JP3055675B2 - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JP3055675B2
JP3055675B2 JP10053004A JP5300498A JP3055675B2 JP 3055675 B2 JP3055675 B2 JP 3055675B2 JP 10053004 A JP10053004 A JP 10053004A JP 5300498 A JP5300498 A JP 5300498A JP 3055675 B2 JP3055675 B2 JP 3055675B2
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heat
semiconductor device
device hole
plate
reinforcing plate
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修一 柴崎
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はフィルムキャリアテ
ープを使用したボールグリッドアレイ(Ball Grid Arra
y ;以下、ボールグリッドアレイをBGAと記す)型の
半導体装置に関し、特に、放熱板を補強板に固定する際
の位置ズレを防止するようにした半導体装置に関する。
The present invention relates to a ball grid array using a film carrier tape.
y; hereinafter, the ball grid array will be referred to as BGA) type semiconductor device, and more particularly, to a semiconductor device which prevents displacement when fixing a heat sink to a reinforcing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】まず、図3を参照しながら従来の一般的
なテープBGAの構造の例について説明する。この図に
おいて(a)は断面図であり、(b)は底面図である。
図3に示すように、テープBGAはベースフィルム1を
基板とし、そのベースフィルム1上には外部端子として
の半田バンプ8が格子状に配列されている。この半田バ
ンプ8と半導体チップ5の電極6との間に銅箔等により
配線2が形成されている。この配線2において、電極6
と接続されている側はインナーリード3と呼ばれてお
り、半田バンプ8と接続されている側はランド4と呼ば
れている。なお、図3(b)では1本の配線のみ図示し
たが、実際には全ての半田バンプが半導体チップの電極
に接続されていることは言うまでもない。
2. Description of the Related Art First, an example of the structure of a conventional general tape BGA will be described with reference to FIG. In this figure, (a) is a sectional view, and (b) is a bottom view.
As shown in FIG. 3, the tape BGA has a base film 1 as a substrate, and solder bumps 8 as external terminals are arranged on the base film 1 in a grid pattern. The wiring 2 is formed between the solder bump 8 and the electrode 6 of the semiconductor chip 5 by a copper foil or the like. In this wiring 2, the electrode 6
The side connected to the solder bumps 8 is called an inner lead 3, and the side connected to the solder bumps 8 is called a land 4. Although only one wiring is shown in FIG. 3B, it goes without saying that all solder bumps are actually connected to the electrodes of the semiconductor chip.

【0003】ベースフィルム1はポリイミド等を主成分
とするため容易に反ってしまう。そこで、ベースフィル
ム1におけるランド4を形成した面と反対側の面には、
接着剤10により補強板9の一つの面が固定されてい
る。補強板9は金属等、ベースフィルム1より変形しに
くい材料で構成されている。さらに、補強板9における
他の一つの面には、半導体チップ5の放熱性を向上させ
るための放熱板11が熱伝導性の高い接着剤(例えば耐
熱性のエポキシ樹脂からなる接着剤にアルミナや金属粒
子等のフィラー材を混入したもの。以下、熱伝導性接着
剤と記す)12により固定されている。
The base film 1 is easily warped because it is mainly composed of polyimide or the like. Therefore, on the surface of the base film 1 opposite to the surface on which the lands 4 are formed,
One surface of the reinforcing plate 9 is fixed by the adhesive 10. The reinforcing plate 9 is made of a material such as metal that is less likely to deform than the base film 1. Further, on another surface of the reinforcing plate 9, a heat radiating plate 11 for improving the heat radiation of the semiconductor chip 5 is provided with an adhesive having a high thermal conductivity (for example, an adhesive made of a heat-resistant epoxy resin such as alumina or alumina). A mixture of filler materials such as metal particles, which is hereinafter referred to as a heat conductive adhesive).

