JP3054042B2 - 反強誘電性液晶素子およびその駆動方法 - Google Patents
反強誘電性液晶素子およびその駆動方法Info
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Description
タ部などに用いられる反強誘電性液晶素子およびその駆
動方法に関する。
京工業大学・福田研究室のChandaniらにより発
見され(A.D.L.Chandani, E.Gorecka, Y.Ouchi, H.Take
zoe and A.Fukuda, Jpn.J.Appl.Phys.,28,L1265(198
9))、この液晶を用いた表示方式の検討が始まってい
る。
電性液晶の動作原理を示す。この反強誘電性液晶は、バ
ルク状態では螺旋構造を有しているが、螺旋ピッチより
も薄いセル厚の液晶セルに注入すると、螺旋がほどけて
図14(a)に示すような層構造の分子配列になる。こ
のように、反強誘電性液晶相においては分子が層構造と
なっており、各層で分子が層に対して傾いて配列してい
るが、強誘電性液晶の場合とは異なって、分子の傾く方
向が1層毎に逆方向になっており、暗状態になってい
る。この液晶セルに電界を印加すると、電界の方向に自
発分極を揃えるように分子が再配列して、図14(a)
から図14(b)または図14(c)に示すような分子
配列となり、暗状態から明状態になる。この反強誘電性
液晶相の層法線に偏光板の偏光軸を合わせることによ
り、図15に示すような2重ヒステリシス特性の電圧−
透過率曲線が得られる。このようなヒステリシス特性を
利用すると、単純マトリクス表示が可能であり、例えば
日本電装と昭和シェル石油とは共同で反強誘電性液晶表
示素子を試作している(Y.Yamada, N.Yamamoto, M.Yama
waki,I.Kawamura and Y.Suzuki, Proc. Japan Display
'92,57(1992))。さらに、反強誘電性液晶相を用いた
単純マトリクス駆動の階調表示も報告されている(N.Ya
mada et al.,Ferroelectrics,149,295(1993))。
造の一例を示す。この反強誘電性液晶素子においては、
2枚のガラスなどからなる基板1、1上にそれぞれIT
O(Indium Tin Oxide)からなる電極膜2、2がそれぞ
れ形成され、その上に絶縁膜5、5さらに配向膜3、3
がそれぞれ形成されて各基板部が形成されている。この
配向膜3としては、通常ポリイミドなどの高分子膜が用
いられ、その表面はラビング処理される。これら2枚の
基板部は配向膜3を内側にして配置され、セル厚を2μ
m程度にしてシール材6により貼り合わせられて、その
基板部間隙に液晶材料4が注入されて封止され、液晶セ
ルが構成されている。この液晶セルの両面には一対の偏
光板7、7が設けられ、各電極膜2、2には駆動回路
(図示せず)が接続されている。
液晶素子においては、コントラストが低いという問題が
あった。この理由としては以下の2つが考えられる。
リシス特性においては、図17の実線に示すような低電
圧側での透過光量の持ち上がりがある。つまり、図17
の点線で示すようなヒステリシス特性が理想的である
が、実際には、反強誘電性液晶のソフトモードによる分
子の揺らぎが原因と考えられる分子運動によって透過光
量が持ち上がる。このため、単純マトリクス駆動した場
合にバイアス電圧によって光の漏れが生じ、十分に透過
光量の低い黒状態が得られにくい。このため、実際に、
日本電装と昭和シェルとが試作した反強誘電性液晶表示
素子においても、20程度のコントラストしか得られて
いない。
ティック相を有していない。反強誘電性液晶素子の製造
においては、通常、液晶注入後、等方性液体から冷却し
て分子を配向させるが、等方性液体から直接スメクティ
ック相が出現するため、細かいドメインが生じやすく、
良好な初期配向が得られにくい。この初期状態が暗状態
の表示、電圧印加時が明状態の表示に相当するが、上記
細かいドメインのために初期状態で光の漏れが生じ、コ
ントラスト低下の原因となる。
強誘電性液晶素子においては、コントラストが100:
1以上の高品位な液晶表示を実現することが困難と予想
される。
合わせた素子として、例えば、特開平4−122913
号公報および特開平142583号公報が報告されてい
る。この特開平4−122913号公報においては、そ
れぞれ2色性色素を含む2つの反強誘電性液晶セルの層
法線を一致させると共に電界印加によるチルト方向を逆
にしたゲストホスト型素子が開示されている。この反強
誘電性液晶表示素子は、電界無印加時に明状態、電界印
加時に暗状態が得られるものである。しかし、この素子
