JP3050455B2 - 耐熱性の接着剤 - Google Patents

耐熱性の接着剤

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JP3050455B2
JP3050455B2 JP4161597A JP16159792A JP3050455B2 JP 3050455 B2 JP3050455 B2 JP 3050455B2 JP 4161597 A JP4161597 A JP 4161597A JP 16159792 A JP16159792 A JP 16159792A JP 3050455 B2 JP3050455 B2 JP 3050455B2
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/386Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive

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  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特定の可溶性のポリイ
ミドシロキサン、エポキシ・ポリオキシアルキレン変性
ポリシロキサン、エポキシ基を有する他のエポキシ化合
物、及びエポキシ硬化剤を含有してなる、接着時の作業
がよく、接着性能の改良された耐熱性の接着剤に関する
ものである。
【0002】本発明の耐熱性の接着剤は、例えば銅、ア
ルミニューム、鉄などの各種金属箔と、耐熱性フイル
ム、シートなどの耐熱性支持材料とを比較的低温で容易
に張り合わすことができ、接着・硬化後は高温において
も高い接着力を示す。したがって、例えば、フレキシブ
ル配線基板、TAB(Tape Automated
Bonding)用銅張基板の製造など電子部品材料の
接着に好適に使用することができる。
【0003】
【従来の技術】従来、フレキシブル配線基板、TAB用
銅張基板などの製造法として、例えば芳香族ポリイミド
フイルムと銅箔とをエポキシ樹脂やウレタン樹脂などの
接着剤で張り合わせる方法が知られている。しかしなが
ら、これら公知の接着剤を使用した各種の基板は、その
後のハンダ工程など高温に曝されると接着剤層のふくれ
や剥がれなどが生じやすく、製品の歩留り低下をまねく
という難点があり、耐熱性の高い接着剤の開発が望まれ
ている。
【0004】耐熱性接着剤としては、例えば、N,N’
−(4、4’−ジフェニルメタン)ビスマレイミドと、
4、4’−ジアミノジフェニルメタンとからなる予備縮
合物が提案されている。しかし、このイミド系接着剤は
脆いため、可撓性が要求されるような例えば、フレキシ
ブル配線基板用の接着剤としては適当でない。
【0005】前記の欠点を改良する方法として、例えば
特開昭62−232475号公報、特開昭62−235
382号公報などで、ベンゾフェノンテトラカルボン酸
と芳香族ジアミンとから得られる芳香族ポリイミドと、
ポリビスマレイミドとを混合した樹脂組成物から接着性
のドライフイルムを形成し、このフイルムをポリイミド
フイルムのような耐熱性フイルムと銅箔との間に挟み込
んで熱圧着して接着する方法が提案されている。
【0006】しかしながら、この接着性のドライフイル
ムは、その軟化点が180℃以上であり、接着を約26
0〜280℃程度の高温で、かつ約30〜60kg/c
程度の高い圧力下に行う必要があため、樹脂製の圧
着ロールを使用して連続的に耐熱性フイルムと銅箔とを
ラミネートすることが極めて困難であり、実用性の点で
大きな難点がある。
【0007】また、配線板など電子部品の表面を保護す
るためのコーティング材として、芳香族ポリイミドなど
にエポキシ樹脂を配合した樹脂組成物の溶液(ワニス)
が種々提案されている。
【0008】しかし、これらコーティング材は、その目
的が皮膜を形成させることにあるため、これを例えば、
銅箔と芳香族ポリイミドフイルムとを接着するための接
着剤として使用しようとすると、張り合わせ時の温度が
高くなったり、芳香族ポリイミドとエポキシ樹脂との相
溶性や溶媒との相溶性が低かったり、また接着・硬化後
の接着剤層が柔軟でなかったりするという問題点があ
り、接着剤としては使用できる物ではなかった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、従来の
接着剤の難点を改善できる耐熱性の接着剤を開発するこ
と、各種金属箔と耐熱性フイルム、シートなどの耐熱性
支持材料とを比較的低温で容易に張り合わすことがで
き、接着・硬化後は高温においても高い接着力を示す耐