【0004】半導体チップ5はベースフィルム1および
補強板9に形成されたデバイスホール17内に収納さ
れ、封止用の樹脂7により封止されている。
[0004] The semiconductor chip 5 is housed in a device hole 17 formed in the base film 1 and the reinforcing plate 9 and is sealed with a sealing resin 7.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前記図3のような構造
のテープBGAにおいて、放熱板11を補強板9に固定
する際、図4に示すように、補強板9におけるベースフ
ィルム1との接着面と反対側の面、および半導体チップ
5における電極6が設けられている面と反対側の面に対
して、例えば接着剤塗布ノズル13を用いて熱伝導性接
着剤12を塗布した後、放熱板11を載せ、熱伝導性接
着剤12を硬化させる。この場合、熱伝導性接着剤12
が熱硬化性の接着剤であれば、熱処理を行うことにより
放熱板11を固定することが出来る。
When the heat radiating plate 11 is fixed to the reinforcing plate 9 in the tape BGA having the structure as shown in FIG. 3, the bonding between the reinforcing plate 9 and the base film 1 is performed as shown in FIG. After applying the heat conductive adhesive 12 to the surface opposite to the surface and the surface opposite to the surface on which the electrodes 6 of the semiconductor chip 5 are provided, for example, using an adhesive application nozzle 13, heat is released. The plate 11 is placed, and the heat conductive adhesive 12 is cured. In this case, the heat conductive adhesive 12
If is a thermosetting adhesive, the heat sink 11 can be fixed by performing heat treatment.

【0006】しかし、硬化させる前の状態では熱伝導性
接着剤12が柔らかいために、搬送時の振動等により、
図5に示すように、放熱板11が補強板9とベースフィ
ルム1に対して位置ズレを生じてしまうことがある。本
発明はこのような状況に鑑みてなされたものであって、
テープBGAにおいて放熱板を補強板に固定する際の位
置ズレ防止を実現することを目的とする。
However, since the heat conductive adhesive 12 is soft before being cured, the heat conductive adhesive 12 may be vibrated during transportation and the like.
As shown in FIG. 5, the heat sink 11 may be displaced from the reinforcing plate 9 and the base film 1. The present invention has been made in view of such a situation,
An object of the present invention is to realize prevention of positional deviation when a heat radiating plate is fixed to a reinforcing plate in a tape BGA.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前述した本発明の課題
は、デバイスホールが形成されたベースフィルムと、デ
バイスホールが形成された補強板と、放熱板とを備え、
前記ベースフィルムの一主面と前記補強板の一主面とが
互いのデバイスホールが連通するように固定され、前記
補強板の他主面が前記放熱板の一主面に固定され、さら
に前記デバイスホールに半導体チップが収納された半導
体装置において、前記デバイスホールの壁面に当接する
位置ズレ防止部材を前記放熱板に形成することにより解
決することが出来る。
An object of the present invention is to provide a base film having a device hole formed therein, a reinforcing plate having a device hole formed therein, and a heat sink.
One main surface of the base film and one main surface of the reinforcing plate are fixed such that device holes thereof communicate with each other, and the other main surface of the reinforcing plate is fixed to one main surface of the heat radiating plate. In a semiconductor device in which a semiconductor chip is housed in a device hole, the problem can be solved by forming a displacement prevention member on the heat sink, which is in contact with a wall surface of the device hole.

【0008】[作用]本発明によれば、放熱板を接着剤
で補強板に固定する際に、放熱板に形成された位置ズレ
防止部材がデバイスホールの壁面に接するように落とし
込む。このようにすると、搬送時の振動等により放熱板
に水平方向の力が加わっても、位置ズレ防止部材の側面
が補強板のデバイスホールの壁面に当接するため、放熱
板の位置ズレを防止することが出来る。
According to the present invention, when the radiator plate is fixed to the reinforcing plate with an adhesive, the displacement preventing member formed on the radiator plate is dropped so as to be in contact with the wall surface of the device hole. With this configuration, even if a horizontal force is applied to the heat radiating plate due to vibration or the like at the time of conveyance, the side surface of the displacement preventing member abuts against the wall surface of the device hole of the reinforcing plate, thereby preventing the heat radiating plate from being displaced. I can do it.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について詳細に説明する。 [第1の実施の形態]図1は本発明による半導体装置の
第1の実施の形態を示す図である。この図において図3
と対応する部分には図3で使用した符号と同一の符号が
付してある。また、図1において(a)は平面図、
(b)は(a)におけるA−A断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. [First Embodiment] FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention. In this figure, FIG.
The same reference numerals are given to the parts corresponding to those in FIG. FIG. 1A is a plan view,
(B) is an AA sectional view in (a).