は、高いコントラストを得るために、電界印加時に第1
のセルの分子長軸と第2のセルの分子長軸のなす角度と
を90°以上にする必要がある。周知のように、反強誘
電性液晶のチルト角には温度依存性があり、また、上記
方法ではチルト角が45°以下の反強誘電性液晶を用い
た場合に90°の角度が得られないので、高いコントラ
ストが得られない。
は、2つの反強誘電性液晶セルの電圧無印加時における
光学軸(反強誘電性液晶は光学軸と層法線とが一致す
る)を一致させ、2層のセルを挟んで設置された一対の
偏光板の一方の偏光軸とセルの光学軸とを一致させる素
子が開示されている。この反強誘電性液晶表示素子は、
電界無印加時に暗状態、電界印加時に明状態が得られる
ものである。しかし、この素子は、高いコントラストを
得るために電界無印加時における消光性が重要であり、
1層型の反強誘電性液晶表示素子と同様なコントラスト
の問題が解決されていない。
層法線が直交するように重ね合わせた素子として、例え
ば特開平4−186230号公報および第17回液晶討
論回予稿集 408頁〜409頁(1991)が報告さ
れている。
ては、2つの双安定型強誘電性液晶セルをその層法線が
直交するように重ね合わせた光学変調素子が開示されて
いる。この素子においては、2層のセルを重ね合わせる
ことにより液晶分子のコーン角度の温度依存性が打ち消
され、温度が変化しても良好な黒状態が得られる。しか
し、この素子では、双安定性の強誘電性液晶を用いてい
るので階調表示が得られない。
頁〜409頁(1991)には、2つの強誘電性液晶セ
ルをその層法線が直交するように重ね合わせた液晶表示
素子が開示されている。しかし、この素子は、2つのセ
ルに印加される方形波の位相をずらすことにより階調表
示を得るものであり、また、この報告では反強誘電性液
晶については言及されていない。
で、高コントラストで階調表示が可能な反強誘電性液晶
素子およびその駆動方法を提供することを目的とする。
素子は、少なくとも第1の反強誘電性液晶セルと、第2
の反強誘電性液晶セルとを備え、該第1および第2の反
強誘電性液晶セルは、各々電極膜と配向制御層とが形成
された一対の電極基板の間に反強誘電性液晶材料が狭持
されてなり、該第1の反強誘電性液晶セルにおける反強
誘電性液晶相の層法線と、該第2の反強誘電性液晶セル
における反強誘電性液晶相の層法線とが直交するよう
に、該第1および第2の反強誘電性液晶セルが配置され
ており、そのことにより上記目的が達成される。
を挟んで、一対の偏光板が各々の偏光軸を直交させるよ
うに配置されているのが望ましい。
よび第2の反強誘電性液晶セルの一方における反強誘電
性液晶相の層法線と一致しているのが望ましい。
の少なくとも一方が、二色性色素を含んでいてもよい。
方法は、少なくとも第1の反強誘電性液晶セルと、第2
の反強誘電性液晶セルとを備え、該第1および第2の反
強誘電性液晶セルが、各々電極膜と配向制御層とが形成
された一対の電極基板の間に反強誘電性液晶材料が狭持
されてなり、該第1の反強誘電性液晶セルにおける反強
誘電性液晶相の層法線と、該第2の反強誘電性液晶セル
における反強誘電性液晶相の層法線とが直交するよう
に、該第1および第2の反強誘電性液晶セルが配置され
た反強誘電性液晶素子に対して、該第1および第2の反
強誘電性液晶セルの一方に、分子が反強誘電性液晶状態
から強誘電性液晶状態に転移するのに十分な所定の極性
の電圧を印加して、該一方の反強誘電性液晶セルの光軸
を傾けると共に、該第1および第2の反強誘電性液晶セ
ルの他方に、任意の電圧を印加することにより階調表示
を得ており、そのことにより上記目的が達成される。
方法は、少なくとも第1の反強誘電性液晶セルと、第2
の反強誘電性液晶セルとを備え、該第1および第2の反
強誘電性液晶セルが、各々電極膜と配向制御層とが形成
された一対の電極基板の間に反強誘電性液晶材料が狭持
されてなり、該第1の反強誘電性液晶セルにおける反強
誘電性液晶相の層法線と、該第2の反強誘電性液晶セル
における反強誘電性液晶相の層法線とが直交するよう
に、該第1および第2の反強誘電性液晶セルが配置され
た反強誘電性液晶素子に対して、該第1および第2の反
強誘電性液晶セルの一方に、分子が反強誘電性液晶状態
から強誘電性液晶状態に転移するのに十分な所定の極性
の電圧を印加する第1の期間と、該所定の極性の電圧と
同じ強さの逆の極性の電圧を該第1の期間と同じ時間だ
け印加する第2の期間とを繰り返しており、そのことに
より上記目的が達成される。
における反強誘電性液晶相の層法線と、第2の反強誘電
性液晶セルにおける反強誘電性液晶相の層法線とが直交
している。
子が反強誘電性液晶状態から強誘電性液晶状態に転移す
