JP3052898B2 - 磁気ヘッドスライダのレール面の加工方法 - Google Patents

磁気ヘッドスライダのレール面の加工方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レール面を少く
とも２段階の深さにエッチング掘り込みする磁気ヘッド
スライダのレール面の加工方法に関し、加工精度の向上
と生産性の向上を図ったものである。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスク装置用の浮上型磁気ヘッ
ドとして、例えば図２に示すように、スライダ１１のレ
ール面１２を２段階の深さにエッチング掘り込みして負
圧スライダとして構成した磁気ヘッド１０が考えられて
いる。レール面１２には“コ”の字状の頂面１４が形成
されている。頂面１４の空気流出端近傍には、薄膜磁気
ヘッド１６，１８が、ポール端面を露出させた状態で埋
め込まれている。レール面１２は、頂面１４の空気流入
端側につなげて浅い深さにステップ状に掘り込み加工さ
れた浅い面２０と、レール面１２の外周縁部および
“コ”の字状の頂面１４に囲まれた部分（負圧発生凹部
２４）を構成し深い深さに掘り込み加工された深い面２
２の２段階に掘り込み加工されている。
【０００３】ハードディスクが回転している状態で、磁
気ヘッド１０の空気流入端から流入した空気は、浅い面
２０（従来の磁気ヘッドのテーパ面と同等の作用をす
る。）および頂面１４で正圧を発生し、負圧発生凹部２
４で負圧を発生し、正圧と負圧のバランスでスライダ１
１を一定の浮上高さに保持する。図２のようなレールパ
ターンを有するレール面１２は機械的な溝切り加工で形
成するのは困難なため、通常はエッチング掘り込み加工
により形成される。
【０００４】図２のレール面１２を掘り込み加工する方
法の一例（未公知）を図３に示す。この工程を説明す
る。 （１） 薄膜磁気ヘッドが搭載されたウェハーを一方向
にカットして得られる多数本のローを加工用ベース（加
工用基板）上に並べて配列し、加工用ベース上に接着し
て固定する。１本のローには、多数個の磁気ヘッド１０
が横方向に一列に構成されている（図３では、ロー上の
１個の磁気ヘッドを示す。）。この段階では、レール面
１２は平坦面に形成されている。 （２） レール面１２にレジストを塗布し、頂面１４と
して形成する部分を残すパターンで露光し、現像して、
頂面１４として残す部分を被覆したレジストマスク２６
を作成する。レジストマスク２６の厚さは後に工程
（３）のエッチングによる膜減りを考慮して１０μｍ程
度に形成する。
【０００５】（３） レール面１２にイオンビームを照
射して、レジストマスク２６が被覆されていない部分を
浅い面２０の深さ（例えば頂面１４から０．５μｍ）に
エッチング（ドライエッチング）掘り込み（イオンミリ
ング）する。 （４） 加工用ベースごとローを溶剤中に浸漬してレジ
ストマスク２６を剥離する。このとき、ローの固定用の
接着剤もこの溶剤で溶かされるので、ローは加工用ベー
スから剥がされる。 （５） ローを再び加工用ベース上に並べて接着剤で固
定する。
【０００６】（６） レール面１２にレジストを塗布
し、頂面１４および浅い面２０として形成する部分を残
すパターンで露光し、現像して、頂面１４および浅い面
２０として残す部分を被覆したレジストマスク２８を作
成する。レジストマスク２８の厚さは後の工程（７）の
エッチングによる膜減りを考慮して３０μｍ程度に形成
する。
【０００７】（７） レール面１２にイオンビームを照
射して、レジストマスク２８で被覆されていない部分を
深い面２２の深さ（例えば浅い面２０から２．０μｍ
（頂面１４から２．５μｍ））にエッチング（ドライエ
ッチング）掘り込みする。 （８） 加工用ベースごとローを溶剤中に浸漬してレジ
ストマスク２８を剥離する。このとき、ローの固定用の
接着剤もこの溶剤で溶かされるので、ローは加工用ベー
スから剥がされる。以上で図２の磁気ヘッド１０のレー
ル面１２が完成する。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前記図３の方法によれ
ば、工程（１），（５）のロー配列の際に、図４に平面
図で示すように、ロー３０に若干の反りが生じる。これ
は、作業者の配列技術によるもので、反り方には再現性
がない。したがって、工程（１）と工程（５）とでは、
ロー３０が異なった形状に反りを生じて配列される。露
光装置ではロー３０の反りに完全に追従させてレジスト
マスクのパターンを露光するのは不可能なため、ロー３
０が異なった形状に配列されると、工程（２）と工程
（６）のレジストカットでは、図５に示すように、レジ
ストマスク２６，２８がずれて形成されてしまう。した
がって、これらレジストマスク２６，２８を用いてエッ
チング掘り込みをすると、レール形状が設計と大きく異