【0010】図1に示す半導体装置は、半導体チップ5
と、半導体チップ5が実装される基板としての機能を有
するベースフィルム1と、ベースフィルム1の変形を抑
えるためにベースフィルム1を支持する補強板9と、半
導体チップ5の動作により発生する熱を外部に放出する
ための放熱板11とを備えている。ベースフィルム1の
一主面と補強板9の一主面とは接着剤10により固定さ
れ、補強板9の他主面と放熱板11の一主面とは熱伝導
性接着剤12により固定されている。本実施の形態にお
いては、補強板9の外形寸法にベースフィルム1の外形
寸法が一致している。
The semiconductor device shown in FIG.
A base film 1 having a function as a substrate on which the semiconductor chip 5 is mounted; a reinforcing plate 9 supporting the base film 1 for suppressing deformation of the base film 1; and a heat generated by the operation of the semiconductor chip 5. A heat radiating plate 11 for emitting to the outside. One main surface of the base film 1 and one main surface of the reinforcing plate 9 are fixed by an adhesive 10, and the other main surface of the reinforcing plate 9 and one main surface of the heat radiating plate 11 are fixed by a heat conductive adhesive 12. ing. In the present embodiment, the outer dimensions of the base film 1 match the outer dimensions of the reinforcing plate 9.

【0011】補強板9およびベースフィルム1の中央に
はそれぞれデバイスホール17が形成され、この中に半
導体チップ5が収納されている。本実施の形態において
は、補強板9のデバイスホールの方がベースフィルム1
のデバイスホールより大きく形成されている。半導体チ
ップ5の電極6と、ベースフィルム1における補強板9
を固定した面と反対側の面に格子状に形成された半田バ
ンプ8との間は配線2により電気的に接続されている。
配線2の内、電極6に接続されている部分はインナーリ
ード3と呼ばれ、半田バンプ8とベースフィルム1との
間に位置する部分はランド4と呼ばれる。デバイスホー
ル17内に収納された半導体チップ5は樹脂7により封
止されている。
A device hole 17 is formed at the center of each of the reinforcing plate 9 and the base film 1, and the semiconductor chip 5 is accommodated therein. In the present embodiment, the device holes of the reinforcing plate 9 correspond to the base film 1.
Larger than the device hole. Electrode 6 of semiconductor chip 5 and reinforcing plate 9 of base film 1
The wiring 2 is electrically connected between the surface on which is fixed and the solder bumps 8 formed in a grid on the opposite surface.
A portion of the wiring 2 connected to the electrode 6 is called an inner lead 3, and a portion located between the solder bump 8 and the base film 1 is called a land 4. The semiconductor chip 5 housed in the device hole 17 is sealed with the resin 7.

【0012】放熱板11は例えば熱伝導性の良い金属等
で構成されている。そして、デバイスホール17の開口
部の四箇所のコーナー部(壁面の角の部分およびその近
傍)に対向する部分に突起15が形成されるように、補
強板9と接着する側の面と反対側の面に窪み14が形成
されている。各窪み14は例えば熱伝導性接着剤12の
厚さが0.1〜0.15mmの場合には0.15mm〜
0.2mmの深さにする。つまり、熱伝導性接着剤12
の厚さより突起15の長さを長くすることにより、突起
15の先端が補強板9におけるデバイスホール17のコ
ーナー部に当接するように構成されている。なお、この
窪み14は放熱板11自身に機械的な外力を印加するこ
とで形成することが出来る。
The radiator plate 11 is made of, for example, a metal having good thermal conductivity. The opposite side to the surface on the side to be bonded to the reinforcing plate 9 so that the projections 15 are formed at the four opposing corners of the opening of the device hole 17 (the corners of the wall surface and the vicinity thereof). Are formed on the surface of the substrate. Each depression 14 has a thickness of 0.15 mm to 0.15 mm when the thickness of the thermally conductive adhesive 12 is 0.1 to 0.15 mm, for example.
Set to a depth of 0.2 mm. That is, the heat conductive adhesive 12
By making the length of the protrusion 15 longer than the thickness of the protrusion 15, the tip of the protrusion 15 is configured to contact the corner of the device hole 17 in the reinforcing plate 9. The depression 14 can be formed by applying a mechanical external force to the radiator plate 11 itself.