るのに十分な所定の極性の電圧を印加すれば、そのセル
の光軸がθだけ傾く。その状態で他方のセルに任意の電
圧を印加すれば、その電圧値と極性の符号によりそのセ
ルの光軸がθから−θの間で変化する。その結果、電圧
に応じた透過光量が得られ、階調表示を行うことが可能
となる。また、2θ=45°の時に最も明るい表示が得
られるが、このような材料は、1層型の素子で必要とさ
れるθ=45°の材料に比べて容易に得られる。
層法線とが一致するので、2枚の偏光板を偏光軸を直交
させて設けると、電界無印加時には暗状態が得られる。
この状態を表示に使用しないので、従来の素子のような
光漏れによるコントラスト低下は生じない。
セルの層法線に一致させると、特性を対称にすることが
できる。
光板を用いなくても階調表示が得られるが、偏光板を用
いるとさらにコントラストを向上させることができる。
から強誘電性液晶状態に転移するのに十分なある極性の
電圧と、同じ強さの逆の極性の電圧とを、一定の期間毎
に切り換えて印加すると、直流成分が残らないので素子
の動作信頼性が向上する。
お、以下の各実施例によって、本発明が限定されるもの
ではない。
おける反強誘電性液晶素子の構成を示す断面図である。
図1に示すように、この液晶素子は、第1の反強誘電性
液晶セル8aと第2の反強誘電性液晶セル8bとを上下
に備えた2層型であり、各セル8a、8bは、一対の基
板1、1上にそれぞれ、電極膜2、2さらに配向制御層
3、3がそれぞれ形成された一対の基板部が、配向制御
層3側を内側にして対向配設されており、これら基板部
間隙に反強誘電性液晶材料4がそれぞれ狭持されてい
る。
aと第2の反強誘電性液晶セル8bとは、同一の反強誘
電性液晶材料4が狭持され、反強誘電性液晶相の層法線
方向が直交するように配置されている。
しては、ガラス基板、Si基板などが用いられる。ま
た、電極膜2は、2個のセル8a、8bの表面側から少
なくとも3枚は透明電極である必要があるので通常IT
Oなどが用いられ、必要に応じて所定の形状にパターニ
ングされている。ここでは、透過型素子とするために4
枚とも透明電極とした。さらに、配向制御層3として
は、液晶分子を基板にほぼ水平に配列させるものが好ま
しく、液晶分子を基板にほぼ垂直に配向させるものは好
ましくない。例えばSiO斜法蒸着膜やポリイミド膜な
どを用いることができる。この配向制御層3としてポリ
イミド膜を用いる場合には、成膜後、一軸配向性を付与
するためにその表面をラビングする。最近では、ラビン
グ以外の方法で分子を配列させる方法も多数報告されて
おり、これらを適宜用いてもよい。この配向制御層3と
電極膜2との間には必要に応じて絶縁膜(図示せず)が
形成される。
で貼り合わせられている。このとき、基板ギャップを制
御するためにスペーサの散布などを行ってもよい。この
基板部間隙に反強誘電性液晶材料4を注入して封止する
ことにより反強誘電性液晶素子が作製される。
セル8a、8bを挟むように2枚の偏光板7a、7bが
配置されている。
示している。この電界無印加時には、反強誘電性液晶相
の層法線と各々の光軸103b、104bとが一致して
おり、第1のセル8aと第2のセル8bの光軸103
b、104bが直交するようにセル8a、8bを配置し
ているので、その偏光板7a、7bを偏光軸101、1
02が直交するように配置すれば暗状態が得られる。
液晶状態から強誘電性液晶状態に転移するのに十分な所
定の極性の電圧を印加すると、図2(c)に示すよう
に、第2のセル8bの光軸104cが角θだけ傾く。こ
の角θは材料により異なり、また、傾く向きは、用いる
反強誘電性液晶材料の自発分極の符号と電圧の符号の関
係で決まる。このとき、第1のセル8aに同じ値、同じ
極性の電圧を印加すると、図2(c)に示すように、第
1のセルの光軸103cが角度θだけ傾く。このとき、
第1のセル103cと第2のセルの光軸104cが直交
しているので、暗状態が得られる。
の電圧を印加し、第1のセル8aに同じ値で逆極性の電
圧を印加すると、図2(d)に示すように、第1のセル
8aの光軸103dが角度(−θ)だけ傾く。このと
き、第1のセル8aの光軸103dと第2のセル8bの
光軸104dとがなす角度2θが90°でなければ
(明)状態が得られ、2θが45°の時に最も明るい
(明)表示が得られる。
強誘電性液晶状態から強誘電性液晶状態に転移するのに
十分な所定の極性の電圧を印加し、その状態で第1のセ
ル8aに任意の所望の電圧を印加すると、その印加電圧
値と極性の符号によりそのセルの光軸がθから−θの間
で変化する。その結果、その印加電圧に応じた透過光量
が得られ、第1のセル8bに印加する電圧を負〜正の任
意の値に変化させることにより任意の明るさを得ること
