−テトラ−O−(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)ソルビトール,1,3,6,x,y−ペンタ
−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール混合
物(平均アルキル置換数3.1のエーテルアルコール)
(4)の合成 (yはxと異なり、2,4,5のいずれかの数
字を示す。以下同じ。) 実施例1−1で得られた粗多価エーテルアルコール混合
物200gを減圧下で加熱(192℃/0.6mmH
g)し、低沸点成分を除去することにより精製し、標記
化合物(4)178gを得た(収率89.2%)。この
もののガスクロマトグラフィーによる組成はモノアルキ
ル体3%、ジアルキル体21%、トリアルキル体53
%、テトラアルキル体20%、ペンタアルキル体2%で
あった。また、水酸基価は282(平均アルキル置換数
3.1のエーテルアルコール)であった。
1,6−ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビト
ール,1,3,6−トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシ
ル)ソルビトール,1,3,6,x−テトラ−O−(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)ソルビトール,1,3,6,x,y−ペンタ
−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール混合
物(平均アルキル置換数3.1のエーテルアルコール)
(4)の合成 (yはxと異なり、2,4,5のいずれかの数
字を示す。以下同じ。) 実施例1−1で得られた粗多価エーテルアルコール混合
物200gを減圧下で加熱(192℃/0.6mmH
g)し、低沸点成分を除去することにより精製し、標記
化合物(4)178gを得た(収率89.2%)。この
もののガスクロマトグラフィーによる組成はモノアルキ
ル体3%、ジアルキル体21%、トリアルキル体53
%、テトラアルキル体20%、ペンタアルキル体2%で
あった。また、水酸基価は282(平均アルキル置換数
3.1のエーテルアルコール)であった。
【0224】IR(NEAT, cm-1):3466(O−H伸
縮)、2955(C−H伸縮)、1473、1395、1367(C−H
変角)、1118(C−O伸縮)
縮)、2955(C−H伸縮)、1473、1395、1367(C−H
変角)、1118(C−O伸縮)
【0225】実施例1−51−モノ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビト
ール,1,6−ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソ
ルビトール,1,3,6−トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘ
キシル)ソルビトール,1,3,6,x−テトラ−O−(3,5,5
−トリメチルヘキシル)ソルビトール,1,3,6,x,y−ペ
ンタ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール
混合物(平均アルキル置換数2.0のエーテルアルコー
ル)(5)の合成 1リットルのオートクレーブに実施例1−1で得られた
1.2:3.4:5.6−トリ−O−(3,5,5−トリメチ
ルヘキシリデン)ソルビトール(1a)480g(0.
865モル)、D−ソルビトール78.8g(0.43
3モル)及び5%Pd/C(乾燥品:50%含水品を真
空ポンプで減圧、室温で1日乾燥したもの)(エヌ.イ
ー.ケムキャット社製「5%Pdカーボン粉末5.0%
含水品、E−type、pH6.0」)9.74g(2
重量%)を仕込んだ。水素圧20kg/cm2 にて攪拌
しながら昇温し、190℃にて水素圧200kg/cm
2で25時間反応させた。反応終了後、イソプロパノー
ル300mlに溶解し、メンブランフィルター(PTF
E、0.2μm)を通して加圧濾過し、エバポレートし
て、粗多価エーテルアルコール混合物532.0gを得
た(粗収率95.1%)。このものを減圧下で加熱(1
82〜207℃/0.6mmHg)し、低沸点成分を留
去することにより精製し、標記化合物(5)484gを
得た(収率91.0%)。このもののガスクロマトグラ
フィーによる組成はモノアルキル体34%、ジアルキル
体47%、トリアルキル体16%、テトラアルキル体1
%であった。また水酸基価は521(平均アルキル置換
数2.0のエーテルアルコール)であった。
ール,1,6−ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソ
ルビトール,1,3,6−トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘ
キシル)ソルビトール,1,3,6,x−テトラ−O−(3,5,5
−トリメチルヘキシル)ソルビトール,1,3,6,x,y−ペ
ンタ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール
混合物(平均アルキル置換数2.0のエーテルアルコー
ル)(5)の合成 1リットルのオートクレーブに実施例1−1で得られた
1.2:3.4:5.6−トリ−O−(3,5,5−トリメチ
ルヘキシリデン)ソルビトール(1a)480g(0.
865モル)、D−ソルビトール78.8g(0.43
3モル)及び5%Pd/C(乾燥品:50%含水品を真
空ポンプで減圧、室温で1日乾燥したもの)(エヌ.イ
ー.ケムキャット社製「5%Pdカーボン粉末5.0%
含水品、E−type、pH6.0」)9.74g(2
重量%)を仕込んだ。水素圧20kg/cm2 にて攪拌
しながら昇温し、190℃にて水素圧200kg/cm
2で25時間反応させた。反応終了後、イソプロパノー
ル300mlに溶解し、メンブランフィルター(PTF
E、0.2μm)を通して加圧濾過し、エバポレートし
て、粗多価エーテルアルコール混合物532.0gを得
た(粗収率95.1%)。このものを減圧下で加熱(1
82〜207℃/0.6mmHg)し、低沸点成分を留
去することにより精製し、標記化合物(5)484gを
得た(収率91.0%)。このもののガスクロマトグラ
フィーによる組成はモノアルキル体34%、ジアルキル
体47%、トリアルキル体16%、テトラアルキル体1
%であった。また水酸基価は521(平均アルキル置換
数2.0のエーテルアルコール)であった。
【0226】実施例1−62,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6 −ジ−O−(3,5,5
−トリメチルヘキシル)ソルビトール(6)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)7.3g(0.18モル)を入れ、ヘキサン50
mlを加えて攪拌し、上澄みをデカンテーションにより
除去することにより洗浄した。1,2 −ジメトキシエタン
/ジメチルスルホキシド=3/1(Vol/Vol)混
合溶媒320mlを入れ、攪拌しながら室温で実施例1
−1で得た化合物(1b)17.0g(0.039モ
ル)を同混合溶媒16mlに溶解したものを10分間か
けて滴下し、さらに50℃で1時間攪拌した。40℃ま
で冷却し、ジメチル硫酸22.9g(0.18モル)を
50℃以下で20分間かけて滴下した。さらに50℃で
1時間攪拌後、冷却し、10%水酸化ナトリウム水溶液
72.0g(0.18モル)を加えて70〜80℃で1
時間攪拌した。冷却後、水100mlを加えて分層し、
水層をジエチルエーテル150mlで2回抽出し、有機
層を合わせて飽和食塩水100mlで3回洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレーターで溶媒を除
き、油状物質21.2gを得た。さらにこれをヘキサン
/ジエチルエーテル=90/10(Vol/Vol)を
展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製した後、減圧蒸留(沸点179℃/0.35m
mHg)し、標記化合物(6)6.8gを得た。ガスク
ロマトグラフィー純度は99.7%であった。
−トリメチルヘキシル)ソルビトール(6)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)7.3g(0.18モル)を入れ、ヘキサン50
mlを加えて攪拌し、上澄みをデカンテーションにより
除去することにより洗浄した。1,2 −ジメトキシエタン
/ジメチルスルホキシド=3/1(Vol/Vol)混
合溶媒320mlを入れ、攪拌しながら室温で実施例1
−1で得た化合物(1b)17.0g(0.039モ
ル)を同混合溶媒16mlに溶解したものを10分間か
けて滴下し、さらに50℃で1時間攪拌した。40℃ま
で冷却し、ジメチル硫酸22.9g(0.18モル)を
50℃以下で20分間かけて滴下した。さらに50℃で
1時間攪拌後、冷却し、10%水酸化ナトリウム水溶液
72.0g(0.18モル)を加えて70〜80℃で1
時間攪拌した。冷却後、水100mlを加えて分層し、
水層をジエチルエーテル150mlで2回抽出し、有機
層を合わせて飽和食塩水100mlで3回洗浄した。無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレーターで溶媒を除
き、油状物質21.2gを得た。さらにこれをヘキサン
/ジエチルエーテル=90/10(Vol/Vol)を
展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
より精製した後、減圧蒸留(沸点179℃/0.35m
mHg)し、標記化合物(6)6.8gを得た。ガスク
ロマトグラフィー純度は99.7%であった。
【0227】IR (NEAT, cm-1):2950(C−H伸
縮)、1473、1368(C−H変角)、1116(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.80〜1.33(28H、多重
線、-CH(CH3)CH2C (CH3) 3 ) 1.33〜1.80(6H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.35〜3.80(24H、多重線、-CH(O CH3)-,-CH2 O CH2-)
縮)、1473、1368(C−H変角)、1116(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.80〜1.33(28H、多重
線、-CH(CH3)CH2C (CH3) 3 ) 1.33〜1.80(6H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.35〜3.80(24H、多重線、-CH(O CH3)-,-CH2 O CH2-)
【0228】実施例1−72,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −トリ−O−(3,5,5
−トリメチルヘキシル)ソルビトール(7)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)4.9g(0.12モル)を入れ、ヘキサン50
mlを加えて攪拌し、上澄みをデカンテーションにより
除去することにより洗浄した。1,2 −ジメトキシエタン
/ジメチルスルホキシド=3/1(Vol/Vol)混
合溶媒320mlを入れ、攪拌しながら室温で実施例1
−2で得た化合物(2)15.3g(0.027モル)
を同混合溶媒12mlに溶解したものを10分間かけて
滴下し、さらに50℃で30分間攪拌した。40℃まで
冷却し、ジメチル硫酸15.5g(0.12モル)を5
0℃以下で1時間かけて滴下した。さらに50℃で1時
間攪拌後、冷却し、10%水酸化ナトリウム水溶液4
8.0g(0.12モル)を加えて70〜80℃で1時
間攪拌した。冷却後、分層し、水層をジエチルエーテル
100mlで2回抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水
50mlで3回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、エバポレーターで溶媒を除き、油状物質16.9g
を得た。さらにこれをヘキサン/ジエチルエーテル=9
0/10(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化合物
(7)12.6gを得た(ガスクロマトグラフィー純度
98.4%)。
−トリメチルヘキシル)ソルビトール(7)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)4.9g(0.12モル)を入れ、ヘキサン50
mlを加えて攪拌し、上澄みをデカンテーションにより
除去することにより洗浄した。1,2 −ジメトキシエタン
/ジメチルスルホキシド=3/1(Vol/Vol)混
合溶媒320mlを入れ、攪拌しながら室温で実施例1
−2で得た化合物(2)15.3g(0.027モル)
を同混合溶媒12mlに溶解したものを10分間かけて
滴下し、さらに50℃で30分間攪拌した。40℃まで
冷却し、ジメチル硫酸15.5g(0.12モル)を5
0℃以下で1時間かけて滴下した。さらに50℃で1時
間攪拌後、冷却し、10%水酸化ナトリウム水溶液4
8.0g(0.12モル)を加えて70〜80℃で1時
間攪拌した。冷却後、分層し、水層をジエチルエーテル
100mlで2回抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水
50mlで3回洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥
し、エバポレーターで溶媒を除き、油状物質16.9g
を得た。さらにこれをヘキサン/ジエチルエーテル=9
0/10(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製し、標記化合物
(7)12.6gを得た(ガスクロマトグラフィー純度
98.4%)。
【0229】IR (NEAT, cm-1):2956(C−H伸
縮)、1470、1368(C−H変角)、1194(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.78〜1.10(42H、多重
線、-CH (CH3 ) CH2C(CH3 )3) 1.16〜1.78(9H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.23〜3.85(23H、多重線、-CH(O CH3)-,-CH2 O CH2-)
縮)、1470、1368(C−H変角)、1194(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.78〜1.10(42H、多重
線、-CH (CH3 ) CH2C(CH3 )3) 1.16〜1.78(9H、多重線、-CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3) 3.23〜3.85(23H、多重線、-CH(O CH3)-,-CH2 O CH2-)
【0230】実施例1−8−12,3,4,5,6−ペンタ−O−メチル−1−O−(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)ソルビトール,2,3,4,5−テトラ−
O−メチル−1,6−ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシ
ル)ソルビトール,2,4,5−トリ−O−メチル−1,3,6
−トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトー
ル,ジ−O−メチル−1,3,6,x−テトラ−O−(3,5,5−
トリメチルヘキシル)ソルビトール,O−メチル−1,3,
6,x,y−ペンタ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソ
ルビトール混合物(平均アルキル置換数2.0のエーテ
ルアルコールのメチルキャップ体)(8−1)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた3
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)117g(3.06モル)を入れ、ヘキサン40
0mlを加え攪拌し、上澄みをデカンテーションにより
除去することにより洗浄し、トルエン1.5リットルを
加えた。
リメチルヘキシル)ソルビトール,2,3,4,5−テトラ−
O−メチル−1,6−ジ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシ
ル)ソルビトール,2,4,5−トリ−O−メチル−1,3,6
−トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトー
ル,ジ−O−メチル−1,3,6,x−テトラ−O−(3,5,5−
トリメチルヘキシル)ソルビトール,O−メチル−1,3,
6,x,y−ペンタ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソ
ルビトール混合物(平均アルキル置換数2.0のエーテ
ルアルコールのメチルキャップ体)(8−1)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた3
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)117g(3.06モル)を入れ、ヘキサン40
0mlを加え攪拌し、上澄みをデカンテーションにより
除去することにより洗浄し、トルエン1.5リットルを
加えた。
【0231】実施例1−5と同様にして得られたモノ
−、ジ−、トリ−、テトラ−、ペンタ−O−(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)ソルビトール混合物(5)(水酸基
価521、平均アルキル置換数2.0のエーテルアルコ
ール)220gをトルエン300mlに溶解したものを
30分間かけて24〜36℃で滴下し、さらに90〜9
7℃で30分間攪拌した。40℃まで冷却し、ジメチル
硫酸386g(3.06モル)を60℃以下で2.5時
間かけて滴下した。さらに60℃で1時間攪拌後、冷却
し、15%水酸化ナトリウム水溶液898g(3.37
モル)を加えて80℃で1時間攪拌した。冷却後、分層
し、水層をトルエン300mlで1回抽出し、有機層を
合わせて飽和食塩水40mlで3回洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、エバポレーターで溶媒を除き、油
状物質248gを得た。さらに減圧下(0.7mmH
g)、185〜190℃で30分間加熱することにより
低沸点成分を留去し、標記化合物(8−1)226gを
得た。このもののガスクロマトグラフィーによる組成は
モノアルキル体34%、ジアルキル体47%、トリアル
キル体16%、テトラアルキル体1%であった。 IR (NEAT, cm-1):2956(C−H伸縮)、1473、1368
(C−H変角)、1104(C−O伸縮)
−、ジ−、トリ−、テトラ−、ペンタ−O−(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)ソルビトール混合物(5)(水酸基
価521、平均アルキル置換数2.0のエーテルアルコ
ール)220gをトルエン300mlに溶解したものを
30分間かけて24〜36℃で滴下し、さらに90〜9
7℃で30分間攪拌した。40℃まで冷却し、ジメチル
硫酸386g(3.06モル)を60℃以下で2.5時
間かけて滴下した。さらに60℃で1時間攪拌後、冷却
し、15%水酸化ナトリウム水溶液898g(3.37
モル)を加えて80℃で1時間攪拌した。冷却後、分層
し、水層をトルエン300mlで1回抽出し、有機層を
合わせて飽和食塩水40mlで3回洗浄した。無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、エバポレーターで溶媒を除き、油
状物質248gを得た。さらに減圧下(0.7mmH
g)、185〜190℃で30分間加熱することにより
低沸点成分を留去し、標記化合物(8−1)226gを
得た。このもののガスクロマトグラフィーによる組成は
モノアルキル体34%、ジアルキル体47%、トリアル
キル体16%、テトラアルキル体1%であった。 IR (NEAT, cm-1):2956(C−H伸縮)、1473、1368
(C−H変角)、1104(C−O伸縮)
【0232】実施例1−8−22,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6 −ジ−O−(3,5,5
−トリメチルヘキシル)ソルビトール、2,4,5 −トリ−
O−メチル−1,3,6 −トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘ
キシル)ソルビトール、ジ−O−メチル−1,3,6,X-テト
ラ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール、
2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチル−1−O−(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)ソルビトールの混合物(平均アルキ
ル置換数3.1のエーテルアルコールのメチルキャップ
体)(8−2)の合成
−トリメチルヘキシル)ソルビトール、2,4,5 −トリ−
O−メチル−1,3,6 −トリ−O−(3,5,5−トリメチルヘ
キシル)ソルビトール、ジ−O−メチル−1,3,6,X-テト
ラ−O−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール、
2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチル−1−O−(3,5,5−ト
リメチルヘキシル)ソルビトールの混合物(平均アルキ
ル置換数3.1のエーテルアルコールのメチルキャップ
体)(8−2)の合成
【0233】温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌
機を備えた2リットルの反応容器に水素化ナトリウム粉
末25.35g(1.06モル)、トルエン500ml
を仕込んだ。窒素雰囲気下に攪拌しながら室温にて実施
例1−4と同様にして得られたモノ−、ジ−、トリ−、
テトラ−O−(3,5,5-トリメチルヘキシル)ソルビトー
ル混合物(4)100g(0.2モル)をトルエン10
0mlに溶解したものを30分間で滴下したのちトルエ
ン200mlを加えて昇温し、110℃にて30分間還
流攪拌を行った。そののち50℃に冷却し、ジメチル硫
酸133.22g(1.06モル)を50℃にて1時間
で滴下した。トルエン600mlを追加して80℃で1
時間熟成したのち冷却して、10%水酸化ナトリウム水
溶液422.5g(1.06モル)を加えて70〜80
℃で30分間攪拌した。室温に冷却後静置分層し、下層
を除いた。上層を飽和食塩水200mlで4回洗浄した
のち無水硫酸ナトリウムで乾燥し、活性炭2.2g(2
重量%対理論収量)で吸着処理し、濾過したのちエバポ
レートし得られた油状物質を0.7mmHgの圧力で内
温200℃までトップカットし標記化合物(8−2)7
0.4gを得た(収率64.4%)。ガスクロマトグラ
フィーは純度96.1%であった。
機を備えた2リットルの反応容器に水素化ナトリウム粉
末25.35g(1.06モル)、トルエン500ml
を仕込んだ。窒素雰囲気下に攪拌しながら室温にて実施
例1−4と同様にして得られたモノ−、ジ−、トリ−、
テトラ−O−(3,5,5-トリメチルヘキシル)ソルビトー
ル混合物(4)100g(0.2モル)をトルエン10
0mlに溶解したものを30分間で滴下したのちトルエ
ン200mlを加えて昇温し、110℃にて30分間還
流攪拌を行った。そののち50℃に冷却し、ジメチル硫
酸133.22g(1.06モル)を50℃にて1時間
で滴下した。トルエン600mlを追加して80℃で1
時間熟成したのち冷却して、10%水酸化ナトリウム水
溶液422.5g(1.06モル)を加えて70〜80
℃で30分間攪拌した。室温に冷却後静置分層し、下層
を除いた。上層を飽和食塩水200mlで4回洗浄した
のち無水硫酸ナトリウムで乾燥し、活性炭2.2g(2
重量%対理論収量)で吸着処理し、濾過したのちエバポ
レートし得られた油状物質を0.7mmHgの圧力で内
温200℃までトップカットし標記化合物(8−2)7
0.4gを得た(収率64.4%)。ガスクロマトグラ
フィーは純度96.1%であった。
【0234】2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチル−1−O
−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール3.5重
量%、2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6 −ジ−O−
(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール37.6重
量%、2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −トリ−O−
(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール42.9重
量%、ジ−O−メチル−1,3,6,X −テトラ−O−(3,5,5
−トリメチルヘキシル)ソルビトール12.1重量%で
あった。
−(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール3.5重
量%、2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6 −ジ−O−
(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール37.6重
量%、2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −トリ−O−
(3,5,5−トリメチルヘキシル)ソルビトール42.9重
量%、ジ−O−メチル−1,3,6,X −テトラ−O−(3,5,5
−トリメチルヘキシル)ソルビトール12.1重量%で
あった。
【0235】実施例1−91,6 −ジ−O−(1−メチルプロピル)−O−(1−メ
チルプロピリデン)ソルビトール(9b)の合成 1)1.2 : 3.4 : 5.6 −トリ−O−(1−メチルプロピ
リデン)ソルビトール(9a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌器を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール336.84g(1.849モ
ル)、メチルエチルケトン800g(11.094モ
ル)、パラトルエンスルホン酸1水和物17.58g
(0.092モル)及びヘキサン200mlを仕込ん
だ。攪拌しながら昇温し、69〜79℃で8時間反応を
行い計算量の水を留去した。反応終了後60℃に冷却
し、炭酸ナトリウム19.60g(0.185モル)を
加えて中和し、60℃で30分間攪拌したのち水200
gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置分層した。下
層を除いたのち飽和食塩水200gで洗浄し、エバポレ
ートして粗標記化合物(9a)643.75gを得た。
このものを減圧蒸留して標記化合物(9a)606.7
1gを得た(収率95.3%)。沸点136〜140℃
/0.6mmHg、ガスクロマトグラフィー純度97.
3%、水酸基価12.9(理論値0)であった。
チルプロピリデン)ソルビトール(9b)の合成 1)1.2 : 3.4 : 5.6 −トリ−O−(1−メチルプロピ
リデン)ソルビトール(9a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌器を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール336.84g(1.849モ
ル)、メチルエチルケトン800g(11.094モ
ル)、パラトルエンスルホン酸1水和物17.58g
(0.092モル)及びヘキサン200mlを仕込ん
だ。攪拌しながら昇温し、69〜79℃で8時間反応を
行い計算量の水を留去した。反応終了後60℃に冷却
し、炭酸ナトリウム19.60g(0.185モル)を
加えて中和し、60℃で30分間攪拌したのち水200
gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置分層した。下
層を除いたのち飽和食塩水200gで洗浄し、エバポレ
ートして粗標記化合物(9a)643.75gを得た。
このものを減圧蒸留して標記化合物(9a)606.7
1gを得た(収率95.3%)。沸点136〜140℃
/0.6mmHg、ガスクロマトグラフィー純度97.
3%、水酸基価12.9(理論値0)であった。
【0236】2)1,6 −ジ−O−(1−メチルプロピ
ル)−O−(1−メチルプロピリデン)ソルビトール
(9b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(9a)571.5g(1.659モル)及び5%Pd
/C(乾燥品:50%含水品を真空ポンプで減圧、室温
で1日乾燥したもの)(エヌ.イー.ケムキャット社製
「5%Pdカーボン粉末50%含水品、E−type、
pH6.0」)11.43g(2重量%)を仕込んだ。
水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇温し、19
0℃にて水素圧200kg/cm2 で15時間反応させ
た。反応終了時の水酸基価403.5〔理論値480.
23(平均アルキル置換数3.0のエーテルアルコール
として)〕。反応終了後、イソプロパノール200ml
に溶解し、メンブランフィルター(PTFE、0.2μ
m)を通して加圧濾過し、エバポレートして、粗標記化
合物(9b)551.34gを得た(粗収率96.5
%)。このもののガスクロマトグラフィーによる組成は
ジアルキルエーテル16%、トリアルキルエーテル20
%、ジアルキルエーテルモノケタール51%、トリアル
キルエーテルモノケタール10%、テトラアルキルエー
テル1%であった。このうち500gをヘキサン500
mlに溶解しメタノール/水=200ml/200ml
で洗浄3回、メタノール/水=200ml/100ml
で洗浄3回、さらにメタノール/水=100ml/10
0mlで洗浄4回行い得られた洗浄後の上層のヘキサン
層をエバポレートして251.84gの部分的に精製さ
れた水素添加物を得た。このものをヘキサン250ml
に溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製した。ヘキサン/エタノール=99/1で溶出する
画分を集めて、エバポレートし、標記化合物(9b)1
31.92gを得た。ガスクロマトグラフィー純度9
7.7%;水酸基価327.5(理論値322.01)
であった。
ル)−O−(1−メチルプロピリデン)ソルビトール
(9b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(9a)571.5g(1.659モル)及び5%Pd
/C(乾燥品:50%含水品を真空ポンプで減圧、室温
で1日乾燥したもの)(エヌ.イー.ケムキャット社製
「5%Pdカーボン粉末50%含水品、E−type、
pH6.0」)11.43g(2重量%)を仕込んだ。
水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇温し、19
0℃にて水素圧200kg/cm2 で15時間反応させ
た。反応終了時の水酸基価403.5〔理論値480.
23(平均アルキル置換数3.0のエーテルアルコール
として)〕。反応終了後、イソプロパノール200ml
に溶解し、メンブランフィルター(PTFE、0.2μ
m)を通して加圧濾過し、エバポレートして、粗標記化
合物(9b)551.34gを得た(粗収率96.5
%)。このもののガスクロマトグラフィーによる組成は
ジアルキルエーテル16%、トリアルキルエーテル20
%、ジアルキルエーテルモノケタール51%、トリアル
キルエーテルモノケタール10%、テトラアルキルエー
テル1%であった。このうち500gをヘキサン500
mlに溶解しメタノール/水=200ml/200ml
で洗浄3回、メタノール/水=200ml/100ml
で洗浄3回、さらにメタノール/水=100ml/10
0mlで洗浄4回行い得られた洗浄後の上層のヘキサン
層をエバポレートして251.84gの部分的に精製さ
れた水素添加物を得た。このものをヘキサン250ml
に溶解し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより
精製した。ヘキサン/エタノール=99/1で溶出する
画分を集めて、エバポレートし、標記化合物(9b)1
31.92gを得た。ガスクロマトグラフィー純度9
7.7%;水酸基価327.5(理論値322.01)
であった。
【0237】IR (NEAT, cm-1):3492(O−H伸
縮)、2972、2936、2884(C−H伸縮)、1468、1378
(C−H変角)、1082(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.92 (9H、三重
線、-CH 2CH3) 1.12 (6H、二重線、-CH CH3) 1.38 (3H、一重線、(-O-)2C(CH3)CH2CH3 1.43〜1.80(6H、多重線、-CH2 CH3) 2.85 (2H、一重線、-OH) 3.29〜4.33(10H、多重線、-O- CH2-, -O- CH-) MASS(FD):349(M+1)
縮)、2972、2936、2884(C−H伸縮)、1468、1378
(C−H変角)、1082(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.92 (9H、三重
線、-CH 2CH3) 1.12 (6H、二重線、-CH CH3) 1.38 (3H、一重線、(-O-)2C(CH3)CH2CH3 1.43〜1.80(6H、多重線、-CH2 CH3) 2.85 (2H、一重線、-OH) 3.29〜4.33(10H、多重線、-O- CH2-, -O- CH-) MASS(FD):349(M+1)
【0238】実施例1−101,3,6−トリ−O−(1−メチルプロピル)ソルビトー
ル(10)の合成 実施例1−9で得られた部分的に精製された水素添加物
251.84gをヘキサン250mlに溶解し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。ヘキサ
ン/エタノール=95/5で溶出する画分を集めて、エ
バポレートし、標記化合物(10)55.42gを得
た。ガスクロマトグラフィー純度97.3%;水酸基価
453.1(理論値480.24)であった。
ル(10)の合成 実施例1−9で得られた部分的に精製された水素添加物
251.84gをヘキサン250mlに溶解し、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーにより精製した。ヘキサ
ン/エタノール=95/5で溶出する画分を集めて、エ
バポレートし、標記化合物(10)55.42gを得
た。ガスクロマトグラフィー純度97.3%;水酸基価
453.1(理論値480.24)であった。
【0239】IR (NEAT, cm-1):3464(O−H伸
縮)、2972、2932、2880(C−H伸縮)、1466、1380
(C−H変角)、1086(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.92 (9H、三重
線、-CH 2CH3) 1.13 (9H、二重線、-CH CH3) 1.32〜1.78(6H、多重線、-CH2 CH3) 3.13 (3H、幅広い一重線、-OH) 3.30〜4.02(-O-CH2 -, -O-CH-) MASS(FD):351(M+1)
縮)、2972、2932、2880(C−H伸縮)、1466、1380
(C−H変角)、1086(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.92 (9H、三重
線、-CH 2CH3) 1.13 (9H、二重線、-CH CH3) 1.32〜1.78(6H、多重線、-CH2 CH3) 3.13 (3H、幅広い一重線、-OH) 3.30〜4.02(-O-CH2 -, -O-CH-) MASS(FD):351(M+1)
【0240】実施例1−111,6 −ジ−O−(1−メチルプロピル)−ジ−O−メチ
ル−O−(1−メチルプロピリデン)ソルビトール(1
1)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム粉末12.38
g(0.516モル)、トルエン300mlを仕込ん
だ。窒素雰囲気下に、攪拌しながら室温にて実施例1−
9で得た化合物(9b)70g(0.201モル)をト
ルエン100mlに溶解したものを20分間で滴下した
のち、昇温し、110℃にて30分間還流攪拌を行っ
た。そののち50℃に冷却し、ジメチル硫酸65.08
g(0.516モル)を50℃にて1時間で滴下した。
80℃で1時間熟成したのち冷却して10%水酸化ナト
リウム水溶液206.4g(0.516モル)を加えて
70〜80℃で30分間攪拌した。室温に冷却後、エー
テル200mlで抽出し、飽和食塩水100mlで2回
洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾燥して、エバポレ
ートし、76.72gの粘稠な油状物質を得た。このも
のを減圧蒸留して標記化合物(11)68.83gを得
た(収率92.1%)。沸点127〜128℃/0.4
mmHg、ガスクロマトグラフィー純度99.0%、水
酸基価0.67(理論値0)であった。
ル−O−(1−メチルプロピリデン)ソルビトール(1
1)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム粉末12.38
g(0.516モル)、トルエン300mlを仕込ん
だ。窒素雰囲気下に、攪拌しながら室温にて実施例1−
9で得た化合物(9b)70g(0.201モル)をト
ルエン100mlに溶解したものを20分間で滴下した
のち、昇温し、110℃にて30分間還流攪拌を行っ
た。そののち50℃に冷却し、ジメチル硫酸65.08
g(0.516モル)を50℃にて1時間で滴下した。
80℃で1時間熟成したのち冷却して10%水酸化ナト
リウム水溶液206.4g(0.516モル)を加えて
70〜80℃で30分間攪拌した。室温に冷却後、エー
テル200mlで抽出し、飽和食塩水100mlで2回
洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾燥して、エバポレ
ートし、76.72gの粘稠な油状物質を得た。このも
のを減圧蒸留して標記化合物(11)68.83gを得
た(収率92.1%)。沸点127〜128℃/0.4
mmHg、ガスクロマトグラフィー純度99.0%、水
酸基価0.67(理論値0)であった。
【0241】IR (NEAT, cm-1):2974、2925(C−H
変角)、1470、1377、1341(C−H変角)、1089(C−
O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.90 (9H、三重
線、-CH 2CH3) 1.10〜1.20(6H、多重線、-CH(CH3)CH2CH3 1.29〜1.42(3H、多重線、(-O-)2C(CH3)CH2CH3 1.42〜1.80(6H、多重線、-CH2 CH3) 3.29〜3.80(14H、多重線、-CH2 -O-CH(CH3)CH2CH3,CH-
O- CH3)
変角)、1470、1377、1341(C−H変角)、1089(C−
O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.90 (9H、三重
線、-CH 2CH3) 1.10〜1.20(6H、多重線、-CH(CH3)CH2CH3 1.29〜1.42(3H、多重線、(-O-)2C(CH3)CH2CH3 1.42〜1.80(6H、多重線、-CH2 CH3) 3.29〜3.80(14H、多重線、-CH2 -O-CH(CH3)CH2CH3,CH-
O- CH3)
【0242】実施例1−122,4,5 −トリ−O−エチル−1,3,6 −トリ−O−(1−
メチルプロピル)ソルビトール(12)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた3
00mlの反応容器に水素化ナトリウム粉末3.70g
(0.154モル)、トルエン100mlを仕込んだ。
窒素雰囲気下に、攪拌しながら室温にて実施例1−10
で得た化合物(10b)12g(0.0342モル)を
トルエン50mlに溶解したものを20分間で滴下した
のち昇温し、110℃にて30分間還流攪拌を行った。
そののち50℃に冷却し、ジエチル硫酸23.75g
(0.154モル)を50℃にて45分間で滴下した。
80℃で2時間熟成したのち、冷却して10%水酸化ナ
トリウム水溶液61.6g(0.154モル)を加えて
70〜80℃で30分間攪拌した。室温に冷却後、下層
を除いて上層のトルエン層を飽和食塩水50mlで2回
洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾燥してエバポレー
トし、14.8gの粘稠な油状物質を得た。このものを
減圧蒸留して標記化合物(12)13.69gを得た
(収率92.0%)。沸点145〜146℃/0.5m
mHg、ガスクロマトグラフィー純度96.2%、水酸
基価0.5(理論価0)であった。
メチルプロピル)ソルビトール(12)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた3
00mlの反応容器に水素化ナトリウム粉末3.70g
(0.154モル)、トルエン100mlを仕込んだ。
窒素雰囲気下に、攪拌しながら室温にて実施例1−10
で得た化合物(10b)12g(0.0342モル)を
トルエン50mlに溶解したものを20分間で滴下した
のち昇温し、110℃にて30分間還流攪拌を行った。
そののち50℃に冷却し、ジエチル硫酸23.75g
(0.154モル)を50℃にて45分間で滴下した。
80℃で2時間熟成したのち、冷却して10%水酸化ナ
トリウム水溶液61.6g(0.154モル)を加えて
70〜80℃で30分間攪拌した。室温に冷却後、下層
を除いて上層のトルエン層を飽和食塩水50mlで2回
洗浄したのち無水硫酸ナトリウムで乾燥してエバポレー
トし、14.8gの粘稠な油状物質を得た。このものを
減圧蒸留して標記化合物(12)13.69gを得た
(収率92.0%)。沸点145〜146℃/0.5m
mHg、ガスクロマトグラフィー純度96.2%、水酸
基価0.5(理論価0)であった。
【0243】IR (NEAT, cm-1):2974、2932、2878
(C−H伸縮)、1467、1377、1341(C−H変角)、11
10(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.82〜1.08(9H、三重
線、-CH(CH3)CH2 CH3) 1.08〜1.80(24H、多重線、-CH(CH3) CH2 CH3,-OCH2 CH
3) 3.21〜4.00(17H、多重線、-CH-O-CH2- ,-CH -OCH(CH3)
-)
(C−H伸縮)、1467、1377、1341(C−H変角)、11
10(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.82〜1.08(9H、三重
線、-CH(CH3)CH2 CH3) 1.08〜1.80(24H、多重線、-CH(CH3) CH2 CH3,-OCH2 CH
3) 3.21〜4.00(17H、多重線、-CH-O-CH2- ,-CH -OCH(CH3)
-)
【0244】実施例1−131,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−O−(1,3−ジ
メチルブチリデン)ソルビトール(13b)の合成 1)1,2 : 3,4 : 5,6 −トリ−O−(1,3−ジメチルブチ
リデン)ソルビトール(13a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌器を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール363.76g(1.997モ
ル)、メチルイソブチルケトン1200g(11.98
1モル)、パラトルエンスルホン酸1水和物18.99
g(0.0998モル)及びヘキサン300mlを仕込
んだ。攪拌しながら昇温し、93〜98℃で23時間反
応を行い計算量の水を留去した。反応終了後60℃に冷
却し、炭酸ナトリウム21.16g(0.1996モ
ル)を加えて中和し、60℃で30分間攪拌したのち水
200gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置分層し
た。下層を除いたのち飽和食塩水200gで洗浄し、エ
バポレートして粗標記化合物(13a)736.65g
を得た。このものを減圧蒸留によってトップカットして
得た残渣657.62gを活性白土33g(5重量%対
残渣)を通して加圧濾過(PTFE、0.2μm)を行
い、標記化合物(13a)637.44gを得た(収率
74.5%)。ガスクロマトグラフィー純度は96.1
%、水酸基価は34.3(理論値0)であった。
メチルブチリデン)ソルビトール(13b)の合成 1)1,2 : 3,4 : 5,6 −トリ−O−(1,3−ジメチルブチ
リデン)ソルビトール(13a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌器を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール363.76g(1.997モ
ル)、メチルイソブチルケトン1200g(11.98
1モル)、パラトルエンスルホン酸1水和物18.99
g(0.0998モル)及びヘキサン300mlを仕込
んだ。攪拌しながら昇温し、93〜98℃で23時間反
応を行い計算量の水を留去した。反応終了後60℃に冷
却し、炭酸ナトリウム21.16g(0.1996モ
ル)を加えて中和し、60℃で30分間攪拌したのち水
200gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置分層し
た。下層を除いたのち飽和食塩水200gで洗浄し、エ
バポレートして粗標記化合物(13a)736.65g
を得た。このものを減圧蒸留によってトップカットして
得た残渣657.62gを活性白土33g(5重量%対
残渣)を通して加圧濾過(PTFE、0.2μm)を行
い、標記化合物(13a)637.44gを得た(収率
74.5%)。ガスクロマトグラフィー純度は96.1
%、水酸基価は34.3(理論値0)であった。
【0245】2)1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール
(13b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(13a)612g(1.428モル)及び5%Pd/
C(乾燥品:50%含水品を真空ポンプで減圧、室温で
1日乾燥したもの)(エヌ.イー.ケムキャット社製
「5%Pdカーボン粉末50%含水品、E−type、
pH6.0」)12.24g(2重量%)を仕込んだ。
水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇温し、19
0℃にて水素圧200kg/cm2 で10時間反応させ
た。反応終了時の水酸基価366.9〔理論値387.