【0013】本実施の形態では、補強板9に熱伝導性接
着剤12により放熱板11を固定する際に、放熱板11
に形成された突起15をデバイスホール17のコーナー
に接するように落とし込む。このようにすると、搬送時
の振動等により放熱板11に水平方向の力が加わって
も、突起15の側面が補強板9に形成されたデバイスホ
ール17の壁面のコーナー部に当接するため、放熱板1
1の位置ズレを防止することが出来る。
In the present embodiment, when the heat radiating plate 11 is fixed to the reinforcing plate 9 by the heat conductive adhesive 12, the heat radiating plate 11 is fixed.
Of the device hole 17 is dropped. In this case, even if a horizontal force is applied to the heat radiating plate 11 due to vibration during transportation or the like, the side surfaces of the projections 15 abut against the corners of the wall surfaces of the device holes 17 formed in the reinforcing plate 9, so that heat radiation Board 1
1 can be prevented from shifting.

【0014】[第2の実施の形態]図2は本発明による
半導体装置の第2の実施形態を示す図である。この図に
おいて図1と対応する部分には図1で使用した符号と同
一の符号が付してある。また、図2において(a)は底
面図、(b)は(a)におけるA−A断面図である。図
1および図2から明らかなように、本実施の形態におい
て放熱板11の構造以外の部分は図1に示した第1の実
施の形態と同一なので、重複を避けるためにそれらの部
分の説明は省略する。
[Second Embodiment] FIG. 2 is a diagram showing a second embodiment of the semiconductor device according to the present invention. In this figure, parts corresponding to those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those used in FIG. 2A is a bottom view, and FIG. 2B is a sectional view taken along line AA in FIG. As is clear from FIGS. 1 and 2, parts other than the structure of the radiator plate 11 in this embodiment are the same as those in the first embodiment shown in FIG. Is omitted.

【0015】本実施の形態においても放熱板11は例え
ば熱伝導の良い金属等で構成されている。そして、デバ
イスホール17の開口部の縁およびその内側の所定の幅
に対向する部分には接着剤18によって方形の枠状部材
16、すなわち方形の板の周辺部の所定の幅の部分を残
してくり抜いた形状を有する部材、が固定されている。
枠状部材16は例えば硬質合成樹脂により構成されてい
る。そして、例えば熱伝導性接着剤12の厚さが0.1
〜0.15mmの場合には、枠状部材16の厚さを0.
15mm〜0.2mmにする。つまり、枠状部材16の
厚さを熱伝導性接着剤12の厚さより厚くなるように形
成することにより、枠状部材16の外壁面が補強板9の
デバイスホール17の壁面の開口部の壁面の全周に当接
するように構成されている。
Also in this embodiment, the radiator plate 11 is made of, for example, a metal having good heat conductivity. The edge of the opening of the device hole 17 and the portion facing the predetermined width inside the device hole 17 are left by the adhesive 18 so as to leave a rectangular frame-like member 16, that is, a predetermined width portion around the rectangular plate. A member having a hollow shape is fixed.
The frame member 16 is made of, for example, a hard synthetic resin. Then, for example, when the thickness of the heat conductive adhesive 12 is 0.1
When the thickness is 0.15 mm to 0.15 mm, the thickness of the frame-shaped member 16 is set to 0.
15 mm to 0.2 mm. That is, by forming the thickness of the frame-shaped member 16 to be larger than the thickness of the thermally conductive adhesive 12, the outer wall surface of the frame-shaped member 16 is Is configured to be in contact with the entire circumference.