ができる。例えば、第1のセル8aへの電圧印加を0V
としたときには、光軸103eが図2(e)のようにな
って、中間的な明るさが得られることになる。したがっ
て、所望の透過光量に応じて適切な電圧を第1のセル8
bに印加することにより階調表示を得ることができる。
θが45°の時に最も明るい表示が得られ、このような
材料の作製は容易ではないが、本実施例の場合にはθ=
22.5°の材料により最も明るい表示を得ることがで
きるので、作製が比較的容易である。
つの反強誘電性液晶セル8a、8bの層法線を直交する
ように重ね合わせることにより、高コントラストで階調
表示可能な反強誘電性液晶素子を得ることができた。
液晶セル8aと第2の反強誘電性液晶セル8bとは入れ
換えて配置してもよい。
セル8aの層法線に一致させたが、その他の配置でもよ
い。また、2枚の偏光板7a、7bの偏光軸が直交する
ことは必要であるが、偏光板の偏光軸とセルの層法線と
は角度を有して配置してもよい。ただし、素子特性の対
称性の点からは、偏光板の偏光軸を一方のセルの層法線
に一致させる方が好ましい。
面に2枚の偏光板7a、7bを配置したが、第1のセル
8aおよび第2のセル8bに2色性色素を含ませて偏光
板を用いない構成とすることもできる。この場合、1枚
または2枚の偏光板を用いると、さらにコントラストを
向上させることができる。ただし、2枚の偏光板を用い
た場合には、偏光軸を直交させる必要がある。また、第
1のセル8aおよび第2のセル8bの一方または両方に
2色性色素を用いて2枚の偏光板を用いてもコントラス
トを向上させることができる。
bに狭持される反強誘電性液晶材料4は、厳密に同一で
なくてもよく、電圧−透過光量特性がほぼ同じ材料であ
れば、用いることができる。
えば図3に示すように、時間的に正負の極性を切り換え
て電圧を印加し、第1の反強誘電性液晶セル8aに所望
の透過光量に応じて適切な電圧を印加してもよい。この
ようにして駆動を行うと、直流成分が残らないようにす
ることができるので、素子の動作信頼性を向上させるこ
とができる。
は、セルの電極膜をX−Yマトリクス型に形成すること
によりX−Yマトリクス型表示素子とすることもでき
る。なお、2つの反強誘電性液晶セルの各々をX−Yマ
トリクス型としてもよい。
としては、例えば素子をアクティブ駆動する方法が考え
られる。このアクティブ駆動型素子においては、例えば
電極膜と配向制御層とを有する透光性基板と、電極膜と
配向制御層と回路素子とを有するSi基板との間に、反
強誘電性液晶材料を狭持してセルを構成する。このSi
基板に組み込まれた回路素子を通して反強誘電性液晶に
印加される電圧値を変えることにより、階調表示を得る
ことができる。なお、Si基板は透光性を有さないの
で、第1または第2のセルのうち、観察者側と反対側の
セルにSi基板を用いて反射型液晶素子として用いるこ
とができる。
電性液晶表示素子などの反強誘電性液晶素子をアクティ
ブ駆動する方法について説明する。
誘電性液晶セルをシリコンゲートNMOS(N型金属−
酸化膜−シリコン)のスイッチング回路素子を搭載した
基板を用いてX−Yマトリクス型のセルとし、第2の反
強誘電性液晶セルをX−Yマトリクス型でないセルとし
て反射型の反強誘電性液晶表示素子を作製した。
子の1画素分の断面図、図5は図4の第1のセル18a
の平面図を示している。この反強誘電性液晶表示素子に
おいて、第1のセル18aは、P型単結晶シリコンから
なる基板17上にシリコン酸化膜16が形成され、シリ
コン酸化膜16は、各画素毎に5箇所の貫通孔16a、
16b、16c、16d、16eが形成されている。各
貫通孔16a〜16eの下部を含む基板17の複数の領
域にはN型拡散層が形成されており、各々N型拡散領域
38、ソース領域39、42、ドレイン領域40、41
となっている。ポリシリコン膜からなるゲート電極47
およびゲート電極48は、それぞれソース領域39とド
レイン領域40とに亘り、ソース領域42とドレイン領
域41とに亘って基板17上に形成され、シリコン酸化
膜16がゲート電極47、48を覆っている。このゲー
ト電極47、ソース領域39、ドレイン領域40により
トランジスタQ1が構成され、ゲート電極48、ソース
領域42、ドレイン領域41によりトランジスタQ2が
構成されている。
電極47、48は、基板17上でシリコン酸化膜16と
接続用アルミニウム電極44とで隔てられている。各単
位画素領域には、これら2つのトランジスタQ1、Q2
と共に補助容量53が設けられている。この補助容量5
3は、トランジスタQ1に近接してシリコン酸化膜16
中に形成されたポリシリコン電極46とこの位置に対応
