JP3041691B2 - 磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気共鳴イメージン
グ装置に係り、特に撮影視野を指定した際に、高い空間
分解能で撮影を行うことのできる磁気共鳴イメージング
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気共鳴イメージング（ＭＲＩ）装置
は、被検体を横切る任意の平面内の水分子に磁気共鳴を
起こさせ、それによって発生する磁気共鳴信号からその
平面内における断層像を得る医用画像診断装置である。
一般的には、被検体の断層像を得ようとする平面を特定
するスライス傾斜磁場を印加すると同時にその平面内の
磁化を励起させる励起パルスを与え、これにより励起さ
れた磁化が収束する段階で発生する磁気共鳴信号（エコ
ー）を得る。磁化に位置情報を与えるため、励起からエ
コーを得るまでの間に、断層面内で互いに垂直な方向の
位相エンコード傾斜磁場とリードアウト傾斜磁場を印加
する。計測されたエコーは、横軸をｋｘ、縦軸をｋｙと
するｋ空間と呼ばれるメモリに格納される。１つのエコ
ーは、ｋｘ軸に平行な１本のラインを占める。このｋ空
間に対して逆フーリエ変換することによって画像再構成
が行われる。

【０００３】エコーを発生させるためのパルスと各傾斜
磁場は、あらかじめ設定されたパルスシーケンスに基づ
いて印加されるようになっている。このパルスシーケン
スは、目的に応じて種々のものが知られている。例え
ば、最も一般的な撮影法であるスピンエコー（ＳＥ）法
は、そのパルスシーケンスを繰り返して作動させ、繰り
返しごとに位相エンコード傾斜磁場を順次変化させるこ
とにより、１枚の断層像を得るために必要な数のエコー
を順次計測していく方法である。

【０００４】図１５にＳＥ法のパルスシーケンスの一例
を示す。このパルスシーケンスの動作は以下のとおりで
ある。すなわち、スライス傾斜磁場１の印加とともに磁
化励起用高周波磁場（ＲＦ）パルス２を印加し、対象物
体内のあるスライスに磁気共鳴現象を誘起する。磁化の
位相に位相エンコード方向の位置情報を付加するための
位相エンコード傾斜磁場パルス３を印加してディフェー
ズ用リードアウト傾斜磁場４を印加した後、エコーを生
成するためにスライス傾斜磁場５とともに１８０度パル
ス６を印加する。そして、リードアウト方向の位置情報
を付加するためのリードアウト傾斜磁場パルス７を印加
しながら磁気共鳴信号（エコー）８を計測する。

【０００５】以上の手順を繰り返し時間ＴＲで繰り返
し、１枚の画像を得るのに必要なエコーを計測する。各
エコーは、図１６のようにｋ空間上に配置され、２次元
逆フーリエ変換によって画像再構成される。

【０００６】この方法では、１回のパルスシーケンス作
動で１個のエコーしか計測せず、通常２５６回の繰り返
しにより２５６個のエコーを計測する。ＳＥ画像は非常
に高画質であるため、形態画像の撮影に広く用いられて
いる。ただし、パルスシーケンスの繰り返しごとに、励
起された磁化が平衡状態になるまでの待ち時間が必要な
ため、撮影時間が長くなる。パルスシーケンスの繰り返
し時間は通常数秒であり、撮影時間は１０分程度であ
る。

【０００７】２次元のＭＲＩ撮影において視野の指定
は、通常、その大きさを数値で指定し、断面位置を断面
決定用の参照画像上で指定することによって行われる。
この参照画像は本撮影の視野に対して垂直な断面をも
ち、本撮影の前に撮影される。図１７に、参照画像
（ａ）とそれを用いて指定した視野の画像（ｂ）を示
す。ここでは、ヒト頭部の冠状面の画像１３を撮影しよ
うとしており、参照画像はそれに垂直な矢状面１１であ
る。視野断面の指定は、この矢状面上で例えば図の上下
方向に線分１２を移動させてその断面位置を指定するこ
とによって行う。本撮影の視野断面は、この線分を含み
参照画像に垂直な面となる。

【０００８】２次元撮影においては、本撮影の画像と同
じスライス面の参照画像を用いる場合もある。この場合
には、参照画像を見ながら視野の大きさを数値で指定す
る。以上いずれにおいても視野の中心は、常に磁石空間
の原点である。

