JP3034117B2 - 光ディスクのプリフォーマット方法 - Google Patents
光ディスクのプリフォーマット方法Info
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- JP3034117B2 JP3034117B2 JP4043535A JP4353592A JP3034117B2 JP 3034117 B2 JP3034117 B2 JP 3034117B2 JP 4043535 A JP4043535 A JP 4043535A JP 4353592 A JP4353592 A JP 4353592A JP 3034117 B2 JP3034117 B2 JP 3034117B2
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- JP
- Japan
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- optical disk
- pit
- guide grooves
- distance
- pits
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、追記型光ディスクや可
逆型光ディスク等の光ディスクにおいて、アドレス情報
をプリフォーマットする方法に関する。
逆型光ディスク等の光ディスクにおいて、アドレス情報
をプリフォーマットする方法に関する。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】一般に、記録再生可能な光
ディスクは、予め案内溝とディスク上の位置（番地）を
示すアドレス情報を一定間隔ごとに形成しておく（プリ
フォーマットする）必要がある。
ディスクは、予め案内溝とディスク上の位置（番地）を
示すアドレス情報を一定間隔ごとに形成しておく（プリ
フォーマットする）必要がある。
【０００３】この理由は、ユーザーが光ディスクを使用
する度にレーザービームでアドレス情報を書き込むので
は、容量の大きい光ディスクの場合、時間がかかりすぎ
非常に不便であること、また、ユーザーがアドレス情報
等を書き込んでいるときに、振動，埃，案内溝の欠陥な
どがあったりすると、レーザービームのスポット位置が
大きくずれて、アドレス情報の位置に大きな誤差を生
じ、ひいては、ユーザーの使用時に目標のアドレス情報
の位置にレーザービームのスポットが到達できないから
である。なおここで、案内溝は情報の記録位置や読み出
し位置が光ディスクの回転に伴って偏心運動するなどし
ても、常に記録や読み出しが安定に行えるようにするた
めに形成するものである。
する度にレーザービームでアドレス情報を書き込むので
は、容量の大きい光ディスクの場合、時間がかかりすぎ
非常に不便であること、また、ユーザーがアドレス情報
等を書き込んでいるときに、振動，埃，案内溝の欠陥な
どがあったりすると、レーザービームのスポット位置が
大きくずれて、アドレス情報の位置に大きな誤差を生
じ、ひいては、ユーザーの使用時に目標のアドレス情報
の位置にレーザービームのスポットが到達できないから
である。なおここで、案内溝は情報の記録位置や読み出
し位置が光ディスクの回転に伴って偏心運動するなどし
ても、常に記録や読み出しが安定に行えるようにするた
めに形成するものである。
【０００４】従来、このようなピット及び案内溝は、図
５に示すように、回転するディスク状の基体１を水平移
動させながら、案内溝形成用のレーザービームＬA 及び
ピット形成用のレーザービームＬP を照射して、案内溝
Ａ及びピットＰのペアを順次形成するのが一般的であ
り、通常は二つのレーザービームの位置関係が固定であ
った。
５に示すように、回転するディスク状の基体１を水平移
動させながら、案内溝形成用のレーザービームＬA 及び
ピット形成用のレーザービームＬP を照射して、案内溝
Ａ及びピットＰのペアを順次形成するのが一般的であ
り、通常は二つのレーザービームの位置関係が固定であ
った。
【０００５】このために、基体１をＨ方向へ水平移動さ
せるときに、基体１の移動量に変動があったような場合
には、ピットＰが案内溝Ａ−Ａ間でかなりばらついた状
態で形成され、ピット部にトラッキング用のレーザービ
ームが照射されたときに、反射光が偏るなどして読み出
しが正確に行われず問題であった。
せるときに、基体１の移動量に変動があったような場合
には、ピットＰが案内溝Ａ−Ａ間でかなりばらついた状
態で形成され、ピット部にトラッキング用のレーザービ