して基板17中に設けられたN型拡散層38と、これら
に挟まれた絶縁膜16fとで構成されている。上記貫通
孔16a〜16eの上縁部周辺のシリコン酸化膜16上
には、基板17表面に達する状態で、それぞれアルミニ
ウムなどからなる接地電極32、ソース電極33、3
7、ドレイン電極35、36が形成されている。この接
地電極32は接地ライン43に接続され、ソース電極3
3は電源ライン34に接続され、ソース電極37はデー
タライン63に接続されている。各電極32、33、3
5、36、37、走査ライン62およびデータライン6
3の全面を被覆して、基板17上に形成された回路を保
護するための酸化シリコンなどの電気絶縁性材料からな
る保護膜50が形成されている。
る位置に貫通孔51が形成され、保護膜50上に、各画
素毎に反射電極45が形成されている。この反射電極4
5の一部は貫通孔51を介して接続用電極44に接続さ
れている。このため、ドレイン電極40は、接続用電極
35、44を介して反射電極45に接続されている。本
実施例2では反射電極45として反射率の高いアルミニ
ウムを用いたが、それ以外のものを用いてもよい。
線62に接続され、トランジスタQ、2のソース領域4
2は走査ライン62に交差するデータライン63に接続
されている。このトランジスタQ2のドレイン領域41
とトランジスタQ1のゲート電極47と補助容量53の
ポリシリコン電極46とはシリコン酸化膜16上に形成
された共通のアルミニウム配線49に接続されている。
電極45としてポリシリコン膜を用いたが、それ以外の
ものを用いてもよい。
た基板部は、その最上面に配向膜(図示せず)が形成さ
れている。この基板部と、透明ガラス基板1上に透明電
極2からなる対向電極さらに配向膜(図示せず)が形成
された基板部とが、配向膜(図示せず)側を対向させて
貼り合わせられ、その基板間隙に反強誘電性液晶材料4
が狭持されて第1の反強誘電性液晶セル18aが構成さ
れている。
は、透明ガラス基板1、1上にそれぞれ、透明電極2、
2さらに配向膜3、3が形成された基板部を、配向膜3
側が対向するように配置され、その基板間隙に反強誘電
性液晶材料4が狭持されている。この第2の反強誘電性
液晶セル18bと上記第1の反強誘電性液晶セル18a
とを重ね合わせて2層型の反強誘電性液晶表示素子が構
成される。この素子は、第2のセル18bの第1のセル
18aと反対側表面には後述するフィルタ52が配置さ
れ、第2のセル18b側を光入射側にして用いられる。
続抵抗を抑制するためには、反射電極45の形成後に熱
処理を行う。このとき、反射電極45の表面に凹凸が生
じて反射率の低下をもたらすことがある。よって、本実
施例2では、反射電極45の表面を平滑にして反射率を
高めるために、保護膜50を形成後と、反射電極45の
形成後に行う上記熱処理後とに、それぞれ反射電極45
の表面を研磨して平滑化した。このように反射電極表面
45を平滑化することは、液晶の配向の向上にもつなが
る。特に、反強誘電性液晶材料のように配向制御が困難
で基板の微小な凹凸により欠陥が生じる場合には、反射
電極の平滑化は配向を良好にするために極めて有効であ
る。
電極45を図6に示すようにマトリクス状に配置した
が、画素をデルタ配列としてもよい。
結晶Si基板を用いているので、IC製造技術をそのま
ま第1の反強誘電性液晶セル18aの製造に適用するこ
とが可能である。即ち、微細加工技術、高品質薄膜形成
技術、高精度不純物導入技術、結晶欠陥制御技術、製造
技術、装置および回路設計技術、CAD(Comput
er Aided Designe)技術など高度に発
達した先端技術を適用することができる。これに加え
て、既設のIC工場のクリーンルームで他のICと同時
に製造することもできるので、新たな設備投資を殆ど必
要とせず、製造コストを低くすることができる。
方式のカラー化技術について、図7を参照しながら説明
する。
面図である。このフィルタ52は、平板型で色彩順次切
り替えが高速で可能なカラーフィルタである。このフィ
ルタ52は、シアンフィルタ29C、マゼンタフィルタ
29M、黄色フィルタ29Yがこの順に積層されてい
る。このシアンフィルタ29Cは、一対の透明基板2
0、21の対向する表面の全面に渡って透明電極(図示
せず)をそれぞれ形成し、基板20、21間に後述する
シアン色を発色可能な2色性色素を含む液晶22を介在
させて構成されている。また、マゼンタフィルタ29M
は、一対の透明基板23、24の対向する表面の全面に
渡って透明電極(図示せず)をそれぞれ形成し、基板2
3、24間に後述するマゼンタ色を発色可能な2色性色
素を含む液晶25を介在させて構成されている。さら
に、黄色フィルタ29Yは、一対の透明基板26、27