熱性の接着剤を開発すること等を目的として、鋭意研究
を行った。
【0010】その結果、特定の可溶性のポリイミドシロ
キサンを使用し、これをエポキシ・ポリオキシアルキレ
ン変性ポリシロキサン、エポキシ基を有する他のエポキ
シ化合物、及びエポキシ硬化剤と組合せ、特定の組成割
合にした樹脂組成物を接着剤として使用すると、接着・
硬化後の接着剤層の樹脂マトリックス中に、独立した粒
子が分散して形成されており、接着剤層に均一に粒子径
0.1〜5μmの粒子が分散した海島構造ができている
ことを見出し、さらには前記目的を達成できる接着剤で
あることを知り、本発明に至った。
【0011】
【問題点を解決するための手段】本発明は、(a)3,
3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、
3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカルボ
ン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホ
ン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、
2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘ
キサフルオロプロパン、それら酸の二無水物、あるいは
それら酸のエステルからなる芳香族テトラカルボン酸成
分と、一般式I
【0012】HN−R−[Si(R)(R)−O
−]n−Si(R)(R)−R−NH
(I)
【0013】(ただし、式中のRは炭素数2〜6個の複
数のメチレン基またはフェニレン基からなる2価の炭化
水素残基を示し、R、R、R及びRは炭素数1
〜5個の低級アルキル基又はフェニル基を示し、nは3
〜60の整数を示す。)で示されるジアミノポリシロキ
サン10〜80モル%及び下記の一般式
【0014】HN−Bz−Bz−NH、HN−B
z−O−Bz−NH、 HN−Bz−CO−Bz−NH、HN−Bz−S
−Bz−NH、 HN−Bz−CH−Bz−NH、HN−Bz−
C(CH−Bz−NH、 HN−Bz−C(CF−Bz−NH、 HN−Bz−O−Bz−O−Bz−NH、HN−
Bz−Bz−Bz−NH、 HN−Bz−O−Bz−C−Bz−O−Bz−
NH、又は、 HN−Bz−O−Bz−C−Bz−O−Bz−
NH
【0015】(ただし、Bzはベンゼン環を示す。)で
示される芳香族ジアミン20〜90モル%からなるジア
ミン成分とから得られる可溶性の芳香族ポリイミドシロ
キサン100重量部、
【0016】(b)ポリシロキサンの末端又は側鎖に、
少なくともエポキシ基を1つ、ポリオキシアルキレン基
を1つ有するエポキシ・ポリオキシアルキレン変性ポリ
シロキサン(以下単に、エポキシ・ポリアルキレン変性
ポリシロキサンということもある)1〜60重量部、 (c)エポキシ基を有する(b)成分以外の他のエポキ
シ化合物15〜250重量部、及び (d)エポキシ硬化剤を含有してなる、耐熱性の接着剤
に関する。
【0017】本発明において、ポリイミドシロキサン
は、いずれの方法で得られたものを使用してもよいが、
できるだけ高分子量で、イミド化率が高く、有機極性溶
媒に少なくとも3重量%以上、特に5〜40%程度の高
濃度で均一に溶解させることができるものが、接着性能
のよい接着剤が得られるので好適である。
【0018】ポリイミドシロキサンのイミド化率は、9
0%以上、特には95%以上が好ましく、対数粘度(測
定濃度:0.5g/100ミリリットル、溶媒:N−メ
チル−2−ピロリドン、測定温度:30℃)が、0.0
5〜7、好ましくは0.1〜3であるものがよい。な
お、イミド化率の測定は、赤外線吸収スペクトル分析法
による。
【0019】また、ポリイミドシロキサンは、これをフ
イルムに成形した場合、その弾性率が、250キログラ
ム/ミリメートル平方以下、特に0.5〜100キログ
ラム/ミリメートル平方で、熱分解開始温度が250℃
以上、特に300℃以上で、二次転移温度がマイナス1
0℃以上、特にプラス10〜250℃程度であるものが
好適である。
【0020】本発明において使用するポリイミドシロキ
サンは、例えば、次の方法で得られる。 一般式(3)又は一般式(4)
【0021】
【化5】
【化6】
【0022】〔だだし、一般式(3)及び(4)中のA
は、一般式(1)のAの場合と同じで、一般式(4)中
のXは、水素原子又はメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等の炭素数1〜5の低級アルキル基を示
す。〕で示される芳香族テトラカルボン酸成分と、一般
式(5)
【0023】
【化7】
【0024】〔ただし、式中のR、R1、R2、R3、
R4及びnは、それぞれ一般式(1)の場合と同じ。〕
で示されるジアミノポリシロキサン、及び芳香族ジアミ
ンからなるジアミン成分とを、略等モル使用し、その際
反復単位が前記割合になるようにジアミノポリシロキサ
ンと芳香族ジアミンの使用割合を調整して、有機極性溶
媒中で15〜250℃で重合及びイミド化する方法。
【0025】ジアミン成分を分けて、まず芳香族テト
ラカルボン酸成分の過剰量とジアミノポリシロキサンと
を有機極性溶媒中で15〜250℃で重合、イミド化さ
せて、平均重合度1〜10程度の末端に酸又は酸無水物
基を有するイミドシロキサンオリゴマーを調製し、別に
芳香族テトラカルボン酸成分と過剰量の芳香族ジアミン
とを有機極性溶媒中で15〜250℃で重合、イミド化
させて、平均重合度1〜10程度の末端にアミノ基を有
するイミドオリゴマーを調製し、次いでこの両者を、酸
成分とジアミン成分とが略等モルになるように、またそ
の際反復単位が前記割合になるように混合して15〜6
0℃で反応させて、さらに130〜250℃に昇温して
イミド化し、ブロックタイプのポリイミドシロキサンを
得る方法。
【0026】
【0027】芳香族テトラカルボン酸成分の具体例とし
ては、例えば、3、3’,44’−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸、3、3’,44’−ジフェニルエーテル
テトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)スルホン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
メタン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)プロパン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパン、及びこれらの酸二無
水物、低級アルキルエステルなどを挙げることができ
る。
【0028】本発明において、ポリイミドシロキサンの
製造に使用されるジアミン成分の一般式(5)で示され
るジアミノポリシロキサンとしては、式中のRが炭素数
2〜6、好ましくは3〜5のメチレン基、又はフェニレ
ン基からなる二価の炭化水素残基で、R1〜R4がメチ
ル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチルなどの炭素数
1〜5の低級アルキル基、又はフェニル基であることが
好ましい。また、nは、一般には3〜60、さらには5
〜20、特に5〜15程度のものが使用される。R,R
1〜R4の炭素数が多すぎたり、nの数があまり大きす
ぎたりすると、耐熱性が悪くなったり、テトラカルボン
酸二無水物との反応性が低下したり、得られるポリイミ
ドシロキサンの分子量が低くなったり、有機溶媒に対す
る溶解性が低下したり、他の有機化合物との相溶性が悪
くなったりするので前記程度のものが適当である。ジア
ミノポリシロキサンの具体的化合物の例としてはω,
ω’−ビス(2−アミノエチル)ポリジメチルシロキサ
ン、ω,ω’−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチ
ルシロキサン、ω,ω’−ビス(4−アミノフェニル)
ポリジメチルシロキサン、ω,ω’−ビス(4−アミノ
−3−メチルフェニル)ポリジメチルシロキサン、ω,
ω’−ビス(3−アミノプロピル)ポリジフェニルシロ
キサンなどが挙げられる。
【0029】また、ジアミノポリシロキサンと共に使用
される芳香族ジアミンとしては、一般には、ベンゼン環
などの芳香族環を2個以上、特に2〜5個有する芳香族
ジアミン化合物、例えばビフェニル系、ジフェニルエー
テル系、ベンゾフェノン系、ジフェニルスルホン系、ジ
フェニルメタン系、2,2−ビス(フェニル)プロパン
などのジフェニルアルカン系、2,2−ビス(フエニ
ル)ヘキサフルオロプロパン系、ジ(フェノキシ)ベン
ゼン系、ジ(フェニル)ベンゼン系、ジ(フェノキシフ
ェニル)ヘキサフルオロプロパン系、ピス(フェノキシ
フェニル)プロパン系、ビス(フェノキシフェニル)ス
ルホン系などのジアミン化合物が挙げられ、これらは単
独で又複数併用して使用できる。
【0030】これら芳香族ジアミンの中でも、1,4−
ジアミノジフェニルエーテル、1,3−ジアミノジフェ
ニルエーテルなどのジフェニルエーテル系、1,3−ジ
(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4
−アミノフェノキシ)ベンゼンなどのジ(フェノキシ)
ベンゼン系、2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパンなどのビス(フェ
ノキシフェニル)プロパン系、ビス〔4−(3−アミノ
フェノキシ)フェニル〕スルホンなどのビス(フェノキ
シフェニル)スルホン系などの、芳香族環を2〜4個有
する芳香族ジアミン化合物が好適に使用される。
【0031】ジアミノポリシロキサンと芳香族ジアミン
とは、前者が10〜80モル%、好ましくは15〜70
モル%、さらに好ましくは20〜60モル%、後者が2
0〜90モル%、好ましくは30〜85モル%、さらに
好ましくは40〜80モル%の割合で使用される。どち
らかの成分が多すぎたり、少なすぎたりしてこれらの範
囲をはずれると、得られるポリイミドシロキサンの有機
溶媒に対する溶解性が低下したり、他の有機化合物との
相溶性が悪くなったり、弾性率が高くなるので適当でな
い。
【0032】ジアミノポリシロキサンと芳香族ジアミン
とを、前記の割合に調整して使用することによって、目
的とする反復単位を有するポリイミドシロキサンが得ら
れる。
【0033】また、ポリイミドシロキサンを得る際に使
用される有機極性溶媒中としては、アミド系溶媒、例え
ばN,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルア
セトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−
ジエチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドンな
ど,硫黄原子を含有する溶媒、例えばジメチルスルホキ
シド、ジエチルスルホキシド、ジメチルスルホン、ジエ
チルスルホン、ヘキサメチルスルホルアミドなど,フェ
ノール系溶媒、例えばクレゾール、フェノール、キシレ
ノールなど,酸素原子を分子内に有する溶媒、例えばア
セトン、メタノール、エタノール、エチレングリコー
ル、ジオキサン、テトラヒドロフランなど,その他ピリ
ジン、テラメチル尿素などを挙げることができる。これ
らは必要に応じてベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素系溶媒やソルベントナフサ、ベンゾニト
リルなど他の有機溶媒と併用してもよい。
【0034】本発明において使用されるエポキシ・ポリ
オキシアルキレン変性ポリシロキサンは、ポリシロキサ
ンの末端又は内部に、少なくともエポキシ基を1つ、ポ
リアルキレン基を1つ有するエポキシ・ポリオキシアル
キレン変性ポリシロキサンであればよいが、融点が90
℃以下のもの、さらには30℃以下で液状のものが好適
に使用される。具体的には、例えば、エポキシ・ポリオ
キシアルキレン変性シリコーンオイル(東レ・ダウコー
ニング・シリコーン株式会社製:SF−8421、SF
−8421EG、BY−16−845、BY−16−8
76、等)を挙げることができる。
【0035】エポキシ・ポリオキシアルキレン変性ポリ
シロキサンは、一般には末端に水酸基、カルボキシル
基、又はアミノ基を有する反応性ポリシロキサンオイル
と、ビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラ
ック型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹
脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂などのエポキシ
化合物及びポリオキシプロピレン、ポリオキシエチレン
などのポリアルキレンとを、80〜140℃程度の温度
で反応させることによって得られる。
【0036】本発明において、エポキシ・ポリオキシア
ルキレン変性ポリシロキサンは、ポリイミドシロキサン
100重量部に対して、1〜60重量部、好ましくは
1.5〜15重量部使用される。エポキシ・ポリオキシ
アルキレン変性ポリシロキサンの使用量があまり多すぎ
たり、少なすぎたりすると、他の成分との相溶性が悪く
なり、均一な溶液にならなかったり、効果が現れなかっ
たりするので適当でない。
【0037】本発明において、エポキシ基を有する他の
エポキシ化合物としては、1個以上のエポキシ基を有す
るエポキシ化合物、例えばビスフェノールA型やビスフ
ェノールF型のエポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式
会社製:エピコート807、828等)、フェノールノ
ボラック型エポキシ樹脂、アルキル多価フエノール型エ
ポキシ樹脂(日本化薬株式会社製:RE701等)、多
官能型エポキシ樹脂(住友化学株式会社製:ELM−1
00等)、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシ
ジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポ
キシ樹脂(三菱瓦斯化学株式会社製:エトラッドX等)
などが単独で又複数で使用される。エポキシ化合物は、
その融点が高すぎると、未硬化状態の接着剤の軟化点が
高くなるので、融点が90℃以下、好ましくは0〜80
℃のもの、さらには30℃以下の温度で液状のものが好
適である。
【0038】本発明において、エポキシ基を有する他の
エポキシ化合物の使用量は、ポリイミドシロキサン10
0重量部に対して、15〜250重量部、好ましくは2
0〜150重量部である。使用量が、あまり多すぎた
り、少なすぎると、未硬化状態の接着剤がべたついて硬
化後の柔軟性が欠けたり、未硬化状態の接着剤の軟化点
が高すぎて硬化後の接着特性が悪くなる。
【0039】また本発明において、エポキシ硬化剤とし
ては、それ自体公知の硬化剤、例えばイミダゾール類、
第3級アミン類、トリフェニルフォスフィン類などの硬
化触媒、ジシアンジアミド類、ヒドラジン類、芳香族ジ
アミン類、水酸基を有するフェノールノボラック型硬化
剤などの重付加型硬化剤、有機過酸化物などを挙げるこ
とができ、これらは公知の硬化促進剤とともに使用する
ことができる。エポキシ硬化剤の使用量は、硬化剤の種
類、エポキシ基を有する他のエポキシ化合物の使用量、
エポキシ・ポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン
使用量などによって異なるが、一般には、エポキシ・ポ
リオキシアルキレン変性ポリシロキサン及びエポキシ基
を有する他のエポキシ化合物100重量部に対して、
0.01〜110重量部、さらには0.03〜100重
量部の範囲から適宜選択使用される。
【0040】本発明の耐熱性の接着剤は、前記したポリ
イミドシロキサン、エポキシ・ポリオキシアルキレン変
性ポリシロキサン、エポキシ基を有する他のエポキシ化
合物、及びエポキシ硬化剤の各所定量を均一に、攪拌・
混合することによって容易に得ることができる。
【0041】混合する際、適当な有機極性溶媒中で混合
し、耐熱性接着剤の溶液組成物にすることができる。溶
媒に溶解させた溶液組成物にするにあたっては、混合後
行ってもよい。有機極性溶媒としては、前記ポリイミド
シロキサンを得る際に使用できる有機極性溶媒、例えば
ジオキサン、テトラヒドロフランなどの酸素原子を分子
内に有する溶媒が好適に使用される。
【0042】溶液組成物には、二酸化珪素、アルミナ、
二酸化チタンなどの微細な無機充填剤を添加してもよ
い。添加する際の量としては、ポリイミドシロキサン1
00重量部に対して、1〜20重量部が適当である。
【0043】溶液組成物の濃度は、3〜50重量%、好
ましくは5〜40重量%が適当であり、溶液粘度(30
℃)は、約0.1〜10000ポイズ、好ましくは0.
2〜5000ポイズ、特には0.3〜1000ポイズ程
度が、作業性の点で適当である。
【0044】本発明の耐熱性の接着剤は、未硬化の樹脂
成分のみの組成物の軟化点(熱板上で軟化が開始する温
度)、換言すると硬化前の接着剤の軟化点が、150℃
以下、好ましくは140℃以下、特に100℃以下程度
であることが好ましい。
【0045】本発明の耐熱性の接着剤は、これをそのま
ま被接着物に塗布する形態で使用しても、予めシート状
物に成形し、被接着物にはさみ込む形態で使用してもよ
い。シート状物の形成は、例えば耐熱性の接着剤の溶液
組成物を、金属箔や芳香族ポリイミドフイルムなどの耐
熱性フイルム、ポリエステル、ポリエチレンなどの熱可
塑性フイルムの面上に塗布し、塗布層の接着剤が硬化し
ない温度で乾燥して溶媒を1重量%以下、特には0.5
重量%以下にまで除去し、箔やフイルムから接着剤を剥
がして取り出す方法で、未硬化状態の接着剤の薄膜シー
ト(厚さ:約1〜200μm)にすることができる。乾
燥温度、時間は、80〜200℃、20秒〜100分の
範囲から適宜選択される。
【0046】前記接着剤の薄膜シートは、適度な柔軟性
を有してをり、例えば、紙管などに巻き付けたり、打ち
抜き法などでの穴あけ加工したりすることができる。ま
た、前記箔やフイルムから取り出さずに、そのまま接着
剤付の箔やフイルムとして使用できる。さらには接着剤
層が形成された箔やフイルムを、転写用の金属箔、耐熱
性フイルムなどと重ね合わせ、これを一対の加熱ロール
に通すことによって、金属箔や耐熱性フイルム上に転写
し、接着剤付の金属箔や耐熱性フイルムを得ることもで
きる。
【0047】本発明の耐熱性の接着剤を使用して接着す
る際の加熱・硬化温度は、140〜300℃、好ましく
は150〜280℃から適宜選択される。
【0048】
【作用】本発明の耐熱性の接着剤を使用し、接着・硬化
後の接着剤層を透過型電子顕微鏡で観察すると(図
1)、接着剤層の樹脂マトリックス中に、粒径0.1〜
5μmの独立した粒子が分散して形成され、接着剤層が
海島構造を有しているのが、観察される。なぜこのよう
な粒子が形成されるのか、またこの分散粒子の成分も十
分明らかではないが、主成分はエポキシ・ポリオキシア
ルキレン変性シリコンではないかと推察される。
【0049】本発明の耐熱性の接着剤において、硬化後
にこのようなモルホロジーが形成されることによって、
耐熱性と柔軟性のバランスが優れ、接着性の安定性に大
きく寄与している。このようなモルホロジーは、剥離テ
ストにおいて破壊モードを凝集破壊にする傾向があり、
接着性能を優れたものにしている。分散粒子の粒径は、
これが過度に大きいと、接着剤層の強度が弱くなった
り、接着面が不均一になったりする。
【0050】
【発明の効果】本発明の耐熱性の接着剤は、各種金属箔
と耐熱性フイルム、シートなどの耐熱性支持材料とを比
較的低温で容易に張り合わすことができ、接着・硬化後
は高温においても高い接着力を示す。また硬化後、カー
ルやふくれ、剥離などが生じ難く、適度の柔軟性(可撓
性)を有している。本発明の耐熱性の接着剤は、作業性
が良く、芳香族ポリイミドフイルム、ポリアミドフイル
ム、ポリエーテルエーテルケトンフイルム、ポリエーテ
ルスルホンフイルムなどの耐熱性フイルムと、銅、アル
ミニュウム、鉄などの金属箔とを、接着するための接着
剤として好適に使用でき、TAB用銅張基板、フレキシ
ブル配線基板など積層体の製造に適している。
【0051】本発明の耐熱性の接着剤を使用した積層体
は、例えば接着剤付の耐熱性フイルムと金属箔とを、あ
るいは耐熱性フイルムと接着剤の薄膜シートと金属箔と
を、加圧下にラミネート(圧着・張り合わせ)し、次い
でこれを接着剤の硬化温度で加熱硬化することによっ
て、トラブルなく、連続的に容易に製造できる。圧着・
張り合わせの際の温度及び圧力などは接着剤の組成、使
用条件などによっても異なるが、一般には80〜200
℃、好ましくは100〜180℃の温度、0.2〜8k
g/cm圧力から、また加熱硬化の際の温度及び時間
は、140〜250℃、好ましくは150〜230℃の
温度、30分〜40時間、好ましくは1〜30時間から
適宜選択される。
【0052】
【実施例】以下、参考例、実施例及び比較例を示し、本
発明を説明する。各例において測定、評価は次の方法で
行った。
【0053】ポリイミドシロキサンの対数粘度(η)
は、樹脂成分濃度が0.5g/100ミリリットル溶媒
になるように、ポリイミドシロキサンをN−メチルー2
−ピロリドンに均一に溶解し、キャノンフェンスケ型粘
度計を使ってその溶液粘度およびN−メチル−2−ピロ
リドンの粘度を30℃で測定し、下記式で算出。
【0054】
【式1】
【0055】ポリイミドシロキサンのイミド化率(%)
は、赤外線吸収スペクトル分析法で測定。
【0056】ポリイミドシロキサンの軟化温度(℃)
は、粘弾性試験における粘弾性ピークのTanδ(高温
側)より求めた値。
【0057】弾性率(kg/mm)は、インテスコ社
製の引張試験機を使用し、剥離速度5mm/分で測定。
【0058】接着強度(kg/cm)は、インテスコ社
製の引張り試験機を使用し、剥離速度50mm/分と
し、90°の剥離強度(接着強度)は25℃で、180
°の剥離強度(接着強度)は180℃で剥離試験を行い
測定。
【0059】作業性(30℃)の評価は、タック性(保
護用フイルムとのタック性)、パンチング性、加熱時の
作業性を、優、良、普通、不良の4段階で総合評価。◎
は優、○は良、△は普通、×は不良を示す。
【0060】〔ポリイミドシロキサンの製造〕 参考例1 3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸二無水物(BTDA),0.05モル、 ω,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシ
ロキサン(信越シリコン株式会社製、X−22−161
AS、n:9),0.02モル、 2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニ
ル〕プロパン(BAPP),0.03モル N−メチル−2−ピロリドン(NMP),160g、 を容量500ミリリットルのガラス製フラスコに仕込
み、窒素気流中、50℃で2時間攪拌してアミック酸を
生成させ、次いで反応液を昇温して200℃で3時間攪
拌し、末端に無水基を有するポリイミドシロキサンを製
造した。またこのポリイミドシロキサンの溶液から、溶
液流延法でポリイミドシロキサンのフイルム(厚さ:約
50μm)を形成させた。このポリイミドシロキサン
は、対数粘度(η)0.40、イミド化率95%以上
で、フイルムは弾性率51kg/mm、軟化温度17
5℃であった。
【0061】参考例2 3,3’,4,4’−ジフェニルエーテルテトラカル
ボン酸二無水物(BEDA),0.05モル ω,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシ
ロキサン(信越シリコン株式会社製、X−22−161
AS、n:9),0.025モル、 BAPP,0.025モル NMP,160g、 を使用したほかは、参考例1と同様にしてポリイミドシ
ロキサンを製造し、ポリイミドシロキサンのフイルムを
形成させた。このポリイミドシロキサンは、対数粘度
(η)0.38、イミド化率95%以上で、フイルムは
弾性率21kg/mm、軟化温度109℃であった。
【0062】参考例3 3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカル
ボン酸二無水物(DS),0.05モル ω,ω−ビス(3−アミノプロピル)ポリジメチルシ
ロキサン(信越シリコン株式会社製、X−22−161
AS、n:9),0.02モル、 BAPP,0.03モル NMP,160g、 を使用したほかは、参考例1と同様にしてポリイミドシ
ロキサンを製造し、ポリイミドシロキサンのフイルムを
形成させた。このポリイミドシロキサンは、対数粘度
(η)0.36、イミド化率95%以上で、フイルムは
弾性率48kg/mm、軟化温度168℃であった。
【0063】実施例1 〔耐熱性の接着剤の製造〕 参考例1で製造したポリイミドシロキサン,50g、エポキシ・ポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン
(東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製:SF
−8421EG),10g、 エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製、商品
名:エピコート807)30g、 フエノールノボラック型の重付加型エポキシ硬化剤
(明和化成株式会社製、商品名:H−1),20g ジオキサン185g、 を容量500ミリリットルのガラス製フラスコに仕込
み、室温(25℃)で、2時間攪拌して、ジオキサンに
均一に溶解させた耐熱性の接着剤の溶液組成物(25℃
の粘度:0.6ポイズ)を調製した。この溶液組成物
は、1週間室温に放置しても、均一な溶液の状態・粘度
を保持していた。
【0064】〔耐熱性の接着剤付フイルムの製造〕 前記耐熱性の接着剤の溶液組成物を、ポリイミドフイル
ム(宇部興産株式会社製、商品名:UPILEX−S、
厚さ75μm)上に、ドクターブレードで125μmの
厚さで塗布し、塗布層を50℃で30分間、さらに80
℃で30分間加熱乾燥して、ポリイミドフイルム上に、
厚さ約20μmの接着剤層(未硬化、軟化点50℃)を
有する耐熱性の接着剤付ポリイミドフイルムを製造し
た。
【0065】〔耐熱性の接着剤による積層体の製造〕 耐熱性の接着剤付ポリイミドフイルムと片面粗化銅箔
(35μm)とを重ね合わせ、160℃に加熱した一対
のラミネートロール間に圧力(3kg/cm)を加え
ながら通して圧着し、これを100℃で1時間、120
℃で1時間、140℃で1時間、さらに160℃で6時
間加熱処理して接着剤を硬化させ、積層体を得た。接着
強度(kg/cm)を第1表に示す。また、硬化後の積
層体から接着剤層の切片を切り出して透過型電子顕微鏡
で観察した結果、接着剤層は図1(×9000)の写真
に示すように粒径1〜5mm粒子が分散した海島構造を
有していた。
【0066】実施例2〜実施例5 参考例1〜参考例3で製造したポリイミドシロキサン、
第3表に記載のエポキシ・ポリオキシアルキレン変性ポ
リシロキサン、エポキシ化合物及びエポキシ硬化剤を使
用したほかは、実施例1と同様にして、耐熱性の接着剤
の溶液組成物、耐熱性の接着剤付フイルムを製造し、同
様にして積層体を得た。接着強度(kg/cm)などの
測定結果を第1表に示す。透過型電子顕微鏡で観察した
結果、接着剤層はいずれの実施例においても実施例1と
同様の海島構造を有していた。また、接着剤付フイルム
の接着剤層の軟化点は、実施例2では45℃、実施例3
では40℃、実施例4では40℃、実施例5では50℃
であった。
