JP3036642B2 - 欠陥パターンの検出方法 - Google Patents
欠陥パターンの検出方法Info
- Publication number
- JP3036642B2 JP3036642B2 JP5334790A JP5334790A JP3036642B2 JP 3036642 B2 JP3036642 B2 JP 3036642B2 JP 5334790 A JP5334790 A JP 5334790A JP 5334790 A JP5334790 A JP 5334790A JP 3036642 B2 JP3036642 B2 JP 3036642B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- patterns
- pattern
- coordinates
- imaging unit
- defect
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ この発明は、ホトマスク等の繰り返し配列されている
パターン集合体の欠陥パターンの検出方法に関する。
パターン集合体の欠陥パターンの検出方法に関する。
＜従来の技術＞ 従来の欠陥パターンの検出方法を第３図に示す流れ図
により説明する。
により説明する。
種々のパターンで形成した同一のパターン集合体を繰
り返し配設した基板に対して、前記パターン集合体の配
設間隔に合わせて左撮像部と右撮像部とを設ける。前記
左，右撮像部で前記パターン集合体に設けた検査区画を
順次撮影（全面走査）し、撮影した左，右画像を信号処
理する。信号処理した左，右画像信号を比較して、左，
右画像信号に差異が認められる時には、欠陥パターンが
左，右画像の何れか一方に存在することを認識して、左
（右）画像座標Ciを記憶部に記憶する。
り返し配設した基板に対して、前記パターン集合体の配
設間隔に合わせて左撮像部と右撮像部とを設ける。前記
左，右撮像部で前記パターン集合体に設けた検査区画を
順次撮影（全面走査）し、撮影した左，右画像を信号処
理する。信号処理した左，右画像信号を比較して、左，
右画像信号に差異が認められる時には、欠陥パターンが
左，右画像の何れか一方に存在することを認識して、左
（右）画像座標Ciを記憶部に記憶する。
全検査区画を判定した後、記憶部に記憶した左（右）
画像座標Ciを呼び出して、その座標Ciに前記左（右）撮
像部を合わせる。
画像座標Ciを呼び出して、その座標Ciに前記左（右）撮
像部を合わせる。
そして、左，右撮像部に撮影された画面を、オペレー
タが見て欠陥パターンが存在する画面を判別し、欠陥パ
ターンを含む画面の座標を欠陥パターン座標として出力
する。
タが見て欠陥パターンが存在する画面を判別し、欠陥パ
ターンを含む画面の座標を欠陥パターン座標として出力
する。
上記操作は呼び出す左（右）画像座標Ciが無くなるま
で行う。
で行う。
この様にして出力された欠陥パターン座標は、例えば
磁気カード等の記録媒体に書き込まれて、欠陥情報とし
て利用される。
磁気カード等の記録媒体に書き込まれて、欠陥情報とし
て利用される。
＜発明が解決しようとする課題＞ しかしながら、上記した方法では、欠陥パターンの有
無をオペレータが左右画像を比較して判断しなければな
らないので、オペレータの欠陥判定作業が必要になり、
欠陥を見落としたり、判定に時間が掛かってしまった。
さらに欠陥判定作業がオペレータにとって負担になって
いた。
無をオペレータが左右画像を比較して判断しなければな
らないので、オペレータの欠陥判定作業が必要になり、
欠陥を見落としたり、判定に時間が掛かってしまった。
さらに欠陥判定作業がオペレータにとって負担になって
いた。
本発明は、上記した課題を解決する為に成されたもの
で、欠陥座標の判定効率や判定精度に優れた欠陥パター
ンの検出方法を提供することを目的とする。
で、欠陥座標の判定効率や判定精度に優れた欠陥パター
ンの検出方法を提供することを目的とする。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明は、上記目的を達成する為に成されたもので、
即ち、基板にパターンが繰り返し配置された各パターン