の対向する表面の全面に渡って透明電極(図示せず)を
それぞれ形成し、基板26、27間に後述する黄色を発
色可能な2色性色素を含む液晶28を介在させて構成さ
れている。
フィルタ29Mおよび黄色フィルタ29Yは、入射光か
らシアン、マゼンタおよび黄色の帯域の光を各々吸収す
るフィルタである。したがって、シアンフィルタ29
C、マゼンタフィルタ29Mおよび黄色フィルタ29Y
を透過した透過光は各々赤色、緑色および青色となる。
本実施例2の反強誘電性液晶表示素子においては、シア
ンフィルタ29C、マゼンタフィルタ29M、黄色フィ
ルタ29Yの各透明電極に、ぞれぞれスイッチング回路
30C、30M、30Yを介して交流電源31から交流
電圧が供給される。スイッチング回路30C、30M、
30Yは各々表示制御回路16からの切り替え信号に基
づいてシアンフィルタ29C、マゼンタフィルタ29
M、黄色フィルタ29Yに選択的に交流電圧を印加して
各フィルタをオン/オフ制御し、表示を行わせる。この
ように各フィルタをオン/オフ制御することにより、3
原色である赤色光、緑色光、青色光を生成することがで
きる。
過光の色彩との対応関係を示している。
を示すタイミングチャートである。図8に示すように、
時刻t1からt3までの期間にシアンフィルタ29Cに
電圧が印加される。液晶分子は電圧を印加しても直ちに
配向状態が変化するわけではなく、一定の遷移期間τを
必要とし、この期間τは液晶分子の電界に対する応答回
復速度に対応している。このため、時刻t1に電圧印加
が開始されても実際にシアンフィルタ29Cがその電圧
に応答して配向状態の変化が安定するのは遷移期間τを
経過した後の時刻t2である。したがって、時刻t2か
ら時刻t3のまでの期間TRにおいてフィルタ52の透
過光は赤色光となる。その後、同様に、シアンフィルタ
29C、マゼンタフィルタ29M、黄色フィルタ29Y
の順で各フィルタへの電圧印加が繰り返され、フィルタ
52の透過光が赤色光、緑色光、青色光となる。
成に限らず、赤、青、緑の2色性色素を含む3種類の液
晶で構成してもよく、カラー偏光板と液晶パネルの積層
構造やニュートラル偏光板と液晶パネルとの積層構造な
ど、基本的に所望の色を高速変換できるものであれば使
用可能である。
22、25、28に求められる応答特性を示す。実用的
な映像表示を行う場合のフレーム周波数の下限は約30
Hzであるので、上記実施例においては赤、青、緑の各
色に対応して表示される許容時間は約10ミリ秒であ
る。10ミリ秒で十分な表示を行わせるためには、フィ
ルタ52は各々応答時間数ミリ秒以下で色変調および表
示が実現可能であるものが求められる。本実施例2で
は、特に高速応答可能な液晶表示モードを利用した。
素子の画素配置図を示しており、簡単のために、画素P
1/1〜画素P1/3、画素P2/1〜画素P2/3
(以下、総称する場合には画素Pという)からなるマト
リクスにより動作を説明するが、実際には必要とされる
走査ライン数とデータライン数とを備えた構成とする。
この素子は、複数の画素P1/1〜画素P1/3、画素
P2/1〜画素P2/3が単結晶シリコン基板7上に形
成され、各画素P毎に図10の等価回路に示すような駆
動電圧供給回路54を備えている。各画素Pには行方向
にゲート信号SG1、SG2(以下、総称する場合には
ゲート信号SGという)を供給する複数の走査ライン6
2a、62bと、電源を供給する複数の電源ライン34
とが接続されており、列方向にはデータ信号SD1、S
D2(以下、総称する場合にはデータ信号SDという)
を供給する複数のデータライン63a〜63cが接続さ
れている。
源ライン34aにより第1電源からの電圧が共通に供給
され、走査ライン62aにより走査信号SG1が共通に
入力される。複数の画素P2/1〜画素P2/3には他
の電源ライン34bにより第2電源からの電圧が共通に
供給され、他の走査ライン62bにより走査信号SG2
が共通に入力される。画素P1/1および画素P2/1
にはデータライン63aにより信号SD1が供給され、
画素P1/2および画素P2/2には他のデータライン
63bにより信号SD2が供給され、画素P1/3およ
び画素P2/3には更に他のデータライン63cにより
信号SD3が供給される。
について説明する。
するスイッチング回路54の一例を示す回路図である。
図10において、液晶に電圧を印加するトランジスタQ
1としては、ゲート電位とドレイン電位とがほぼ直線的
な関係を示す性能を有するトランジスタを利用すること
が望ましい。また、トランジスタQ1は液晶層4の液晶
LCに直接電圧を供給するので、液晶のスイッチングに
必要な電圧に対する耐圧が必要である。また、トランジ