なって形成されてしまい、所期の浮上特性が得られなく
なる。
【０００９】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、レール面を２段階の深さにエッチング掘
り込みする場合に、レール形状の加工精度を向上させる
とともに、生産性の向上を図った磁気ヘッドスライダの
レール面の加工方法を提供しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】この発明は、レール面に
浅い深さに掘り込みした浅い面と深い深さに掘り込みし
た深い面の少くとも２段階の面を形成する磁気ヘッドス
ライダのレール面の加工方法であって、平坦面に形成さ
れたレール面を上にしてスライダを加工用ベース上に固
定し、前記レール面のうち前記浅い面および前記深い面
のいずれも形成しない部分を第１のレジストマスクで被
覆し、前記第１のレジストマスクで被覆されていない部
分を前記浅い深さまで第１のエッチング掘り込みをし、
次いで前記第１のレジストマスクを被覆したまま前記浅
い面を形成する部分を第２のレジストマスクで被覆し、
前記第１、第２のレジストマスクで被覆されていない部
分を前記深い深さまで第２のエッチング掘り込みをし、
前記両エッチング掘り込みが終了後前記第１、第２のレ
ジストマスクを前記レール面から剥離し、かつ前記スラ
イダを前記加工用ベースから外してなり、前記第１のレ
ジストマスクを前記第１および第２のエッチング掘り込
みによる膜減りで消失しない膜厚に被覆し、前記第２の
レジストマスクを前記第２のエッチング掘り込みによる
膜減りで消失しない膜厚に被覆してなるものである。
【００１１】これによれば、第１のエッチング掘り込み
で浅い面が最終的な深さに形成され、深い面が途中まで
の深さに形成される。そして、第２のエッチング掘り込
みで深い面が最終的な深さに形成される。
【００１２】この発明によれば、浅い面および深い面の
いずれも形成しない部分を被覆する第１のレジストマス
クを、第１、第２のエッチング掘り込みで消失しない膜
厚に当初形成し、第１、第２のエッチング掘り込みに共
通に使用するようにしたので、第１のエッチング掘り込
み終了後に第１のレジストマスクを剥離しローを再配列
する工程（前記図３の工程（４），（５）は不要であ
る。したがって、第２のレジストマスクをカットする際
のパターンのずれは生じにくくなり、第２のエッチング
掘り込みを第１のエッチング掘り込みとずれを生じるこ
となく行うことができる。したがって、レール形状の加
工精度が向上し、所期の浮上特性が得られる。また、加
工用ベースとの接着、剥離のくり返しによるレール面の
損傷やスライダの変形も防止される。また、第１のエッ
チング掘り込み終了後に第１のレジストマスクを剥離し
ローを再配列する工程が不要なので、生産性が向上す
る。
【００１３】なお、第２のレジストマスクを第１のレジ
ストマスクとの境界部分に重ねて被覆することにより、
レジストカット位置の誤差により第１のレジストマスク
と第２のレジストマスクとの間にすき間が形成されるの
を防止することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】この発明の方法を用いて前記図２
の磁気ヘッド１０のレール面１２（フルエッチドＡＢ
Ｓ）の加工を行う実施の形態を図１に示す。各工程を説
明する。 （１） 薄膜磁気ヘッドが搭載されたウェハーを一方向
にカットして得られる多数本のローを加工用ベース（加
工用基板。図示せず）上に並べて配列し、加工用ベース
上に接着して固定する。１本のローには多数個の磁気ヘ
ッド１０が横方向に一列に構成されている（図１ではロ
ー上の１個の磁気ヘッドを示す。）。この段階では、レ
ール面１２は平坦面に形成されている。 （２） レール面２にレジストを塗布し（あるいはレジ
ストフィルムを貼付け）、頂面１４として形成する部分
を残すパターンで露光し、現像して、頂面１４として残
す部分を被覆したレジストマスク３２を作成する。レジ
ストマスク３２の厚さは２回のエッチング（工程
（３），（５））による膜減りで消失しない（つまり頂
面１４が露出しない）厚さ（例えば５０μｍ程度）に形
成する。
【００１５】（３） レール面１２にイオンビームを照
射して、レジストマスク３２が被覆されていない部分を
浅い面２０の深さ（例えば頂面１４から０．５μｍ）に
エッチング（ドライエッチング）掘り込みする。 （４） レール面１２にレジストを塗布し（あるいはレ
ジストフィルムを貼付け）、浅い面２０として形成する
部分を残すパターンで露光し、現像して、浅い面２０と
して残す部分を被覆したレジストマスク３４を作成す
る。レジストマスク３４の空気流出方向端部は、レジス
トマスク３２の空気流入方向端部の上に一定の細幅で重
ね合わせて、両レジストマスク３２，３４の重ね合わせ
部３６を形成する。これにより、レジストカット位置の