の欠陥を検出する方法であって、第１の撮像部と第２の
撮像部とで、パターンのうち２つのパターンを撮像し、
その２つのパターンが同一であるか否かを判定する工程
と、第１の撮像部と第２の撮像部とで、上記２つのパタ
ーン以外の２つのパターンを撮像し、撮像した２つのパ
ターンが同一であるか否かを判定する工程と、同一では
ないと判定された２つのパターンのうちの１つと、同一
ではないと判定された２つのパターン以外のパターンと
を比較し、同一ではないと判定された２つのパターンの
いずれかが不良であるか否かを判定する工程とを有す
る。
即ち、基板にパターンが繰り返し配置された各パターン
の欠陥を検出する方法であって、第１の撮像部と第２の
撮像部とで、パターンのうち２つのパターンを撮像し、
その２つのパターンが同一であるか否かを判定する工程
と、第１の撮像部と第２の撮像部とで、上記２つのパタ
ーン以外の２つのパターンを撮像し、撮像した２つのパ
ターンが同一であるか否かを判定する工程と、同一では
ないと判定された２つのパターンのうちの１つと、同一
ではないと判定された２つのパターン以外のパターンと
を比較し、同一ではないと判定された２つのパターンの
いずれかが不良であるか否かを判定する工程とを有す
る。
＜作用＞ 上記した欠陥パターンの検出方法は、第１の撮像部と
第２の撮像部とを設け、それらの撮像部で、２つのパタ
ーンを撮像してその２つのパターンの同一性を判定し、
さらにその２つのパターン以外の２つのパターンを撮像
してその２つのパターンの同一性を判定し、同一でない
２つのパターンが有る場合には、判定した２つのパター
ンのいずれかと、判定した同一でない２つのパターン以
外のパターンとを撮像してそれらを比較することによ
り、同一でない２つのパターンのいずれかが不良である
と判定している。
第２の撮像部とを設け、それらの撮像部で、２つのパタ
ーンを撮像してその２つのパターンの同一性を判定し、
さらにその２つのパターン以外の２つのパターンを撮像
してその２つのパターンの同一性を判定し、同一でない
２つのパターンが有る場合には、判定した２つのパター
ンのいずれかと、判定した同一でない２つのパターン以
外のパターンとを撮像してそれらを比較することによ
り、同一でない２つのパターンのいずれかが不良である
と判定している。
例えば、基板に第１のパターンから第４のパターンか
らなるパターンが繰り返し配置されていて、第１のパタ
ーンに不良がある場合には、まず第１のパターンと第２
のパターンとの同一性を判定する。さらに第３のパター
ンと第４のパターンとの同一性を判定する。そして、判
定した同一でない第１のパターンと第２のパターンのい
ずれかと判定した第３のパターンまたは第４のパターン
との同一性を判定することにより第１のパターンに不良
があることを検出している。
らなるパターンが繰り返し配置されていて、第１のパタ
ーンに不良がある場合には、まず第１のパターンと第２
のパターンとの同一性を判定する。さらに第３のパター
ンと第４のパターンとの同一性を判定する。そして、判
定した同一でない第１のパターンと第２のパターンのい
ずれかと判定した第３のパターンまたは第４のパターン
との同一性を判定することにより第１のパターンに不良
があることを検出している。
＜実施例＞ 本発明の実施例を第１図に示す流れ図により説明す
る。
る。
種々のパターンで形成したパターン集合体を繰り返し
配設した基板に対して、パターン集合体の配設間隔LDと
同一間隔LDにして第１の撮像部と第２の撮像部とを設け
る。以下、第１の撮像部を左撮像部、第２の撮像部を右
撮像部として説明する。
配設した基板に対して、パターン集合体の配設間隔LDと
同一間隔LDにして第１の撮像部と第２の撮像部とを設け
る。以下、第１の撮像部を左撮像部、第２の撮像部を右
撮像部として説明する。
上記左，右撮像部で、上記パターン集合体に設けた検
査区画（パターン）と上記配設間隔LDだけ離れた別のパ
ターン集合体の検査区画（パターン）とを順次撮影す
る。そして、左，右撮像部で撮影して得た左，右画像を
信号処理して、左画像信号と右画像信号とに変換し、
左，右画像信号を比較する。そして、左，右画像信号が
不一致の左（右）画像座標Ciを記憶部に記憶する。この
とき、基板移動方向ｄも合わせて記憶する。
査区画（パターン）と上記配設間隔LDだけ離れた別のパ
ターン集合体の検査区画（パターン）とを順次撮影す
る。そして、左，右撮像部で撮影して得た左，右画像を
信号処理して、左画像信号と右画像信号とに変換し、
左，右画像信号を比較する。そして、左，右画像信号が
不一致の左（右）画像座標Ciを記憶部に記憶する。この
とき、基板移動方向ｄも合わせて記憶する。
このようにして、左，右撮像部でパターンのうち２つ
のパターンを撮像し、その２つのパターンが同一である
か否かを判定する工程と、左，右撮像部で上記２つのパ
ターン以外の２つのパターンを撮像し、撮像した２つの
パターンが同一であるか否かを判定する工程とを行う。
のパターンを撮像し、その２つのパターンが同一である
か否かを判定する工程と、左，右撮像部で上記２つのパ
ターン以外の２つのパターンを撮像し、撮像した２つの
パターンが同一であるか否かを判定する工程とを行う。
上記の如く、全検査区画を左，右撮像部で全面走査す
る。
る。
次に、前記記憶した左，右画像信号が不一致の左
（右）画像座標Ciの一つを呼び出して、この左（右）画
像座標Ciに前記左（右）撮像部を合わせる。
（右）画像座標Ciの一つを呼び出して、この左（右）画
像座標Ciに前記左（右）撮像部を合わせる。
そして、第１判定操作を行う。この判定操作は、前記
記憶した基板移動方向ｄを呼び出すとともに、前記左
（右）画像座標Ciが呼び出した基板移動方向ｄに対して
反対端側に位置するか否かを判定する。
記憶した基板移動方向ｄを呼び出すとともに、前記左
（右）画像座標Ciが呼び出した基板移動方向ｄに対して
反対端側に位置するか否かを判定する。
前記第１判定操作で、前記左（右）画像座標Ciが前記
基板移動方向ｄに対して反対端側に位置する場合には、
前記基板移動方向ｄとは反対方向でかつ前記配設間隔LD
だけ基板を移動する。
基板移動方向ｄに対して反対端側に位置する場合には、
前記基板移動方向ｄとは反対方向でかつ前記配設間隔LD
だけ基板を移動する。
そして、左，右撮像部で撮影して得た左，右画像信号
を比較する操作を行う。
を比較する操作を行う。
次に、前記比較した左，右画像信号どうしが一致する
か否かを判定する第２判定操作を行う。
か否かを判定する第２判定操作を行う。
前記第２判定操作で、左，右画像信号が一致する場合
には、第１判定操作時の右（左）画像座標Ci＋１（Ci−
１）に欠陥パターンが存在し、この右（左）画像座標Ci
＋１（Ci−１）を欠陥パターン座標として出力する。
には、第１判定操作時の右（左）画像座標Ci＋１（Ci−
１）に欠陥パターンが存在し、この右（左）画像座標Ci
＋１（Ci−１）を欠陥パターン座標として出力する。
一方、前記第２判定操作で、左，右画像信号が一致し
ない場合には、呼び出した左（右）画像座標Ci（Ci）に
欠陥パターンが存在し、この左（右）画像座標Ci（Ci）
を欠陥パターン座標として出力する。
ない場合には、呼び出した左（右）画像座標Ci（Ci）に
欠陥パターンが存在し、この左（右）画像座標Ci（Ci）
を欠陥パターン座標として出力する。
また、前記第１判定操作で、左（右）画像座標Ciが前
記基板移動方向ｄに対して反対端側に位置しない場合に
は、前記基板移動方向ｄでかつ前記配設間隔LDだけ基板
を移動する。
記基板移動方向ｄに対して反対端側に位置しない場合に
は、前記基板移動方向ｄでかつ前記配設間隔LDだけ基板
を移動する。
そして、左，右撮像部で撮影して得た左，右画像信号
を比較する操作を行う。
を比較する操作を行う。
次に、前記比較した左，右画像信号どうしが一致する
か否かを判定する第３判定操作を行う。
か否かを判定する第３判定操作を行う。
前記第３判定操作で左，右画像信号が一致する場合に
は、呼び出した左（右）画像座標Ci（Ci−１）に欠陥パ
ターンが存在し、この左（右）画像座標Ci（Ci−１）を
欠陥パターン座標として出力する。
は、呼び出した左（右）画像座標Ci（Ci−１）に欠陥パ
ターンが存在し、この左（右）画像座標Ci（Ci−１）を
欠陥パターン座標として出力する。
一方、前記第３判定操作で、左，右画像信号が一致し
ない場合には、第２判定操作時の右（左）画像座標Ci＋
１（Ci）に欠陥パターンが存在し、この右（左）画像座