スタQ2はデータ信号SDをトランジスタQ1に供給す
るトランジスタであり、オフ時のリーク電流が少ないこ
とが望ましい。補助容量CSはトランジスタQ2からの
データ信号SDを保持する。データライン63にデータ
信号SDが供給されると、走査ライン62に走査信号S
Gを印加して、トランジスタQ2をオンさせる。このと
き、データ信号SDがトランジスタQ2を介してトラン
ジスタQ1のゲートに印加される。これと同時に補助容
量CSにデータ信号SDが保持される。トランジスタQ
1はデータ信号SDに対応した電圧を液晶層4の液晶L
Cに印加するようにスイッチングする。
容量CSに蓄積された電荷によりトランジスタQ2がオ
フ状態となった後でもそのまま保持される。このように
本実施例2のスイッチング回路54を用いると、液晶材
料の抵抗値が低い場合や自己分極が大きい場合でも良好
な表示品位を得ることができる。
用することにより複数のトランジスタやコンデンサを利
用した回路を構成することができ、従来のTFTでは実
現できなかった機能を備えた反強誘電性液晶表示素子を
実現することができる。なお、図10に示した等価回路
は基本的な概念を示すものであり、トランジスタや他の
素子などを付加することによりさらに望ましいものにす
ることができる。
カラーフィルタを用いないでもフルカラープロジェクタ
とすることが可能な高速応答の反強誘電性液晶表示素子
が得られた。
順次カラー方式を実現するために図11に示すような他
のフィルタ52を用いた。このフィルタ52において、
液晶表示装置110は光源111を備え、光源111か
らの光は例えば2次曲面の反射鏡116により反射さ
れ、かつ集光される。反射鏡116からの反射光の集光
位置には、光を3成分に分離するファイバ112の光入
射端部が配置されている。集光された光は、ファイバ1
12により例えば赤色、緑色、青色の3成分に分離され
る。
成分毎に色フィルタ113a、113b、113cと光
スイッチ素子114a、114b、114cとからなる
光シャッタ118が設けられ、その背後に光スイッチ素
子114a、114b、114cから出射される光を合
成する光学系として例えばファイバ145が設置されて
いる。ファイバ145から出射された光は、レンズ11
7によって変調される。上記色フィルタ113a、11
3b、113cとしては、染料や顔料を用いたカラーフ
ィルター、無機または有機光学薄膜を積層した干渉フィ
ルタなどが使用され、光スイッチ素子114a、114
b、114cとしては、液晶またはPLZTなどのセラ
メックスなどが使用される。
を用いてもよい。例えば、光分離の場合には、図12に
示すように3組のレンズ121a、121b、121b
とファイバ122a、122b、122nとを用い、こ
れにより単一光源111から上記3成分の光を取り出し
てもよい。または、図示は省略するが、3つの光源から
ファイバを介して個別に光をフィルタに導いてもよく、
さらには単一光源111とビームスプリッタやダイクロ
イックミラーを組み合わせてもよい。
反強誘電性液晶表示素子の動作を説明する。例えば1つ
の電源ライン34aには第1電源1から+5Vの電圧を
供給し、走査ライン62aには走査信号SG1として+
6Vを供給する。また、各データライン63a、63
b、63cには各画素Pに供給するデータ信号SD1、
SD2、SD3を各々供給する。このとき、データ信号
SDは正電位の符号とする。この走査により第1行目の
画素P1/1、P1/2、P1/3に表示データが書き
込まれる。このときに書き込まれるデータに対応する印
加電圧の極性は正である。
SG2をオンする。電源ライン34bに第2電源2から
−5Vの電圧を供給し、走査ライン62aには走査信号
SG2として+6Vを供給する。この時、第2電源2の
極正に応じて走査信号SG2の電圧を変化させてもよ
い。また、各データライン63a、63b、63cには
各画素Pに供給するデータ信号SD1、SD2、SD3
を各々供給する。このとき、データ信号SDは正電位の
符号とする。この走査により第2行目の画素P2/1、
P2/2、P2/3に表示データが書き込まれる。この
ときに書き込まれるデータに対応する印加電圧の極性は
負である。
電圧が正の極正の信号を書き込み、偶数行の画素列には
印加電圧が負の極正の信号を書き込む。この走査を第1
の表示フレームの期間にわたって行うことにより第1の
表示フレームに必要な表示データを書き込む。第1の表
示フォレームに続く第2の表示フレームでは、上記第1
のフレームの極正と反転した極正で表示データを書き込
む。これにより液晶に交流電圧を印加することができ
る。
することにより、1画素行毎に極性の異なった電圧を画