誤差によりレジストマスク３２，３４の境界部分３８に
すき間が生じるのが防止される。レジストマスク３４の
厚さは後の工程（５）のエッチングによる膜減りで消失
しない厚さ（例えば３０μｍ程度）に形成する。
【００１６】（５） レール面１２にイオンビームを照
射して、レジストマクス３２，３４が被覆されていない
部分を深い面２２の深さ（例えば浅い面２０から２．０
μｍ（頂面１４から２．５μｍ）にエッチング（ドライ
エッチング）掘り込み（イオンミリング）する。 （６） 加工用ベースごとローを溶剤中に浸漬し、レジ
ストマスク３２，３４を剥離する。このとき、ローの固
定用接着剤もこの溶剤で溶かされるので、ローは加工用
ベースから剥がされる。以上で図２の磁気ヘッド１０の
レール面１２が完成する。
【００１７】前記図３の方法に比べた図１の方法の効果
を説明する。 （イ） ローの貼り替えをなくすことによる効果 前記図３の方法では工程（４），（５）のローの貼り替
えによるローの形状変化が、図６（ａ）に示すように最
大で３０μｍ程度の位置ずれが生じ、これに伴い図６
（ｂ）に示すようにレジストマスク２６，２８間で最大
３０μｍ程度の位置ずれが生じる。これに対し、図１の
方法ではローの貼り替えを行わないので、レール加工の
全工程を通じてローの形状が一定に保たれ、工程
（２），（４）のレジストカット間でレジストマスク３
２，３４の位置合わせ精度が向上する。
【００１８】（ロ） レジストの剥離をなくすことによ
る効果 前記図３の方法では、レジストマスク２６を形成した位
置に重複してレジストマスク２８を形成するため、２回
のレジストカットで位置ずれを生じると、でき上がった
磁気ヘッド１０のレール面１２のパターンは図７（ａ）
に示すように、広い範囲で位置ずれを生じ、浮上特性が
大きく変化する。これに対し、図１の方法ではレジスト
マスク３２，３４は境界部分３８を除いて重複して形成
しないので２回のレジストカットで位置ずれが生じて
も、でき上がった磁気ヘッド１０のレール面１２のパタ
ーンは図７（ｂ）に示すように位置ずれを生じる範囲が
狭く、浮上特性に与える影響は小さい。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の実施の形態を示す図で、図２のレ
ール面を形成する手順を示す工程図である。
【図２】 この発明の方法が適用される負圧スライダの
一例を示すレール面側から見た斜視図である。
【図３】 図２のレール面を形成する１つの手法を示す
工程図である。
【図４】 図３の工程（１），（５）によるローの配列
形状の変化を示す平面図である。
【図５】 図３の工程（２），（６）によるレジストマ
スクの位置ずれを示す平面図である。
【図６】 図３の工程（１），（５）によるローの配列
形状の変化とこれに伴う工程（２），（６）によるレジ
ストマスクの位置ずれを示す平面図である。
【図７】 ２回のレジストカットで位置ずれを生じた場
合の、図３の方法により作られたレール面形状と、図１
の方法により作られたレール面形状を示す平面図であ
る。
【符号の説明】
１０ 磁気ヘッド １１ スライダ １２ レール面 ２０ 浅い面 ２２ 深い面 ３２ 第１のレジストマスク ３４ 第２のレジストマスク ３６ レジストの重ね合わせ部 ３８ 境界部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G11B 5/60 G11B 21/21

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】レール面に浅い深さに掘り込みした浅い面
    と深い深さに掘り込みした深い面の少くとも２段階の面
    を形成する磁気ヘッドスライダのレール面の加工方法で
    あって、 平坦面に形成されたレール面を上にしてスライダを加工
    用ベース上に固定し、 前記レール面のうち前記浅い面および前記深い面のいず
    れも形成しない部分を第１のレジストマスクで被覆し、 前記第１のレジストマスクで被覆されていない部分を前
    記浅い深さまで第１のエッチング掘り込みをし、 次いで前記第１のレジストマスクを被覆したまま前記浅
    い面を形成する部分を第２のレジストマスクで被覆し、 前記第１、第２のレジストマスクで被覆されていない部
    分を前記深い深さまで第２のエッチング掘り込みをし、 前記両エッチング掘り込みが終了後前記第１、第２のレ
    ジストマスクを前記レール面から剥離し、かつ前記スラ
    イダを前記加工用ベースから外してなり、 前記第１のレジストマスクを前記第１および第２のエッ
    チング掘り込みによる膜減りで消失しない膜厚に被覆
    し、前記第２のレジストマスクを前記第２のエッチング
    掘り込みによる膜減りで消失しない膜厚に被覆してなる
    磁気ヘッドスライダのレール面の加工方法。
  2. 【請求項２】前記第２のレジストマスクを前記第１のレ
    ジストマスクとの境界部分に重ねて被覆することを特徴
    とする請求項１記載の磁気ヘッドスライダのレール面の
    加工方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3466041B2 (ja) * 1997-03-03 2003-11-10 アルプス電気株式会社 磁気ヘッドおよびその製造方法
US7201853B2 (en) * 2003-03-28 2007-04-10 The Procter & Gamble Company Method for making a metal forming structure
US7168939B2 (en) * 2004-02-26 2007-01-30 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv System, method, and apparatus for multilevel UV molding lithography for air bearing surface patterning

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5811512B2 (ja) * 1979-07-25 1983-03-03 超エル・エス・アイ技術研究組合 パタ−ン形成方法
US4360585A (en) * 1981-08-21 1982-11-23 General Electric Company Method of etching polymethyl methacrylate
GB2145977B (en) * 1983-08-30 1987-01-14 Craigave Pty Ltd Article die
US5138508A (en) * 1988-04-12 1992-08-11 Ngk Insulators, Ltd. Magnetic head core
US5210666A (en) * 1990-05-25 1993-05-11 Seagate Technology, Inc. Self-loading air bearing slider with a relieved leading edge
US5131978A (en) * 1990-06-07 1992-07-21 Xerox Corporation Low temperature, single side, multiple step etching process for fabrication of small and large structures
JP3110092B2 (ja) * 1991-09-04 2000-11-20 株式会社日立製作所 磁気ヘッド用スライダーの製造方法
JP2715808B2 (ja) * 1992-06-09 1998-02-18 株式会社日立製作所 薄膜磁気ヘッドの製造方法
US5326429A (en) * 1992-07-21 1994-07-05 Seagate Technology, Inc. Process for making studless thin film magnetic head
US5345353A (en) * 1992-09-21 1994-09-06 International Business Machines Corporation Step projection air bearing slider with improved stiction performance and wear resistance
US5424888A (en) * 1993-06-24 1995-06-13 International Business Machines Corp. Speed independent, air bearing slider
JPH0729141A (ja) * 1993-07-15 1995-01-31 Yamaha Corp 磁気ヘッドのレール面加工方法
US5515219A (en) * 1993-09-08 1996-05-07 Seagate Technology, Inc. Simplified self-loading head slider
JP3139595B2 (ja) * 1994-04-15 2001-03-05 ティーディーケイ株式会社 磁気ヘッド、磁気記録再生装置及び磁気ヘッド製造方法
JPH0916925A (ja) * 1995-06-28 1997-01-17 Yamaha Corp 誘導型・ｍｒ型複合磁気ヘッドおよびその製造方法
JPH09106508A (ja) * 1995-10-09 1997-04-22 Yamaha Corp 誘導型薄膜磁気ヘッド

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