25(平均アルキル置換数3.0のエーテルアルコール
として)〕。反応終了後、ヘキサン200mlに溶解
し、メンブランフィルター(PTFE、0.2μm)を
通して加圧濾過し、エバポレートして、水素添加物(1
3b)482.73gを得た(粗収率77.8%)。こ
のもののガスクロマトグラフィーによる組成はジアルキ
ルエーテル21%、トリアルキルエーテル20%、ジア
ルキルエーテルモノケタール37%、トリアルキルエー
テルモノケタール8%であった。このうち360gをヘ
キサン/エタノール=97/3(Vol/Vol)を展
開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、標記化合物(13b)66.0gを得た。ガ
スクロマトグラフィー純度は98.3%;水酸基価は2
67(理論値259)であった。
ル)−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール
(13b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(13a)612g(1.428モル)及び5%Pd/
C(乾燥品:50%含水品を真空ポンプで減圧、室温で
1日乾燥したもの)(エヌ.イー.ケムキャット社製
「5%Pdカーボン粉末50%含水品、E−type、
pH6.0」)12.24g(2重量%)を仕込んだ。
水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇温し、19
0℃にて水素圧200kg/cm2 で10時間反応させ
た。反応終了時の水酸基価366.9〔理論値387.
25(平均アルキル置換数3.0のエーテルアルコール
として)〕。反応終了後、ヘキサン200mlに溶解
し、メンブランフィルター(PTFE、0.2μm)を
通して加圧濾過し、エバポレートして、水素添加物(1
3b)482.73gを得た(粗収率77.8%)。こ
のもののガスクロマトグラフィーによる組成はジアルキ
ルエーテル21%、トリアルキルエーテル20%、ジア
ルキルエーテルモノケタール37%、トリアルキルエー
テルモノケタール8%であった。このうち360gをヘ
キサン/エタノール=97/3(Vol/Vol)を展
開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーによ
り精製し、標記化合物(13b)66.0gを得た。ガ
スクロマトグラフィー純度は98.3%;水酸基価は2
67(理論値259)であった。
【0246】IR (NEAT, cm-1):3436(O−H伸
縮)、2960、2878(C−H伸縮)、1470、1377(C−H
変角)、1092(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.80〜1.09(18H、多重
線、-CH(CH3) 2) 0.80〜1.30(9H、多重線、-OCH(CH3 )CH2-,(-O-)2C(CH
3)CH2-) 1.30〜1.65(8H、多重線、-CH2 CH(CH3)2) 1.65〜1.92(2H、多重線、-CH(CH3)2) 2.36〜2.82(2H、幅広い一重線、-OH) 3.33〜4.40(10H、多重線、 -CHO CH2-,-CH-O-) MASS(FD):433(M+1)
縮)、2960、2878(C−H伸縮)、1470、1377(C−H
変角)、1092(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.80〜1.09(18H、多重
線、-CH(CH3) 2) 0.80〜1.30(9H、多重線、-OCH(CH3 )CH2-,(-O-)2C(CH
3)CH2-) 1.30〜1.65(8H、多重線、-CH2 CH(CH3)2) 1.65〜1.92(2H、多重線、-CH(CH3)2) 2.36〜2.82(2H、幅広い一重線、-OH) 3.33〜4.40(10H、多重線、 -CHO CH2-,-CH-O-) MASS(FD):433(M+1)
【0247】実施例1−141,6−ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
(14)の合成 実施例1−13において引き続きシリカゲルクロマトグ
ラフィー(ヘキサン/エタノール=95/5(Vol/
Vol))を行うことにより、水素添加物を精製し、標
記化合物(14)57.9gを得た。ガスクロマトグラ
フィー純度は83.7%;水酸基価は614(理論値6
41)であった。
(14)の合成 実施例1−13において引き続きシリカゲルクロマトグ
ラフィー(ヘキサン/エタノール=95/5(Vol/
Vol))を行うことにより、水素添加物を精製し、標
記化合物(14)57.9gを得た。ガスクロマトグラ
フィー純度は83.7%;水酸基価は614(理論値6
41)であった。
【0248】IR (NEAT, cm-1):3436(O−H伸
縮)、2962、2873(C−H伸縮)、1470、1377(C−H
変角)、1089(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.85〜1.02(12H、多重
線、-CH (CH3 )3) 1.15 (6H、二重線、-OCH(CH3 )-) 1.22〜1.64(4H、多重線、-CH2 CH(CH3)2) 1.64〜1.90(2H、多重線、-CH(CH3)2) 3.32 (4H、一重線、-OH) 3.45〜4.02(10H、多重線、 -CHO CH2-,-CH-O-) MASS(FD):351(M+1)
縮)、2962、2873(C−H伸縮)、1470、1377(C−H
変角)、1089(C−O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.85〜1.02(12H、多重
線、-CH (CH3 )3) 1.15 (6H、二重線、-OCH(CH3 )-) 1.22〜1.64(4H、多重線、-CH2 CH(CH3)2) 1.64〜1.90(2H、多重線、-CH(CH3)2) 3.32 (4H、一重線、-OH) 3.45〜4.02(10H、多重線、 -CHO CH2-,-CH-O-) MASS(FD):351(M+1)
【0249】実施例1−151,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−ジ−O−メチ
ル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール(1
5)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)15.6g(0.39モル)を入れ、ヘキサン1
00mlを加え攪拌し、上澄みをデカンテーションによ
り除去することにより洗浄した。トルエン200mlを
入れ、攪拌しながら室温で実施例1−13で得た化合物
(13b)64.1g(0.15モル)をトルエン10
0mlに溶解したものを15分間かけて滴下し、さらに
100℃で1時間攪拌した。40℃まで冷却し、ジメチ
ル硫酸49.1g(0.39モル)を60℃以下で1時
間かけて滴下した。さらに60℃で1時間攪拌後、冷却
し、10%水酸化ナトリウム水溶液156g(0.39
モル)を加えて70〜80℃で1時間攪拌した。冷却
後、分層し、水層をジエチルエーテル150mlで2回
抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水100mlで3回
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレータ
ーで溶媒を除き、油状物質68.0gを得た。さらにこ
れをヘキサン/ジエチルエーテル=95/5〜90/1
0(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、標記化合物(1
5)56.6gを得た(ガスクロマトグラフィー純度9
7.7%)。
ル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール(1
5)の合成 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた1
リットルの反応容器に水素化ナトリウム(60%含量、
油性)15.6g(0.39モル)を入れ、ヘキサン1
00mlを加え攪拌し、上澄みをデカンテーションによ
り除去することにより洗浄した。トルエン200mlを
入れ、攪拌しながら室温で実施例1−13で得た化合物
(13b)64.1g(0.15モル)をトルエン10
0mlに溶解したものを15分間かけて滴下し、さらに
100℃で1時間攪拌した。40℃まで冷却し、ジメチ
ル硫酸49.1g(0.39モル)を60℃以下で1時
間かけて滴下した。さらに60℃で1時間攪拌後、冷却
し、10%水酸化ナトリウム水溶液156g(0.39
モル)を加えて70〜80℃で1時間攪拌した。冷却
後、分層し、水層をジエチルエーテル150mlで2回
抽出し、有機層を合わせて飽和食塩水100mlで3回
洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥し、エバポレータ
ーで溶媒を除き、油状物質68.0gを得た。さらにこ
れをヘキサン/ジエチルエーテル=95/5〜90/1
0(Vol/Vol)を展開溶媒とするシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、標記化合物(1
5)56.6gを得た(ガスクロマトグラフィー純度9
7.7%)。
【0250】IR (NEAT, cm-1):2956、2878(C−H
伸縮)、1470、1374(C−H変角)、1125、1095(C−
O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.70〜1.08(18H、-CH2CH
(CH3 )2) 1.08〜1.30(9H、-OCH(CH3 )CH2-,(-O-)2C (CH3 )CH2-) 1.30〜1.67(6H、-OCH(CH3) CH2-,(-O-)2C(CH3)CH2-) 1.67〜1.96(3H、-CH(CH3)2) 3.22〜4.25(16H、-O- CH2-,-O-CH-,-OCH3)
伸縮)、1470、1374(C−H変角)、1125、1095(C−
O伸縮)1 H NMR(CDCl3 、δppm):0.70〜1.08(18H、-CH2CH
(CH3 )2) 1.08〜1.30(9H、-OCH(CH3 )CH2-,(-O-)2C (CH3 )CH2-) 1.30〜1.67(6H、-OCH(CH3) CH2-,(-O-)2C(CH3)CH2-) 1.67〜1.96(3H、-CH(CH3)2) 3.22〜4.25(16H、-O- CH2-,-O-CH-,-OCH3)
【0251】実施例1−162,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6 −ジ−O−(1,3−
ジメチルブチル)ソルビトール、2,4,5 −トリ−O−メ
チル−1,3,6 −トリ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソル
ビトール、1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−ジ
−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビ
トール、O−メチル−1,3,6−トリ−O−(1,3−ジメチ
ルブチル)−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビト
ール、2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチル−1−O−(1,3
−ジメチルブチル)ソルビトール、ジ−O−メチル−1,
3,6,x−テトラ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビト
ールの混合物(16c)の合成 1)ソルビトールとメチルイソブチルケトンとのケター
ル(16a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌機を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール363.76g(1.997モ
ル)、メチルイソブチルケトン1200g(11.98
1モル)、パラトルエンスルホン酸1水和物18.99
g(0.0998モル)及びヘキサン300mlを仕込
んだ。攪拌しながら昇温し、93〜95℃で5時間反応
を行い計算量の60%の水を留去した。反応終了後60
℃に冷却し、炭酸ナトリウム21.16g(0.199
6モル)を加えて中和し、60℃で30分間攪拌したの
ち、水200gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置
分層した。下層を除いたのち飽和食塩水200gで洗浄
し、エバポレートして標記化合物544.6gを得た。
このものを減圧蒸留によってトップカットして得た残渣
486.2gを活性白土24.31g(5重量%対残
渣)を通して加圧濾過(PTFE、0.2μm)を行
い、標記化合物(16a)471.3gを得た(収率5
5.1%)。ガスクロマトグラフィー純度は95%〔ジ
ケタールとトリケタールの合計の値;ジケタール/トリ
ケタール=33/67(重量比)〕であった。
ジメチルブチル)ソルビトール、2,4,5 −トリ−O−メ
チル−1,3,6 −トリ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソル
ビトール、1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−ジ
−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビ
トール、O−メチル−1,3,6−トリ−O−(1,3−ジメチ
ルブチル)−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビト
ール、2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチル−1−O−(1,3
−ジメチルブチル)ソルビトール、ジ−O−メチル−1,
3,6,x−テトラ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビト
ールの混合物(16c)の合成 1)ソルビトールとメチルイソブチルケトンとのケター
ル(16a) 温度計、還流冷却器、ディーン−スタークトラップ、塩
化カルシウム管及び攪拌機を備えた3リットルの反応容
器にD−ソルビトール363.76g(1.997モ
ル)、メチルイソブチルケトン1200g(11.98
1モル)、パラトルエンスルホン酸1水和物18.99
g(0.0998モル)及びヘキサン300mlを仕込
んだ。攪拌しながら昇温し、93〜95℃で5時間反応
を行い計算量の60%の水を留去した。反応終了後60
℃に冷却し、炭酸ナトリウム21.16g(0.199
6モル)を加えて中和し、60℃で30分間攪拌したの
ち、水200gを加えて60℃で30分間攪拌し、静置
分層した。下層を除いたのち飽和食塩水200gで洗浄
し、エバポレートして標記化合物544.6gを得た。
このものを減圧蒸留によってトップカットして得た残渣
486.2gを活性白土24.31g(5重量%対残
渣)を通して加圧濾過(PTFE、0.2μm)を行
い、標記化合物(16a)471.3gを得た(収率5
5.1%)。ガスクロマトグラフィー純度は95%〔ジ
ケタールとトリケタールの合計の値;ジケタール/トリ
ケタール=33/67(重量比)〕であった。
【0252】2)ソルビトールとメチルイソブチルケト
ンとのケタールの水素添加物(16b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(16a)を充分脱水したもの450g(1.120モ
ル)及び5%Pd/C(乾燥品:50%含水品を真空ポ
ンプで減圧、室温で1日乾燥したもの)(エヌ.イー.
ケムキャット社製「5%Pdカーボン粉末50%含水
品、E−type、pH6.0」)9.0g(2重量%)を
仕込んだ。水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇
温し、190℃にて水素圧200kg/cm2 で20時
間反応させた。反応終了後、ヘキサン200mlに溶解
し、メンブランフィルター(PTFE、0.2μm)を
通して加圧濾過し、エバポレートして粗標記化合物(1
6b)433gを得た(粗収率95%)。
ンとのケタールの水素添加物(16b) 1リットルのオートクレーブに前記1)で得た化合物
(16a)を充分脱水したもの450g(1.120モ
ル)及び5%Pd/C(乾燥品:50%含水品を真空ポ
ンプで減圧、室温で1日乾燥したもの)(エヌ.イー.
ケムキャット社製「5%Pdカーボン粉末50%含水
品、E−type、pH6.0」)9.0g(2重量%)を
仕込んだ。水素圧20kg/cm2 にて攪拌しながら昇
温し、190℃にて水素圧200kg/cm2 で20時
間反応させた。反応終了後、ヘキサン200mlに溶解
し、メンブランフィルター(PTFE、0.2μm)を
通して加圧濾過し、エバポレートして粗標記化合物(1
6b)433gを得た(粗収率95%)。
【0253】ガスクロマトグラフィー純度は90%〔ジ
アルキルエーテル、トリアルキルエーテル、ジアルキル
エーテルモノケタール、トリアルキルエーテルモノケタ
ール、モノアルキルエーテル、テトラアルキルエーテル
の合計の値:ジアルキルエーテル/トリアルキルエーテ
ル/ジアルキルエーテルモノケタール/トリアルキルエ
ーテルモノケタール/モノアルキルエーテル/テトラア
ルキルエーテル=63.5/16.0/14.7/2.
9/2.7/0.2(重量比)〕水酸基価444.5
アルキルエーテル、トリアルキルエーテル、ジアルキル
エーテルモノケタール、トリアルキルエーテルモノケタ
ール、モノアルキルエーテル、テトラアルキルエーテル
の合計の値:ジアルキルエーテル/トリアルキルエーテ
ル/ジアルキルエーテルモノケタール/トリアルキルエ
ーテルモノケタール/モノアルキルエーテル/テトラア
ルキルエーテル=63.5/16.0/14.7/2.
9/2.7/0.2(重量比)〕水酸基価444.5
【0254】3)2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6
−ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール、2,4,
5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −トリ−O−(1,3−ジメ
チルブチル)ソルビトール、1,6 −ジ−O−(1,3−ジメ
チルブチル)−ジ−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブ
チリデン)ソルビトール、1,6,x−トリ−O−(1,3−ジ
メチルブチル)−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチ
リデン)ソルビトール、2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチ
ル−1−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール、ジ
−O−メチル−1,3,6,x−テトラ−O−(1,3−ジメチル
ブチル)ソルビトールの混合物(16c) 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた2
リットルの反応容器に水素化ナトリウム粉末28.5g
(1.19モル)トルエン900mlを仕込んだ。窒素
雰囲気下に攪拌しながら室温にて前記2)で得た化合物
(16b)100g(水酸基として0.79モル)をト
ルエン100mlに溶解したものを30分間で滴下した
のちトルエン50mlを加えて昇温し、110℃にて1
時間還流攪拌を行った。そののち50℃に冷却し、ジメ
チル硫酸149.9g(1.19モル)を50℃にて1
時間で滴下した。トルエン300mlを追加して80℃
で1時間熟成したのち冷却して、10%水酸化ナトリウ
ム水溶液476g(1.19モル)を加えて70〜80
℃で30分間攪拌した。室温に冷却後静置分層し、下層
を除いた。上層を飽和食塩水で4回洗浄したのち無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、エバポレートし、油状物質であ
る標記化合物(16c)98.4gを得た(収率89
%)。ガスクロマトグラフィーは純度90%であった。
−ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール、2,4,
5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −トリ−O−(1,3−ジメ
チルブチル)ソルビトール、1,6 −ジ−O−(1,3−ジメ
チルブチル)−ジ−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブ
チリデン)ソルビトール、1,6,x−トリ−O−(1,3−ジ
メチルブチル)−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチ
リデン)ソルビトール、2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メチ
ル−1−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール、ジ
−O−メチル−1,3,6,x−テトラ−O−(1,3−ジメチル
ブチル)ソルビトールの混合物(16c) 温度計、還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた2
リットルの反応容器に水素化ナトリウム粉末28.5g
(1.19モル)トルエン900mlを仕込んだ。窒素
雰囲気下に攪拌しながら室温にて前記2)で得た化合物
(16b)100g(水酸基として0.79モル)をト
ルエン100mlに溶解したものを30分間で滴下した
のちトルエン50mlを加えて昇温し、110℃にて1
時間還流攪拌を行った。そののち50℃に冷却し、ジメ
チル硫酸149.9g(1.19モル)を50℃にて1
時間で滴下した。トルエン300mlを追加して80℃
で1時間熟成したのち冷却して、10%水酸化ナトリウ
ム水溶液476g(1.19モル)を加えて70〜80
℃で30分間攪拌した。室温に冷却後静置分層し、下層
を除いた。上層を飽和食塩水で4回洗浄したのち無水硫
酸ナトリウムで乾燥し、エバポレートし、油状物質であ
る標記化合物(16c)98.4gを得た(収率89
%)。ガスクロマトグラフィーは純度90%であった。
【0255】2,3,4,5 −テトラ−O−メチル−1,6 −ジ
−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール56.8重
量%、2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −トリ−O−
(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール14.3重量%、
1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−ジ−O−メチ
ル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール1
3.2重量%、1,3,6−トリ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソ
ルビトール2.6重量%、2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メ
チル−1−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
2.4重量%、ジ−O−メチル−1,3,6,x−テトラ−O
−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール0.2重量%で
あった。 IR (NEAT, cm-1):2956、2878、2830(C−H伸
縮)、1470、1374 1350(C−H変角)、1110(C−O伸縮)
−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール56.8重
量%、2,4,5 −トリ−O−メチル−1,3,6 −トリ−O−
(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール14.3重量%、
1,6 −ジ−O−(1,3−ジメチルブチル)−ジ−O−メチ
ル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソルビトール1
3.2重量%、1,3,6−トリ−O−(1,3−ジメチルブチ
ル)−O−メチル−O−(1,3−ジメチルブチリデン)ソ
ルビトール2.6重量%、2,3,4,5,6 −ペンタ−O−メ
チル−1−O−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール
2.4重量%、ジ−O−メチル−1,3,6,x−テトラ−O
−(1,3−ジメチルブチル)ソルビトール0.2重量%で
あった。 IR (NEAT, cm-1):2956、2878、2830(C−H伸
縮)、1470、1374 1350(C−H変角)、1110(C−O伸縮)
【0256】 実施例2−1本発明に用いる油及び比較品に用いる油の
40℃及び100℃における動粘度(JIS K−22
83に基づいて測定)を測定した。その結果を表1及び
表2に示す。
40℃及び100℃における動粘度(JIS K−22
83に基づいて測定)を測定した。その結果を表1及び
表2に示す。
【0257】
【表1】
【0258】
【表2】
【0259】実施例2−2 本発明に用いる油及び比較品に用いる油の低温での流動
性を測定した。即ち、−20℃の恒温槽に実施例1−1
で用いたサンプルを1時間放置した後、サンプルが流動
するか否かを調べた。その結果を表1及び表2に併せて
示す。
性を測定した。即ち、−20℃の恒温槽に実施例1−1
で用いたサンプルを1時間放置した後、サンプルが流動
するか否かを調べた。その結果を表1及び表2に併せて
示す。
【0260】実施例2−3 表3及び表4に示す本発明品に用いる油及び比較品に用
いる油と、それぞれ 1,1,1,2−テトラフルオロエタン
(HFC134a)との組成物である本発明品及び比較
品を調製し、これらについて相溶性を調べた。即ち、
1,1,1,2−テトラフルオロエタンに対する各油濃度10
Vol%、20Vol%、30Vol%、40Vol%
における低温での二相分離温度を測定した。その結果を
表3及び表4に示す。表から明らかなように本発明品は
比較品に比べて相溶性に優れていた。
いる油と、それぞれ 1,1,1,2−テトラフルオロエタン
(HFC134a)との組成物である本発明品及び比較
品を調製し、これらについて相溶性を調べた。即ち、
1,1,1,2−テトラフルオロエタンに対する各油濃度10
Vol%、20Vol%、30Vol%、40Vol%
における低温での二相分離温度を測定した。その結果を
表3及び表4に示す。表から明らかなように本発明品は
比較品に比べて相溶性に優れていた。
【0261】
【表3】
【0262】
【表4】
【0263】実施例2−4 本発明品の熱安定性を調べるためにシールドチューブ試
験を行った。即ち、ガラス管にあらかじめ、水分濃度を
20ppm以下にした油10g、HFC134a5gを
取り、触媒として鉄、銅、アルミニウムを加えて封管し
た。175℃で14日、28日間試験した後、HFC1
34aと油の組成物の外観と析出物の有無を調べ、HF
C134aを除去した後、油の酸価を測定した。その結
果を表5及び表6に示す。表から明らかなように本発明
品は、いずれも外観は良好で析出物も無く、熱安定性は
良好であった。
験を行った。即ち、ガラス管にあらかじめ、水分濃度を
20ppm以下にした油10g、HFC134a5gを
取り、触媒として鉄、銅、アルミニウムを加えて封管し
た。175℃で14日、28日間試験した後、HFC1
34aと油の組成物の外観と析出物の有無を調べ、HF
C134aを除去した後、油の酸価を測定した。その結
果を表5及び表6に示す。表から明らかなように本発明
品は、いずれも外観は良好で析出物も無く、熱安定性は
良好であった。
【0264】
【表5】
【0265】
【表6】
【0266】実施例2−5 本発明品及び比較品の耐加水分解性を調べるためにシー
ルドチューブ試験を行った。即ち、ガラス管にあらかじ
め水分濃度を3000ppmにした油10g、HFC1
34a5gを取り触媒として鉄、銅、アルミニウムを加
えて封管した。175℃で14日間試験した後、HFC
134aと油の組成物の外観と析出物の有無を調べ、H
FC134aを除去した後、油の酸価を測定した。その
結果を表7及び表8に示す。表から明らかなように、本
発明品は外観は良好で析出物も無く、エステルのように
酸価の上昇も起こらず、良好であった。
ルドチューブ試験を行った。即ち、ガラス管にあらかじ
め水分濃度を3000ppmにした油10g、HFC1
34a5gを取り触媒として鉄、銅、アルミニウムを加
えて封管した。175℃で14日間試験した後、HFC
134aと油の組成物の外観と析出物の有無を調べ、H
FC134aを除去した後、油の酸価を測定した。その
結果を表7及び表8に示す。表から明らかなように、本
発明品は外観は良好で析出物も無く、エステルのように
酸価の上昇も起こらず、良好であった。
【0267】
【表7】
【0268】
【表8】
【0269】実施例2−6 本発明に用いる油及び比較品に用いる油の25℃におけ
る体積抵抗率(JISC−2101に基づいて測定)を
測定した。その結果を表9及び表10に示す。表から明
らかなように本発明品は比較品に比べて体積抵抗率に優
れていた。
る体積抵抗率(JISC−2101に基づいて測定)を
測定した。その結果を表9及び表10に示す。表から明
らかなように本発明品は比較品に比べて体積抵抗率に優
れていた。
【0270】
【表9】
【0271】
【表10】
【0272】実施例2−7 本発明に用いるエーテルに添加剤を加えた冷凍機油とハ
イドロフルオロカーボンからなる本発明品の熱安定性を
調べるために、シールドチューブ試験を行った。即ちガ
ラス管にあらかじめ水分濃度を3000ppmにした油
10g、HFC134a5gを取り、触媒として鉄、
銅、アルミニウムを加えて封管した。175℃で14日
間試験した後、HFC134aと油の組成物の外観と析
出物の有無を調べ、HFC134aを除去した後、油の
水分濃度を調べた。その結果を表11に示す。表から明
らかなように、本発明品は外観は良好で析出物も無く、
さらに水分も十分除去することができた。
イドロフルオロカーボンからなる本発明品の熱安定性を
調べるために、シールドチューブ試験を行った。即ちガ
ラス管にあらかじめ水分濃度を3000ppmにした油
10g、HFC134a5gを取り、触媒として鉄、
銅、アルミニウムを加えて封管した。175℃で14日
間試験した後、HFC134aと油の組成物の外観と析
出物の有無を調べ、HFC134aを除去した後、油の
水分濃度を調べた。その結果を表11に示す。表から明
らかなように、本発明品は外観は良好で析出物も無く、
さらに水分も十分除去することができた。
【0273】
【表11】
【0274】
【発明の効果】本発明により、合成潤滑油その他の幅広
い用途で有用性の高い新規な多価エーテルアルコール誘
導体が、安価な原料から簡便な方法により製造される。
また本発明の新規な多価エーテルアルコール誘導体を基
油とする冷凍機油とハイドロフルオロカーボンを含有し
てなる本発明の冷凍機作動流体用組成物は、相溶性、熱
安定性に優れ、加水分解性の心配が無く、適度の動粘度
を有しており、低温流動性も良好で、特に体積抵抗率に
優れている。従って、本発明の冷凍機作動流体用組成物
は、冷蔵庫やエアコンに用いられている電動機一体型圧
縮式冷凍機油として好ましく用いられる。
い用途で有用性の高い新規な多価エーテルアルコール誘
導体が、安価な原料から簡便な方法により製造される。
また本発明の新規な多価エーテルアルコール誘導体を基
油とする冷凍機油とハイドロフルオロカーボンを含有し
てなる本発明の冷凍機作動流体用組成物は、相溶性、熱
安定性に優れ、加水分解性の心配が無く、適度の動粘度
を有しており、低温流動性も良好で、特に体積抵抗率に
優れている。従って、本発明の冷凍機作動流体用組成物
は、冷蔵庫やエアコンに用いられている電動機一体型圧
縮式冷凍機油として好ましく用いられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI C10M 105/18 C09K 5/04 // C10N 30:00 30:08 40:30 (72)発明者 冨樫 博靖 和歌山市湊1334番地 花王株式会社研究 所内 (56)参考文献 特開 平6−57243(JP,A) 特開 平4−41592(JP,A) 特開 昭51−114499(JP,A) 特開 昭58−201738(JP,A) 特開 昭55−157581(JP,A) 米国特許5446210(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 317/54 C07C 43/30 - 43/317 C07D 319/06 C07D 493/04 C09K 5/04 C10M 105/18 C10N 40:30 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (13)
- 【請求項1】 下記一般式(I)〜(IV) 【化1】 【化2】 【化3】 【化4】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜21の直鎖も
しくは分岐のアルキル基であり、R2 はR1 が水素原子
の場合は炭素数3〜17の分岐アルキル基を示し、R1
が炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基の場
合は炭素数1〜21の直鎖もしくは分岐のアルキル基を
示す。あるいはR1 、R2 は一緒になって炭素数2〜1
3のアルキレン基を形成する。2〜6組のR1 、R2 は
同一でも異なっていても良い。k1 は0〜5、p1 は0
〜2、m1 は0もしくは1でk1 +(m1 +2)p1 =
5を満たす数である。k2 、n2 は0〜4、p2 は0〜
2、m2 は0もしくは1でk2 +(m2 +2)p2 +n
2 =4を満たす数である。R3 は水素原子または炭素数
1〜8の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。一般式
(I)におけるk1 個のオキシメチレン基とp1 個の環
状アセタール類(アセタールもしくはケタール)ユニッ
ト、一般式(II)におけるk2 個およびn2 個のオキシ
メチレン基とp2 個の環状アセタール(アセタールもし
くはケタール)ユニット、一般式(III) におけるオキシ
メチレン基と環状アセタール類(アセタールもしくはケ
タール)ユニットの配列はランダムでもブロックでもよ
い。)のいずれかで表される多価エーテルアルコール誘
導体。 - 【請求項2】 多価エーテルアルコールのアルコール残
基がソルビトール由来のものである請求項1記載の多価
エーテルアルコール誘導体。 - 【請求項3】 下記式(V) 【化5】 で示される6価アルコールと一般式(VI) 【化6】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜21の直鎖も
しくは分岐のアルキル基を示し、R2 は炭素数1〜21
の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。)で表される
カルボニル化合物またはその反応性誘導体(アセタール
もしくはケタール)を酸触媒下に反応させることにより
環状アセタール類(アセタールもしくはケタール)を製
造し、これを水素添加あるいはさらにアルキルキャップ
することを特徴とする一般式(VII) 〜(X)のいずれか
で表される多価エーテルアルコール誘導体の製造方法。 【化7】 【化8】 【化9】 【化10】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜21の直鎖も
しくは分岐のアルキル基を示し、R2 は炭素数1〜21
の直鎖もしくは分岐のアルキル基を示す。あるいは
R1 、R2 は一緒になって炭素数2〜13のアルキレン
基を形成する。2〜6組のR1 、R2 は同一でも異なっ
ていても良い。k1 は0〜5、p1 は0〜2、m1 は0
もしくは1でk1 +(m1 +2)p1 =5を満たす数で
ある。k2 、n2 は0〜4、p2 は0〜2、m2 は0も
しくは1でk2 +(m2 +2)p2 +n2 =4を満たす
数である。R3 は水素原子または炭素数1〜8の直鎖も
しくは分岐のアルキル基を示す。一般式(VII) における
k1 個のオキシメチレン基とp1個の環状アセタール類
(アセタールもしくはケタール)ユニット、一般式(VII
I)におけるk2 個およびn2 個のオキシメチレン基とp
2 個の環状アセタール(アセタールもしくはケタール)
ユニット、一般式(IX) におけるオキシメチレン基と環
状アセタール類(アセタールもしくはケタール)ユニッ
トの配列はランダムでもブロックでもよい。) - 【請求項4】 式(V)で示される6価アルコールがソ
ルビトールである請求項3記載の多価エーテルアルコー
ル誘導体の製造方法。 - 【請求項5】 一般式(VII) 〜(X)において、R1 が
水素原子で、R2 が炭素数1〜13の直鎖もしくは分岐
のアルキル基であるか、R1 が炭素数1〜13の直鎖も
しくは分岐のアルキル基で、R2 が炭素数1〜13の直
鎖もしくは分岐のアルキル基である請求項3または4記
載の多価エーテルアルコール誘導体の製造方法。 - 【請求項6】 下記一般式(XI) 【化11】 (式中、R1 〜R6 は同一でも異なっていても良く、そ
れぞれ炭素数1〜14の直鎖、分岐もしくは環状のアル
キル基を示す。但し、R1 〜R6 の合計炭素数は8〜4
0である。)で示される多価エーテルアルコール誘導体
を基油とする冷凍機油およびハイドロフルオロカーボン
を含有してなる冷凍機作動流体用組成物。 - 【請求項7】 一般式(XI) で示される化合物が、ソル
ビトールにより6価アルコール残基を与えられたもので
ある請求項6記載の冷凍機作動流体用組成物。 - 【請求項8】 一般式(XI)で示される化合物が、式
(V) 【化12】 で示される6価アルコールと下記一般式(XII) 【化13】 (式中、R7 は水素原子、又は炭素数1〜13の直鎖、
分岐もしくは環状のアルキル基を示し、R8 は炭素数1
〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示す。
あるいはR7 とR8 は一緒になって炭素数2〜13のア
ルキレン基を形成する。但し、R7 とR8 はR7 とR8
のα位のいずれかに少なくとも1個の水素原子を有する
アルキル基であり、R7 とR8 の合計炭素数は1〜13
である。)で示されるカルボニル化合物(ケトンあるい
はアルデヒド)またはその反応性誘導体(ケタールある
いはアセタール)の1種類以上からケタール化もしくは
アセタール化またはトランスケタール化もしくはトラン
スアセタール化により環状ケタールあるいは環状アセタ
ールを合成し、これを水素添加して多価エーテルアルコ
ールを得、さらにこれにアルキルキャップして合成され
るものである請求項6または7記載の冷凍機作動流体用
組成物。 - 【請求項9】 一般式(XI)で示される多価エーテルア
ルコール誘導体100重量部に対して、a)エポキシ基
を有する化合物0.05〜2.0重量部、b)オルトエ
ステル0.01〜100重量部、c)アセタールまたは
ケタール0.01〜100重量部、およびd)カルボジ
イミド0.05〜5重量部よりなる群から選ばれた少な
くとも1種以上を更に配合してなる請求項6〜8いずれ
か記載の冷凍機作動流体用組成物。 - 【請求項10】 下記一般式(XIIIAA)または(XII
IBB) 【化14】 (式中、R1 〜R6 は同一でも異なっていても良く、そ
れぞれ炭素数1〜14の直鎖、分岐もしくは環状のアル
キル基を示し、R7 は水素原子、又は炭素数1〜13の
直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示し、R8 は炭
素数1〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を
示す。あるいはR7 とR8 は一緒になって炭素数2〜1
3のアルキレン基を形成する。但し、一般式(XIIIAA)
におけるR1 〜R3 及びR6 〜R8 、または一般式(XI
IIBB)におけるR1 及びR4 〜R8の合計炭素数は8〜
40であり、R7 とR8 の合計炭素数は1〜13であ
る。なお、a〜eは構造単位の配列を表わすために付し
た符号であり、a〜cまたはd〜eはどのような順序に
配列していてもよい。)で示される多価エーテルアルコ
ール誘導体を基油とする冷凍機油およびハイドロフルオ
ロカーボンを含有してなる冷凍機作動流体用組成物。 - 【請求項11】 一般式(XIIIAA)または(XIIIBB)で
示される化合物が、ソルビトールにより6価アルコール
残基を与えられたものである請求項10記載の冷凍機作
動流体用組成物。 - 【請求項12】 一般式(XIIIAA)または(XIIIBB)で
示される化合物が、式(V) 【化15】 で示される6価アルコールと一般式(XII) 【化16】 (式中、R7 は水素原子、又は炭素数1〜13の直鎖、
分岐もしくは環状のアルキル基を示し、R8 は炭素数1
〜13の直鎖、分岐もしくは環状のアルキル基を示す。
あるいはR7 とR8 は一緒になって炭素数2〜13のア
ルキレン基を形成する。但し、R7 とR8 はR7 とR8
のα位のいずれかに少なくとも1個の水素原子を有する
アルキル基であり、R7 とR8 の合計炭素数は1〜13
である。)で示されるカルボニル化合物(ケトンあるい
はアルデヒド)またはその反応性誘導体(ケタールある
いはアセタール)の1種類以上からケタール化もしくは
アセタール化またはトランスケタール化もしくはトラン
スアセタール化により環状ケタールあるいは環状アセタ
ールを合成し、これを水素添加して多価エーテルケター
ルアルコールもしくは多価エーテルアセタールアルコー
ルを得、さらにこれにアルキルキャップして合成される
ものである請求項10または11記載の冷凍機作動流体
用組成物。 - 【請求項13】 一般式(XIIIAA)または(XIIIBB)で
示される多価エーテルアルコール誘導体100重量部に
対して、a)エポキシ基を有する化合物0.05〜2.
0重量部、b)オルトエステル0.01〜100重量
部、c)アセタールまたはケタール0.01〜100重
量部、およびd)カルボジイミド0.05〜5重量部よ
りなる群から選ばれた少なくとも1種以上を更に配合し
てなる請求項10〜12いずれか記載の冷凍機作動流体
用組成物。
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JP21217494 | 1994-08-11 | ||
JP6-212174 | 1994-08-11 | ||
JP7174417A JP3059078B2 (ja) | 1994-08-11 | 1995-06-16 | 多価エーテルアルコール誘導体、及びその製造方法 |
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JPH08104687A JPH08104687A (ja) | 1996-04-23 |
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US5446210A (en) | 1991-07-20 | 1995-08-29 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Process for the production of polyol ethers |
-
1995
- 1995-06-16 JP JP7174417A patent/JP3059078B2/ja not_active Expired - Fee Related
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