素に印加することができる。各画素に実際に印加される
駆動波形は、例えば図13に示すようなものとすること
ができる。この場合、第2のセルには分子が反強誘電性
液晶状態から強誘電性液晶状態に転移するのに十分なあ
る極性の電圧と、同じ強さの逆の極性の電圧とを、一定
の期間(R、G、Bの各表示期間)毎に切り換えて印加
している。また、第2のセルには、所望の透過光量に応
じた電圧を印加している。このように駆動を行うことに
より、高速応答で信頼性に優れたフルカラー表示を得る
ことができる。
強誘電性液晶セルと第2の反強誘電性液晶セルとを層法
線方向を直交させて配置することにより、高コントラス
トで階調表示が可能な反強誘電性液晶素子を得ることが
できる。
晶状態から強誘電性液晶状態に転移するのに十分なある
極性の電圧と、同じ強さの逆の極性の電圧とを、一定の
期間毎に切り換えて印加することにより、信頼性に優れ
た反強誘電性液晶素子が得られる。
して単結晶Si基板を用いるとIC製造技術をそのまま
反強誘電性液晶素子の製造に適用することができ、製造
コストを低くすることができる。また、小型化・簡略化
した構造により高速応答で高性能な反強誘電性液晶素子
を得ることができる。
することにより、カラーフィルターが不要な単板フルカ
ラープロジェクタとして用いることができる。
面図である。
る。
明するためのタイミングチャートである。
す断面図である。
置図である。
示す断面図である。
すタイミングチャートである。
図である。
素分の透過回路図である。
示す図である。
を示す図である。
説明するためのタイミングチャートである。
ラフである。
断面図である。
過率曲線と理想的な電圧−透過率曲線を示すグラフであ
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 少なくとも第1の反強誘電性液晶セル
と、第2の反強誘電性液晶セルとを備え、 該第1および第2の反強誘電性液晶セルは、各々電極膜
と配向制御層とが形成された一対の電極基板間に反強誘
電性液晶材料が狭持され、 該第1の反強誘電性液晶セルにおける反強誘電性液晶相
の層法線と、該第2の反強誘電性液晶セルにおける反強
誘電性液晶相の層法線とが直交するように、該第1およ
び第2の反強誘電性液晶セルが配置されている反強誘電
性液晶素子。 - 【請求項2】 前記第1および第2の反強誘電性液晶セ
ルを挟んで、一対の偏光板が各々の偏光軸を直交させる
ように配置されている請求項1記載の反強誘電性液晶素
子。 - 【請求項3】 前記偏光板の一方の偏光軸が、前記第1
および第2の反強誘電性液晶セルの一方における反強誘
電性液晶相の層法線と一致している請求項2記載の反強
誘電性液晶素子。 - 【請求項4】 前記第1および第2の反強誘電性液晶セ
ルの少なくとも一方が、2色性色素を含む請求項1〜3
のうちいずれかに記載の反強誘電性液晶素子。 - 【請求項5】 少なくとも第1の反強誘電性液晶セル
と、第2の反強誘電性液晶セルとを備え、該第1および
第2の反強誘電性液晶セルが、各々電極膜と配向制御層
とが形成された一対の電極基板間に反強誘電性液晶材料
が狭持され、該第1の反強誘電性液晶セルにおける反強
誘電性液晶相の層法線と、該第2の反強誘電性液晶セル
における反強誘電性液晶相の層法線とが直交するよう
に、該第1および第2の反強誘電性液晶セルが配置され
た反強誘電性液晶素子に対して、 該第1および第2の反強誘電性液晶セルの一方に、分子
が反強誘電性液晶状態から強誘電性液晶状態に転移する
のに十分な所定極性の電圧を印加して、該一方の反強誘
電性液晶セルの光軸を傾けると共に、 該第1および第2の反強誘電性液晶セルの他方に、任意
の電圧を印加することにより階調表示を得る反強誘電性
液晶素子の駆動方法。 - 【請求項6】 少なくとも第1の反強誘電性液晶セル
と、第2の反強誘電性液晶セルとを備え、該第1および
第2の反強誘電性液晶セルが、各々電極膜と配向制御層
とが形成された一対の電極基板の間に反強誘電性液晶材
料が狭持され、該第1の反強誘電性液晶セルにおける反
強誘電性液晶相の層法線と、該第2の反強誘電性液晶セ
ルにおける反強誘電性液晶相の層法線とが直交するよう
に、該第1および第2の反強誘電性液晶セルが配置され
た反強誘電性液晶素子に対して、 該第1および第2の反強誘電性液晶セルの一方に、分子
が反強誘電性液晶状態から強誘電性液晶状態に転移する
のに十分な所定極性の電圧を印加する第1の期間と、該
所定極性の電圧と同じ強さの逆の極性の電圧を該第1の
期間と同じ時間だけ印加する第2の期間とを繰り返す反
強誘電性液晶素子の駆動方法。
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