標Ci＋１（Ci）を欠陥パターン座標として出力する。
ない場合には、第２判定操作時の右（左）画像座標Ci＋
１（Ci）に欠陥パターンが存在し、この右（左）画像座
標Ci＋１（Ci）を欠陥パターン座標として出力する。
このようにして、第２判定操作および第３判定操作に
より、同一ではないと判定された２つのパターンのうち
の１つと、同一ではないと判定された２つのパターン以
外のパターンとを比較し、同一ではないと判定された２
つのパターンのいずれかが不良であるか否かを判定する
工程を行う。
より、同一ではないと判定された２つのパターンのうち
の１つと、同一ではないと判定された２つのパターン以
外のパターンとを比較し、同一ではないと判定された２
つのパターンのいずれかが不良であるか否かを判定する
工程を行う。
上記したように第２判定操作または第３判定操作を行
って、欠陥パターン座標を出力した後に、さらに、他に
記憶した左，右画像信号が不一致の左（右）画像座標Ci
の有無を判定する第４判定操作を行う。
って、欠陥パターン座標を出力した後に、さらに、他に
記憶した左，右画像信号が不一致の左（右）画像座標Ci
の有無を判定する第４判定操作を行う。
前記第４判定操作で、他に記憶した左（右）画像座標
Ciが有る場合には、その左（右）画像座標Ciの一つを呼
び出して、再び前記第１判定操作以降を行う。
Ciが有る場合には、その左（右）画像座標Ciの一つを呼
び出して、再び前記第１判定操作以降を行う。
一方、前記第４判定操作で、他に記憶した左（右）画
像座標Ciが無い場合には、検査を終了する。
像座標Ciが無い場合には、検査を終了する。
次に、前記第２判定操作または第３判定操作の具体例
を第２図により説明する。
を第２図により説明する。
まず具体例１の上段は、記憶された左，右画像信号が
不一致の左画面座標C1を呼び出して、座標C1に左撮像部
の画面Ｌを一致させるとともに座標C2に右撮像部の画面
Ｒを一致させる。基板移動方向ｄは前記第１判定操作で
決定され、左方向に指示される。
不一致の左画面座標C1を呼び出して、座標C1に左撮像部
の画面Ｌを一致させるとともに座標C2に右撮像部の画面
Ｒを一致させる。基板移動方向ｄは前記第１判定操作で
決定され、左方向に指示される。
次に下段に示す如く、基板を前記配設間隔LDだけ左方
向に移動すると、座標C1が前記左撮像部の画面Ｌより配
設間隔LDだけ左に移動し、前記左撮像部の画面Ｌには座
標C2が撮影され、前記右撮像部の画面Ｒには座標C3が撮
影される。このとき、左，右撮像部の左，右画像信号を
比較して、一致するか否かを判定する。この場合は一致
する（Ｌ＝Ｒ）ので、座標C1に欠陥パターンが存在する
ことが認識される。
向に移動すると、座標C1が前記左撮像部の画面Ｌより配
設間隔LDだけ左に移動し、前記左撮像部の画面Ｌには座
標C2が撮影され、前記右撮像部の画面Ｒには座標C3が撮
影される。このとき、左，右撮像部の左，右画像信号を
比較して、一致するか否かを判定する。この場合は一致
する（Ｌ＝Ｒ）ので、座標C1に欠陥パターンが存在する
ことが認識される。
次に具体例２の上段は、前記具体例１と同様に座標C1
に左撮像部の画面Ｌを一致させるとともに座標C2に右撮
像部の画面Ｒを一致させる。また基板移動方向ｄは前記
第１判定操作で決定され、左方向に指示されている。
に左撮像部の画面Ｌを一致させるとともに座標C2に右撮
像部の画面Ｒを一致させる。また基板移動方向ｄは前記
第１判定操作で決定され、左方向に指示されている。
そして、基板を左方向でかつ前記配設間隔LDだけ移動
すると、具体例２の下段に示す様に、座標C1が前記左撮
像部の画面Ｌより配設間隔LDだけ左に移動し、前記左撮
像部の画面Ｌには座標C2が撮影され、前記右撮像部の画
面Ｒには座標C3が撮影される。この時、左，右撮像部の
左，右画像信号を比較して、一致するか否かを判定す
る。この場合は一致しない（Ｌ≠Ｒ）ので、座標C2に欠
陥パターンが存在することが認識される。
すると、具体例２の下段に示す様に、座標C1が前記左撮
像部の画面Ｌより配設間隔LDだけ左に移動し、前記左撮
像部の画面Ｌには座標C2が撮影され、前記右撮像部の画
面Ｒには座標C3が撮影される。この時、左，右撮像部の