ームが照射されたときに、反射光が偏るなどして読み出
しが正確に行われず問題であった。
【０００６】また、基体１の振動などによる外乱の影響
を避けるために、レーザービームを案内溝Ａの振れの状
況に追従させるように、トラッキングサーボ機構を具備
させるのが一般的であるが、これにより、かえってレー
ザービームがピットＰに照射されにくくなり、トラッキ
ングが不安定となったり、ピット部の再生振幅が小さく
なるなどの現象が生じ問題であった。
を避けるために、レーザービームを案内溝Ａの振れの状
況に追従させるように、トラッキングサーボ機構を具備
させるのが一般的であるが、これにより、かえってレー
ザービームがピットＰに照射されにくくなり、トラッキ
ングが不安定となったり、ピット部の再生振幅が小さく
なるなどの現象が生じ問題であった。
【０００７】
【目的】そこで、本発明では常にピットを案内溝間の中
心線位置近傍に形成させ、光ディスクの安定したトラッ
キング特性が得られるような光ディスクのプリフォーマ
ット方法を提供することを目的とする。
心線位置近傍に形成させ、光ディスクの安定したトラッ
キング特性が得られるような光ディスクのプリフォーマ
ット方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の光ディスクのプリフォーマット方法は、回
転する基体の主面上に案内溝形成用エネルギービームと
ピット形成用エネルギービームとを該基体に対して相対
的に水平移動させながら照射し、円弧状の案内溝及びピ
ットを形成する光ディスクのプリフォーマット方法であ
って、両エネルギービームのビーム間距離を基体の両エ
ネルギービームに対する相対的な水平移動量に応じて可
変とすることにより、案内溝間距離をＬ、案内溝間の中
心線とピットの中心線との距離をＤとしたときに、式；
Ｄ／Ｌ ≦ 0.125 を満たすように案内溝と案内溝との
間にピットを形成するようにしたことを特徴とする。
に、本発明の光ディスクのプリフォーマット方法は、回
転する基体の主面上に案内溝形成用エネルギービームと
ピット形成用エネルギービームとを該基体に対して相対
的に水平移動させながら照射し、円弧状の案内溝及びピ
ットを形成する光ディスクのプリフォーマット方法であ
って、両エネルギービームのビーム間距離を基体の両エ
ネルギービームに対する相対的な水平移動量に応じて可
変とすることにより、案内溝間距離をＬ、案内溝間の中
心線とピットの中心線との距離をＤとしたときに、式；
Ｄ／Ｌ ≦ 0.125 を満たすように案内溝と案内溝との
間にピットを形成するようにしたことを特徴とする。
【０００９】なお、ここで基体とはガラス基板などのス
タンパー用のマザー基板や光ディスク基板等をいう。
タンパー用のマザー基板や光ディスク基板等をいう。
【００１０】
【実施例】本発明に係る実施例を詳細に説明する。フォ
トレジストを塗布したスタンパー用のガラス基板（以
下、基体という）１を、図１に示すようなエネルギービ
ームであるレーザービームによるカッティングシステム
に設置して、これを回転及び水平移動させながら基体１
上に所定間隔の案内溝及びピットの形成を行う。
トレジストを塗布したスタンパー用のガラス基板（以
下、基体という）１を、図１に示すようなエネルギービ
ームであるレーザービームによるカッティングシステム
に設置して、これを回転及び水平移動させながら基体１
上に所定間隔の案内溝及びピットの形成を行う。
【００１１】アルゴンレーザー発生装置ＡＬから照射さ
れたレーザービームＬ0 は、レーザービームＬ0 を直線
偏光とするためにλ／２プレートＰＬを透過させ、偏光
ビームスプリッタＳ１により二分させレーザービームＬ
1 ，Ｌ2 とし、それぞれのレーザービームを別々の光変
調器Ｍ１，Ｍ２で変調させる。ここで、光変調器Ｍ１は
ピット形成用であり、プリフォーマット用のピットを形
成するためにレーザービームをオン・オフさせるもので
ある。一方、光変調器Ｍ２は案内溝形成用であり、案内
溝を形成する際に、レーザービームの断続的な照射を行
い溝なし部分を形成させるためのものである。
れたレーザービームＬ0 は、レーザービームＬ0 を直線
偏光とするためにλ／２プレートＰＬを透過させ、偏光
ビームスプリッタＳ１により二分させレーザービームＬ
1 ，Ｌ2 とし、それぞれのレーザービームを別々の光変
調器Ｍ１，Ｍ２で変調させる。ここで、光変調器Ｍ１は
ピット形成用であり、プリフォーマット用のピットを形
成するためにレーザービームをオン・オフさせるもので
ある。一方、光変調器Ｍ２は案内溝形成用であり、案内
