JP3042461B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP3042461B2
JP3042461B2 JP9264296A JP26429697A JP3042461B2 JP 3042461 B2 JP3042461 B2 JP 3042461B2 JP 9264296 A JP9264296 A JP 9264296A JP 26429697 A JP26429697 A JP 26429697A JP 3042461 B2 JP3042461 B2 JP 3042461B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路に
関し、出力段がバイポーラトランジスタおよびNチヤネ
ル型トランジスタ(以下、NMOSという)で構成され
るBiNMOS論理回路、特に論理“H”の出力レベル
を増加するBiNMOS論理回路に関する。
【0002】
【従来の技術】BiNMOS論理回路では、出力のプル
アップにバイポーラトランジスタのみしか用いない場
合、論理“H”の出力レベルは電源電圧VDDよりバイ
ポーラトランジスタのべ−ス−エミッタ間電圧Vf(約
0.7V)だけ低くなる。一方、MOSトランジスタの
微細化が進み、しきい値電圧Vtが0.5Vや0.4V
低下して、|Vt|<|Vf|となると、次段のCMO
S論理回路またはBiNMOS論理回路のリーク電流は
無視できないものとなる。このため、BiNMOS論理
回路の論理“H”の出力レベルを増加し、リーク電流を
低減する技術が重要になってきた。
【0003】従来技術によるBiNMOS論理回路の例
が、図5(特開平5−152931号公報)、および図
6(特開平4−13308号公報)に示されており、以
下これらについて説明する。
【0004】図5は特開平5−152931号公報で開
示された第1の従来例のBiNMOS論理回路の回路構
成図であり、図中符号51、57はPMOSトランジス
タ、53、54はNMOSトランジスタ、55はNPN
バイポーラトランジスタ、INは入力端子、OUTは出
力端子、VDDは電源電圧、GNDは接地電圧である。
【0005】図5のBiNMOS論理回路は、入力端子
INの信号を反転して出力端子OUTに出力するインバ
ータ回路であり、入力段のPチャネル型MOSトランジ
スタ(以下、PMOSという)51およびNMOSトラ
ンジスタ(以下、NMOSという)53と、出力段のP
MOS57、NMOS54、およびNPN型の出力バイ
ポーラトランジスタ55とを備えている。入力端子IN
は、PMOS51、57およびNMOS53、54の各
ゲートに接続され、そのPMOS51のソースが電源電
圧VDDに、ドレインがNMOS53のドレインおよび
出力トランジスタ55のべ一スにそれぞれ接続されてい
る。出力トランジスタ55は、コレクタが電源電圧VD
Dに、エミッタが出力端子OUTにそれぞれ接続されて
いる。出力端子OUTには、NMOS54のドレインお
よびPMOS57のドレインがそれぞれ接続され、NM
OS54のソースは接地電圧GNDに、PMOS57の
ソースは電源電圧VDDにそれぞれ接続されている。
【0006】図示の回路では、入力端子INに“H”が
入力されると、PMOS51、57がオフし、NMOS
53、NMOS54がオンする。NMOS53がオンす
ると、出力トランジスタ55のベース電荷が引き抜か
れ、その出力トランジスタ55がオフする。また、
“H”の出力によってNMOS54がオンすると、その
NMOS54を介して出力端子の電荷が接地電圧GND
側ヘ放電され、出力端子OUTが“L”となる。
【0007】一方、入力端子に“L”が入力されると、
NMOS53、54がオフすると共に、PMOS51、
57がオンする。PMOS51がオンすると、そのPM
OS51のドレイン電流がすべて出力トランジスタ55
のべースヘ供給され、その出力トランジスタ55によっ
て増幅されたエミッタ電流が、出力端子OUTを最初に
支配的に充電する。一方、“L”が入力されると同時に
オンしたPMOS57も、出力レベルが電源電圧VDD
より低いときはソース−ドレイン間の電位差が確保さ
れ、そのPMOS57のドレイン電流も充電電流とな
る。
【0008】図6は特開平4−13308号公報で開示
された第2の従来例のBiNMOS論理回路の回路構成
図であり、図中符号61はPMOSトランジスタ、6
3、64はNMOSトランジスタ、65はNPNバイポ
ーラトランジスタ、68はプルアップ用抵抗、INは入
力端子、OUTは出力端子、VDDは電源電圧、GND
は接地電圧である。
【0009】図6に示すBiNMOS論理回路は、入力
端子INの信号を反転して出力端子OUTに出力するイ
ンバータ回路であり、入力段のPMOS61およびNM
OS63と、出力段のNMOS64およびNPN型の出
力トランジスタ65、プルアップ用抵抗68とを備えて
いる。入力端子INは、PMOS61およびNMOS6
3、64の各ゲートに接続され、そのPMOS61のソ
ースが電源電圧VDDに、ドレインがNMOS63のド
レインおよび出力トランジスタ65のべ−スにそれぞれ
接続されている。出力トランジスタ65は、コレクタが
電源電圧VDDに、エミッタが出力端子OUTにそれぞ
れ接続されている。出力端子OUTには、NMOS64
のドレインが接続され、NMOS64のソースは接地電
圧GNDに接続されている。さらに、プルアップ用抵抗
68が出力トランジスタ65のべ一スと出力端子OUT
の間に接続されている。
【0010】図示の回路では、入力端子INに“H”が
入力されると、PMOS61がオフし、NMOS63、
NMOS64がオンする。NMOS63がオンすると、
出力トランジスタ65のぺ一ス電荷が引き抜かれ、その
出力トランジスタ65がオフし、同時に出力端子OUT
の電荷を接地電圧GND側に引き抜く。また、“H”の
出力によつてNMOS64がオンすると、そのNMOS
64を介して出力端子の電荷が接地電圧GND側ヘ放電
され、出力端子OUTが“L”となる。
【0011】一方、入力端子に“L”が入力されると、
NMOS63、64がオフすると共に、PMOS61が
オンする。PMOS61がオンすると、そのPMOS6
1のドレイン電流の一部はプルアップ用抵抗68に、一
部は出力トランジスタ65のべ−スヘ供給され、その出
力トランジスタ65によって増幅されたエミッタ電流
が、出力端子OUTを最初に支配的に充電する。その
後、出力端子OUTの電圧が電源電圧VDD−ベース−
エミッタ間電圧Vfより大きくなると、プルアップ用抵
抗68を介しての電流が支配的となり、出力レベルは電
源電圧までプルアップされる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】従来のBiNMOS論
理回路では、リーク電流の低減のために、論理“H”の
出力レベルを電源電圧VDDまでフルスゥイングさせて
いる。しかしながら、第1の従来例では、入力端子をP
MOS51のゲートに接続しているため、入力端子全体
の容量が増加し、出力波形が鈍る。また、第2の従来例
では、出力トランジスタ65のべ−スとエミッタ間に並
列に抵抗が入っているため、出力トランジスタのべ−ス
電流はこの分だけ減少する。エミッタ電流も同様に減少
するので電流駆動能力は低下し、出力波形は鈍る。
【0013】本発明の目的は、出力波形の鈍りが抑制さ
れ、かつリーク電流の低減が可能なBiNMOS論理回
路を有する半導体集積回路を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
は、第1の電位と出力端子間に接続されたパイポーラ型
の出力トランジスタと、出力端子と第2の電位との間に
接続され、入力信号によってゲート制御される少なくと
も1個の第1のNチャネル型の出力MOSトランジスタ
と、第1の電位と出力トランジスタのべ−スとの間に接
続され、入力信号に基づきその出力トランジスタのべ−
ス電位を制御する少なくとも1個の第2のトランジスタ
とを備え、第1の電位と出力端子との間に接続され、出
力トランジスタのべ一スの電位によってゲート制御され
る少なくとも1個の第3のNチャネル型の出力MOSト
ランジスタが設けられたBiNMOS論理回路を有す
る。
【0015】また、BiNMOS論理回路が、1個の入
力端子と、1個のバイポーラ型の出力トランジスタと、
1個の第1のNチャネル型の出力MOSトランジスタ
と、1個の第2のトランジスタと、1個の第3のNチャ
ネル型の出力MOSトランジスタとを備えたインバータ
回路であってもよく、2個の入力端子と、1個のバイポ
ーラ型の出力トランジスタと、直列に接続した2個の第
1のNチャネル型の出力MOSトランジスタと、並列に
接続しゲートが2個の入力端子のそれぞれに接続した2
個の第2のトランジスタと、1個の第3のNチャネル型
の出力MOSトランジスタとを備えた2入力NAND回
路であってもよく、2個の入力端子と、1個のバイポー
ラ型の出力トランジスタと、並列に接続しゲートが2個
の入力端子のそれぞれに接続した2個の第1のNチャネ
ル型の出力MOSトランジスタと、直列に接続しゲート
が2個の入力端子のそれぞれに接続した2個の第2のト
ランジスタと、1個の第3のNチャネル型の出力MOS
トランジスタとを備えた2入力NOR回路であってもよ
い。
【0016】さらに、BiNMOS論理回路が、出力ト
ランジスタのベースと、第2の電位間に接続され、入力
信号によってゲート制御される少なくとも1個の第4の
Nチャネル型の出力MOSトランジスタを備えていても
よく、BiNMOS論理回路の第3のNチャネル型の出
力MOSトランジスタのソースとウエルが同一電圧であ
ってもよい。
【0017】BiNMOS論理回路のリーク電流は、論
理“H”の出力レベルが電源電圧VDD−しきい値電圧
Vtより低くなると、2次関数的に増加する。一方、出
力レベルが電源電圧VDD−しきい値電圧Vtから電源
電圧VDDまでは、これに比ベ、リーク電流の変化量は
比軟的少ない。
【0018】本方式では、BiNMOS論理回路の出力
波形の鈍りを抑制しつつ、リーク電流を低減するため
に、上述の構成回路を設けることによって論理“H”の
出力レベルをフルスゥイングさせるのではなく、電源電
圧VDD−しきい値電圧Vtまで上げることを特徴とす
る。また、出力のプルアップにバイポーラトランジスタ
およびPMOSよりも電流駆動能力のあるNMOSを用
いることで、出力波形の鈍りが抑制される。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態の半導
体集積回路のBiNMOS論理回路について図面を参照
して説明する。図1は本発明の第1の実施の形態のBi
NMOS論理回路の一つであるインバータ回路の回路構
成図である。図中符号11はPMOSトランジスタ、1
3、14、16はNMOSトランジスタ、15はNPN
バイポーラトランジスタ、INは入力端子、OUTは出
力端子、VDDは電源電圧、GNDは接地電圧である。
【0020】このインバータ回路では、従来のBiNM
OSのインバータ論理回略の論理“H”の出力レベルと
出力波形を改善するために、NMOS16を新たに設け
ている。
【0021】図1のように本発明の第1の実施の形態の
BiNMOS論理回路の一つであるインバータ回路では
入力段のPMOS11およびNMOS13と、出力段の
NMOS14、NMOS16およびNPN型の出力バイ
ポーラトランジスタ15とを備えている。入力端子IN
は、PMOS11およびNMOS13、14の各ゲート
に接続され、そのPMOS11のソースが電源電圧VD
Dに、ドレインがNMOS13のドレインおよび出力ト
ランジスタ15のべースにそれぞれ接続されている。出
力トランジスタ15は、コレクタが電源電圧VDDに、
エミッタが出力端子OUTにそれぞれ接続されている。
出力端子OUTには、NMOS14のドレインが接続さ
れ、NMOS14のソースは接地電圧GNDに接統され
ている。NMOS16はゲートが出力トランジスタのべ
−スに、ドレインが電源電圧VDDに、ソースが出力端
子OUTに接続されている。
【0022】このインバータ回路は、入力端子INに
“H”が入力されると、PMOS11、NMOS16が
オフし、NMOS13、NMOS14がオンする。NM
OS13がオンすると、出力トランジスタ15のべ−ス
電荷が引き抜かれ、その出力トランジスタ15がオフす
る。また、“H”の出力によつてNMOS14がオンす
ると、そのNMOS14を介して出力端子の電荷が接地
電圧GND側ヘ放電され、出力端子OUTが“L”とな
る。
【0023】一方、入力端子に“L”が入力されると、
NMOS13、14がオフすると共に、PMOS11が
オンする。PMOS11がオンすると、そのPMOS1
1のドレイン電流がNMOS16を駆動すると同時に、
出力トランジスタ15のべ一スヘ供給され、その出力ト
ランジスタ15によって増幅されたエミッタ電流が、出
力端子OUTを最初に支配的に充電する。その後、出力
端子OUTの電圧が電源電圧VDD−ベース−エミッタ
間電圧Vfより大きくなると、NMOS16を介しての
電流が支配的となり、出力レベルは電源電圧VDD−N
MOS16のしきい値電圧Vtnまで増加される。
【0024】実際には、|Vtn|は基板バイアス効果
によって、PMOSのしきい値電圧|Vtp|より大き
くなる場合がある。このときは、NMOS16のウェル
の電位を出力端子OUTに接続することで、基板バイア
ス効果を抑制し、出力レベルを増加させることが可能で
ある。
【0025】図4はBiNMOS論理回路の入力波形と
従来例の出力波形と本発明の実施の形態の出力波形を示
す波形図であり、図中符号Aは入力波形、Bは従来例の
出力波形、Cは本発明の実施の形態の出力波形である。
本発明の実施の形態の方式では、出力波形の鈍りを抑制
しながら、論理“H”の出力をVDD−|Vtp|近く
までプルアップするので、リーク電流の低減が可能であ
る。
【0026】なお、本実施の形態のNMOSトランジス
タ13は省略することができる。
【0027】次に本発明の第2の実施の形態の半導体集
積回路のBiNMOS論理回路について図面を参照して
説明する。図2は本発明の第2の実施の形態のBiNM
OS論理回路の一つである2入力NAND回路の回路構
成図である。図中符号21−1、21−2はPMOSト
ランジスタ、23−1、23−2、24−1、24−
2、26はNMOSトランジスタ、25はNPNバイポ
ーラトランジスタ、INは入力端子、OUTは出力端
子、VDDは電源電圧、GNDは接地電圧である。
【0028】この2入力NAND回路では、図1の入力
端子INに代えて、2個の入力端子IN1、IN2が設
けられると共に、PMOS11に代えて並列接続のPM
OS21−1、21−2が、NMOS13に代えて直列
接続のNMOS23−1、23−2が、NMOS14に
代えて直列接続のNMOS24−1、24−2がそれぞ
れ設けられている。
【0029】電源電圧VDDと出力トランジスタ25の
べ−スとの間に、PMOS21−1、21−2が並列に
接続され、これらのPMOS21−1、21−2の各ゲ
ートが入力端子IN1、IN2にそれぞれ接続されてい
る。入力端子IN1には、NMOS23−1、24−1
の各ゲートがそれぞれ接続され、さらに入力端子IN2
には、NMOS23−2、24−2の各ゲートが接続さ
れている。NMOS23−1、23−2は、出力トラン
ジスタ25のべ−スと接地電圧GNDに直列に接続され
ている。NMOS24−1、NMOS24−2は、出力
トランジスタ25のエミッタと接地電圧GNDとに直列
に接続されている。NMOS26はゲートが出力トラン
ジスタ25のべ一スに、ドレインが電源電圧VDDに、
ソースが出力端子OUTに接続されている。
【0030】この2入力NAND回路では、入力端子I
N1、入力端子IN2の少なくとも1つに“L”が入力
されると、PMOS21−1、21−2の少なくとも一
つがオンし、出力端子OUTが“H”レベルとなる。そ
して、出力レベルは、出力トランジスタ25とNMOS
26によって、電源電圧VDD−ベース−エミッタ間電
圧Vfまでプルアップされ、その後、NMOS26によ
って、電源電圧VDD−NMOS26のしきい値電圧V
tnまでプルアップされる。
【0031】実際には、|Vtn|は基板バイアス効果
によって、|Vtp|より大きくなる場合がある。この
ときは、NMOS26のウエルの電位を出力端子OUT
に接続することで、基板バイアス効果を抑制し、出力レ
ベルを増加させることが可能である。
【0032】入力波形と従来例の出力波形と本発明の実
施の形態の出力波形との関係は第1の実施の形態で説明
した図4と同じであり、出力波形の鈍りを抑制しなが
ら、論理“H”の出力をVDD−|Vtp|近くまでプ
ルアップするので、リーク電流の低減が可能である。
【0033】本実施の形態では、2入力NAND回路に
ついて説明したが、同様に3入力以上のNAND回路に
ついても適用可能である。
【0034】次に本発明の第3の実施の形態の半導体集
積回路のBiNMOS論理回路について図面を参照して
説明する。図3は本発明の第3の実施の形態のBiNM
OS論理回路の一つである2入力NOR回路の回路構成
図である。図中符号31−1、31−2はPMOSトラ
ンジスタ、33−1、33−2、34−1、34−2、
36はNMOSトランジスタ、35はNPNバイポーラ
トランジスタ、INは入力端子、OUTは出力端子、V
DDは電源電圧、GNDは接地電圧である。
【0035】この2入力NOR回路では、図1の入力端
子INに代えて、2個の入力端子IN1、IN2が設け
られると共に、PMOS11に代えて直列接続のPMO
S31−1、31−2が、NMOS13に代えて並列接
続のNMOS33−1、33−2が、NMOS14に代
えて並列接続のNMOS34−1、34−2がそれぞれ
設けられている。
【0036】電源電圧VDDと出力トランジスタ35の
べ−スとの間に、PMOS31−1、31−2が直列に
接続され、これらのPMOS31−1、31−2の各ゲ
ートが入力端子IN1、IN2にそれぞれ接続されてい
る。入力端子IN1には、NMOS33−1、34−1
の各ゲートがそれぞれ接続され、さらに入力端子IN2
には、NMOS33−2、34−2の各ゲートが接続さ
れている。NMOS33−1、33−2は、出力トラン
ジスタ35のべ−スと接地電圧GNDに並列に接続され
ている。NMOS34−1、NMOS34−2は、出力
トランジスタ35のエミッタと接地電圧GNDとに並列
に接続されている。NMOS36はゲートが出力トラン
ジスタ35のべ一スに、ドレインが電源電圧VDDに、
ソースが出力端子OUTに接続されている。
【0037】この2入力NOR回路では、入力端子IN
1、入力端子2の両方に“L”が入力されると、PMO
S31−1、31−2の両方がオンし、出力端子OUT
が“H”レベルとなる。そして、出力レベルは、出力ト
ランジスタ35とNMOS36によって、電源電圧VD
D−ベース−エミッタ間電圧Vfまでプルアップされ、
その後、NMOS36によつて、電源電圧VDD−NM
OS36のしきい値電圧Vtnまでプルアップされる。
【0038】実際には、|Vtn|は基板バイアス効果
によって、|Vtp|より大きくなる場合がある。この
ときは、NMOS36のウェルの電位を出力端子OUT
に接続することで、基板バイアス効果を抑制し、出力レ
ベルを増加することが可能である。
【0039】入力波形と従来例の出力波形と本発明の実
施の形態の出力波形との関係は第1の実施の形態で説明
した図4と同じであり、出力波形の鈍りを抑制しなが
ら、論理“H”の出力をVDD−|Vtp|近くまでプ
ルアップするので、リーク電流の低減が可能である。
【0040】本実施の形態では、2入力NOR回路につ
いて説明したが、同様に3入力以上のNOR回路につい
ても適用可能である。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路のBiNMOS論理回路によれば、BiNMOS
論理回路の電源電圧もしくはこれよりも高い別の電源電
圧と出力端子の間にNMOSを接続することによって、
出力波形の鈍りを抑制する効果があり、論理“H”の出
力レベルを電源電圧VDD−出力トランジスタのべ−ス
−エミッタ間電圧Vfよりも増加させることができるの
で、リーク電流の低減が可能となるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のBiNMOS論理
回路の一つであるインバータ回路の回路構成図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態のBiNMOS論理
回路の一つである2入力NAND回路の回路構成図であ
る。
【図3】本発明の第3の実施の形態のBiNMOS論理
回路の一つである2入力NOR回路の回路構成図であ
る。
【図4】BiNMOS論理回路の入力波形と従来例の出
力波形と本発明の実施の形態の出力波形を示す波形図で
ある。
【図5】特開平5−152931号公報で開示された第
1の従来例のBiNMOS論理回路の回路構成図であ
る。
【図6】特開平4−13308号公報で開示された第2
の従来例のBiNMOS論理回路の回路構成図である。
【符号の説明】
11、21−1、21−2、31−1、31−2、5
1、57、61 PMOSトランジスタ 13、14、16、23−1、23−2、24−1、2
4−2、26、33−1、33−2、34−1、34−
2、36、53、54、63、64 NMOSトラン
ジスタ 15、25、35、55、65 NPNバイポーラト
ランジスタ 68 プルアップ用抵抗 IN 入力端子 OUT 出力端子 VDD 電源電圧 GND 接地電圧 A 入力波形 B 従来例の出力波形 C 本発明の実施の形態の出力波形

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の電位と出力端子間に接続されたパ
    イポーラ型の出力トランジスタと、前記出力端子と第2
    の電位との間に接続され、入力信号によってゲート制御
    される少なくとも1個の第1のNチャネル型の出力MO
    Sトランジスタと、前記第1の電位と前記出力トランジ
    スタのべ−スとの間に接続され、前記入力信号に基づき
    その出力トランジスタのべ−ス電位を制御する少なくと
    も1個の第2のトランジスタとを備え、前記第1の電位
    と前記出力端子との間に接続され、前記出力トランジス
    タのべ一スの電位によってゲート制御される少なくとも
    1個の第3のNチャネル型の出力MOSトランジスタが
    設けられたBiNMOS論理回路を有することを特徴と
    する半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 前記BiNMOS論理回路が、1個の入
    力端子と、1個の前記バイポーラ型の出力トランジスタ
    と、1個の前記第1のNチャネル型の出力MOSトラン
    ジスタと、1個の前記第2のトランジスタと、1個の前
    記第3のNチャネル型の出力MOSトランジスタとを備
    えたインバータ回路である請求項1に記載の半導体集積
    回路。
  3. 【請求項3】 前記BiNMOS論理回路が、2個の入
    力端子と、1個の前記バイポーラ型の出力トランジスタ
    と、直列に接続した2個の前記第1のNチャネル型の出
    力MOSトランジスタと、並列に接続しゲートが2個の
    前記入力端子のそれぞれに接続した2個の前記第2のト
    ランジスタと、1個の前記第3のNチャネル型の出力M
    OSトランジスタとを備えた2入力NAND回路である
    請求項1に記載の半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記BiNMOS論理回路が、2個の入
    力端子と、1個の前記バイポーラ型の出力トランジスタ
    と、並列に接続しゲートが2個の前記入力端子のそれぞ
    れに接続した2個の前記第1のNチャネル型の出力MO
    Sトランジスタと、直列に接続しゲートが2個の前記入
    力端子のそれぞれに接続した2個の前記第2のトランジ
    スタと、1個の前記第3のNチャネル型の出力MOSト
    ランジスタとを備えた2入力NOR回路である請求項1
    に記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】 前記BiNMOS論理回路が、前記出力
    トランジスタのベースと、前記第2の電位間に接続さ
    れ、入力信号によってゲート制御される少なくとも1個
    の第4のNチャネル型の出力MOSトランジスタを備え
    る請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の半導体
    集積回路。
  6. 【請求項6】 前記BiNMOS論理回路の前記第3の
    Nチャネル型の出力MOSトランジスタのソースとウエ
    ルが同一電圧である請求項1から請求項4のいずれか1
    項に記載の半導体集積回路。
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