【0016】本実施の形態では、補強板9に熱伝導性接
着剤12により放熱板11を固定する際に、枠状部材1
6の外壁面がデバイスホール17の壁面に接するように
落とし込む。このようにすると、搬送時の振動等により
放熱板11に水平方向の力が加わっても、補強板9のデ
バイスホール17の壁面の全周に枠状部材16の外壁面
の全周が当接するため、放熱板11の位置ズレを防止す
ることが出来る。ここで、枠状部材16の外形サイズは
例えば放熱板11の位置ズレの許容範囲が0.1mmで
ある場合には、デバイスホール17のサイズより0.1
mm程度以内小さくすることが好適である。
In this embodiment, when the heat radiating plate 11 is fixed to the reinforcing plate 9 by the heat conductive adhesive 12, the frame-shaped member 1
6 is dropped so as to contact the outer wall surface of the device hole 17. In this way, even when a horizontal force is applied to the heat radiating plate 11 due to vibration during transportation or the like, the entire periphery of the outer wall surface of the frame-shaped member 16 abuts the entire periphery of the wall surface of the device hole 17 of the reinforcing plate 9. Therefore, the displacement of the heat sink 11 can be prevented. Here, the outer size of the frame-shaped member 16 is, for example, 0.1 mm larger than the size of the device hole 17 when the allowable range of the displacement of the heat sink 11 is 0.1 mm.
It is preferable to reduce the size within about mm.

【0017】なお、本発明は前記実施の形態に限定され
るものではなく、特許請求の範囲に記載された範囲内に
おいて種々の変形が可能である。例えば、図1では円形
の窪み14をデバイスホール17の四箇所のコーナー部
に対向させて形成したが、デバイスホール17の全周に
対向する窪みを形成しても良い。この場合、この窪みの
反対側には図3の枠状部材16と同様の突起が形成され
る。また、図2の枠状部材16に代えて、デバイスホー
ル17の四箇所のコーナー部に対向させて円柱状部材や
角柱状部材を接着しても良い。さらに、図2の枠状部材
16におけるコーナー部の直角に丸みを持たせたり、直
角を斜辺にしたり、コーナー部を除去したりしても良
い。また、補強板9とベースフィルム1の外形寸法は必
ずしも一致させる必要はなく、例えばベースフィルムの
方を大きくすることができる。さらに、実施例では、補
強板のデバイスホールの方をベースフィルムのそれより
大きくしていたが両者のデバイスホールの寸法を概略一
致させてもよい。
It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made within the scope described in the claims. For example, in FIG. 1, the circular depression 14 is formed so as to face four corners of the device hole 17, but a depression facing the entire circumference of the device hole 17 may be formed. In this case, a projection similar to the frame-shaped member 16 in FIG. 3 is formed on the opposite side of the depression. Further, instead of the frame-shaped member 16 in FIG. 2, a columnar member or a prism-shaped member may be bonded to face four corners of the device hole 17. Further, the corners of the frame member 16 in FIG. 2 may be rounded at right angles, the right angles may be inclined, or the corners may be removed. In addition, the outer dimensions of the reinforcing plate 9 and the base film 1 do not necessarily have to match, for example, the base film can be made larger. Further, in the embodiment, the device hole of the reinforcing plate is larger than that of the base film, but the dimensions of both device holes may be approximately equal.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よる半導体装置によれば、放熱板に位置ズレ防止部材を
形成したので、放熱板を補強板に接着する際の位置ズレ
を防止することが出来る。
As described in detail above, according to the semiconductor device of the present invention, since the heat-dissipating member is formed with the displacement preventing member, the displacement when the heat-dissipating plate is bonded to the reinforcing plate is prevented. I can do it.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による半導体装置の第1の実施の形態を
示す平面図および断面図。
FIG. 1 is a plan view and a sectional view showing a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention.

【図2】本発明による半導体装置の第2の実施の形態を
示す平面図および断面図。
FIG. 2 is a plan view and a sectional view showing a second embodiment of the semiconductor device according to the present invention.

【図3】一般的なテープBGAの構造を示す底面図およ
び断面図。
FIG. 3 is a bottom view and a cross-sectional view showing the structure of a general tape BGA.

【図4】補強板に熱伝導性接着剤を塗布する様子を示す
断面図。
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a heat conductive adhesive is applied to a reinforcing plate.

【図5】補強板に対して放熱板が位置ズレを起こした状
態を示す断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state in which the heat sink is displaced from the reinforcing plate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベースフィルム 2 配線 3 インナーリード 4 ランド 5 半導体チップ 6 電極 7 樹脂 8 半田バンプ 9 補強板 10 接着剤 11 放熱板 12 熱伝導性接着剤 13 接着剤塗布ノズル 14 窪み 15 突起 16 枠状部材 17 デバイスホール 18 接着剤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base film 2 Wiring 3 Inner lead 4 Land 5 Semiconductor chip 6 Electrode 7 Resin 8 Solder bump 9 Reinforcement plate 10 Adhesive 11 Heat radiating plate 12 Heat conductive adhesive 13 Adhesive application nozzle 14 Depression 15 Projection 16 Frame member 17 Device Hall 18 adhesive

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 デバイスホールが形成されたベースフィ
ルムと、デバイスホールが形成された補強板と、放熱板
とを備え、前記ベースフィルムの一主面と前記補強板の
一主面とが互いのデバイスホールが連通するように固定
され、前記補強板の他主面が前記放熱板の一主面に固定
され、さらに前記デバイスホールに半導体チップが収納
された半導体装置であって、 前記補強板の前記デバイスホールの壁面に当接する位置
ズレ防止部材を前記放熱板に形成したことを特徴とする
半導体装置。
1. A base film having a device hole formed therein, a reinforcing plate having a device hole formed therein, and a heat sink, wherein one main surface of the base film and one main surface of the reinforcing plate are mutually opposed. A semiconductor device in which a device hole is fixed so as to communicate with each other, another main surface of the reinforcing plate is fixed to one main surface of the heat sink, and a semiconductor chip is further housed in the device hole; A semiconductor device, wherein a displacement preventing member that contacts a wall surface of the device hole is formed on the heat sink.
【請求項2】 前記位置ズレ防止部材は前記デバイスホ
ールの壁面の少なくとも角およびその近傍の面に当接す
るものであることを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the displacement prevention member contacts at least a corner of a wall surface of the device hole and a surface near the corner.
【請求項3】 前記位置ズレ防止部材は前記デバイスホ
ールの壁面の少なくとも角およびその近傍を除く面に当
接するものであることを特徴とする請求項1記載の半導
体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the displacement prevention member is in contact with at least a corner of a wall surface of the device hole and a surface except the vicinity thereof.
【請求項4】 前記位置ズレ防止部材は、前記放熱板自
身を変形させたものであることを特徴とする請求項1〜
3のいずれか1項記載の半導体装置。
4. The apparatus according to claim 1, wherein the displacement preventing member is obtained by deforming the heat sink itself.
4. The semiconductor device according to claim 3.
【請求項5】 前記位置ズレ防止部材は、前記放熱板に
対して該放熱板とは別の部材を固定したものであること
を特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の半導体
装置。
5. The semiconductor according to claim 1, wherein said misalignment preventing member comprises a member different from said heat radiating plate fixed to said heat radiating plate. apparatus.
【請求項6】 前記位置ズレ防止部材は、前記放熱板に
おける前記デバイスホールの壁面の四つの角およびそれ
らの近傍の部分に対向する部位が該デバイスホール側に
突出するように該放熱板を変形させたものであることを
特徴とする請求項4記載の半導体装置。
6. The heat-dissipating member deforms the heat-dissipating plate such that portions of the heat-dissipating plate facing four corners of the wall of the device hole and portions in the vicinity thereof protrude toward the device hole. The semiconductor device according to claim 4, wherein the semiconductor device is formed.
【請求項7】 前記位置ズレ防止部材は、前記デバイス
ホールにおける放熱板側の開口部のサイズ以下の外形サ
イズを有する枠状部材を前記放熱板に固定したものであ
ることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
7. The heat-dissipating member is formed by fixing a frame-shaped member having an outer size equal to or smaller than the size of an opening of the device hole on the heat-dissipating plate side to the heat-dissipating plate. 6. The semiconductor device according to 5.
【請求項8】 前記枠状部材の外形サイズを前記開口部
のサイズに対して位置ズレの許容範囲に相当する値だけ
小さくしたことを特徴とする請求項7記載の半導体装
置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein an outer size of the frame-shaped member is smaller than a size of the opening by a value corresponding to an allowable range of positional deviation.
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