左，右画像信号を比較して、一致するか否かを判定す
る。この場合は一致しない（Ｌ≠Ｒ）ので、座標C2に欠
陥パターンが存在することが認識される。
上記判定は、各検査区画に連続または一つ毎に欠陥パ
ターンが存在する確率が非常に小さいので無視するとい
う前提条件により成立する。
ターンが存在する確率が非常に小さいので無視するとい
う前提条件により成立する。
一般に、ホトマスク等の超クリーン空間で製作される
パターン集合体上には、100cm2当たり４乃至５個以下の
欠陥しか存在しない。例えば、1cm2の面積を有するパタ
ーン集合体では、欠陥個数は0.05個以下になる。また検
査区画の面積は、一例として、0.2mm×0.2mmであり、こ
の検査区画一つに１個の欠陥が存在する確率は0.002％
になる。さらに、この欠陥が連続または一つ毎に出現す
る確率はさらに低くなる為に、上記前提条件が成立す
る。
パターン集合体上には、100cm2当たり４乃至５個以下の
欠陥しか存在しない。例えば、1cm2の面積を有するパタ
ーン集合体では、欠陥個数は0.05個以下になる。また検
査区画の面積は、一例として、0.2mm×0.2mmであり、こ
の検査区画一つに１個の欠陥が存在する確率は0.002％
になる。さらに、この欠陥が連続または一つ毎に出現す
る確率はさらに低くなる為に、上記前提条件が成立す
る。
次に具体例３の上段は、記憶された左右画像信号が不
一致の左画面座標C2を呼び出して、座標C2に左撮像部の
画面Ｌを一致させるとともに座標C3に右撮像部の画面Ｒ
を一致させる。基板移動方向ｄは前記第１判定操作で決
定され、右方向に指示されている。
一致の左画面座標C2を呼び出して、座標C2に左撮像部の
画面Ｌを一致させるとともに座標C3に右撮像部の画面Ｒ
を一致させる。基板移動方向ｄは前記第１判定操作で決
定され、右方向に指示されている。
次に具体例３の下段に示す如く、基板を前記配設間隔
LDだけ右方向に移動すると、座標C3が前記右撮像部の画
面Ｒより配設間隔LDだけ右方向に移動し、前記左撮像部
の画面Ｌには座標C1が撮影され、前記右撮像部の画面Ｒ
には座標C2が撮影される。この時、左，右撮像部で得た
左，右座標信号を比較して、一致するか否かを判定す
る。この場合は一致しない（Ｌ≠Ｒ）ので、座標C2に欠
陥パターンが存在することが認識される。
LDだけ右方向に移動すると、座標C3が前記右撮像部の画
面Ｒより配設間隔LDだけ右方向に移動し、前記左撮像部
の画面Ｌには座標C1が撮影され、前記右撮像部の画面Ｒ
には座標C2が撮影される。この時、左，右撮像部で得た
左，右座標信号を比較して、一致するか否かを判定す
る。この場合は一致しない（Ｌ≠Ｒ）ので、座標C2に欠
陥パターンが存在することが認識される。
上記具体例３は、前述した具体例２と同様に前述した
前提条件により成立する。
前提条件により成立する。
次いで具体例４の上段は、前記具体例３と同様に座標
C2に左撮像部の画面Ｌを一致させるとともに座標C3に右
撮像部の画面Ｒを一致させる。基板移動方向ｄは前記第
１判定操作で決定され、右方向に指示されている。
C2に左撮像部の画面Ｌを一致させるとともに座標C3に右
撮像部の画面Ｒを一致させる。基板移動方向ｄは前記第
１判定操作で決定され、右方向に指示されている。
そして、基板を右方向でかつ前記配設間隔LDだけ移動
すると、具体例４の下段に示す様に、座標C3が前記右撮
像部の画面Ｒより配設間隔LDだけ右方向に移動し、前記
左撮像部の画面Ｌには座標C1が撮影され、前記右撮像部
の画面Ｒには座標C2が撮影される。この時、左，右撮像
部で得た左，右画像信号を比較して、一致するか否かを
判定する。この場合は一致する（Ｌ＝Ｒ）ので、座標C3
に欠陥パターンが存在することが認識される。
すると、具体例４の下段に示す様に、座標C3が前記右撮
像部の画面Ｒより配設間隔LDだけ右方向に移動し、前記
左撮像部の画面Ｌには座標C1が撮影され、前記右撮像部
の画面Ｒには座標C2が撮影される。この時、左，右撮像
部で得た左，右画像信号を比較して、一致するか否かを
判定する。この場合は一致する（Ｌ＝Ｒ）ので、座標C3
に欠陥パターンが存在することが認識される。
上記した様に欠陥パターンの存在が認識された座標
は、欠陥パターン座標として出力して、磁気カード等の
記録媒体に書き込まれる。そして欠陥パターン情報とし
て利用される。
は、欠陥パターン座標として出力して、磁気カード等の
記録媒体に書き込まれる。そして欠陥パターン情報とし
て利用される。
また、上記説明では、左，右画像が不一致の画像座標
を左撮像部で撮影した左画像座標を用いたが、右撮像部
で撮影した右画像座標を用いることもできる。
を左撮像部で撮影した左画像座標を用いたが、右撮像部
で撮影した右画像座標を用いることもできる。
さらに、第２図では、欠陥パターンを欠けパターンで
示したが、上記検出方法は欠陥パターンの形状に左右さ
れない。
示したが、上記検出方法は欠陥パターンの形状に左右さ
れない。
＜発明の効果＞ 以上、説明したように本発明によれば、第1,第２の撮
像部で、２つのパターンを撮像してその２つのパターン
の同一性を判定し、さらにその２つのパターン以外の２
つのパターンを撮像してその２つのパターンの同一性を
判定し、同一でない２つのパターンが有る場合には、判
定した２つのパターンのいずれかと、判定した同一でな
い２つのパターン以外のパターンとを撮像してそれらを
比較することにより、同一でない２つのパターンのいず
れかが不良であると判定するので、自動的に欠陥パター
ンを特定することできる。よって、オペレータによる誤
判定が防止でき判定精度が向上できる。また判定時間が
短縮できるので欠陥検査のスループットが向上できる。
さらに、オペレータの作業負担が軽減できる。
像部で、２つのパターンを撮像してその２つのパターン
の同一性を判定し、さらにその２つのパターン以外の２
つのパターンを撮像してその２つのパターンの同一性を
判定し、同一でない２つのパターンが有る場合には、判
定した２つのパターンのいずれかと、判定した同一でな
い２つのパターン以外のパターンとを撮像してそれらを
比較することにより、同一でない２つのパターンのいず
れかが不良であると判定するので、自動的に欠陥パター
ンを特定することできる。よって、オペレータによる誤
判定が防止でき判定精度が向上できる。また判定時間が
短縮できるので欠陥検査のスループットが向上できる。
さらに、オペレータの作業負担が軽減できる。
第１図は、実施例の流れ図、 第２図は、具体例の説明図、 第３図は、従来例の流れ図である。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−305477（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−228163（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−245222（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−189775（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−61451（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−61449（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−179242（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 21/84 - 21/958 G01B 11/24 G03F 1/08 G06T 7/00
Claims (1)
- 【請求項１】基板にパターンが繰り返し配置された前記
各パターンの欠陥を検出する方法であって、 第１の撮像部と第２の撮像部とで、前記パターンのうち
２つのパターンを撮像し、前記２つのパターンが同一で
あるか否かを判定する工程と、 第１の撮像部と第２の撮像部とで、前記２つのパターン
以外の２つのパターンを撮像し、該パターンが同一であ
るか否かを判定する工程と、 同一ではないと判定された前記２つのパターンのうちの
１つと、同一ではないと判定された前記２つのパターン
以外のパターンとを比較し、同一ではないと判定された
前記２つのパターンのいずれかが不良であるか否かを判
定する工程と を有することを特徴とする欠陥パターンの検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5334790A JP3036642B2 (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | 欠陥パターンの検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5334790A JP3036642B2 (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | 欠陥パターンの検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03255345A JPH03255345A (ja) | 1991-11-14 |
| JP3036642B2 true JP3036642B2 (ja) | 2000-04-24 |
Family
ID=12940244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5334790A Expired - Fee Related JP3036642B2 (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 | 欠陥パターンの検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3036642B2 (ja) |
-
1990
- 1990-03-05 JP JP5334790A patent/JP3036642B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03255345A (ja) | 1991-11-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100581548B1 (ko) | 결함검출장치 및 방법과 그 기록매체 | |
| JP4216021B2 (ja) | 侵入物検出装置 | |
| JPH08292014A (ja) | パターン位置の計測方法および計測装置 | |
| JP3036642B2 (ja) | 欠陥パターンの検出方法 | |
| JPH1117400A (ja) | 実装部品検査装置 | |
| JP2003279319A (ja) | 寸法検査方法及びその装置並びにマスクの製造方法 | |
| JP2002042112A (ja) | 回路基板の部品実装検査方法及びそのシステム | |
| JPH0727708A (ja) | ウエハの欠陥検査方法 | |
| JPH08181053A (ja) | 位置検出方法 | |
| JP2004354064A (ja) | 光学系測定画像による磁気ヘッドの欠陥検査方法および欠陥検査装置 | |
| JP3116438B2 (ja) | プリント配線基板の検査装置および検査方法 | |
| JP4474006B2 (ja) | 検査装置 | |
| JP2986902B2 (ja) | 画像処理装置 | |
| JPH0721372A (ja) | 画像検出装置 | |
| JPH0244475A (ja) | パターン検査装置 | |
| JP2974788B2 (ja) | パターン位置検出方法 | |
| JPH0325357A (ja) | 画像欠陥検出方法 | |
| JPH02129768A (ja) | パターンマッチング方法 | |
| JPS63244174A (ja) | 画像処理方法 | |
| JPS6149281A (ja) | パタ−ン検査装置 | |
| JPH09126738A (ja) | ３次元形状計測装置及びその方法 | |
| JPS5821108A (ja) | パタ−ン欠陥検査装置 | |
| JPH0438574A (ja) | パターン検査装置 | |
| JPH0726915B2 (ja) | 画像欠陥検出方法 | |
| JPH0981759A (ja) | 境界抽出方法およびその装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |