JPH11273155A

JPH11273155A - 記録媒体及び記録媒体製造用原盤

Info

Publication number: JPH11273155A
Application number: JP10075769A
Authority: JP
Inventors: Fusaaki Endo; 惣銘遠藤; Katsuhiko Otomo; 勝彦大友; Kyoko Tada; 恭子多田
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1998-03-24
Filing date: 1998-03-24
Publication date: 1999-10-08

Abstract

(57)【要約】【課題】ウォブリンググルーブとストレートグルーブ
とが形成された記録媒体であって、狭トラック化を進め
ても十分に均一なレベルのプッシュプル信号を得ること
が可能な記録媒体を提供する。【解決手段】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れてなる記録媒体において、上記グルーブとして、蛇行
するように形成された第１のグルーブと、蛇行すること
なく形成された第２のグルーブとを、２重螺旋を描くよ
うに形成する。このとき、上記第１のグルーブ及び上記
第２のグルーブの幅の変化量を±４．０％以内とする。
また、上記第１のグルーブ及び上記第２のグルーブの中
心位置ずれ量をトラックピッチの±１．８９％以内とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録トラックに沿
ってグルーブが形成されてなる記録媒体に関する。ま
た、本発明は、そのような記録媒体を製造する際に使用
される記録媒体製造用原盤に関する。

【０００２】

【従来の技術】記録媒体として、円盤状に形成されてな
り光学的に記録及び／又は再生が行われる光ディスクが
実用化されている。このような光ディスクには、コンパ
クトディスクやレーザディスク等のように、データに対
応したエンボスピットがディスク基板に予め形成されて
なる再生専用光ディスクや、ミニディスク等のように、
磁気光学効果を利用してデータの記録を行う光磁気ディ
スクや、ＤＶＤ等のように、記録膜の相変化を利用して
データの記録を行う相変化型光ディスクなどがある（コ
ンパクトディスク，レーザディスク，ミニディスク，Ｄ
ＶＤはいずれも商標）。

【０００３】なお、光磁気ディスクや相変化型光ディス
クのように書き込みが可能な光ディスクでは、通常、記
録トラックに沿ったグルーブがディスク基板に形成され
る。ここで、グルーブとは、主にトラッキングサーボを
行えるようにするために、記録トラックに沿って形成さ
れた、いわゆる案内溝のことである。

【０００４】以上のような光ディスクの製造工程は、エ
ンボスピットやグルーブ等の所望の凹凸パターンに応じ
た表面形状を有する記録媒体製造用原盤を作製する工程
（以下、原盤工程と称する。）と、当該記録媒体製造用
原盤の表面形状をディスク基板に転写する工程（以下、
転写工程と称する。）と、記録媒体製造用原盤の表面形
状が転写されてなるディスク基板上に記録膜や保護膜等
を形成し光ディスクとして製品化する工程（以下、成膜
工程と称する。）とに大別される。

【０００５】これらの工程のうち、原盤工程において
は、通常、先ず、表面を研磨した円盤状のガラス基板を
洗浄し乾燥させ、その後、このガラス基板上に感光材料
であるフォトレジストを塗布する。次に、このフォトレ
ジストに対してレーザ光による露光を行うことによっ
て、エンボスピットやグルーブ等の所望の凹凸パターン
に対応した潜像を形成する。なお、このようにフォトレ
ジストをレーザ光によって露光して潜像を形成する装置
は、一般にレーザカッティング装置と呼ばれている。

【０００６】その後、レーザ光による露光によって潜像
が形成されたフォトレジストに対して現像処理を施す。
これにより、ガラス基板上に所望の凹凸パターンが形成
される。そして、この凹凸パターン上に電鋳等によって
金属膜を形成し、その後、この金属膜を剥離する。これ
により、ガラス基板上に形成されていた凹凸パターンが
転写された金属膜からなる記録媒体製造用原盤が得られ
る。なお、このように作製された記録媒体製造用原盤
は、一般にスタンパと称されている。

【０００７】ここで、フォトレジストを露光して潜像を
形成する際に使用されるレーザカッティング装置の一例
を図５に示す。

【０００８】このレーザカッティング装置１００は、ガ
ラス基板１０１の上に塗布形成されたフォトレジスト１
０２を露光して潜像を形成するためのものである。この
レーザカッティング装置１００でフォトレジスト１０２
に潜像を形成する際、フォトレジスト１０２が塗布形成
されたガラス基板１０１は、移動光学テーブル上に設け
られた回転駆動装置に取り付けられる。そして、フォト
レジスト１０２を露光する際、ガラス基板１０１は、フ
ォトレジスト１０２の全面にわたって所望のパターンで
の露光がなされるように、図中矢印Ａ１に示すように回
転駆動装置によって回転駆動されるとともに、移動光学
テーブルによって平行移動される。

【０００９】なお、このレーザカッティング装置１００
は、２つの露光ビームによってフォトレジスト１０２を
露光することが可能となっている。したがって、このレ
ーザカッティング装置１００は、例えば、一つのフォト
レジスト１０２に対して、グルーブに対応した潜像と、
エンボスピットに対応した潜像とを形成するような場合
に特に好適である。すなわち、このレーザカッティング
装置１００では、一方の露光ビームによってグルーブに
対応した潜像を形成し、他方の露光ビームによってエン
ボスピットに対応した潜像を形成するようなことが可能
となっている。

【００１０】そして、このレーザカッティング装置１０
０は、Ｓ偏光のレーザ光を出射する光源１０３と、光源
１０３から出射されたレーザ光を二分割するビームスプ
リッタ１０４と、ビームスプリッタ１０４によって分割
されてなる一方のレーザ光を光強度変調するための第１
の変調光学系１０５と、ビームスプリッタ１０４によっ
て分割されてなる他方のレーザ光を光強度変調するため
の第２の変調光学系１０６と、ビームスプリッタ１０４
により二分割されたレーザ光を再合成してフォトレジス
ト１０２上に集光する光学系１０７とを備えている。

【００１１】上記レーザカッティング装置１００におい
て、光源１０３より出射されたＳ偏光のレーザ光は、先
ず、ビームスプリッタ１０４によって反射光と透過光と
に分けられ、反射光は第１の変調光学系１０５に導か
れ、透過光はミラー１０８で反射されて第２の変調光学
系１０６に導かれる。なお、これらの反射光及び透過光
は、それぞれフォトレジスト１０２を露光する露光ビー
ムとなるものであり、以下の説明では、ビームスプリッ
タ１０４によって反射された反射光のことを第１の露光
ビームと称し、ビームスプリッタ１０４を透過してきた
透過光のことを第２の露光ビームと称する。

【００１２】そして、第１の変調光学系１０５に入射し
た第１の露光ビームは、集光レンズ１０９によって集光
された上で音響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical
Modulator）１１０に入射し、この音響光学変調器１１
０によって、所望する露光パターンに対応するように光
強度変調される。そして、音響光学変調器１１０によっ
て光強度変調された第１の露光ビームは、コリメートレ
ンズ１１１によって平行光とされた上で、第１の変調光
学系１０５から出射される。

【００１３】一方、第２の変調光学系１０６に入射した
第２の露光ビームは、集光レンズに１１２よって集光さ
れた上で音響光学変調器１１３に入射し、この音響光学
変調器１１３によって、所望する露光パターンに対応す
るように光強度変調される。そして、音響光学変調器１
１３によって光強度変調された第２の露光ビームは、コ
リメートレンズ１１４によって平行光とされるととも
に、λ／２波長板１１５を透過することにより偏光方向
が９０°回転させられた上で、第２の変調光学系１０６
から出射される。

【００１４】このとき、第１の変調光学系１０５から出
射された第１の露光ビームは、Ｓ偏光のままであるが、
第２の変調光学系１０６から出射された第２の露光ビー
ムは、λ／２波長板１１５を透過することにより偏光方
向が９０°回転させられているので、Ｐ偏光となってい
る。

【００１５】そして、第１の変調光学系１０５から出射
された第１の露光ビームは、ミラー１１６によって反射
されて、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれ、
同様に、第２の変調光学系１０６から出射された第２の
露光ビームは、ミラー１１７によって反射されて、移動
光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。

【００１６】そして、第１の変調光学系１０５から出射
され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第
１の露光ビームは、更にミラー１１８によって反射され
て進行方向が９０°曲げられた上で偏光ビームスプリッ
タ１１９に入射する。一方、第２の変調光学系１０６か
ら出射され、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導か
れた第２の露光ビームは、そのまま偏光ビームスプリッ
タ１１９に入射する。

【００１７】ここで、偏光ビームスプリッタ１１９は、
Ｓ偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされてい
る。そして、第１の変調光学系１０５から出射された第
１の露光ビームはＳ偏光であり、第２の変調光学系１０
６から出射された第２の露光ビームはＰ偏光である。し
たがって、第１の変調光学系１０５から出射されて偏光
ビームスプリッタに入射した第１の露光ビームは、当該
偏光ビームスプリッタ１１９によって反射され、また、
第２の変調光学系１０６から出射されて偏光ビームスプ
リッタ１１９に入射した第２の露光ビームは、当該偏光
ビームスプリッタ１１９を透過する。これにより、第１
の変調光学系１０５から出射された第１の露光ビーム
と、第２の変調光学系１０６から出射された第２の露光
ビームとは、進行方向が同一方向となるように再合成さ
れる。

【００１８】そして、進行方向が同一方向となるように
再合成されて偏光ビームスプリッタ１１９から出射した
第１及び第２の露光ビームは、拡大レンズ１２０によっ
て所定のビーム径とされた上でミラー１２１によって反
射され対物レンズ１２２へと導かれ、当該対物レンズ１
２２によってフォトレジスト１０２上に集光される。こ
れにより、フォトレジスト１０２が露光され、フォトレ
ジスト１０２に潜像が形成されることとなる。このと
き、フォトレジスト１０２が塗布形成されているガラス
基板１０１は、上述したように、フォトレジスト１０２
の全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるよ
うに、図５中矢印Ａ１に示すように回転駆動装置によっ
て回転駆動されるとともに、移動光学テーブルによって
平行移動される。