【0067】なお、第1表において、エポキシ・ポリオ
キシアルキレン変性ポリシロキサンの種類SF−842
1EG、BY−16−845、BY−16−876は、
いずれも東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社製
エポキシ・ポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン
の商品名、エポキシ化合物の種類エピコート807、8
28は油化シェルエポキシ株式会社製のビスフェノール
A型又はビスフェノールF型エポキシ樹脂の商品名で、
RE701は日本化薬株式会社製のアルキル多価フェノ
ール型エポキシ樹脂の商品名、ELM−100は住友化
学株式会社製の多官能型エポキシ樹脂の商品名、またエ
ポキシ硬化剤の種類H−1、H−5は明和化成株式会社
製のフェノールノボラック型の重付加型エポキシ硬化剤
の商品名を示す。
【0068】比較例1〜2 実施例1と同様の操作で、第1表に記載の組成の接着剤
の溶液組成物を得、接着剤付フイルムを製造し、同様に
して積層体を得た。しかしながら、比較例1〜2におい
ては、接着性が乏しく、簡単に剥がれるため、積層体の
接着強度は測定できなかった。また、実施例1と同様
に、硬化後の積層体から接着剤層の切片を切り出して透
過型電子顕微鏡で観察したが、接着剤層には粒子が分散
した海島構造は認められなかった。
【図面の簡単な説明】
【図1】接着剤層に形成された粒子構造を示す透過型電
子顕微鏡写真である。
【表1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−7384(JP,A) 特開 平3−14890(JP,A) 特開 平2−158681(JP,A) 特許2943953(JP,B2) 特許2952868(JP,B2) 特許2998865(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C09J 1/00 - 201/10 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)3,3’,4,4’−ベンゾフェノ
    ンテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ジフェニル
    エーテルテトラカルボン酸、ビス(3,4−ジカルボキ
    シフェニル)スルホン、ビス(3,4−ジカルボキシフ
    ェニル)メタン、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシ
    フェニル)プロパン、2,2−ビス(3,4−ジカルボ
    キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、それら酸の二
    無水物、あるいはそれら酸のエステルからなる芳香族テ
    トラカルボン酸成分と、一般式IHN−R−[Si
    (R)(R)−O−]n−Si(R)(R)−
    R−NH
    (I) (ただし、式中のRは炭素数2〜6個の複数のメチレン
    基またはフェニレン基からなる2価の炭化水素残基を示
    し、R、R、R及びRは炭素数1〜5個の低級
    アルキル基又はフェニル基を示し、nは3〜60の整数
    を示す。)で示されるジアミノポリシロキサン10〜8
    0モル%及び下記の一般式 HN−Bz−Bz−NH、HN−Bz−O−Bz
    −NH、 HN−Bz−CO−Bz−NH、HN−Bz−S
    −Bz−NH、 HN−Bz−CH−Bz−NH、HN−Bz−
    C(CH−Bz−NH、 HN−Bz−C(CF−Bz−NH、 HN−Bz−O−Bz−O−Bz−NH、HN−
    Bz−Bz−Bz−NH、 HN−Bz−O−Bz−C−Bz−O−Bz−
    NH、又は、 HN−Bz−O−Bz−C−Bz−O−Bz−
    NH (ただし、Bzはベンゼン環を示す。)で示される芳香
    族ジアミン20〜90モル%からなるジアミン成分とか
    ら得られる可溶性の芳香族ポリイミドシロキサン100
    重量部、 (b)ポリシロキサンの末端又は側鎖に、少なくともエ
    ポキシ基を1つ、ポリオキシアルキレン基を1つ有する
    エポキシ・ポリオキシアルキレン変性ポリシロキサン1
    〜60重量部、 (c)エポキシ基を有する(b)成分以外の他のエポキ
    シ化合物15〜250重量部、及び (d)エポキシ硬化剤を含有してなる、耐熱性の接着
    剤。
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