【０００９】３次元撮影の場合には、撮影したい部位を
磁石空間の中心に配置し、視野の大きさを数値で指定す
るのが普通である。例えばヒト頭部の３次元撮影では、
頭部が磁石空間の中心になるように被検体を寝かせたベ
ッドを移動させ、視野の大きさを２６ｃｍ×２６ｃｍ×
２６ｃｍというように指定する。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た視野の指定方法は、一度撮影した画像上の任意の領域
を拡大して再び撮影しようとする場合などの高分解能撮
影には適していない。すなわち、２次元撮影では、参照
画像と撮影画像の断面の方向が一致していないため、同
一断面内の任意の領域を倍率を変えながら繰り返し撮影
することができないという欠点がある。一致している場
合でも、視野の中心が磁石の中心に固定されているた
め、これを変更する場合にはベッドを動かさなければな
らない。

【００１１】本発明の目的は、高分解能撮影を行う際
に、視野を容易に指定することができる磁気共鳴イメー
ジング装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、静磁場を発生する静磁場発生手段と、傾
斜磁場を発生する傾斜磁場発生手段と、高周波磁場を発
生する高周波磁場発生手段と、前記静磁場内に置かれた
検査対象に前記傾斜磁場および前記高周波磁場を印加し
たときの、前記検査対象からの磁気共鳴信号を検出する
信号検出手段と、検出した前記磁気共鳴信号から前記検
査対象のスライス面の全体の断層画像を再構成する画像
演算手段と、再構成した前記スライス面の全体の断層画
像を第１の画像として表示画面上に表示する画像表示手
段と、前記表示画面に表示された前記第１の画像に対し
て当該表示画面上で撮影視野を指定する撮影視野指定手
段と、前記指定された撮影視野で前記検査対象の断層画
像を第２の画像として撮影し、前記第２の画像を前記表
示画面全体に表示する撮影制御手段とを備え、前記撮影
制御手段は、前記傾斜磁場の印加を伴う複数個の高周波
磁場パルスの照射によって磁化を励起してエコー群を計
測し、該エコー群から前記第２の画像が再構成されてい
るとき、前記撮影制御手段は、前記第２の画像の視野と
前記複数個の高周波磁場パルスにより励起される領域の
幅を等しく設定し、かつ前記複数個の高周波磁場パルス
の搬送波周波数を前記第２の画像の視野の中心における
周波数に等しく設定することを特徴としている。また、
本発明は、静磁場を発生する静磁場発生手段と、傾斜磁
場を発生する傾斜磁場発生手段と、高周波磁場を発生す
る高周波磁場発生手段と、前記静磁場内に置かれた検査
対象に前記傾斜磁場および前記高周波磁場を印加したと
きの、前記検査対象からの磁気共鳴信号を検出する信号
検出手段と、検出した前記磁気共鳴信号から前記検査対
象のスライス面の全体の断層画像を再構成する画像演算
手段と、再構成した前記スライス面の全体の断層画像を
第１の画像として表示画面上に表示する画像表示手段
と、前記表示画面に表示された前記第１の画像に対して
当該表示画面上で撮影視野を指定する撮影視野指定手段
と、前記指定された撮影視野で前記検査対象の断層画像
を第２の画像として撮影し、前記第２の画像を前記表示
画面全体に表示する撮影制御手段とを備え、前記撮影制
御手段は、前記傾斜磁場の印加を伴う、全体が周期Ｔの
ｓｉｎｃ関数によって振幅変調された複 数個の高周波磁
場パルスの照射によって磁化を励起してエコー群を計測
して、前記第１と第２の画像を計測し、前記第２の画像
の前記傾斜磁場を印加する方向の画素の大きさが前記第
１の画像に対して１／ｍであるとき、前記撮影制御手段
は、前記第２の画像の計測時における前記傾斜磁場の強
度と前記周期Ｔとの積を前記第１の画像の計測時のｍ倍
に設定することを特徴としている。

【００１３】上記構成よれば、表示画面上に第１の画像
が表示されているとき、画像上で注目すべき部位（詳細
に観察したい部位）が見つかったら、その部位に合わせ
て撮影視野を指定する。撮影視野の指定は撮影視野指定
手段を用いて行う。撮影視野が指定されると、撮影制御
手段は、指定された撮影視野を第２の画像として撮影
し、その撮影画像を表示画面に表示する。表示画面上に
表示された第２の画像は第１の画像よりも空間分解能が
高く、注目すべき部位の詳細を知ることが可能となる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。図１は、磁気共鳴イ
メージング装置の概略構成を示すブロック図である。図
で、３１は静磁場を発生する静磁場発生マグネット、３
２は傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生コイル、３３は被
検体（検査対象）であり、これは静磁場発生マグネット
３１および傾斜磁場発生コイル３２内に設置される。ま
た、シーケンサ３４は傾斜磁場電源３５と高周波磁場発
生器３６に命令を送り、傾斜磁場および高周波磁場を発
生する。高周波磁場はプローブ３７を通じて被検体３３
に印加される。被検体３３から発生した信号はプローブ
３７によって受波され、受信器３８で検波が行われる。
検波の基準とする磁気共鳴周波数（以下、検波基準周波
数と記す）は、シーケンサ３４によりセットされる。検
波された信号は計算機３９に送られ、ここで画像再構成
などの信号処理が行われる。結果はディスプレイ４０に
表示される。必要に応じて、記憶媒体４１に信号や測定
条件を記憶させることもできる。また、計算機３９に
は、ポインティングデバイス４４が接続されており、デ
ィスプレイ４０上の任意の点を指し示すことができる。

【００１５】静磁場均一度を調整する必要があるとき
は、シムコイル４２を使う。シムコイル４２は複数のチ
ャネルからなり、シム電源４３により電流が供給され
る。静磁場均一度調整時には各コイルに流れる電流をシ
ーケンサ３４により制御する。シーケンサ３４はシム電
源４３に命令を送り、静磁場不均一を補正するような付
加的な磁場をシムコイル４２より発生させる。なお、シ
ーケンサ３４は通常、予めプログラムされたタイミン
グ、強度で各装置が動作するように制御を行う。該プロ
グラムのうち、特に高周波磁場、傾斜磁場、信号受信の
タイミングや強度を記述したものはパルスシーケンスと
呼ばれている。

【００１６】この装置を用いた本発明による２次元画像
の撮影手順を図２に示す流れ図を用いて説明する。ま
ず、スライス位置決定用参照画像を撮影し、本撮影のス
ライス位置と視野を決定する（ステップ１０１）。この
手順は、図１で説明した従来の方法と同様であり、参照
画像のスライス面は本撮影のスライス面と直交関係にあ
る。また、通常は被検体の断面が決定した視野内に収ま
るようにする。なお、スライス面があらかじめ決まって
いる場合には、この手順は省略してもよい。そして、ス
テップ１０１で決定したスライス面で１回目の本撮影を
行う（ステップ１０２）。この撮影により、注目してい
るスライス面の全体画像が得られる。

【００１７】次に、画像内に注目すべき部位（例えば、
画像コントラストの異常から病巣と疑われる臓器）が発
見された場合などには、２回目の本撮影を行う。これに
はまず、１回目の本撮影で得られた画像上で撮影視野を
指定し（ステップ１０３）、その撮影視野で撮影を行う
（ステップ１０２）。

【００１８】撮影視野の指定は、図３（ａ）に示すよう
に、注目したい部位にカーソル５１を移動させ、クリッ
クすることにより行う。撮影視野は、クリックした位置
を中心とし、表示されている画像の１辺を１／２にした
矩形５２（面積にして１／４）に設定されている。これ
により撮影される画像は、図３（ｂ）のようになる。こ
の２回目の撮影では、注目部位のより詳細な情報を得た
いため、１回目の撮影よりも空間分解能を高くするのが
普通である。以後、注目部位の十分な情報が得られるま
で、ステップ１０２と１０３を繰り返して撮影を終了す
る。