【００１９】ところで、偏光ビームスプリッタ１１９に
入射した第１の露光ビームは、当該偏光ビームスプリッ
タ１１９の反射面にて、第２の露光ビームと合成され
る。このとき、偏光ビームスプリッタ１１９の反射面
は、当該反射面で合成されて出射される光の進行方向に
対して適度な反射角をなすように形成されてなる。これ
により、この偏光ビームスプリッタ１１９から出射され
た第１及び第２の露光ビームが対物レンズ１２２の結像
集光面（即ち、露光対象であるフォトレジスト１０２の
表面）に集光される際に、第１の露光ビームに対応する
スポットと、第２の露光ビームに対応するスポットと
が、異なる位置に形成される。

【００２０】そして、偏光ビームスプリッタ１１９の反
射面の反射角は、例えば、第１の露光ビームに対応する
スポットと、第２の露光ビームに対応するスポットとの
ガラス基板１０１の半径方向における間隔が、トラック
ピッチの半分となるように設定しておく。このように設
定しておくことにより、グルーブとグルーブとの間にエ
ンボスピットを形成したいような場合に、第１の露光ビ
ームによりグルーブに対応する部分を露光し、第２の露
光ビームによりエンボスピットに対応する部分を露光す
ることが可能となる。

【００２１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、記録トラッ
クに沿ってグルーブが形成されてなる光ディスクにおい
て高記録密度化を図るために、蛇行するように形成され
た第１のグルーブと、蛇行することなく形成された第２
のグルーブとが２重螺旋を描くように形成された光ディ
スクが開発されている。

【００２２】なお、以下の説明では、グルーブの蛇行の
ことをウォブリングと称し、ウォブリングするように形
成されたグルーブのことをウォブリンググルーブと称す
る。また、ウォブリンググルーブに対して、蛇行するこ
となく形成されたグルーブのことをストレートグルーブ
と称する。また、２重螺旋を描くように形成された２つ
のグルーブのことをまとめて、ダブルスパイラルグルー
ブと称する。

【００２３】そして、グルーブをウォブリングさせた光
ディスクでは、グルーブをウォブリングさせることによ
りグルーブ自体にアドレス情報を含ませることが可能と
なり、高記録密度化を図ることが可能となる。

【００２４】しかも、ダブルスパイラルグルーブにおい
て、一方のグルーブをストレートグルーブとして、他方
のグルーブをウォブリンググルーブとした場合には、両
方のグルーブをウォブリンググルーブにした場合に比べ
て、狭トラック化を図りやすいので、更なる高記録密度
化を実現できる。なお、一方のグルーブをストレートグ
ルーブにしたとしても、他方のグルーブがウォブリング
グルーブとなっていれば、記録トラックの一方の側面は
必ずウォブリングしていることとなるので、グルーブを
ウォブリングさせることによりグルーブ自体にアドレス
情報を含ませることが可能となるという利点を損なうこ
とはない。

【００２５】しかしながら、ダブルスパイラルグルーブ
において狭トラック化を進めていくと、２つのグルーブ
幅の差や、２つのグルーブの中心位置ずれにより、トラ
ッキングサーボに使用するプッシュプル信号が不安定に
なってしまうという問題が生じる。

【００２６】本発明は、以上のような従来の実情に鑑み
て提案されたものであり、ダブルスパイラルグルーブが
形成された記録媒体として、狭トラック化を進めても十
分に均一なレベルのプッシュプル信号を得ることが可能
な記録媒体を提供することを目的としている。また、本
発明は、そのような記録媒体を製造することが可能な記
録媒体製造用原盤を提供することも目的としている。

【００２７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る記録媒体
は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる記
録媒体であって、上記グルーブとして、第１のグルーブ
と第２のグルーブとが２重螺旋を描くように形成されて
なる。そして、上記第１のグルーブ及び上記第２のグル
ーブの幅の変化量が±４．０％以内であることを特徴と
する。

【００２８】なお、上記記録媒体において、上記第１及
び第２のグルーブのうちの少なくとも一方は、少なくと
も一部が蛇行するように形成されていることが好まし
い。

【００２９】また、上記記録媒体において、上記第１の
グルーブと上記第２のグルーブとの中心位置の間隔が記
録トラックのトラックピッチに対応するように形成され
ている場合、上記第１のグルーブ及び上記第２のグルー
ブの中心位置ずれ量は、トラックピッチの±１．８９％
以内であることが好ましい。

【００３０】また、本発明に係る記録媒体製造用原盤
は、第１のグルーブと第２のグルーブとが２重螺旋を描
くように記録トラックに沿って形成されてなる記録媒体
を製造する際に使用される記録媒体製造用原盤である。
そして、本発明に係る記録媒体製造用原盤は、上記第１
のグルーブに対応するように記録トラックに沿って所定
の幅にて形成された凹凸パターンである第１のグルーブ
パターンと、上記第２のグルーブに対応するように記録
トラックに沿って所定の幅にて形成された凹凸パターン
である第２のグルーブパターンとを有し、上記第１のグ
ルーブパターン及び上記第２のグルーブパターンの幅の
変化量が±４．０％以内であることを特徴とする。

【００３１】なお、上記記録媒体製造用原盤において、
上記第１及び第２のグルーブパターンのうちの少なくと
も一方は、少なくとも一部が蛇行するように形成されて
いることが好ましい。

【００３２】また、上記記録媒体製造用原盤において、
上記第１のグルーブパターンと上記第２のグルーブパタ
ーンとの中心位置の間隔が記録トラックのトラックピッ
チに対応するように形成されている場合、上記第１のグ
ルーブパターン及び上記第２のグルーブパターンの中心
位置ずれ量は、トラックピッチの±１．８９％以内であ
ることが好ましい。

【００３３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、ここで
は、ＭＤData2（商標）の規格に準拠した光磁気ディス
クに対して、本発明を適用した場合を例に挙げて説明す
る。ただし、本発明は、記録トラックに沿ってグルーブ
が形成されてなる記録媒体に対して広く適用可能であ
り、ＭＤData2（商標）の規格に準拠した光磁気ディス
ク以外の記録媒体に対しても適用可能である。なお、Ｍ
ＤData2は、ミニディスクの次世代の光磁気ディスクと
して開発が進められている光磁気ディスクである。

【００３４】＜光磁気ディスク＞本発明の実施の形態と
して以下に説明する光磁気ディスクは、円盤状に形成さ
れてなり、磁気光学効果を利用してデータの記録が行わ
れる。そして、この光磁気ディスクは、ポリメチルメタ
クリレート（ＰＭＭＡ）やポリカーボネート（ＰＣ）等
からなるディスク基板上に、光磁気記録がなされる記録
層と、当該記録層を保護する保護層とが形成されてな
る。ここで、記録層は、例えば、ＳｉＮ等からなる誘電
体膜と、ＴｅＦｅＣｏ合金等からなる垂直磁気記録膜
と、ＳｉＮ等からなる誘電体膜と、Ａｌ等からなる反射
膜とが積層されてなる。また、保護層は、例えば、記録
層の上に紫外線硬化樹脂がスピンコートされてなる。な
お、本発明において、記録層や保護層の構成は任意であ
り、本例に限定されるものではない。

【００３５】この光磁気ディスクは、記録領域の一部を
拡大した図１に示すように、記録領域の一部が、ＴＯＣ
（Table Of Contents）情報等がエンボスピット１によ
って予め書き込まれた再生専用の領域Ｂ１とされてお
り、その他の領域が、光磁気記録によるデータの書き込
みが可能な領域Ｂ２となっている。

【００３６】なお、エンボスピット１によってＴＯＣ情
報等が書き込まれている領域Ｂ１は、再生専用のデータ
領域であり、以下の説明では、このデータ領域のことを
再生専用領域Ｂ１と称する。また、光磁気記録によるデ
ータの書き込みが可能となっている領域Ｂ２のことを、
以下の説明では、書き込み可能領域Ｂ２と称する。

【００３７】この光磁気ディスクにおいて、再生専用領
域Ｂ１に形成されたエンボスピット１は、２−８変調が
施されてなるピットパターンが、シングルスパイラル状
に形成されている。すなわち、記録トラックに沿ってシ
ングルスパイラル状に形成されたピット列により、再生
専用領域Ｂ１にＴＯＣ情報等が書き込まれている。

【００３８】一方、書き込み可能領域Ｂ２には、ウォブ
リンググルーブ２とストレートグルーブ３とがダブルス
パイラル状に形成されており、ウォブリンググルーブ２
とストレートグルーブ３との間のランドの部分に、光磁
気記録によるデータの記録が行われる。すなわち、図１
に示すように、ウォブリンググルーブ２とストレートグ
ルーブ３の間であって、ディスク内周側がストレートグ
ルーブ３となっている部分が、第１の記録トラックTrac
kＡとなり、ウォブリンググルーブ２とストレートグル
ーブ３の間であって、ディスク内周側がウォブリンググ
ルーブ２となっている部分が、第２の記録トラックTrac
kＢとなる。

【００３９】ここで、ウォブリンググルーブ２は、±２
０ｎｍの振幅にて一定の周期で蛇行するように形成され
ている。すなわち、この光磁気ディスクでは、一方のグ
ルーブ（すなわちウォブリンググルーブ２）を±２０ｎ
ｍの振幅にてウォブリングさせることにより、グルーブ
にアドレス情報を付加している。

【００４０】また、この光磁気ディスクにおいて、再生
専用領域Ｂ１のトラックピッチＴPitchは０．９５μｍ
とされ、同様に、書き込み可能領域Ｂ２のトラックピッ
チＴPitchは０．９５μｍとされている。ここで、再生
専用領域Ｂ１のトラックピッチＴPitchは、隣接するピ
ット列の間隔に相当する。すなわち、この光磁気ディス
クにおいて、隣接するピット列の間隔は、０．９５μｍ
とされている。また、書き込み可能領域Ｂ２のトラック
ピッチは、ウォブリンググルーブ２とストレートグルー
ブ３の中心位置の間隔に相当する。すなわち、この光磁
気ディスクにおいて、ウォブリンググルーブ２とストレ
ートグルーブ３の中心位置の間隔は、０．９５μｍとさ
れる。なお、以下の説明では、隣接するストレートグル
ーブ３の中心位置の間隔のことをトラックピリオドＴPe
riodと称する。トラックピリオドＴPeriodは、トラック
ピッチＴPitchの２倍に相当するものであり、この光磁
気ディスクにおいてトラックピリオドＴPeriodは、１．
９０μｍとされている。

【００４１】また、この光磁気ディスクにおいて、再生
専用領域Ｂ１と書き込み可能領域Ｂ２との間の領域を遷
移領域Ｂ３と称する。そして、この光磁気ディスクで
は、再生専用領域Ｂ１と書き込み可能領域Ｂ２とのディ
スク半径方向における間隔、すなわち遷移領域Ｂ３の幅
ｔ１を２０μｍ以内とする。このように遷移領域Ｂ３の
幅ｔ１を十分に小さくしておくことにより、記録再生時
に、記録再生位置が再生専用領域Ｂ１から書き込み可能
領域Ｂ２に遷移したり、或いは、記録再生位置が書き込
み可能領域Ｂ２から再生専用領域Ｂ１に遷移したりした
場合にも、記録トラックを見失うことなく、連続して記
録再生を安定に行うことが可能となる。

【００４２】上記光磁気ディスクにおいて、ウォブリン
ググルーブ２とストレートグルーブ３は、それらの幅が
ほぼ等しく、且つ、グルーブ全体において常にほぼ一定
の幅となるように形成される。しかし、これらのグルー
ブ２，３の幅を完全に一定となるように形成することは
不可能であり、必ず若干の変動が生じる。そして、この
変動が大きいと、十分に均一なレベルのプッシュプル信
号を安定に得ることができなくなってしまう。

【００４３】そこで、本発明を適用した光磁気ディスク
では、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ
３の幅の変化量を±４．０％以内とする。なお、ウォブ
リンググルーブ２及びストレートグルーブ３の幅の変化
量が±４．０％以内であるということは、下記式（１）
及び（２）を満たしているということである。

【００４４】（Ｗmax−Ｗ₁）／Ｗ₁＜＋４．０％・・・（１）（Ｗmin−Ｗ₁）／Ｗ₁＞−４．０％・・・（２）なお、Ｗ₁は、ウォブリンググルーブ２及びストレート
グルーブ３の平均幅を示しており、Ｗmaxは、ウォブリ
ンググルーブ２及びストレートグルーブ３の一番広いと
ころでの幅を示しており、Ｗminは、ウォブリンググル
ーブ２及びストレートグルーブ３の一番狭いところでの
幅を示している。

【００４５】ウォブリンググルーブ２及びストレートグ
ルーブ３の幅の変化量を±４．０％以内とすることによ
り、後述する実験結果からも分かるように、ウォブリン
ググルーブ２やストレートグルーブ３の幅に若干の変動
があったとしても、十分に均一なレベルのプッシュプル
信号を安定に得ることが可能となる。

【００４６】また、上記光磁気ディスクにおいて、ウォ
ブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３は、それ
らの中心位置の間隔が記録トラックのトラックピッチＴ
Pitchに対応するように形成される。しかし、ウォブリ
ンググルーブ２とストレートグルーブ３の中心位置の間
隔がトラックピッチＴPitchに完全に一致するように、
ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３を形
成することは不可能である。すなわち、ウォブリンググ
ルーブ２やストレートグルーブ３には、必ずそれらの中
心位置にずれが生じてしまい、ウォブリンググルーブ２
とストレートグルーブ３の中心位置の間隔には、必ず若
干の変動が生じる。そして、この変動が大きいと、十分
に均一なレベルのプッシュプル信号を安定に得ることが
できなくなってしまう。

【００４７】そこで、本発明を適用してなる光磁気ディ
スクでは、ウォブリンググルーブ２及びストレートグル
ーブ３の中心位置ずれ量を、トラックピッチＴPitchの
±１．８９％以内とする。なお、ウォブリンググルーブ
２及びストレートグルーブ３の中心位置ずれ量がトラッ
クピッチＴPitchの±１．８９％以内であるということ
は、下記式（３）を満たしているということである。

【００４８】 −１．８９％＜ΔＴ／ＴPitch＜＋１．８９％・・・（３）なお、ＴPitchは、トラックピッチを示しており、ΔＴ
は、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３
の中心位置ずれ量の最大値を、ディスク外周方向への位
置ずれを正とし、ディスク内周方向への位置ずれを負と
して示している。

【００４９】ウォブリンググルーブ２及びストレートグ
ルーブ３の中心位置ずれ量をトラックピッチＴPitchの
±１．８９％以内とすることにより、後述する実験結果
からも分かるように、ウォブリンググルーブ２やストレ
ートグルーブ３の間隔に若干の変動があったとしても、
十分に均一なレベルのプッシュプル信号を安定に得るこ
とが可能となる。

【００５０】＜レーザカッティング装置＞以上のような
光磁気ディスクを製造する際には、その原盤となる記録
媒体製造用原盤を作製する際に、レーザカッティング装
置が使用される。以下、レーザカッティング装置の一例
について、図２を参照して詳細に説明する。

【００５１】図２に示したレーザカッティング装置１０
は、ガラス基板１１の上に塗布されたフォトレジスト１
２を露光して潜像を形成するためのものである。このレ
ーザカッティング装置１０でフォトレジスト１２に潜像
を形成する際、フォトレジスト１２が塗布されたガラス
基板１１は、移動光学テーブル上に設けられた回転駆動
装置に取り付けられる。そして、フォトレジスト１２を
露光する際、ガラス基板１１は、フォトレジスト１２の
全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるよう
に、図中矢印Ｃ１に示すように回転駆動装置によって回
転駆動されるとともに、移動光学テーブルによって平行
移動される。

【００５２】このレーザカッティング装置１０は、３つ
の露光ビームによってフォトレジスト１２を露光するこ
とが可能となっており、エンボスピット１に対応した潜
像と、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像と、スト
レートグルーブ３に対応した潜像とを、それぞれの露光
ビームにより形成する。すなわち、このレーザカッティ
ング装置１０では、第１の露光ビームによってエンボス
ピット１に対応した潜像を形成し、第２の露光ビームに
よってウォブリンググルーブ２に対応した潜像を形成
し、第３の露光ビームによってストレートグルーブ３に
対応した潜像を形成する。

【００５３】このレーザカッティング装置１０は、レー
ザ光を出射する光源１３と、光源１３から出射されたレ
ーザ光の光強度を調整するための電気光学変調器（ＥＯ
Ｍ：Electro Optical Modulator）１４と、電気光学変
調器１４から出射されたレーザ光の光軸上に配された検
光子１５と、検光子１５を透過してきたレーザ光を反射
光と透過光とに分割する第１のビームスプリッタ１６
と、第１のビームスプリッタ１６を透過してきたレーザ
光を反射光と透過光とに分割する第２のビームスプリッ
タ１７と、第２のビームスプリッタ１７を透過してきた
レーザ光を反射光と透過光とに分割する第３のビームス
プリッタ１８と、第３のビームスプリッタ１８を透過し
てきたレーザ光を検出するフォトディテクタ（ＰＤ：Ph
oto Detector）１９と、電気光学変調器１４に対して信
号電界を印加して当該電気光学変調器１４から出射され
るレーザ光強度を調整するオートパワーコントローラ
（ＡＰＣ：Auto Power Controller）２０とを備えてい
る。

【００５４】上記レーザカッティング装置１０におい
て、光源１３から出射されたレーザ光は、先ず、オート
パワーコントローラ２０から印加される信号電界によっ
て駆動される電気光学変調器１４によって所定の光強度
とされた上で検光子１５に入射する。ここで、検光子１
５はＳ偏光だけを透過する検光子であり、この検光子１
５を透過してきたレーザ光はＳ偏光となる。

【００５５】なお、光源１３には、任意のものが使用可
能であるが、比較的に短波長のレーザ光を出射するもの
が好ましい。具体的には、例えば、波長λが４１３ｎｍ
のレーザ光を出射するＫｒレーザや、波長λが４４２ｎ
ｍのレーザ光を出射するＨｅ−Ｃｄレーザなどが、光源
１３として好適である。

【００５６】そして、検光子１５を透過してきたＳ偏光
のレーザ光は、先ず、第１のビームスプリッタ１６によ
って反射光と透過光とに分けられ、更に、第１のビーム
スプリッタ１６を透過したレーザ光は、第２のビームス
プリッタ１７によって反射光と透過光とに分けられ、更
に、第２のビームスプリッタ１７を透過したレーザ光
は、第３のビームスプリッタ１８によって反射光と透過
光とに分けられる。

【００５７】なお、このレーザカッティング装置１０で
は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレ
ーザ光が第１の露光ビームとなり、第２のビームスプリ
ッタ１７によって反射されたレーザ光が第２の露光ビー
ムとなり、第３のビームスプリッタ１８によって反射さ
れたレーザ光が第３の露光ビームとなる。

【００５８】一方、第３のビームスプリッタ１８を透過
したレーザ光は、フォトディテクタ１９によって、その
光強度が検出され、当該光強度に応じた信号がフォトデ
ィテクタ１９からオートパワーコントローラ２０に送ら
れる。そして、フォトディテクタ１９から送られてきた
信号に応じて、オートパワーコントローラ２０は、フォ
トディテクタ１９によって検出される光強度が所定のレ
ベルにて一定となるように、電気光学変調器１４に対し
て印加する信号電界を調整する。これにより、電気光学
変調器１４から出射するレーザ光の光強度が一定となる
ように、自動光量制御（ＡＰＣ：Auto Power Control）
が施され、ノイズの少ない安定したレーザ光が得られ
る。

【００５９】また、上記レーザカッティング装置１０
は、第１のビームスプリッタ１６によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第１の変調光学系２１
と、第２のビームスプリッタ１７によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第２の変調光学系２２
と、第３のビームスプリッタ１８によって反射されたレ
ーザ光を光強度変調するための第３の変調光学系２３
と、第１乃至第３の変調光学系２１，２２，２３によっ
て光強度変調が施された各レーザ光を再合成してフォト
レジスト１２上に集光するための光学系２４とを備えて
いる。

【００６０】そして、第１のビームスプリッタ１６によ
って反射されてなる第１の露光ビームは、第１の変調光
学系２１に導かれ、第１の変調光学系２１によって光強
度変調が施される。同様に、第２のビームスプリッタ１
７によって反射されてなる第２の露光ビームは、第２の
変調光学系２２に導かれ、第２の変調光学系２２によっ
て光強度変調が施される。同様に、第３のビームスプリ
ッタ１８によって反射されてなる第３の露光ビームは、
第３の変調光学系２３に導かれ、第３の変調光学系２３
によって光強度変調が施される。

【００６１】そして、第１の変調光学系２１に入射した
第１の露光ビームは、集光レンズ２５によって集光され
た上で音響光学変調器（ＡＯＭ：Acousto Optical Modu
lator）２６に入射し、この音響光学変調器２６によっ
て、所望する露光パターンに対応するように光強度変調
される。ここで、音響光学変調器２６に使用される音響
光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ₂）か
らなる音響光学素子が好適である。そして、音響光学変
調器２６によって光強度変調された第１の露光ビーム
は、コリメートレンズ２７によって平行光とされた上
で、第１の変調光学系２１から出射される。

【００６２】ここで、音響光学変調器２６には、当該音
響光学変調器２６を駆動するための駆動用ドライバ２８
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ１が
駆動用ドライバ２８に入力され、当該信号Ｓ１に応じて
駆動用ドライバ２８によって音響光学変調器２６が駆動
され、第１の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【００６３】具体的には、例えば、２−８変調が施され
たピットパターンの潜像をフォトレジスト１２に形成す
るような場合には、２−８変調が施されたピットパター
ンに対応した変調信号が駆動用ドライバ２８に入力さ
れ、当該変調信号に応じて駆動用ドライバ２８によって
音響光学変調器２６が駆動される。これにより、２−８
変調が施されたピットパターンに対応するように、第１
の露光ビームに対して光強度変調が施される。

【００６４】また、第２の変調光学系２２に入射した第
２の露光ビームは、集光レンズ２９によって集光された
上で音響光学変調器３０に入射し、この音響光学変調器
３０によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器３０に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔ
ｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器３０によって光強度変調された第２の露
光ビームは、コリメートレンズ３１によって平行光とさ
れた上で、第２の変調光学系２２から出射される。

【００６５】ここで、音響光学変調器３０には、当該音
響光学変調器３０を駆動するための駆動用ドライバ３２
が取り付けられている。そして、フォトレジストの露光
時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ２が駆動
用ドライバ３２に入力され、当該信号Ｓ２に応じて駆動
用ドライバ３２によって音響光学変調器３０が駆動さ
れ、第２の露光ビームに対して光強度変調が施される。

【００６６】具体的には、例えば、一定の深さのウォブ
リンググルーブ２に対応したグルーブパターンの潜像を
フォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レ
ベルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３２に入力され、当該
ＤＣ信号に応じて駆動用ドライバ３２によって音響光学
変調器３０が駆動される。これにより、所望するグルー
ブパターンに対応するように、第２の露光ビームに対し
て光強度変調が施される。

【００６７】また、第３の変調光学系２３に入射した第
３の露光ビームは、集光レンズ３３によって集光された
上で音響光学変調器３４に入射し、この音響光学変調器
３４によって、所望する露光パターンに対応するように
光強度変調される。ここで、音響光学変調器３４に使用
される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（Ｔ
ｅＯ₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、
音響光学変調器３４によって光強度変調された第３の露
光ビームは、コリメートレンズ３５によって平行光とさ
れるとともに、λ／２波長板３６を透過することにより
偏光方向が９０°回転させられた上で、第３の変調光学
系２３から出射される。

【００６８】ここで、音響光学変調器３４には、当該音
響光学変調器３４を駆動するための駆動用ドライバ３７
が取り付けられている。そして、フォトレジスト１２の
露光時には、所望する露光パターンに応じた信号Ｓ３が
駆動用ドライバ３７に入力され、当該信号Ｓ３に応じて
駆動用ドライバ３７によって音響光学変調器３４が駆動
され、第３の露光ビームに対して光強度変調が施され
る。

【００６９】具体的には、例えば、一定の深さのストレ
ートグルーブ３に対応したグルーブパターンの潜像をフ
ォトレジスト１２に形成するような場合には、一定レベ
ルのＤＣ信号が駆動用ドライバ３７に入力され、当該Ｄ
Ｃ信号に応じて駆動用ドライバ３７によって音響光学変
調器３４が駆動される。これにより、所望するグルーブ
パターンに対応するように、第３の露光ビームに対して
光強度変調が施される。

【００７０】以上のようにして、第１の露光ビームは第
１の変調光学系２１によって光強度変調が施され、第２
の露光ビームは第２の変調光学系２２によって光強度変
調が施され、第３の露光ビームは第３の変調光学系２３
によって光強度変調が施される。このとき、第１の変調
光学系２１から出射された第１の露光ビーム、及び第２
の変調光学系２２から出射された第２の露光ビームは、
Ｓ偏光のままであるが、第３の変調光学系２３から出射
された第３の露光ビームは、λ／２波長板３６を透過す
ることにより偏光方向が９０°回転させられているの
で、Ｐ偏光となっている。

【００７１】そして、第１の変調光学系２１から出射さ
れた第１の露光ビームは、ミラー４０によって反射さ
れ、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれる。同
様に、第２の変調光学系２２から出射された第２の露光
ビームは、ミラー４１によって反射され、移動光学テー
ブル上に水平且つ平行に導かれる。同様に、第３の変調
光学系２３から出射された第３の露光ビームは、ミラー
４２によって反射され、移動光学テーブル上に水平且つ
平行に導かれる。

【００７２】そして、第１の変調光学系２１から出射さ
れ、移動光学テーブル上に水平且つ平行に導かれた第１
の露光ビームは、ミラー４３によって反射されて進行方
向が９０°曲げられた上で、ハーフミラー４４を介して
偏光ビームスプリッタ４５に入射する。また、第２の変
調光学系２２から出射され、移動光学テーブル上に水平
且つ平行に導かれた第２の露光ビームは、偏向光学系４
６によって光学偏向が施された上で、ハーフミラー４４
によって反射されて進行方向が９０°曲げられた上で偏
光ビームスプリッタ４５に入射する。また、第３の変調
光学系２３から出射され、移動光学テーブル上に水平且
つ平行に導かれた第３の露光ビームは、そのまま偏光ビ
ームスプリッタ４５に入射する。

【００７３】ここで、偏向光学系４６は、ウォブリング
グルーブのウォブリングに対応するように、第２の露光
ビームに対して光学偏向を施すためのものである。すな
わち、第２の変調光学系２２から出射され偏向光学系４
６に入射した第２の露光ビームは、ウェッジプリズム４
７を介して音響光学偏向器（ＡＯＤ：Acousto Optical
Deflector）４８に入射し、この音響光学偏向器４８に
よって、所望する露光パターンに対応するように光学偏
向が施される。ここで、音響光学偏向器４８に使用され
る音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ
₂）からなる音響光学素子が好適である。そして、音響
光学偏向器４８によって光学偏向が施された第２の露光
ビームは、ウエッジプリズム４９を介して偏向光学系４
６から出射される。

【００７４】なお、ウェッジプリズム４７，４９は、音
響光学偏向器４８の音響光学素子の格子面に対してブラ
ッグ条件を満たすように第２の露光ビームが入射するよ
うにするとともに、音響光学偏向器４８によって第２の
露光ビームに対して光学偏向を施したとしてもビーム水
平高さが変わらないようにするためのものである。換言
すれば、ウエッジプリズム４７、音響光学偏向器４８及
びウエッジプリズム４９は、音響光学偏向器４８の音響
光学素子の格子面が第２の露光ビームに対してブラッグ
条件を満たし、且つ、偏向光学系４６から出射される第
２の露光ビームのビーム水平高さが変わらないように配
置される。

【００７５】ここで、音響光学偏向器４８には、当該音
響光学偏向器４８を駆動するための駆動用ドライバ５０
が取り付けられており、当該駆動用ドライバ５０には、
電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscilla
tor）５１からの高周波信号が、アドレス情報を含む制
御信号Ｓ４によりＦＭ変調され供給される。そして、フ
ォトレジスト１２の露光時には、所望する露光パターン
に応じた信号が、電圧制御発振器５１から駆動用ドライ
バ５０に入力され、当該信号に応じて駆動用ドライバ５
０によって音響光学偏向器４８が駆動され、これによ
り、第２の露光ビームに対して光学偏向が施される。

【００７６】具体的には、例えば、周波数４４．１ｋＨ
ｚにてグルーブをウォブリングさせることにより、グル
ーブにアドレス情報を付加するような場合には、例えば
中心周波数が２２４ＭＨｚの高周波信号を周波数４４．
１ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調した信号を、電圧制御
発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給する。そし
て、この信号に応じて、駆動用ドライバ５０によって音
響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向器４８の
音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これにより、周
波数４４．１ｋＨｚのウォブリングに対応するように、
第２の露光ビームに対して光学偏向を施す。

【００７７】そして、このような偏向光学系４６によっ
て、ウォブリンググルーブ２のウォブリングに対応する
ように光学偏向が施された第２の露光ビームは、上述し
たように、ハーフミラー４４によって反射されて進行方
向が９０°曲げられた上で偏光ビームスプリッタ４５に
入射する。

【００７８】ここで、偏光ビームスプリッタ４５は、Ｓ
偏光を反射し、Ｐ偏光を透過するようになされている。
そして、第１の変調光学系２１から出射された第１の露
光ビーム、並びに第２の変調光学系２２から出射され偏
向光学系４６によって光学偏向が施された第２の露光ビ
ームは、Ｓ偏光であり、また、第３の変調光学系２３か
ら出射された第３の露光ビームはＰ偏光である。したが
って、第１及び第２の露光ビームは、当該偏光ビームス
プリッタ４５によって反射され、また、第３の露光ビー
ムは、当該偏光ビームスプリッタ４５を透過する。これ
により、第１の変調光学系２１から出射された第１の露
光ビームと、第２の変調光学系２２から出射され偏向光
学系４６によって光学偏向が施された第２の露光ビーム
と、第３の変調光学系２３から出射された第３の露光ビ
ームとは、進行方向が同一方向となるように再合成され
る。

【００７９】そして、進行方向が同一方向となるように
再合成されて偏光ビームスプリッタ４５から出射した第
１乃至第３の露光ビームは、拡大レンズ５２によって所
定のビーム径とされた上でミラー５３によって反射され
て対物レンズ５４へと導かれ、当該対物レンズ５４によ
ってフォトレジスト１２上に集光される。これにより、
フォトレジスト１２が露光され、フォトレジスト１２に
潜像が形成されることとなる。このとき、フォトレジス
ト１２が塗布されているガラス基板１１は、上述したよ
うに、フォトレジスト１２の全面にわたって所望のパタ
ーンでの露光がなされるように、図２中矢印Ｃ１に示す
ように回転駆動装置によって回転駆動されるとともに、
移動光学テーブルによって平行移動される。この結果、
第１乃至第３の露光ビームの照射軌跡に応じた潜像が、
フォトレジスト１２の全面にわたって形成されることと
なる。

【００８０】なお、露光ビームをフォトレジスト１２の
上に集光するための対物レンズ５４は、より微細なピッ
トパターンやグルーブパターンを形成できるようにする
ために、開口数ＮＡが大きい方が好ましく、具体的に
は、開口数ＮＡが０．９程度の対物レンズが好適であ
る。

【００８１】また、このように第１乃至第３の露光ビー
ムをフォトレジスト１２に照射する際は、必要に応じ
て、拡大レンズ５２によって第１乃至第３の露光ビーム
のビーム径を変化させ、対物レンズ５４に対する有効開
口数を調整するようにしてもよい。これにより、フォト
レジスト１２の表面に集光される第１乃至第３の露光ビ
ームのスポット径を変化させることができる。

【００８２】具体的には、例えば、第２及び第３の露光
ビームでウォブリンググルーブ２及びストレートグルー
ブ３に対応した潜像を形成する場合は、露光ビームのス
ポット径が小さくなるように、拡大レンズ５２によって
第２及び第３の露光ビームのビーム径を大きくして、対
物レンズ５４の有効開口数を大きくし、また、第１の露
光ビームでエンボスピット１に対応した潜像を形成する
場合は、露光ビームのスポット径が大きくなるように、
拡大レンズ５２によって第１の露光ビームのビーム径を
小さくし、対物レンズ５４の有効開口数を小さくする。

【００８３】ところで、偏光ビームスプリッタ４５に入
射した第２の露光ビームは、当該偏光ビームスプリッタ
４５の反射面にて、第３の露光ビームと合成される。こ
のとき、偏光ビームスプリッタ４５の反射面は、当該反
射面で合成されて出射される光の進行方向に対して適度
な反射角をなすように形成されてなる。これにより、こ
の偏光ビームスプリッタ４５から出射された第２及び第
３の露光ビームが対物レンズ５４の結像集光面（即ち、
露光対象であるフォトレジスト１２の表面）に集光され
る際に、第２の露光ビームに対応するスポットと、第３
の露光ビームに対応するスポットとが、異なる位置に形
成される。

【００８４】そして、偏光ビームスプリッタ５４の反射
面の反射角は、第２の露光ビームに対応するスポット
と、第３の露光ビームに対応するスポットとの、ガラス
基板１１の半径方向における間隔が、トラックピッチＴ
Pitchに対応するように設定しておく。これにより、第
２の露光ビームによりウォブリンググルーブ２に対応す
る部分を露光し、同時に、第３の露光ビームによりスト
レートグルーブ３に対応する部分を露光することが可能
となる。

【００８５】以上のようなレーザカッティング装置１０
では、エンボスピット１に対応した潜像を形成するため
の第１の露光ビームに対応した光学系と、ウォブリング
グルーブ２に対応した潜像を形成するための第２の露光
ビームに対応した光学系と、ストレートグルーブ３に対
応した潜像を形成するための第３の露光ビームに対応し
た光学系とを備えているので、このレーザカッティング
装置１０だけで、エンボスピット１に対応した潜像と、
ウォブリンググルーブ２に対応した潜像と、ストレート
グルーブ３に対応した潜像とをまとめて形成することが
できる。

【００８６】しかも、このレーザカッティング装置１０
では、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像を形成す
るための第２の露光ビーム用の光学系と、ストレートグ
ルーブ３に対応した潜像を形成するための第３の露光ビ
ーム用の光学系とが、ほぼ同様な光学系にて構成されて
おり、しかも第２の露光ビームと第３の露光ビームが共
通の対物レンズ５４にてフォトレジスト１２上に集光さ
れるようになされている。したがって、このレーザカッ
ティング装置１０では、フォトレジスト１２上に集光す
る第２の露光ビームのスポット径と、フォトレジスト１
２上に集光する第３の露光ビームのスポット径とを、ほ
ぼ同一にすることができる。したがって、このレーザカ
ッティング装置１０では、ウォブリンググルーブ２に対
応した潜像と、ストレートグルーブ３に対応した潜像と
を、ほぼ同じ幅にて形成することができる。

【００８７】また、このレーザカッティング装置１０で
は、第２の露光ビームと第３の露光ビームとを合成する
ための偏向ビームスプリッタ４５の向きを調整すること
により、第２の露光ビームの照射位置と第３の露光ビー
ムの照射位置とを容易に調整することができる。したが
って、このレーザカッティング装置１０によれば、ウォ
ブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３の中心位
置ずれを殆ど無くすことができる。

【００８８】ところで、一般に、プッシュプル信号は、
エンボスピットの幅とグルーブの幅を同じにすると、グ
ルーブが形成されることなくエンボスピットだけが形成
されている部分から得られるプッシュプル信号が、グル
ーブが形成されている部分から得られるプッシュプル信
号よりも小さくなってしまう。したがって、エンボスピ
ットの幅は、グルーブの幅よりも若干大きくすることが
好ましい。エンボスピットの幅を、グルーブの幅よりも
若干大きくすることにより、グルーブが形成されること
なくエンボスピットだけが形成されている部分から得ら
れるプッシュプル信号を、グルーブが形成されている部
分から得られるプッシュプル信号と同レベルとすること
ができる。そして、上記レーザカッティング装置１０で
は、拡大レンズ５２によって、フォトレジスト１２の表
面に集光される第１乃至第３の露光ビームのスポット径
を容易に変化させることができるので、エンボスピット
の幅をグルーブの幅に比べて大きくするようなことも、
容易に実現可能である。

【００８９】＜光磁気ディスクの製造方法＞つぎに、光
磁気ディスクの製造方法について、具体的な一例を挙げ
て詳細に説明する。

【００９０】光磁気ディスクを作製する際は、先ず、原
盤工程として、エンボスピット１、ウォブリンググルー
ブ２及びストレートグルーブ３に対応した凹凸パターン
を有する記録媒体製造用原盤を作製する。

【００９１】この原盤工程においては、先ず、表面を研
磨した円盤状のガラス基板１１を洗浄し乾燥させ、その
後、このガラス基板１１上に感光材料であるフォトレジ
スト１２を塗布する。次に、このフォトレジスト１２を
上記レーザカッティング装置１０によって露光し、エン
ボスピット１、ウォブリンググルーブ２及びストレート
グルーブ３に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成
する。

【００９２】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際、レーザカッティング装置１０の光源１３に
は、波長λが４１３ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレー
ザを使用し、第１乃至第３の露光ビームをフォトレジス
ト１２上に集光するための対物レンズ５４には、開口数
ＮＡが０．９のものを使用した。

【００９３】また、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際、上記レーザカッティング装置１０の第１の変
調光学系２１において、集光レンズ２５には焦点距離が
８０ｍｍのレンズを使用し、コリメートレンズ２７には
焦点距離が９０ｍｍのレンズを使用した。また、第２の
変調光学系２２において、集光レンズ２９には焦点距離
が８０ｍｍのレンズを使用し、コリメートレンズ３１に
は焦点距離が１２０ｍｍのレンズを使用した。また、第
３の変調光学系２３において、集光レンズ３３には焦点
距離が８０ｍｍのレンズを使用し、コリメートレンズ３
５には焦点距離が１２０ｍｍのレンズを使用した。ま
た、拡大レンズには焦点距離が８０ｍｍのレンズを使用
した。

【００９４】このように、第１の変調光学系２１に使用
するコリメートレンズ２７の焦点距離を、第２の変調光
学系２２に使用するコリメートレンズ３１や第３の変調
光学系２３に使用するコリメートレンズ３５の焦点距離
よりも小さくすることにより、ウォブリンググルーブ２
に対応した潜像を形成する際にフォトレジスト１２の上
に集光される第２の露光ビームのスポット径や、ストレ
ートグルーブ３に対応した潜像を形成する際にフォトレ
ジスト１２の上に集光される第３の露光ビームのスポッ
ト径に比べて、エンボスピットピット１に対応した潜像
を形成する際にフォトレジスト１２の上に集光される第
１の露光ビームのスポット径が大きくなる。

【００９５】これにより、ウォブリンググルーブ２やス
トレートグルーブ３の幅よりも、エンボスピット１の幅
が大きくなり、その結果、エンボスピット１によって構
成されるピット列から得られるプッシュプル信号のレベ
ルが増大し、当該ピット列からも、ウォブリンググルー
ブ２やストレートグルーブ３から得られるプッシュプル
信号に近いレベルのプッシュプル信号が得られるように
なる。

【００９６】そして、フォトレジスト１２をレーザカッ
ティング装置１０によって露光する際は、先ず、第１の
露光ビームによってフォトレジスト１２を露光すること
により、エンボスピット１に対応した潜像をフォトレジ
スト１２に形成し、その後、第２及び第３の露光ビーム
によってフォトレジスト１２を露光することにより、ウ
ォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３に対応
した潜像をフォトレジスト１２に形成する。

【００９７】なお、第１の露光ビームによってフォトレ
ジスト１２を露光する際、第２の露光ビームは、フォト
レジスト１２に入射しないように、第２の変調光学系２
２の音響光学変調器３０により遮光しておき、また、第
３の露光ビームも、フォトレジスト１２に入射しないよ
うに、第３の変調光学系２３の音響光学変調器３４によ
り遮光しておく。逆に、第２及び第３の露光ビームによ
ってフォトレジスト１２を露光する際は、第１の露光ビ
ームがフォトレジスト１２に入射しないように、第１の
露光ビームを第１の変調光学系２１の音響光学変調器２
６により遮光しておく。

【００９８】そして、第１の露光ビームによってフォト
レジスト１２を露光することにより、エンボスピット１
に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、
第１の変調光学系２１により第１の露光ビームに対して
光強度変調を施す。具体的には、例えば、２−８変調が
施されたピットパターンに対応した変調信号を駆動用ド
ライバ２８に入力し、当該変調信号に基づいて駆動用ド
ライバ２８によって音響光学変調器２６を駆動し、これ
により、２−８変調が施されたピットパターンに対応す
るように、第１の露光ビームに対して光強度変調を施
す。そして、このように光強度変調を施した第１の露光
ビームを、対物レンズ５４によってフォトレジスト１２
上に集光することにより、フォトレジスト１２を露光
し、エンボスピット１に対応した潜像をフォトレジスト
１２に形成する。

【００９９】なお、このようにフォトレジスト１２を露
光して、エンボスピット１に対応した潜像を形成する際
は、フォトレジスト１２が塗布形成されているガラス基
板１１を、所定の回転速度にて回転駆動させるととも
に、所定の速度にて平行移動させる。

【０１００】具体的には、後述する評価用光磁気ディス
クを作製する際、ガラス基板１１の回転速度は、第１の
露光ビームによる光スポットとフォトレジスト１２との
相対的な移動速度が線速１．０ｍ／ｓｅｃとなるように
した。そして、当該ガラス基板１１を１回転毎に０．９
５μｍ（すなわちトラックピッチＴPitchの分）だけ、
移動光学テーブルによってガラス基板１１の半径方向に
平行移動させた。

【０１０１】以上のように第１の露光ビームによってフ
ォトレジスト１２を露光することにより、例えば２−８
変調が施されたピットパターンに対応した潜像が、シン
グルスパイラル状にフォトレジスト１２に形成される。

【０１０２】そして、以上のようにしてエンボスピット
１に対応した潜像をフォトレジスト１２に形成した後、
第２及び第３の露光ビームによってフォトレジスト１２
を露光することにより、ウォブリンググルーブ２及びス
トレートグルーブ３に対応した潜像をフォトレジスト１
２に形成する。

【０１０３】第２の露光ビームによってフォトレジスト
１２を露光することにより、ウォブリンググルーブ２に
対応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第
２の露光ビームに対して、第２の変調光学系２２により
光強度変調を施すとともに、光学偏向系４６により光学
偏向を施す。

【０１０４】具体的には、先ず、一定レベルのＤＣ信号
を第２の変調光学系２２に配された駆動用ドライバ３２
に入力し、当該ＤＣ信号に基づいて駆動用ドライバ３２
によって音響光学変調器３０を駆動し、これにより、ウ
ォブリンググルーブ２のパターンに対応するように、第
２の露光ビームに対して光強度変調を施す。ここで、ウ
ォブリンググルーブ２は一定の深さの連続した溝である
ので、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像を形成し
ている間は、第２の露光ビームの光強度が一定となるよ
うに光強度変調を施す。

【０１０５】次いで、第２の変調光学系２２によって光
強度変調が施された第２の露光ビームに対して、偏向光
学系４６により光学偏向を施す。具体的には、電圧制御
発振器５１から高周波信号を制御信号にてＦＭ変調して
駆動用ドライバ５０に供給し、この信号に基づいて駆動
用ドライバ５０によって音響光学偏向器４８を駆動し
て、当該音響光学偏向器４８の音響光学素子のブラッグ
角を変化させ、これにより、第２の露光ビームに対して
光学偏向を施す。

【０１０６】なお、後述する評価用光磁気ディスクを作
製する際は、中心周波数２２４ＭＨｚの高周波信号を周
波数４４．１ｋＨｚの制御信号にてＦＭ変調して、電圧
制御発振器５１から駆動用ドライバ５０に供給した。そ
して、この信号に基づいて、駆動用ドライバ５０によっ
て音響光学偏向器４８を駆動し、当該音響光学偏向器４
８の音響光学素子のブラッグ角を変化させ、これによ
り、フォトレジスト１２上に集光される第２の露光ビー
ム光スポットの位置が、周波数４４．１ｋＨｚ，振幅±
２０ｎｍにて、ガラス基板１１の半径方向に振動するよ
うに光学偏向を行った。

【０１０７】そして、このように光強度変調及び光学偏
向を施した第２の露光ビームを、対物レンズ５４によっ
てフォトレジスト１２上に集光することにより、フォト
レジスト１２を露光し、ウォブリンググルーブ２に対応
した潜像をフォトレジスト１２に形成する。

【０１０８】また、第２の露光ビームによりフォトレジ
スト１２を露光するのと同時に、第３の露光ビームによ
ってフォトレジスト１２を露光することにより、ストレ
ートグルーブ３に対応した潜像をフォトレジスト１２に
形成する。

【０１０９】第３の露光ビームによってフォトレジスト
１２を露光することにより、ストレートグルーブ３に対
応した潜像をフォトレジスト１２に形成する際は、第３
の露光ビームに対して、第３の変調光学系２３により光
強度変調を施す。

【０１１０】具体的には、一定レベルのＤＣ信号を第３
の変調光学系２３に配された駆動用ドライバ３７に入力
し、当該ＤＣ信号に基づいて駆動用ドライバ３７によっ
て音響光学変調器３４を駆動し、これにより、ストレー
トグルーブ３のパターンに対応するように、第３の露光
ビームに対して光強度変調を施す。ここで、ストレート
グルーブ３は一定の深さの連続した溝であるので、スト
レートグルーブ３に対応した潜像を形成している間は、
第３の露光ビームの光強度が一定となるように光強度変
調を施す。

【０１１１】そして、このように光強度変調を施した第
３の露光ビームを、対物レンズ５４によってフォトレジ
スト１２上に集光することにより、フォトレジスト１２
を露光し、ストレートグルーブ３に対応した潜像をフォ
トレジスト１２に形成する。

【０１１２】なお、このようにフォトレジスト１２を露
光して、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルー
ブ３に対応した潜像を形成する際は、フォトレジスト１
２が塗布されているガラス基板１１を、所定の回転速度
にて回転駆動させるとともに、所定の速度にて平行移動
させる。

【０１１３】具体的には、後述する評価用光磁気ディス
クを作製する際、ガラス基板１１の回転速度は、第２及
び第３の露光ビームによる光スポットとフォトレジスト
１２との相対的な移動速度が線速１．０ｍ／ｓｅｃとな
るようにした。そして、当該ガラス基板１１を１回転毎
に１．９０μｍ（すなわちトラックピリオドＴPeriodの
分）だけ、移動光学テーブルによってガラス基板１１の
半径方向に平行移動させた。

【０１１４】以上のように第２及び第３の露光ビームに
よってフォトレジスト１２を露光することにより、ウォ
ブリンググルーブ２に対応した潜像と、ストレートグル
ーブ３に対応した潜像とが、ダブルスパイラル状にフォ
トレジスト１２に形成される。

【０１１５】なお、上記レーザカッティング装置１０で
は、第２の露光ビームに対応するスポットと、第３の露
光ビームに対応するスポットとのガラス基板１１の半径
方向における間隔が、トラックピッチＴPitchに対応す
るように、偏光ビームスプリッタ４５の反射面の反射角
が設定されている。

【０１１６】したがって、第２及び第３の露光ビームに
よってフォトレジスト１２を露光することにより、第２
の露光ブームによってウォブリンググルーブ２に対応し
た潜像が形成されるとともに、当該ウォブリンググルー
ブ２に隣接したストレートグルーブ３に対応した潜像が
第３の露光ビームによって形成されることとなる。この
ことは、換言すれば、ウォブリンググルーブ２とストレ
ートグルーブ３との相対的な位置決めは、偏向ビームス
プリッタ４５の向きを調整することにより実現できると
いうことでもある。

【０１１７】なお、上記レーザカッティング装置１０
は、図示していないが、ガラス基板１１の半径方向の位
置を検出するためのレーザスケールを備えており、この
レーザスケールにより、露光位置を±３μｍ以内の精度
にて再現することが可能となっている。

【０１１８】露光位置の再現性が悪いと、第１の露光ビ
ームによるエンボスピット１に対応した潜像の形成と、
第２及び第３の露光ビームによるウォブリンググルーブ
２及びストレートグルーブ３に対応した潜像の形成とを
別々に分けて行ったときに、第１の露光ビームによるエ
ンボスピット１に対応した潜像の位置と、第２及び第３
の露光ビームによるウォブリンググルーブ２及びストレ
ートグルーブ３に対応した潜像の位置との対応関係が不
正確になり、例えば、遷移領域Ｂ３の幅ｔ１が２０μｍ
を越えてしまうような場合がある。

【０１１９】しかしながら、上記レーザカッティング装
置１０では、レーザスケールにより、露光位置を±３μ
ｍ以内の精度にて再現することが可能となっているの
で、第１の露光ビームによるエンボスピット１に対応し
た潜像の形成と、第２及び第３の露光ビームによるウォ
ブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３に対応し
た潜像の形成とを、別々に分けて行ったとしても特に問
題はない。

【０１２０】実際に、第１の露光ビームによって露光す
ることにより形成した、エンボスピット１に対応した潜
像の位置と、第２及び第３の露光ビームによって露光す
ることにより形成した、ウォブリンググルーブ２及びス
トレートグルーブ３に対応した潜像の位置との対応関係
を、レーザスケールを用いて確認しながら露光を行った
ところが、遷移領域Ｂ３の幅ｔ１を１０μｍ以内とする
ことができた。

【０１２１】そして、以上のようにしてフォトレジスト
１２に潜像を形成した後、フォトレジスト１２が塗布さ
れている面が上面となるように、ガラス基板１１を現像
機のターンテーブル上に載置する。そして、当該ターン
テーブルを回転させることによりガラス基板１１を回転
させながら、フォトレジスト１２上に現像液を滴下して
現像処理を施して、ガラス基板１１上にエンボスピット
１、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３
に対応した凹凸パターンを形成する。

【０１２２】次に、上記凹凸パターン上に無電界メッキ
法によりＮｉ等からなる導電化膜を形成し、その後、導
電化膜が形成されたガラス基板１１を電鋳装置に取り付
け、電気メッキ法により導電化膜上にＮｉ等からなるメ
ッキ層を、３００±５μｍ程度の厚さとなるように形成
する。その後、このメッキ層を剥離し、剥離したメッキ
をアセトン等を用いて洗浄し、凹凸パターンが転写され
た面に残存しているフォトレジスト１２を除去する。

【０１２３】以上の工程により、ガラス基板１１上に形
成されていた凹凸パターンが転写されたメッキからなる
記録媒体製造用原盤、すなわち、エンボスピット１、ウ
ォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３に対応
した凹凸パターンが形成された記録媒体製造用原盤が完
成する。

【０１２４】次に、転写工程として、フォトポリマー法
（いわゆる２Ｐ法）を用いて、上記記録媒体製造用原盤
の表面形状が転写されてなるディスク基板を作製する。

【０１２５】具体的には、先ず、記録媒体製造用原盤の
凹凸パターンが形成された面上にフォトポリマーを平滑
に塗布してフォトポリマー層を形成し、次に、当該フォ
トポリマー層に泡やゴミが入らないようにしながら、フ
ォトポリマー層上にベースプレートを密着させる。ここ
で、ベースプレートには、例えば、１．２ｍｍ厚のポリ
メチルメタクリレート（屈折率１．４９）からなるベー
スプレートを使用する。

【０１２６】その後、紫外線を照射してフォトポリマー
を硬化させ、その後、記録媒体製造用原盤を剥離するこ
とにより、記録媒体製造用原盤の表面形状が転写されて
なるディスク基板（いわゆる２Ｐディスク）を作製す
る。

【０１２７】なお、ここでは、記録媒体製造用原盤に形
成された凹凸パターンがより正確にディスク基板に転写
されるように、２Ｐ法を用いてディスク基板を作製する
例を挙げたが、ディスク基板を量産するような場合に
は、ポリメチルメタクリレートやポリカーボネート等の
透明樹脂を用いて射出成形によってディスク基板を作製
するようにしても良いことは言うまでもない。

【０１２８】次に、成膜工程として、記録媒体製造用原
盤の表面形状が転写されてなるディスク基板上に記録層
及び保護層を形成する。具体的には、例えば、先ず、デ
ィスク基板の凹凸パターンが形成された面上に、ＳｉＮ
等からなる第１の誘電体膜と、ＴｅＦｅＣｏ合金等から
なる垂直磁気記録膜と、ＳｉＮ等からなる第２の誘電体
膜とをスパッタリングによって順次成膜し、更に、第２
の誘電体膜上にＡｌ等からなる光反射膜を蒸着によって
成膜することにより、第１の誘電体膜、垂直磁気記録
膜、第２の誘電体膜及び光反射膜からなる記録層を形成
する。その後、上記記録層上に紫外線硬化樹脂をスピン
コート法により塗布し、当該紫外線硬化樹脂に対して紫
外線を照射し硬化させることにより、保護層を形成す
る。

【０１２９】以上の工程により、光磁気ディスクが完成
する。

【０１３０】＜記録媒体製造用原盤及び光磁気ディスク
の評価＞つぎに、上述の製造方法にて記録媒体製造用原
盤及び評価用光磁気ディスクを作製し、それらの評価を
行った結果について説明する。

【０１３１】ウォブリンググルーブ２とストレートグル
ーブ３とがダブルスパイラル状に形成されてなる光磁気
ディスクでは、それら２つのグルーブ２，３の形状の均
一性や、それら２つのグルーブ２，３の間隔の均一性
が、安定な記録再生を行えるようにする上で非常に重要
である。そして、これらの均一性を確保するためには、
原盤工程により記録媒体製造用原盤を作製する際に、フ
ォトレジスト１２への潜像の形成を精度良く行い、所望
する凹凸パターンをサブミクロンオーダーで忠実に転写
することが要求される。そこで、このような観点から、
記録媒体製造用原盤及び評価用光磁気ディスクの評価を
行った。

【０１３２】記録媒体製造用原盤及び評価用光磁気ディ
スクの評価を行うために、まず、エンボスピット１に対
応した潜像を形成するための第１の露光ビームのパワ
ー、並びに、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像を
形成するための第２の露光ビームのパワーを、０．５ｍ
Ｗを中心として変化させて、複数の記録媒体製造用原盤
を作製した。ここで、ストレートグルーブ３に対応した
潜像を形成するための第３の露光ビームのパワーは、
０．５ｍＷで一定とした。

【０１３３】そして、それらの記録媒体製造用原盤に形
成されたエンボスピット１に対応した凹凸パターンの幅
と、ウォブリンググルーブ２に対応した凹凸パターンの
幅とを、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electro
n Microscope）により測定した。第２の露光ビームのパ
ワーとウォブリンググルーブ２に対応した凹凸パターン
の幅との関係を測定した結果を表１に示すとともに、第
１の露光ビームのパワーとエンボスピット１に対応した
凹凸パターンの幅との関係を測定した結果を表２に示
す。

【０１３４】

【表１】

【０１３５】

【表２】

【０１３６】つぎに、以上のような記録媒体製造用原盤
を用いて、２Ｐ法により作製された評価用光磁気ディス
クについて、グルーブ２，３の幅の変化量とプッシュプ
ル信号との関係を調べた。ここで、プッシュプル信号の
測定には、波長λ＝６５０ｎｍのレーザ光を開口数ＮＡ
＝０．５２の対物レンズによって光磁気ディスク上に集
光する光ピックアップを備えた評価装置を用いた。

【０１３７】グルーブ２，３の幅の変化量とプッシュプ
ル信号との関係を調べるにあたっては、まず、ウォブリ
ンググルーブ２に対応した潜像を形成するための第２の
露光ビームのパワーと、作製した光磁気ディスクから得
られるプッシュプル信号との関係を調べた。結果を図３
に示す。なお、図３において、縦軸は、ウォブリンググ
ルーブ２から得られるプッシュプル信号のレベルを、ス
トレートグルーブ３から得られるプッシュプル信号のレ
ベルを１として示している。また、横軸は、ウォブリン
ググルーブ２に対応した潜像を形成するための第２の露
光ビームのパワーを、０．５ｍＷを１００％として示し
ている。

【０１３８】プッシュプル信号レベルの変動は、ＭＤDa
ta2では±１５％以下に抑えることが要求されている。
したがって、ウォブリンググルーブ２から得られるプッ
シュプル信号のレベルと、ストレートグルーブ３から得
られるプッシュプル信号のレベルとの均一性が、８５〜
１００％の範囲内でなければならない。すなわち、図３
において縦軸に示したプッシュプル信号のレベルが、
０．８５以上となるようにしなければならない。

【０１３９】したがって、図３の結果から、ウォブリン
ググルーブ２に対応した潜像を形成するための第２の露
光ビームのパワーは、０．５ｍＷを１００％としたと
き、９６〜１０３％の範囲内とする必要がある。換言す
れば、第２の露光ビームのパワーマージンは、９９．５
％を中心とすると±３．５％である。

【０１４０】ところで、第２の露光ビームのパワーの変
動量と、ウォブリンググルーブ２の幅の変化量との関係
は、上記表１から求めることができる。具体的には、表
１に示した結果から、例えば、第２の露光ビームのパワ
ーが５％増えると、ウォブリンググルーブ２の幅が約１
５ｎｍ増えることが分かる。したがって、第２の露光ビ
ームのパワーマージンを±４％以内としたとき、ウォブ
リンググルーブ２の幅の変化量は±１０．５ｎｍ以内と
なる。このことは、換言すれば、グルーブ２，３の幅の
許容変化量が±１０．５ｎｍであるということである。

【０１４１】そして、ＭＤData2においてグルーブ２，
３の平均幅は２６０ｎｍである。そこで、この平均幅に
て、グルーブ２，３の幅の許容変化量を規格化すると、
下記式（４）に示すように、±４．０％となる。

【０１４２】 ±１０．５ｎｍ／２６０ｎｍ≒±４．０％・・・（４）以上のことから、ウォブリンググルーブ２及びストレー
トグルーブ３の幅の変化量を±４．０％以内とすること
により、プッシュプル信号レベルの変動を±１５％以下
に抑えることが可能となり、トラッキングサーボに必要
なプッシュプル信号を十分且つ安定に得られるようにな
ることが分かる。

【０１４３】このようにウォブリンググルーブ２及びス
トレートグルーブ３の幅の変化量を±４．０％以内とす
ることは、上述したレーザカッティング装置１０のよう
に、共通の光源１３から出射されたレーザ光を分割して
なる２つの露光ビームにより、ウォブリンググルーブ２
に対応した潜像とストレートグルーブ３に対応した潜像
とを同時に形成するようなレーザカッティング装置を用
いることで、実現することができる。

【０１４４】特に、上記レーザカッティング装置１０で
は、第２の露光ビーム用の光学系と、第３の露光ビーム
用の光学系とが、ほぼ同様な光学系にて構成されてお
り、しかも第２の露光ビームと第３の露光ビームが共通
の対物レンズ５４にてフォトレジスト１２上に集光され
るようになされているので、フォトレジスト１２上に集
光する第２の露光ビームのスポット径と、フォトレジス
ト１２上に集光する第３の露光ビームのスポット径と
を、ほぼ同一にすることができる。したがって、上記レ
ーザカッティング装置１０では、ウォブリンググルーブ
２に対応した潜像と、ストレートグルーブ３に対応した
潜像とを、ほぼ同じ幅にて形成することができる。

【０１４５】したがって、上記レーザカッティング装置
１０を用いることにより、ウォブリンググルーブ２及び
ストレートグルーブ３の幅の変化量を非常に小さくする
ことができる。そして、上述のようにウォブリンググル
ーブ２及びストレートグルーブ３の幅の変化量を±４．
０％以内とすることも、上記レーザカッティング装置１
０を用いることで実現可能である。

【０１４６】つぎに、グルーブ２，３の中心位置ずれ量
と、光磁気ディスクから得られるプッシュプル信号との
関係を調べた。ここで、プッシュプル信号の測定には、
波長λ＝６５０ｎｍのレーザ光を開口数ＮＡ＝０．５２
の対物レンズによって光磁気ディスク上に集光する光ピ
ックアップを備えた評価装置を用いた。

【０１４７】グルーブ２，３の中心位置ずれ量とプッシ
ュプル信号との関係を調べるにあたっては、ストレート
グルーブ３の中心位置を一定にしておき、ウォブリング
グルーブ２の中心位置が異なる複数の評価用光磁気ディ
スクを作製した。

【０１４８】具体的には、記録媒体製造用原盤を作製す
る際に、ストレートグルーブ３に対応した潜像を形成す
るための第３の露光ビームの照射位置を固定しておき、
ウォブリンググルーブ２に対応した潜像を形成するため
の第２の露光ビームの照射位置を変化させることによ
り、ウォブリンググルーブ２の中心位置が異なる複数の
評価用光磁気ディスクを作製した。

【０１４９】なお、第２の露光ビームの照射位置は、第
２の露光ビームと第３の露光ビームとを合成するための
偏向ビームスプリッタ４５の向きを調整することにより
変化させた。また、ウォブリンググルーブ２に対応した
潜像を形成するための第２の露光ビームのパワー、並び
にストレートグルーブ３に対応した潜像を形成するため
の第３の露光ビームのパワーは、両方とも０．５ｍＷで
一定とした。

【０１５０】そして、以上のようにして作製した、ウォ
ブリンググルーブ２の中心位置の異なる複数の評価用光
磁気ディスクについて、得られるプッシュプル信号のレ
ベルを測定し、ウォブリンググルーブ２の中心位置ずれ
量とプッシュプル信号との関係を調べた。結果を図４に
示す。

【０１５１】なお、図４において、縦軸は、得られるプ
ッシュプル信号のレベルを、ウォブリンググルーブ２の
中心位置にずれがない場合を１として示している。ま
た、横軸は、ウォブリンググルーブ２の中心位置ずれ量
を示している。ここで、ウォブリンググルーブ２の中心
位置ずれ量は、ウォブリンググルーブ２が本来形成され
るべき位置を基準位置として、この基準位置に対して、
ウォブリンググルーブ２の位置がディスク内周側にずれ
ている場合をマイナスとし、ウォブリンググルーブ２の
位置がディスク外周側にずれている場合をプラスとして
示している。

【０１５２】上述したように、ＭＤData2では、プッシ
ュプル信号レベルの変動を±１５％以下に抑えることが
要求されている。したがって、グルーブ２，３の中心位
置ずれに起因するプッシュプル信号の低下は、１５％以
下に抑えなければならない。すなわち、図４において縦
軸に示したプッシュプル信号のレベルが、０．８５以上
となるようにしなければならない。

【０１５３】したがって、図４の結果から、グルーブ
２，３に対して許容できる中心位置ずれ量は、−２０ｎ
ｍ〜＋１６ｎｍであることが分かる。換言すれば、グル
ーブ２，３の中心位置ずれに対するマージンは、−２ｎ
ｍを中心とすると±１８ｎｍである。

【０１５４】以上のことから、ウォブリンググルーブ２
の中心位置と、ストレートグルーブ３の中心位置とのず
れ量を、±１８ｎｍ以内とすることにより、プッシュプ
ル信号レベルの変動を±１５％以下に抑えることが可能
となることが分かる。

【０１５５】そして、グルーブ２，３の中心位置ずれ量
のマージンをトラックピッチＴPitchで規格化すると、
ＭＤData２では、トラックピッチＴPitchは０．９５μ
ｍであるので、下記式（５）に示すように、±１．８９
％となる。

【０１５６】 ±１８ｎｍ／９５０ｎｍ＝±１．８９％・・・（５）以上のことから、ウォブリンググルーブ２及びストレー
トグルーブ３の中心位置ずれ量を、トラックピッチＴPi
tchの±１．８９％以内とすることにより、プッシュプ
ル信号レベルの変動を±１５％以下に抑えることが可能
となり、トラッキングサーボに必要なプッシュプル信号
を十分且つ安定に得られるようになることが分かる。

【０１５７】このようにウォブリンググルーブ２及びス
トレートグルーブ３の中心位置ずれ量を、トラックピッ
チＴPitchの±１．８９％以内とすることは、上述した
レーザカッティング装置１０のように、異なる露光ビー
ムにより、ウォブリンググルーブ２に対応した潜像とス
トレートグルーブ３に対応した潜像とを同時に形成する
ようなレーザカッティング装置を用いることにより、実
現可能である。

【０１５８】なお、上記レーザカッティング装置１０に
おいて、ウォブリンググルーブ２及びストレートグルー
ブ３の中心位置ずれを無くすには、第２の露光ビームと
第３の露光ビームとを合成するための偏向ビームスプリ
ッタ４５の向きを、第２の露光ビームの照射位置と第３
の露光ビームの照射位置とがトラックピッチＴPitchに
相当するように調整すればよい。このとき、一旦、記録
媒体製造用原盤を作製し、その後、当該記録媒体製造用
原盤を走査型電子顕微鏡等により観察し、その観察結果
に基づいて、偏向ビームスプリッタ４５の向きを更に微
調整することにより、ウォブリンググルーブ２及びスト
レートグルーブ３の中心位置ずれ量を非常に小さくする
ことができる。

【０１５９】そして、以上の説明から明らかなように、
ウォブリンググルーブ２及びストレートグルーブ３の幅
の変化量が±４．０％以内とされ、ウォブリンググルー
ブ２及びストレートグルーブ３の中心位置ずれ量が、ト
ラックピッチＴPitchの±１．８９％以内とされた、本
発明を適用されてなる光磁気ディスクでは、十分に均一
なレベルのプッシュプル信号を安定に得ることができ
る。

【０１６０】なお、このような光磁気ディスクの作製に
使用される上記記録媒体製造用原盤は、本発明に係る記
録媒体製造用原盤である。

【０１６１】すなわち、上記記録媒体製造用原盤は、上
記光磁気ディスクのディスク基板に形成される凹凸パタ
ーンに対応した凹凸パターンが形成されてなるものであ
り、ウォブリンググルーブ２に対応するように記録トラ
ックに沿って所定の幅にて形成された凹凸パターンであ
る第１のグルーブパターンと、ストレートグルーブ３に
対応するように記録トラックに沿って所定の幅にて形成
された凹凸パターンである第２のグルーブパターンとを
有している。そして、第１のグルーブパターン及び第２
のグルーブパターンの幅の変化量が±４．０％以内とさ
れ、第１のグルーブパターン及び上記第２のグルーブパ
ターンの中心位置ずれ量が、トラックピッチの±１．８
９％以内とされる。

【０１６２】このような記録媒体製造用原盤を用いるこ
とにより、上述した実験結果からも明らかなように、十
分に均一なレベルのプッシュプル信号を安定に得ること
が可能な光磁気ディスクを作製することが可能となる。

【０１６３】なお、本発明は、記録トラックに沿ってグ
ルーブが形成されてなる記録媒体、並びにその製造に使
用される記録媒体製造用原盤に対して広く適用可能であ
り、本発明の対象となる記録媒体は、例えば、再生専用
の記録媒体、繰り返しデータの書き換えが可能な記録媒
体、或いはデータの追記は可能だか消去はできないよう
な記録媒体のいずれでもよい。

【０１６４】また、データの記録方法も特に限定される
ものではなく、本発明の対象となる記録媒体は、例え
ば、予めエンボスピット等によりデータが書き込まれて
いる再生専用の光記録媒体、磁気光学効果を利用してデ
ータの記録を行う光磁気記録媒体、或いは記録層の相変
化を利用してデータの記録を行う相変化型記録媒体のい
ずれでもよい。

【０１６５】また、本発明は、記録領域の少なくとも一
部にグルーブが形成されている記録媒体、並びにその製
造に使用される記録媒体製造用原盤に対して広く適用可
能である。すなわち、例えば、記録領域全体にグルーブ
が形成されていてもよいし、或いは、グルーブが形成さ
れることなくエンボスピットによってデータが記録され
ているような領域が記録領域内に存在していてもよい。

【０１６６】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ダブルスパイラルグルーブが形成された記録
媒体において、狭トラック化を進めても十分に均一なレ
ベルのプッシュプル信号が得られるようにすることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した光磁気ディスクの記録領域の
一部を拡大して示す図である。

【図２】本発明に係る記録媒体及び記録媒体製造用原盤
を作製する際に使用されるレーザカッティング装置の一
例について、その光学系の概要を示す図である。

【図３】第２の露光ビームのパワーとプッシュプル信号
との関係を示す図である。

【図４】グルーブの中心位置ずれ量とプッシュプル信号
との関係を示す図である。

【図５】従来のレーザカッティング装置の一例につい
て、その光学系の概要を示す図である。

【符号の説明】

１エンボスピット、２ウォブリンググルーブ、
３ストレートグルーブ、２１第１の変調光学系、
２２第２の変調光学系、２３第３の変調光学
系、４６偏向光学系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録トラックに沿ってグルーブが形成さ
れてなる記録媒体であって、上記グルーブとして、第１のグルーブと第２のグルーブ
とが２重螺旋を描くように形成されてなり、上記第１のグルーブ及び上記第２のグルーブの幅の変化
量が±４．０％以内であることを特徴とする記録媒体。
【請求項２】上記第１及び第２のグルーブのうちの少
なくとも一方は、少なくとも一部が蛇行するように形成
されていることを特徴とする請求項１記載の記録媒体。
【請求項３】上記第１のグルーブ及び上記第２のグル
ーブは、それらの中心位置の間隔が記録トラックのトラ
ックピッチに対応するように形成されてなり、上記第１
のグルーブ及び上記第２のグルーブの中心位置ずれ量
は、トラックピッチの±１．８９％以内であることを特
徴とする請求項１記載の記録媒体。
【請求項４】第１のグルーブと第２のグルーブとが２
重螺旋を描くように記録トラックに沿って形成されてな
る記録媒体を製造する際に使用される記録媒体製造用原
盤であって、上記第１のグルーブに対応するように記録トラックに沿
って所定の幅にて形成された凹凸パターンである第１の
グルーブパターンと、上記第２のグルーブに対応するように記録トラックに沿
って所定の幅にて形成された凹凸パターンである第２の
グルーブパターンとを有し、上記第１のグルーブパターン及び上記第２のグルーブパ
ターンの幅の変化量が±４．０％以内であることを特徴
とする記録媒体製造用原盤。
【請求項５】上記第１及び第２のグルーブパターンの
うちの少なくとも一方は、少なくとも一部が蛇行するよ
うに形成されていることを特徴とする請求項４記載の記
録媒体製造用原盤。
【請求項６】上記第１のグルーブパターン及び上記第
２のグルーブパターンは、それらの中心位置の間隔が記
録トラックのトラックピッチに対応するように形成され
てなり、上記第１のグルーブパターン及び上記第２のグルーブパ
ターンの中心位置ずれ量は、トラックピッチの±１．８
９％以内であることを特徴とする請求項４記載の記録媒
体製造用原盤。