溝を形成する際に、レーザービームの断続的な照射を行
い溝なし部分を形成させるためのものである。
【００１２】レーザービームの楕円形状を補正するため
に、光変調器Ｍ１を通過したレーザービームをビーム形
成器Ｂ１に通過させ、一方、光変調器Ｍ２を通過したレ
ーザービームをビーム形成器Ｂ２に通過させる。そし
て、ビーム形成器Ｂ１を通過させたピット形成用のレー
ザービームは、ビーム位置微調整ミラーＢＭより角度調
節され、偏光ビームスプリッタＳ２で再び同一スポット
内で基体１上に案内溝形成用ビームＬA 及びピット形成
用ビームＬP を照射できるように合成される。なお、上
記ビーム位置微調整ミラーＢＭよる角度調節は案内溝形
成用ビームを調整するように配置してもよい。
に、光変調器Ｍ１を通過したレーザービームをビーム形
成器Ｂ１に通過させ、一方、光変調器Ｍ２を通過したレ
ーザービームをビーム形成器Ｂ２に通過させる。そし
て、ビーム形成器Ｂ１を通過させたピット形成用のレー
ザービームは、ビーム位置微調整ミラーＢＭより角度調
節され、偏光ビームスプリッタＳ２で再び同一スポット
内で基体１上に案内溝形成用ビームＬA 及びピット形成
用ビームＬP を照射できるように合成される。なお、上
記ビーム位置微調整ミラーＢＭよる角度調節は案内溝形
成用ビームを調整するように配置してもよい。
【００１３】ここで、図３に示すように案内溝Ａ−Ａ間
の中心線ＡL 位置近傍にピットＰの中心線ＰL 位置が来
るように高精度の形成を行うためには、これら二つのビ
ームＬA ，ＬP の位置合わせを高精度に行う必要があ
る。このため、基体１を水平移動させるときに、送りモ
ータＭＴの回転軸Ｒにより行われるが、このとき送りモ
ータＭＴの回転にばらつきが生じていても、送りモータ
ＭＴの送り量をビーム位置微調整ミラーＢＭにより、二
つのビーム位置を連動させて、案内溝Ａ−Ａ間のほぼ中
心線ＡL 上にピットＰの中心線ＰL が来るように形成す
ることができる。二つのビーム位置の位置合わせは、例
えば送り量が多い場合は二つのビーム間距離を広げるよ
うにミラー角度を調整し、送り量が少ない場合は二つの
ビーム間距離を狭めるようにミラー角度を調整する。な
お、基体１の水平移動の代わりにレーザービームを移動
させるようにしてもよく、案内溝形成用のレーザービー
ムとピット形成用のレーザービームとを回転する基体基
体に対して相対的に水平移動させながら照射するように
すればよい。
の中心線ＡL 位置近傍にピットＰの中心線ＰL 位置が来
るように高精度の形成を行うためには、これら二つのビ
ームＬA ，ＬP の位置合わせを高精度に行う必要があ
る。このため、基体１を水平移動させるときに、送りモ
ータＭＴの回転軸Ｒにより行われるが、このとき送りモ
ータＭＴの回転にばらつきが生じていても、送りモータ
ＭＴの送り量をビーム位置微調整ミラーＢＭにより、二
つのビーム位置を連動させて、案内溝Ａ−Ａ間のほぼ中
心線ＡL 上にピットＰの中心線ＰL が来るように形成す
ることができる。二つのビーム位置の位置合わせは、例
えば送り量が多い場合は二つのビーム間距離を広げるよ
うにミラー角度を調整し、送り量が少ない場合は二つの
ビーム間距離を狭めるようにミラー角度を調整する。な
お、基体１の水平移動の代わりにレーザービームを移動
させるようにしてもよく、案内溝形成用のレーザービー
ムとピット形成用のレーザービームとを回転する基体基
体に対して相対的に水平移動させながら照射するように
すればよい。
【００１４】次に、上述のようにしてスタンパー用の基
体１上にレーザーカッティングした後に、レジストを現
像により不要箇所を除去し、さらにエッチングによりガ
ラス基板に案内溝及びピットを形成してガラスマスター
を作製し、これにニッケルを蒸着して、しかる後にガラ
スマスターを取り除くことにより約0.3 μm の厚のスタ
ンパーを作製する。このスタンパーを用いて樹脂の射出
成形を行うことにより光ディスクの樹脂基板ＳＢを作製
する。
体１上にレーザーカッティングした後に、レジストを現
像により不要箇所を除去し、さらにエッチングによりガ
ラス基板に案内溝及びピットを形成してガラスマスター
を作製し、これにニッケルを蒸着して、しかる後にガラ
スマスターを取り除くことにより約0.3 μm の厚のスタ
ンパーを作製する。このスタンパーを用いて樹脂の射出
成形を行うことにより光ディスクの樹脂基板ＳＢを作製
する。
【００１５】次に、上記スタンパーを用い、図２に示す
ような直径3.5 インチ( φ86mm) ポリカーボネートのデ