【００１９】撮影視野の指定には、以下のような方法を
用いてもよい。すなわち、図４に示すように視野を示す
矩形５３を移動させ、撮影したい部位がそれに含まれる
ように配置するという方法である。あるいは、図５に示
すように、カーソル５４を用いて異なる位置の２点を指
定し、その２点を結ぶ線分が視野５５の対角線５６とな
るようにする方法でもよい。この方法によると、視野の
位置を直感的に把握しやすい。なお、図３と図４におけ
る矩形の大きさは、必要に応じて任意に調整することも
可能である。

【００２０】３次元画像を撮影する場合には、以上の説
明において矩形となっていた視野の形状を直方体とする
ことにより、同様の手順で視野を指定することができ
る。

【００２１】以上の撮影において、受信器３８のフィル
タがローパスフィルタの場合には、従来とは異なり、リ
ードアウト方向の視野の中心が必ずしも傾斜磁場の原点
とはならないため、エコーをサンプリングする際の検波
基準周波数を視野の中心位置に応じて変更した方がよ
い。図６は、リードアウト方向の視野の中心６１と傾斜
磁場の原点６２が一致している場合の被検体のプロジェ
クション６３とリードアウト傾斜磁場６４を示してい
る。この場合には、従来同様、検波基準周波数を傾斜磁
場の原点の周波数γ・Ｈ0 としてエコーをサンプリング
する（６５）。ここで、γは磁気回転比、Ｈ0 は静磁場
強度である。エコーの周波数は磁場強度に比例するた
め、受信器３８のフィルタ帯域は、視野の幅６６と等し
くする。

【００２２】これに対して図７のように傾斜磁場の原点
とリードアウト方向の視野の中心が一致していない場合
には、検波基準周波数を視野原点の周波数γ・（Ｈ0＋
Ｇx・ｘ0 ）とする（６７）。ここで、Ｇx はエコーサ
ンプリング時のリードアウト方向の傾斜磁場強度、ｘ0
はリードアウト方向の視野中心位置である。こうするこ
とにより、受信器３８のフィルタ帯域は、図６と同様、
視野の幅６８と等しくすることができる。もし、搬送波
周波数を視野に応じて変更せず、図７の場合にも傾斜磁
場中心の周波数６５とした場合には、受信器３８のフィ
ルタの帯域を６９のように広くしなければならなくな
り、ＳＮ比が低下する。なお、受信器３８のフィルタが
バンドパスフィルタの場合には、検波基準周波数を変更
する必要はなく、バンドパスフィルタの帯域を６８とす
る。

【００２３】このように検波基準周波数を変更する場合
の撮影手順は図８のようになる。ここで、ステップ１０
１，１０２，１０３は図２の場合と同じである。すなわ
ち、まず、スライス位置決定用参照画像を撮影し、本撮
影のスライス位置と視野を決定し（ステップ１０１）、
その決定したスライス面で１回目の本撮影を行う（ステ
ップ１０２）。次に、画像内に注目すべき部位が発見さ
れた場合には、２回目の本撮影を行う。このとき、１回
目の本撮影で得られた画像上で視野を指定し（ステップ
１０３）、その視野で撮影を行う（ステップ１０２）。

【００２４】そして、本撮影手順では、ステップ１０２
における本撮影を実施する前に、検波基準周波数をステ
ップ１０３で指定した視野中心の周波数に設定する（ス
テップ１１０）。以後、注目部位の十分な情報が得られ
るまで、ステップ１０２，１０３，１１０を繰り返して
撮影を終了する。なお、周波数は、ステップ１０２にお
いて本撮影を行うためのシーケンス実行中に変更するこ
とも可能である。

【００２５】被検体が視野からはみ出している場合に
は、画像に折り返しが発生するという問題がある。これ
に対しては、従来から行われている方法を用いて以下の
ように対処することができる。すなわち、リードアウト
方向には、パルスシーケンスの視野の大きさを指定した
大きさよりも大きくすることにより折り返しの問題を防
ぐことができる。通常は、サンプリング点を２倍、サン
プリングレートを１／２にしてこれを実現する。

【００２６】一方、位相エンコード方向には、撮影に先
立って領域選択用のパルスシーケンスを実行しておく。
この場合の撮影手順を図９に示す。ここで、ステップ１
０１，１０２，１０３は図２の場合と同じである。すな
わち、まず、スライス位置決定用参照画像を撮影し、本
撮影のスライス位置と視野を決定し（ステップ１０
１）、その決定したスライス面で１回目の本撮影を行う
（ステップ１０２）。次に、画像内に注目すべき部位が
発見された場合には、２回目の本撮影を行う。このと
き、１回目の本撮影で得られた画像上で視野を指定し
（ステップ１０３）、その視野で撮影を行う（ステップ
１０２）。

【００２７】そして、本撮影手順では、ステップ１０２
における本撮影を実施する前に、視野外の領域の磁化を
飽和させるパルスシーケンスを実施し、信号の出ない状
態にしておく（ステップ１２０）。以後、注目部位の十
分な情報が得られるまで、ステップ１０２，１０３，１
２０を繰り返して撮影を終了する。

【００２８】ここで、ステップ１２０において視野外を
飽和させる方法を図１０および図１１を用いて説明す
る。図１０はこのパルスシーケンスの一例、図１１は、
被検体７１と視野７２との関係を示す。図１１におい
て、ｘはリードアウト方向、ｙは位相エンコード方向で
あり、図１０において、７５は撮影用パルスシーケンス
である。領域選択部７６は、まず、ＲＦパルス７７と傾
斜磁場パルス７８によってｙ方向の視野７２の外７３だ
けを励起し、クラッシャー傾斜磁場パルス７９によって
この領域を飽和させる。次に、同様にＲＦパルス８０と
傾斜磁場パルス８１によって、ｙ方向の視野７２の外７
４だけを励起し、クラッシャーパルス８２によってこの
領域を飽和させる。飽和させたい領域は、ＲＦパルスの
搬送波周波数を変えることによって任意に選択すること
ができる。あるいは、飽和させたい領域が傾斜磁場の原
点に対して対称である場合には、搬送波周波数を一定に
して傾斜磁場パルス７８と８１の極性を反転させてもよ
い。

【００２９】なお、図１０のパルスシーケンスでは励起
を２回に分けて行ったが、励起プロファイルが７３と７
４だけになるようなＲＦパルスを用いれば、１回の励起
とクラッシャー傾斜磁場パルスの印加で視野外の飽和を
行うことが可能である。このようなＲＦパルスの波形
は、最も簡単には、励起プロファイルを逆フーリエ変換
することによって作成することができる。

【００３０】以上の方法で、視野外の領域７３と７４を
信号の出ない状態にすれば、位相エンコード方向の励起
可能な領域を視野の範囲だけに絞ることができる。その
直後に撮影を開始すれば、折り返しの問題はなくなる。

【００３１】位相エンコード方向の領域選択を行う別の
方法として、以下のような方法もある。すなわち、図１
５の１８０度パルス６と傾斜磁場パルス５の代わりに、
図１２に示すように２個の１８０度パルス８５と８６を
用いる方法である。図１２において、ｘはリードアウト
方向、ｙは位相エンコード方向、ｚはスライス方向であ
る。この方法では、まず１８０度パルス８５と傾斜磁場
パルス８７によって位相エンコード方向の視野の範囲を
選択し、１８０度パルス８５と傾斜磁場パルス８７によ
ってスライス方向の選択を行っている。この他に、１個
のＲＦパルスによって２次元の領域を選択する方法を用
いることもできる。この方法の詳細については、C.J.Ha
rdy and H.E.Cline,"Spatial Localization in Two Dim
ensionsUsing NMR Designer Pulses," J.of Magn.Reso
n.,vol.82,pp.647-654,1989にある。

【００３２】次に、撮影シーケンスとして振幅変調バー
スト法を用いた場合の実施例を説明する。振幅変調バー
スト法は、特別な付加装置を必要とせずに撮影時間をミ
リ秒オーダまで短縮できる超高速撮影法であり、高分解
能撮影にも応用可能である。振幅変調バースト法につい
ては特願平０７−１１７０１５に、また、振幅変調バー
スト法を用いた高分解能撮影法については、特願平０８
−７４９６０に詳しく述べられている。

【００３３】振幅変調バースト法では、励起パルスに図
１３（ａ）に示すような振幅変調バーストパルスを用い
ている。このパルスは、それぞれがｓｉｎｃ関数の形状
をもつサブパルス９１から成り、サブパルス全体は周期
Ｔのｓｉｎｃ関数９２で振幅変調されている。図１３
（ｂ）は、このパルスとｘ方向（リードアウト方向）の
傾斜磁場Ｇｘを同時に印加した場合の励起プロファイル
である。図１３の（ａ）と（ｂ）とはフーリエ変換の関
係にある。励起プロファイルは細いストリップ状にな
り、振幅変調バースト法を用いた高分解能撮影法では、
再構成された画像の空間分解能が、このストリップ９３
の幅 ｄ ＝ １ ／ （γ・Ｇｘ・Ｔ） ……… （１） と等しくなる。

【００３４】このパルスを用いた場合、ｘ方向の励起範
囲Ｗは、サブパルスの形状がｎ山のｓｉｎｃ関数で印加
時間がｔのとき、 Ｗ ＝ （ｎ ＋ １） ／ （γ・Ｇｘ・ｔ） ……… （２） となり、その外側の磁化は励起されない。したがって、
指定した視野とＷを等しくしておけば、必ずしも上述の
ように倍サンプリングをして視野を限定する必要はなく
なる。なお、ｘ方向の視野の中心が傾斜磁場の中心と一
致しない場合には、エコーサンプリングの搬送波だけで
はなく、励起パルスの搬送波の周波数もγ・（Ｈ０＋Ｇ
ｘ・ｘ０）とする。

【００３５】振幅変調バースト法を用いた撮影では、空
間分解能が変更された場合には（１）式よりＧｘかＴを
変更すればよい。また、視野の大きさが変更された場合
には（２）式よりＧｘかｔを変更すればよい。

【００３６】例えば、空間分解能が変更された場合の撮
影手順は図１４のようになる。ここで、ステップ１０
１，１０２，１０３は図２の場合と同じである。すなわ
ち、まず、スライス位置決定用参照画像を撮影し、本撮
影のスライス位置と視野を決定し（ステップ１０１）、
その決定したスライス面で１回目の本撮影を行う（ステ
ップ１０２）。この撮影により、注目しているスライス
面の全体画像が得られる。このときの画素の大きさをｄ
(ｉ)とする。次に、画像内に注目すべき部位が発見され
た場合には、２回目の本撮影を行う。この場合、１回目
の本撮影で得られた画像上で視野を指定し（ステップ１
０３）、その視野で撮影を行う（ステップ１０２）。ス
テップ１０３で視野を指定した結果、画素の大きさがｄ
(ｉ＋１)になった場合、この空間分解能を実現するた
め、ステップ１０２における本撮影を実施する前に、Ｇ
ｘとＴの積が直前の撮影のｄ(ｉ)／ｄ(ｉ＋１)倍になる
ように変更する（ステップ１３０）。以後、注目部位の
十分な情報が得られるまで、ステップ１０２，１０３，
１３０を繰り返して撮影を終了する。

【００３７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、画像上で注目すべき部位が見つかった場合、その
部位に合わせて撮影視野を指定してから本撮影を行うこ
とができるので、検査対象に対して任意の部位を高分解
能で容易に撮影することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気共鳴イメージング装置の全体
構成図である。

【図２】撮影手順のフローチャートである。

【図３】視野指定方法の一例を示した図である。

【図４】視野指定方法の他の例を示した図である。

【図５】視野指定方法の更に他の例を示した図である。

【図６】視野と検波基準周波数との関係を説明した図で
ある。

【図７】視野と検波基準周波数との関係を説明した図で
ある。

【図８】検波基準周波数を変更した場合の撮影手順のフ
ローチャートである。

【図９】領域選択用のパルスシーケンスを実行して撮影
する場合のフローチャートである。

【図１０】領域選択用のパルスシーケンスを示した図で
ある。

【図１１】領域選択を説明した図である。

【図１２】領域選択用の他のパルスシーケンスを示した
図である。

【図１３】振幅変調バースト法と視野との関係を示した
図である。

【図１４】空間分解能が変更された場合の撮影手順のフ
ローチャートである。

【図１５】ＳＥ法のパルスシーケンスを示した図であ
る。

【図１６】ｋ空間上にエコーが配置される様子を示した
図である。

【図１７】従来の視野指定方法を示しており、（ａ）は
参照画像を、（ｂ）は視野の画像をそれぞれ示した図で
ある。

【符号の説明】

３１ 静磁場発生マグネット（静磁場発生手段） ３２ 傾斜磁場発生コイル（傾斜磁場発生手段） ３３ 被検体 ３４ シーケンサ（撮影制御手段） ３５ 傾斜磁場電源 ３６ 高周波磁場発生器（高周波磁場発生手段） ３７ プローブ（信号検出手段） ３８ 受信器 ３９ 計算機（画像演算手段） ４０ ディスプレイ（画像表示手段） ４１ 記憶媒体 ４２ シムコイル ４３ シム電源 ４４ ポインティングデバイス（撮影視野指定手段）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚田 啓二 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社 日立製作所 中央研究所内 (72)発明者 清水 博道 東京都千代田区内神田一丁目１番14号 株式会社 日立メディコ内 (56)参考文献 特開 昭63−192430（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−246930（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−255693（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−15443（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−30830（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−89492（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−308809（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−262219（ＪＰ，Ａ) 特公 平３−65973（ＪＰ，Ｂ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) A61B 5/055 A61B 6/00 - 6/14 313 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 静磁場を発生する静磁場発生手段と、傾
   斜磁場を発生する傾斜磁場発生手段と、高周波磁場を発
   生する高周波磁場発生手段と、前記静磁場内に置かれた
   検査対象に前記傾斜磁場および前記高周波磁場を印加し
   たときの、前記検査対象からの磁気共鳴信号を検出する
   信号検出手段と、検出した前記磁気共鳴信号から前記検
   査対象のスライス面の全体の断層画像を再構成する画像
   演算手段と、再構成した前記スライス面の全体の断層画
   像を第１の画像として表示画面上に表示する画像表示手
   段と、前記表示画面に表示された前記第１の画像に対し
   て当該表示画面上で撮影視野を指定する撮影視野指定手
   段と、前記指定された撮影視野で前記検査対象の断層画
   像を第２の画像として撮影し、前記第２の画像を前記表
   示画面全体に表示する撮影制御手段とを備え、前記撮影
   制御手段は、前記傾斜磁場の印加を伴う複数個の高周波
   磁場パルスの照射によって磁化を励起してエコー群を計
   測し、該エコー群から前記第２の画像が再構成されてい
   るとき、前記撮影制御手段は、前記第２の画像の視野と
   前記複数個の高周波磁場パルスにより励起される領域の
   幅を等しく設定し、かつ前記複数個の高周波磁場パルス
   の搬送波周波数を前記第２の画像の視野の中心における
   周波数に等しく設定することを特徴とする磁気共鳴イメ
   ージング装置。
2. 【請求項２】 静磁場を発生する静磁場発生手段と、傾
   斜磁場を発生する傾斜磁場発生手段と、高周波磁場を発
   生する高周波磁場発生手段と、前記静磁場内に置かれた
   検査対象に前記傾斜磁場および前記高周波磁場を印加し
   たときの、前記検査対象からの磁気共鳴信号を検出する
   信号検出手段と、検出した前記磁気共鳴信号から前記検
   査対象のスライス面の全体の断層画像を再構成する画像
   演算手段と、再構成した前記スライス面の全体の断層画
   像を第１の画像として表示画面上に表示する画像表示手
   段と、前記表示画面に表示された前記第１の画像に対し
   て当該表示画面上で撮影視野を指定する撮影視野指定手
   段と、前記指定された撮影視野で前記検査対象の断層画
   像を第２の画像として撮影し、前記第２の画像を前記表
   示画面全体に表示する撮影制御手段とを備え、前記撮影
   制御手段は、前記傾斜磁場の印加を伴う、全体が周期Ｔ
   のｓｉｎｃ関数によって振幅変調された複数個の高周波
   磁場パルスの照射によって磁化を励起してエコー群を計
   測して、前記第１と第２の画像を計測し、前記第２の画
   像の前記傾斜磁場を印加する方向の画素の大きさが前記
   第１の画像に対して１／ｍであるとき、前記撮影制御手
   段は、前記第２の画像の計測時における前記傾斜磁場の
   強度と前記周期Ｔとの積を前記第１の画像の計測時のｍ
   倍に設定することを特徴とする磁気共鳴イメージング装
   置。