ィスク基板ＳＢ上に形成させる案内溝Ａ−Ａ間距離Ｌを
1.6μm 、ピットＰの径を0.8 μm 、案内溝Ａの幅を0.2
μm に設定し、ピットＰの形成位置を案内溝Ａ−Ａ間
中心線ＡL 位置からＤ′＝ 0, ＋0.12μm , ＋0.20μm
, ＋0.24μm , −0.12μm , −0.20μm , −0.24μm
の５種類の位置に形成した。ここで、＋及び−の符号は
方向性を示し、Ｄ′の絶対値Ｄを案内溝Ａ−Ａ間の中心
線ＡL とピットＰの中心線ＰL との距離と定義する。
ような直径3.5 インチ( φ86mm) ポリカーボネートのデ
ィスク基板ＳＢ上に形成させる案内溝Ａ−Ａ間距離Ｌを
1.6μm 、ピットＰの径を0.8 μm 、案内溝Ａの幅を0.2
μm に設定し、ピットＰの形成位置を案内溝Ａ−Ａ間
中心線ＡL 位置からＤ′＝ 0, ＋0.12μm , ＋0.20μm
, ＋0.24μm , −0.12μm , −0.20μm , −0.24μm
の５種類の位置に形成した。ここで、＋及び−の符号は
方向性を示し、Ｄ′の絶対値Ｄを案内溝Ａ−Ａ間の中心
線ＡL とピットＰの中心線ＰL との距離と定義する。
【００１６】さらに、このディスク基板ＳＢの一主面上
にマグネトロンスパッタにより光記録層を形成した。こ
こで、光記録層は例えば非晶質イットリウムサイアロン
の第１誘電体層 (約120 nm厚) 、非晶質Gd-Dy-Fe系の光
磁気記録層( 約250 nm厚) 、非晶質イットリウムサイア
ロンの第２誘電体層（約300 nm厚) 、及び金属アルミニ
ウムの反射層( 約60nm厚) を順次積層したものである。
なお、上記誘電体層はいずれか一方が無い場合があって
もよく、その他周知の構成・材質をとりうる。
にマグネトロンスパッタにより光記録層を形成した。こ
こで、光記録層は例えば非晶質イットリウムサイアロン
の第１誘電体層 (約120 nm厚) 、非晶質Gd-Dy-Fe系の光
磁気記録層( 約250 nm厚) 、非晶質イットリウムサイア
ロンの第２誘電体層（約300 nm厚) 、及び金属アルミニ
ウムの反射層( 約60nm厚) を順次積層したものである。
なお、上記誘電体層はいずれか一方が無い場合があって
もよく、その他周知の構成・材質をとりうる。
【００１７】次に、上記光ディスクを2400rpm で回転さ
せ、このときのトラッキングエラー信号を比較した。こ
こで、トラックジャンプ時（レーザー光が案内溝Ａから
案内溝Ａへ通過した時）のトラッキングエラー信号の振
幅をＩJ , レーザー光がピット部を通過する時のトラッ
キングエラー信号の乱れの振幅をＩP とし、ＩP ／ＩJ
の比をスパイク比とする。このスパイク比が0.5 以上に
なるとトラッキングが非常に不安定になり、ピット部で
のトラッキングにずれが発生する（通常、トラッキング
エラー信号に基づくサーボ機構を作動させるが、スパイ
ク比が大きくなりすぎるとサーボ機構の調整範囲を越え
てしまう）が、両レーザー光のビーム間距離を基体のビ
ームに対する相対的な水平移動量に応じて可変とし、図
４に示すようにＤ／Ｌを0.125 以下にすることにより、
ＩP ／ＩJ を0.5 以下に抑えることができ安定したトラ
ッキング特性が得られ、Ｄ／Ｌ＝0 の値で規格化すると
明らかなように、ピットの再生信号振幅もＤ／Ｌ＝0 の
時の90％以上を保つことができる。さらに、Ｄ／Ｌを0.
075 以下にすればトラッキングエラーにあらわれるＩP
／ＩJ はほとんどゼロとなり、いっそう安定したトラッ
キング特性を実現させることが可能となる。
せ、このときのトラッキングエラー信号を比較した。こ
こで、トラックジャンプ時（レーザー光が案内溝Ａから
案内溝Ａへ通過した時）のトラッキングエラー信号の振
幅をＩJ , レーザー光がピット部を通過する時のトラッ
キングエラー信号の乱れの振幅をＩP とし、ＩP ／ＩJ
の比をスパイク比とする。このスパイク比が0.5 以上に
なるとトラッキングが非常に不安定になり、ピット部で
のトラッキングにずれが発生する（通常、トラッキング
エラー信号に基づくサーボ機構を作動させるが、スパイ
ク比が大きくなりすぎるとサーボ機構の調整範囲を越え
てしまう）が、両レーザー光のビーム間距離を基体のビ
ームに対する相対的な水平移動量に応じて可変とし、図
４に示すようにＤ／Ｌを0.125 以下にすることにより、
ＩP ／ＩJ を0.5 以下に抑えることができ安定したトラ
ッキング特性が得られ、Ｄ／Ｌ＝0 の値で規格化すると
明らかなように、ピットの再生信号振幅もＤ／Ｌ＝0 の
時の90％以上を保つことができる。さらに、Ｄ／Ｌを0.
075 以下にすればトラッキングエラーにあらわれるＩP
／ＩJ はほとんどゼロとなり、いっそう安定したトラッ
キング特性を実現させることが可能となる。
【００１８】なお、本実施例はユーザの記録領域を有す
る光ディスクであれば適用することができ、また案内溝
やピットを形成する基体は光ディスク基板そのものであ
ってもよい。また、本実施例では一つのビーム発生装置
によりカッティングを行ったが、複数のビーム発生装置
を用いてもよく、さらにこのビームはレーザービームの
他に電子ビーム等各種エネルギービームを用いることが
可能である。
る光ディスクであれば適用することができ、また案内溝
やピットを形成する基体は光ディスク基板そのものであ
ってもよい。また、本実施例では一つのビーム発生装置
によりカッティングを行ったが、複数のビーム発生装置
を用いてもよく、さらにこのビームはレーザービームの
他に電子ビーム等各種エネルギービームを用いることが
可能である。
【００１９】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の光ディス
クのプリフォーマット方法によれば、ピットが案内溝間
においてばらつくことが極力防止され、従来のようにピ
ット部にトラッキング用のレーザー光が照射されたとき
に、反射光が偏るなどして読み出し等が不安定となるこ
とがなく、良好なトラキング特性を有する光ディスクを
提供することができる。
クのプリフォーマット方法によれば、ピットが案内溝間
においてばらつくことが極力防止され、従来のようにピ
ット部にトラッキング用のレーザー光が照射されたとき
に、反射光が偏るなどして読み出し等が不安定となるこ
とがなく、良好なトラキング特性を有する光ディスクを
提供することができる。
【図１】本発明に係る光ディスクのプリフォーマットを
行う装置の一例を示す全体構成図である。
行う装置の一例を示す全体構成図である。
【図２】光ディスク基板に形成した案内溝及びピットを
示す断面斜視図である。
示す断面斜視図である。
【図３】案内溝及びピットを形成させた箇所の平面図で
ある。
ある。
【図４】ピット部の再生振幅に対するトラッキングエラ
ースパイク比を示すグラフである。
ースパイク比を示すグラフである。
【図５】従来のプリフォーマットされた光ディスクを示
す断面図である。
す断面図である。
１：基体 Ａ：案内溝 Ｐ：ピット ＡＬ：アルゴンレーザー発生装置 Ｂ１，Ｂ２：ビーム形成器 ＢＭ：ビーム位置微調整ミラー Ｍ１，Ｍ２：光変調器 ＭＴ：送りモータ Ｓ１，Ｓ２：偏光ビームスプリッタ ＳＢ：ディスク基板
Claims (1)
- 【請求項１】 回転する基体の主面上に案内溝形成用エ
ネルギービームとピット形成用エネルギービームとを該
基体に対して相対的に水平移動させながら照射し、円弧
状の案内溝及びピットを形成する光ディスクのプリフォ
ーマット方法であって、前記両エネルギービームのビー
ム間距離を前記基体の両エネルギービームに対する相対
的な水平移動量に応じて可変とすることにより、案内溝
間距離をＬ、案内溝間の中心線とピットの中心線との距
離をＤとしたときに、下記式（１）を満たすように案内
溝と案内溝との間にピットを形成するようにしたことを
特徴とする光ディスクのプリフォーマット方法。 Ｄ／Ｌ ≦ 0.125 ・・・ (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4043535A JP3034117B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 光ディスクのプリフォーマット方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4043535A JP3034117B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 光ディスクのプリフォーマット方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05242479A JPH05242479A (ja) | 1993-09-21 |
| JP3034117B2 true JP3034117B2 (ja) | 2000-04-17 |
Family
ID=12666435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4043535A Expired - Fee Related JP3034117B2 (ja) | 1992-02-28 | 1992-02-28 | 光ディスクのプリフォーマット方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3034117B2 (ja) |
-
1992
- 1992-02-28 JP JP4043535A patent/JP3034117B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05242479A (ja) | 1993-09-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |