JP3027512B2 - Power MOSFET - Google Patents

Power MOSFET

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JP3027512B2
JP3027512B2 JP6221113A JP22111394A JP3027512B2 JP 3027512 B2 JP3027512 B2 JP 3027512B2 JP 6221113 A JP6221113 A JP 6221113A JP 22111394 A JP22111394 A JP 22111394A JP 3027512 B2 JP3027512 B2 JP 3027512B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、パワーMOSFET
特に、電気抵抗の低減技術に関し、例えば、高出力で高
発熱のものに利用して有効なものに関する。
The present invention relates to a power MOSFET ,
In particular relates to technology for reducing electrical resistance, for example, relates valid by using those of high fever with a high output.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、パワートランジスタやパワーI
C等の高出力で高発熱の半導体装置は、電池駆動装置の
電源やスイッチ、自動車電装品、モータ駆動用制御装置
等の電子機器や電気機器のあらゆる分野に使用されてい
る。このような高出力で高発熱の半導体装置のうち従来
のパワートランジスタを述べてある例として、特開昭5
9−25256号公報がある。このパワートランジスタ
は、リードフレームに放熱のためのヘッダが一体的に形
成されており、このヘッダの上にペレットが固定されて
いるとともに、このペレットの電極パッドとインナリー
ドとがボンディングワイヤによって電気的に接続されて
おり、ペレット、インナリード群およびヘッダの一部が
樹脂封止体によって樹脂封止されている。
2. Description of the Related Art Generally, power transistors and power I
2. Description of the Related Art Semiconductor devices having high output and high heat generation such as C are used in all fields of electronic devices and electric devices such as power supplies and switches of battery driving devices, automotive electric components, and motor driving control devices. Among such high-output and high-heat semiconductor devices, a conventional power transistor is described as an example in Japanese Patent Application Laid-Open No.
There is 9-25256. In this power transistor, a header for heat dissipation is integrally formed on a lead frame, a pellet is fixed on the header, and an electrode pad of the pellet and an inner lead are electrically connected by a bonding wire. And a part of the pellet, the inner lead group, and the header are resin-sealed by a resin-sealed body.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のパワートランジ
スタにおいては、ボンディングワイヤの電気抵抗分およ
びペレットのアルミニウム配線の電気抵抗分(以下、外
部抵抗分という。)と、ペレット内部の抵抗分(以下、
内部抵抗分という。)との合計がパワートランジスタ全
体のオン抵抗になる。ここで、内部抵抗分が大きい段階
においては外部抵抗分が問題になることは殆どなかっ
た。ところが、技術革新が進展し、内部抵抗分が小さく
改善されて外部抵抗分の大きさが全体の50%程度を越
える段階になると、外部抵抗分を無視することができな
い状況になる。
In the conventional power transistor, the electric resistance of the bonding wire and the electric resistance of the aluminum wiring of the pellet (hereinafter referred to as the external resistance) and the resistance inside the pellet (hereinafter referred to as the external resistance).
It is called internal resistance. ) Is the ON resistance of the entire power transistor. Here, at the stage where the internal resistance is large, the external resistance hardly caused a problem. However, when technological innovation progresses and the internal resistance is reduced and improved to a level where the external resistance exceeds about 50% of the whole, the external resistance cannot be ignored.

【0004】本発明の目的は、外部抵抗分を抑制するこ
とができるパワーMOSFETを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a power MOSFET capable of suppressing an external resistance component.

【0005】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
[0005] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
The outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application is as follows.

【0007】前記した課題を解決するための手段は、半
導体ペレットの回路要素が作り込まれた側の主面に配置
されたソース電極およびゲート電極と、前記半導体ペレ
ットの前記主面と反対側の主面に配置されたドレイン電
極と、前記ソース電極、ゲート電極、ドレイン電極のそ
れぞれに接続された複数のインナリードとを有するパワ
ーMOSFETにおいて、前記ソース電極が前記ゲート
電極と前記インナリードとの接続平面積よりも大きい接
続平面積を有する接続部を介して前記インナリードに電
気的かつ機械的に接続されていることを特徴とする。
[0007] Means for solving the above-mentioned problems are as follows.
Arranged on the main surface on the side where the circuit elements of the conductor pellet are built
Source electrode and gate electrode, and the semiconductor pellet
A drain electrode disposed on a main surface of the unit opposite to the main surface.
Pole and the source electrode, gate electrode, and drain electrode.
Power having a plurality of inner leads connected to each other
-In the MOSFET, the source electrode is the gate
The contact area larger than the connection area between the electrode and the inner lead
The inner lead is connected to the inner lead through a connection having a flat area.
It is characterized by being connected mechanically and mechanically.

【0008】[0008]

【作用】前記した手段によれば、ソース電極がゲート電
極とインナリードとの接続平面積よりも大きい接続平面
積を有する接続部を介してインナリードに電気的かつ機
械的に接続される構成としたことにより、電気的抵抗が
小さく抑制されるため、外部抵抗分が大幅に低減される
ことになる。また、半導体ペレットの回路要素が作り込
まれた側の主面に配置されたソース電極が大きい接続平
面積を有する接続部によってインナリードに直接的に接
続されているため、ボンディングワイヤによる電気的接
続に比べて外部抵抗分が大幅に低減されることになる。
また、ヘッダをインナリード群と別体に形成することに
より、インナリードの材質に無関係に放熱性能の良好な
材質を用いてヘッダを形成することができるため、半導
体ペレットに対する放熱性能を高めることができる。
According to the above means, the source electrode is connected to the gate electrode.
Connection plane larger than the connection plane area between the pole and inner lead
Electrical and mechanical connection to the inner lead through a connection having
The electrical resistance is reduced by the mechanical connection.
Because it is suppressed to a small value, the external resistance component is greatly reduced
Will be. In addition, the circuit elements of the semiconductor pellet
The source electrode located on the main surface on the
The direct connection to the inner lead
Since the connection is continued, the external resistance is greatly reduced as compared with the electrical connection by the bonding wire.
Also, the header is formed separately from the inner lead group.
Because the header can be formed using a material with good heat dissipation performance regardless of the material of the inner lead ,
The heat radiation performance for the body pellet can be improved.

【0009】[0009]

【実施例】図1は本発明の一実施例であるパワーMOS
FETを示しており、(a)は一部切断平面図、(b)
は正面断面図である。図2以降は本発明の一実施例であ
パワーMOSFETの製造方法を説明するための各説
明図である。
FIG. 1 shows a power MOS according to an embodiment of the present invention.
4A shows an FET , (a) is a partially cutaway plan view, and (b)
Is a front sectional view. FIG. 2 et seq. Are explanatory diagrams for explaining a method of manufacturing a power MOSFET according to one embodiment of the present invention.

【0010】本実施例において、本発明に係るパワーM
OSFET(以下、トランジスタという。)1は、MO
SFET回路が作り込まれ小形の平板形状に形成された
半導体ペレット(以下、ペレットという。)10と、M
OSFET回路を電気的に外部に引き出すための3本の
インナリード35、36、37と、放熱性能を高めるた
めのヘッダ41と、ペレット10、インナリード群およ
びヘッダ41の一部を樹脂封止する樹脂封止体44とを
備えている。ペレット10の回路要素が作り込まれた側
の主面(以下、上面とする。)には各インナリード3
5、36、37がバンプから形成された接続部25、2
6、27によって電気的かつ機械的に接続されている。
また、ペレット10の反対側の主面である下面にはヘッ
ダ41が結合されている。そして、このトランジスタ1
は以下に述べるような製造方法によって製造されてい
る。
[0010] In this embodiment, the engagement present invention Rupa word M
The OSFET (hereinafter, referred to as a transistor ) 1 has an MO
A semiconductor pellet (hereinafter, referred to as a pellet) 10 in which an SFET circuit is formed and formed in a small flat plate shape;
Three inner leads 35, 36, and 37 for electrically extracting the OSFET circuit to the outside, a header 41 for improving the heat radiation performance, a pellet 10, the inner lead group, and a part of the header 41 are resin-sealed. And a resin sealing body 44. Each inner lead 3 is provided on a main surface (hereinafter, referred to as an upper surface) on a side of the pellet 10 on which circuit elements are formed.
5, 36 and 37 are connection portions 25 and 2 formed from bumps.
6, 27 electrically and mechanically connected.
A header 41 is connected to the lower surface, which is the opposite main surface of the pellet 10. And this transistor 1
Is manufactured by the manufacturing method described below.

【0011】以下、本発明の一実施例であるトランジス
タの製造方法を説明する。この説明により、前記トラン
ジスタ1についての構成の詳細が明らかにされる。
Hereinafter, a method of manufacturing a transistor according to an embodiment of the present invention will be described. With this description, the details of the configuration of the transistor 1 will be clarified.

【0012】このトランジスタの製造方法においては、
図2に示されているペレット10、図3に示されている
多連リードフレーム30および図4に示されているヘッ
ダが、ペレット準備工程、リードフレーム準備工程およ
びヘッダ準備工程においてそれぞれ準備される。
In this method of manufacturing a transistor,
The pellet 10 shown in FIG. 2, the multiple lead frame 30 shown in FIG. 3, and the header shown in FIG. 4 are prepared in a pellet preparing step, a lead frame preparing step, and a header preparing step, respectively. .

【0013】図2に示されているペレット10は、半導
体装置の製造工程における所謂前工程においてウエハ状
態にてパワーMOSFET回路を適宜作り込まれた後
に、小さい正方形の薄板形状に分断(ダイシング)され
ることにより、製作されたものである。このペレット1
0はサブストレート11を備えており、サブストレート
11の上にはポリシリコンによってゲート12が下敷き
シリコン酸化膜13を介して形成されている。サブスト
レート11におけるゲート12の外側に対応するサブス
トレート11の内部には半導体拡散層部としてのソース
14が形成されており、サブストレート11の下部には
ドレイン15が形成されている。
The pellet 10 shown in FIG. 2 is divided (diced) into small square thin plates after appropriately forming a power MOSFET circuit in a wafer state in a so-called pre-process in a semiconductor device manufacturing process. It was produced by doing so. This pellet 1
Reference numeral 0 denotes a substrate 11 on which a gate 12 is formed of polysilicon with a silicon oxide film 13 underneath. A source 14 as a semiconductor diffusion layer is formed inside the substrate 11 corresponding to the outside of the gate 12 in the substrate 11, and a drain 15 is formed below the substrate 11.

【0014】サブストレート11の上にはCVD酸化膜
等からなる絶縁膜16がゲート12およびソース14を
被覆するように形成されており、この絶縁膜16におけ
るゲート12に対向する位置にはゲート用コンタクトホ
ール17が1個、ゲート12に貫通するように開設され
ている。また、絶縁膜16におけるソース14に対向す
る領域にはソース用コンタクトホール18が3個、ゲー
ト用コンタクトホール17の片脇において直交する方向
に並べられてソース14にそれぞれ貫通するように開設
されている。
An insulating film 16 made of a CVD oxide film or the like is formed on the substrate 11 so as to cover the gate 12 and the source 14. One contact hole 17 is formed so as to penetrate the gate 12. In the region of the insulating film 16 facing the source 14, three source contact holes 18 are arranged in a direction orthogonal to one side of the gate contact hole 17, and are formed to penetrate the source 14. I have.

【0015】さらに、ゲート用コンタクトホール17の
内部にはゲート用電極パッド19が形成され、各ソース
用コンタクトホール18の内部にはソース用電極パッド
20がそれぞれ形成されている。これら電極パッド1
9、20は、アルミニウム材料(アルミニウムまたはそ
の合金)がスパッタリング蒸着等の適当な手段により絶
縁膜16の上に被着された後に、写真食刻法によってパ
ターンニングされて形成されたものである。つまり、絶
縁膜16の上に被着されたアルミニウム材料は各コンタ
クトホール17、18の内部にそれぞれ充填されるた
め、この充填部によってそれぞれ形成された電極パッド
19、20はゲート12およびソース14とにそれぞれ
電気的に接続された状態になっている。他方、サブスト
レート11の下面にはドレイン15用の電極パッド21
がアルミニウム材料を被着されている。
Further, a gate electrode pad 19 is formed inside the gate contact hole 17, and a source electrode pad 20 is formed inside each source contact hole 18. These electrode pads 1
Nos. 9 and 20 are formed by depositing an aluminum material (aluminum or an alloy thereof) on the insulating film 16 by a suitable means such as sputtering deposition and then patterning the insulating film 16 by photolithography. In other words, since the aluminum material deposited on the insulating film 16 is filled in the contact holes 17 and 18, respectively, the electrode pads 19 and 20 formed by the filled portions are connected to the gate 12 and the source 14, respectively. Are electrically connected to each other. On the other hand, an electrode pad 21 for the drain 15 is provided on the lower surface of the substrate 11.
Are coated with an aluminum material.

【0016】ゲート用電極パッド19および3個のソー
ス用電極パッド20の上には、リンシリケートガラスや
ポリイミド系樹脂等の絶縁材料からなる保護膜24が被
着されており、保護膜24のゲート用電極パッド19お
よびソース用電極パッド20にそれぞれ対向する位置に
はゲート用バンプ22および各ソース用バンプ23がそ
れぞれ突設されている。これらバンプ22、23は、チ
タン(Ti)等からなる第1下地層22a、23aと、
パラジウム(Pd)等からなる第2下地層22b、23
bと、はんだ(Sn−Pb)からなる本体22c、23
cとから構成されている。
On the gate electrode pad 19 and the three source electrode pads 20, a protective film 24 made of an insulating material such as phosphor silicate glass or polyimide resin is applied. Gate bumps 22 and source bumps 23 project from positions facing the electrode pad 19 for source and the electrode pad 20 for source, respectively. These bumps 22 and 23 include first underlayers 22a and 23a made of titanium (Ti) or the like,
Second underlayers 22b and 23 made of palladium (Pd) or the like
and main bodies 22c and 23 made of solder (Sn-Pb)
c.

【0017】図3に示されている多連リードフレーム3
0は、鉄−ニッケル合金や燐青銅或いはヘッダと同じ材
質の銅合金等の導電性が良好な材料からなる薄板が用い
られて、打抜きプレス加工またはエッチング加工等の適
当な手段により一体成形されている。この多連リードフ
レーム30の表面には錫(Sn)、金(Au)、はんだ
(Sn−Pb)等を用いためっき処理が、ペレット10
に突設されたバンプ22、23による電気的かつ機械的
接続作用が適正に実施されるように被着されている(図
示せず)。この多連リードフレーム30には複数の単位
リードフレーム31が一方向に1列に並設されている。
但し、一単位のみが図示されている。
The multiple lead frame 3 shown in FIG.
No. 0 is a thin plate made of a material having good conductivity such as iron-nickel alloy, phosphor bronze, or a copper alloy of the same material as the header, and is integrally formed by an appropriate means such as a punching press process or an etching process. I have. A plating process using tin (Sn), gold (Au), solder (Sn-Pb), or the like is performed on the surface of the
(Not shown) so that the electrical and mechanical connection action by the bumps 22 and 23 protruding from the base plate is properly performed. In the multiple lead frame 30, a plurality of unit lead frames 31 are arranged in a line in one direction.
However, only one unit is shown.

【0018】単位リードフレーム31は位置決め孔32
aが開設されている外枠32を一対備えており、両外枠
は所定の間隔で平行になるように配されて一連にそれぞ
れ延設されている。隣合う単位リードフレーム31、3
1間には一対のセクション枠33が両外枠32、32の
間に互いに平行に配されて一体的に架設されており、こ
れら外枠、セクション枠によって形成される略長方形の
枠体(フレーム)内に単位リードフレーム31が構成さ
れている。
The unit lead frame 31 has a positioning hole 32
The outer frame 32 is provided with a pair of outer frames 32, and the two outer frames are arranged in parallel at a predetermined interval and are extended in series. Adjacent unit lead frames 31, 3
A pair of section frames 33 are arranged between the outer frames 32, 32 in parallel with each other and integrally formed between the outer frames. A substantially rectangular frame (frame) formed by these outer frames and section frames The unit lead frame 31 is configured in parentheses.

【0019】各単位リードフレーム(以下、リードフレ
ームということがある。)31において、両セクション
枠の間にはダム部材34が略中央部において直交されて
一体的に架設されている。ダム部材34には3本のイン
ナリード35、36、37が長さ方向に等間隔に配され
て、一方向に直角にそれぞれ突設されている。中央のイ
ンナリード35(以下、第1インナリードという。)の
先端部には、ドレイン用接続部片35aが厚さ方向にL
字形状に屈曲されて形成されている。一方の片脇のイン
ナリード36(以下、第2インナリードという。)の先
端部には、ゲート用接続部片36aが同一平面内でく字
形状に形成されている。他方の片脇のインナリード(以
下、第3インナリードという。)37の先端部には、ソ
ース用接続部片37aが同一平面内でヨ字形状に形成さ
れている。
In each unit lead frame (hereinafter, sometimes referred to as a lead frame) 31, a dam member 34 is interposed between two section frames at a substantially central portion so as to be orthogonal and integrated. The dam member 34 is provided with three inner leads 35, 36, and 37 arranged at equal intervals in the length direction and projecting at right angles in one direction. At the tip of the central inner lead 35 (hereinafter, referred to as a first inner lead), a drain connection piece 35a is formed in the thickness direction as L.
It is formed to be bent in a letter shape. At one end of one inner lead 36 (hereinafter, referred to as a second inner lead), a gate connecting piece 36a is formed in a rectangular shape in the same plane. At the tip of the other inner lead (hereinafter, referred to as a third inner lead) 37, a source connection piece 37a is formed in a Y-shape in the same plane.

【0020】ダム部材34には3本のアウタリード3
8、39、40が3本のインナリード35、36、37
に対向する各位置に配されて、それらインナリードと直
線状に連続するようにそれぞれ突設されている。そし
て、隣合うアウタリード同士および両セクション枠3
3、33との間には、後述する樹脂封止体の成形に際し
てレジンの流れを堰き止めるためのダム34aがそれぞ
れ形成されている。
The dam member 34 has three outer leads 3
8, 39, 40 are three inner leads 35, 36, 37
, And project from each of the inner leads so as to be linearly continuous therewith. Then, adjacent outer leads and both section frames 3
Dams 34a for blocking the flow of the resin when a resin sealing body described later is formed are formed between the first and second dampers 3 and 33, respectively.

【0021】図4に示されているヘッダ41は銅材料
(銅または銅合金)等の導電性および熱伝導性の良好な
材料が用いられて、ペレット10よりも大きな長方形の
板形状に形成されている。ヘッダ41にはこのトランジ
スタをプリント配線基板等に取り付けるための取付孔4
2が、一方の短辺付近において中央部に配されて厚さ方
向に貫通するように開設されている。
The header 41 shown in FIG. 4 is formed in a rectangular plate shape larger than the pellet 10 by using a material having good conductivity and heat conductivity such as a copper material (copper or copper alloy). ing. The header 41 has a mounting hole 4 for mounting the transistor on a printed circuit board or the like.
2 is arranged in the center near one of the short sides and is opened so as to penetrate in the thickness direction.

【0022】以上のようにして予め準備されたペレット
10とヘッダ41とは、ペレットボンディング工程にお
いて、ヘッダ41の一方の主面(以下、上面とする。)
にペレット10のドレイン用電極パッド21側の主面が
ペレットボンディング層としてのはんだ付け層43によ
りボンディングされる。はんだ付け層43を形成するは
んだ材料としては、ペレット10のバンプ22、23に
使用されたはんだ材料の融点以上の融点を有するはんだ
材料が使用される。また、はんだ付け層43の形成方法
としては、ヘッダ41の上面に載置されたはんだ箔(図
示せず)にペレット10を押接させた状態で加熱させる
方法を、使用することができる。
In the pellet bonding step, the pellet 10 and the header 41 prepared in advance as described above are provided on one main surface (hereinafter, referred to as an upper surface) of the header 41.
Then, the main surface of the pellet 10 on the side of the drain electrode pad 21 is bonded by a soldering layer 43 as a pellet bonding layer. As a solder material for forming the soldering layer 43, a solder material having a melting point equal to or higher than the melting point of the solder material used for the bumps 22 and 23 of the pellet 10 is used. As a method of forming the soldering layer 43, a method of heating the pellet 10 in a state where the pellet 10 is pressed against a solder foil (not shown) placed on the upper surface of the header 41 can be used.

【0023】次に、インナリードボンディング工程にお
いて図5に示されているように、ペレット10のヘッダ
41と反対側の主面にインナリード群がボンディングさ
れる。この際、多連リードフレーム30はインナリード
ボンディング装置(図示せず)を一方向に歩進送りされ
る。そして、歩進送りされる多連リードフレーム30の
途中に配設されているインナリードボンディングステー
ジにおいて、ペレット30は単位リードフレーム31に
下方から対向されるとともに、各バンプ22および23
が各インナリード36および37の接続部片36a、3
7aにそれぞれ整合されてボンディング工具により熱圧
着されることにより、多連リードフレーム30に組み付
けられる。
Next, in the inner lead bonding step, an inner lead group is bonded to the main surface of the pellet 10 on the side opposite to the header 41, as shown in FIG. At this time, the multiple lead frames 30 are advanced in one direction by an inner lead bonding apparatus (not shown). In the inner lead bonding stage provided in the middle of the multiple lead frames 30 that are stepped forward, the pellets 30 face the unit lead frames 31 from below, and the respective bumps 22 and 23
Are connecting pieces 36a, 3a of the inner leads 36 and 37, respectively.
7a are assembled to the multiple lead frames 30 by being thermocompression-bonded with a bonding tool, respectively.

【0024】すなわち、各バンプ22、23が各インナ
リード36、37に加熱下で押接されると、バンプ本体
22c、23cのはんだが溶融して各インナリード36
および37に溶着する。そして、はんだが固化した後
に、ペレット10のゲート用電極パッド19および各ソ
ース用電極パッド20と第2インナリード36および第
3インナリード37との間には、ゲート用接続部25お
よびソース用接続部26がそれぞれ形成される。ゲート
用接続部25によってゲート用電極パッド19と第2イ
ンナリード36とが電気的かつ機械的に接続され、ソー
ス用接続部26によってソース用電極パッド20と第3
インナリード37とが電気的かつ機械的に接続された状
態になるとともに、これらの機械的接続によってペレッ
ト10がリードフレーム31に機械的に接続された状態
すなわち固定的に組み付けられた状態になる。
That is, when the respective bumps 22 and 23 are pressed against the respective inner leads 36 and 37 under heating, the solder of the bump bodies 22c and 23c is melted and the respective inner leads 36 and 37 are melted.
And 37. Then, after the solder is solidified, the gate connection portion 25 and the source connection are provided between the gate electrode pad 19 and each source electrode pad 20 of the pellet 10 and the second inner lead 36 and the third inner lead 37. Portions 26 are respectively formed. The gate connecting pad 25 electrically and mechanically connects the gate electrode pad 19 and the second inner lead 36, and the source connecting pad 26 connects the source electrode pad 20 and the third inner lead 36.
The inner lead 37 is electrically and mechanically connected, and the pellet connection is mechanically connected to the lead frame 31 by the mechanical connection, that is, the pellet 10 is fixedly assembled.

【0025】このインナリードボンディング作業に際し
て、第1インナリード35のドレイン用接続部片35a
はヘッダ41の取付孔42と反対側の短辺付近にはんだ
付けされる。このはんだ付け部によってドレイン用接続
部27が形成された状態になり、ドレイン用接続部27
によってペレット10のドレイン電極パッド21とヘッ
ダ41とが電気的に接続された状態になる。
At the time of this inner lead bonding operation, the drain connecting portion piece 35a of the first inner lead 35 is formed.
Is soldered near the short side opposite to the mounting hole 42 of the header 41. With this soldered portion, the drain connection portion 27 is formed, and the drain connection portion 27 is formed.
Thus, the drain electrode pad 21 of the pellet 10 and the header 41 are electrically connected.

【0026】以上のようにして組み立てられたヘッダ付
きペレット10と多連リードフレーム30との組立体に
は、樹脂封止体成形工程においてエポキシ樹脂等の絶縁
性樹脂からなる樹脂封止体44が、図6に示されている
トランスファ成形装置50を使用されて各単位リードフ
レーム31について同時成形される。
In the assembly of the header-attached pellet 10 and the multiple lead frames 30 assembled as described above, a resin sealing body 44 made of an insulating resin such as an epoxy resin is formed in the resin sealing body forming step. Each unit lead frame 31 is simultaneously molded using the transfer molding apparatus 50 shown in FIG.

【0027】図6に示されているトランスファ成形装置
はシリンダ装置等(図示せず)によって互いに型締めさ
れる一対の上型51と下型52とを備えており、上型5
1と下型52との合わせ面には上型キャビティー凹部5
3aと、下型キャビティー凹部53bとが互いに協働し
てキャビティー53を形成するように複数組(1組のみ
が図示されている。)没設されている。また、上型キャ
ビティー凹部53aの天井面および下型キャビティー凹
部53bの底面上には、樹脂封止体に取付孔を成形する
ための各取付孔成形用凸部60a、60bが互いに突合
するように、かつ、ヘッダ41の取付孔42と等しい平
面形状にそれぞれ突設されている。
The transfer molding apparatus shown in FIG. 6 includes a pair of upper dies 51 and lower dies 52 which are mutually clamped by a cylinder device or the like (not shown).
The upper mold cavity recess 5 is provided in the mating surface of the lower mold 52 and the lower mold 52.
A plurality of sets (only one set is shown) are submerged so that the cavity 3a and the lower mold cavity recess 53b cooperate with each other to form the cavity 53. In addition, on the ceiling surface of the upper mold cavity recessed portion 53a and the bottom surface of the lower mold cavity recessed portion 53b, mounting hole forming protrusions 60a and 60b for forming an attachment hole in the resin sealing body abut each other. As shown in FIG.

【0028】上型51の合わせ面にはポット54が開設
されており、ポット54にはシリンダ装置(図示せず)
により進退されるプランジャ55が成形材料としての樹
脂(以下、レジンという。)を送給し得るように挿入さ
れている。下型52の合わせ面にはカル56がポット5
4との対向位置に配されて没設されているとともに、複
数条のランナ57がポット54にそれぞれ接続するよう
に放射状に配されて没設されている。各ランナ57の他
端部は下側キャビティー凹部53bにそれぞれ接続され
ており、その接続部分にはゲート58がレジンをキャビ
ティー53内に注入し得るように形成されている。ま
た、下型52の合わせ面には逃げ凹所59が単位リード
フレーム31の厚みを逃げ得るように、多連リードフレ
ーム30の外形よりも若干大きめの長方形で、その厚さ
と略等しい寸法の一定深さに没設されている。
A pot 54 is opened on the mating surface of the upper mold 51, and the pot 54 has a cylinder device (not shown).
The plunger 55 which is moved forward and backward is inserted so that resin (hereinafter, referred to as resin) as a molding material can be fed. The cull 56 is a pot 5 on the mating surface of the lower mold 52.
4 and a plurality of runners 57 are radially arranged and laid so as to be connected to the pots 54, respectively. The other end of each runner 57 is connected to the lower cavity recess 53b, and a gate 58 is formed at the connection portion so that the resin can be injected into the cavity 53. In the mating surface of the lower mold 52, a rectangular shape slightly larger than the outer shape of the multiple lead frame 30 and having a dimension substantially equal to the thickness is formed so that the escape recess 59 can escape the thickness of the unit lead frame 31. It is submerged in depth.

【0029】以上のように構成されたトランスファ成形
装置による樹脂封止体の成形作業について説明する。前
記構成にかかる組立体は下型52に没設されている逃げ
凹所59内に、ペレット10が下型キャビティー凹部5
3b内にそれぞれ収容されるように配されてセットされ
る。続いて、上型51と下型52とが型締めされ、ポッ
ト54からプランジャ55によりレジン61がランナ5
7およびゲート58を通じて各キャビティー53に送給
されて圧入される。
The operation of molding the resin sealing body by the transfer molding apparatus configured as described above will be described. In the assembly according to the above configuration, the pellets 10 are placed in the escape recesses 59 submerged in the lower mold 52 and the lower mold cavity
3b, they are arranged and set so as to be accommodated respectively. Subsequently, the upper die 51 and the lower die 52 are clamped, and the resin 61 is moved from the pot 54 by the plunger 55 to the runner 5.
It is fed into each cavity 53 through 7 and a gate 58 and is press-fitted.

【0030】注入後、レジン61が熱硬化されて樹脂封
止体44が成形されると、上型51および下型52は型
開きされるとともに、エジェクタ・ピン(図示せず)に
より樹脂封止体44が離型される。
After the resin is injected, the resin 61 is thermally cured to form the resin sealing body 44. The upper mold 51 and the lower mold 52 are opened, and the resin is sealed by an ejector pin (not shown). The body 44 is released.

【0031】図7は離型後の多連リードフレーム30と
樹脂封止体44との組立体を示している。この組立体の
樹脂封止体44の内部には、ペレット10、3本のイン
ナリード35、36、37と共に、ペレット10の下面
に結合されたヘッダ41の一部も樹脂封止された状態に
なっている。この状態において、ヘッダ41はそのペレ
ット取付面とは反対側の端面が樹脂封止体44の表面か
ら露出した状態になっており、3本のアウタリード3
8、39、40は樹脂封止体44の短辺側の一側面から
直角に突出した状態になっている。また、樹脂封止体4
4のヘッダ取付孔42と対向する部位には、取付孔45
が凸部60a、60bによって成形されて開設された状
態になっている。
FIG. 7 shows an assembly of the multiple lead frame 30 and the resin sealing body 44 after release. Inside the resin sealing body 44 of this assembly, together with the pellet 10 and the three inner leads 35, 36, and 37, a part of the header 41 coupled to the lower surface of the pellet 10 is also in a resin-sealed state. Has become. In this state, the end face of the header 41 opposite to the pellet mounting surface is exposed from the surface of the resin sealing body 44, and the three outer leads 3
Reference numerals 8, 39, and 40 protrude at right angles from one short side surface of the resin sealing body 44. In addition, the resin sealing body 4
4, a mounting hole 45 is provided at a portion facing the header mounting hole 42.
Is formed and opened by the convex portions 60a and 60b.

【0032】以上のようにして樹脂封止体44を成形さ
れた組立体は、リードフレーム切断工程において(図示
せず)、外枠32、セクション枠33、ダム34aを切
り落とされる。これにより、図1に示されているトラン
ジスタ1が製造されたことになる。
In the lead frame cutting step (not shown), the outer frame 32, the section frame 33, and the dam 34a are cut off from the assembly formed with the resin sealing body 44 as described above. Thus, the transistor 1 shown in FIG. 1 is manufactured.

【0033】前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) 各インナリードをペレットに各接続部によって
電気的かつ機械的に接続することにより、ボンディング
ワイヤによる電気的接続を廃止することができるため、
ボンディングワイヤによる電気的接続に比べて外部抵抗
分を大幅に低減することができ、パワートランジスタの
性能を高めることができる。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained. (1) Since each inner lead is electrically and mechanically connected to the pellet by each connection portion, the electrical connection by the bonding wire can be abolished.
The external resistance can be greatly reduced as compared with the electrical connection by the bonding wire, and the performance of the power transistor can be improved.

【0034】(2) また、ボンディングワイヤによる
接続を廃止することにより、パワートランジスタのパッ
ケージを小形軽量化することができるため、前記(1)
とあいまって、パワートランジスタの性能を高めること
ができる。
(2) By eliminating the connection by the bonding wire, the size and weight of the power transistor package can be reduced.
Together with this, the performance of the power transistor can be improved.

【0035】(3) ヘッダがインナリード群とは別体
になっているため、インナリードの材質に無関係に放熱
性能の良好な材質を用いてヘッダを形成することによ
り、ヘッダの放熱性能を高めることができ、また、イン
ナリードはヘッダの材質に無関係にインナリード特性に
最適の材質を選定することができ、パワートランジスタ
の品質および信頼性をより一層高めることができる。
(3) Since the header is separate from the inner lead group, the heat radiation performance of the header is improved by forming the header using a material having good heat radiation performance regardless of the material of the inner lead. In addition, the material of the inner lead can be selected optimally for the inner lead characteristic irrespective of the material of the header, and the quality and reliability of the power transistor can be further improved.

【0036】(4) ソース用電極パッドおよびソース
用インナリードの接続部片を複数個設けることにより、
ソースに大電流を流すことができるため、パワートラン
ジスタの性能をより一層高めることができる。
(4) By providing a plurality of connection pieces for the source electrode pad and the source inner lead,
Since a large current can flow through the source, the performance of the power transistor can be further improved.

【0037】(5) 樹脂封止体をトランスファ成形法
によって成形することにより、耐湿性能等の樹脂封止体
が備えるべき性能を高めることができるため、パワート
ランジスタの品質および信頼性を高めることができる。
(5) By molding the resin sealing body by the transfer molding method, it is possible to improve the performance that the resin sealing body should have such as moisture resistance, so that the quality and reliability of the power transistor can be improved. it can.

【0038】図8は本発明の他の実施例であるパワーM
OSFETを示しており、(a)は一部切断平面図、
(b)は正面断面図である。
FIG. 8 shows a power M according to another embodiment of the present invention.
3A shows an OSFET, and FIG.
(B) is a front sectional view.

【0039】本実施例2が前記実施例1と異なる点は、
樹脂封止体44Aがポッティング法によって成形されて
いる点である。すなわち、ポッティング法による樹脂封
止体44Aはペレット10、インナリード35、36、
37およびヘッダ41のペレット周りの必要な部分だけ
を樹脂封止した状態になっている。そして、樹脂封止体
44Aの成形に際して、各インナリード36、37の内
側に外力が不慮に加わって変形されるのを防止するため
に、各インナリード36、37は絶縁性接着テープ等か
らなる接着材46によってヘッダ41に接着されてい
る。
The second embodiment is different from the first embodiment in that
The point is that the resin sealing body 44A is formed by a potting method. That is, the resin sealing body 44A formed by the potting method has the pellets 10, the inner leads 35 and 36,
Only the necessary portions around the pellets 37 and the header 41 are sealed with resin. The inner leads 36 and 37 are made of an insulating adhesive tape or the like in order to prevent an external force from being accidentally applied to the inside of each of the inner leads 36 and 37 during the molding of the resin sealing body 44A. It is adhered to the header 41 by an adhesive 46.

【0040】本実施例2によれば、樹脂封止体44Aが
ポッティング法によって成形されるため、樹脂封止体が
トランスファ成形法によって成形される場合に比べて、
コストを低減することができるとともに、パッケージ全
体をより一層小形軽量化することができる。
According to the second embodiment, since the resin sealing body 44A is formed by the potting method, compared with the case where the resin sealing body is formed by the transfer molding method,
The cost can be reduced, and the entire package can be further reduced in size and weight.

【0041】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say.

【0042】例えば、バンプはペレット側に配設するに
限らず、インナリード側に配設してもよい。また、バン
プ本体ははんだによって形成するに限らず、金によって
形成し、インナリードに金−錫共晶層によって接続する
ように構成してもよい。
For example, the bumps are not limited to being provided on the pellet side, but may be provided on the inner lead side. Further, the bump body is not limited to being formed by solder, but may be formed by gold and connected to the inner lead by a gold-tin eutectic layer.

【0043】ペレットとヘッダとは、はんだ付け部によ
って結合するに限らず、金−錫共晶層や導電性接着材層
(銀ペースト層等)によって結合してもよい。但し、ペ
レットのヘッダへの放熱作用を配慮して、熱伝導性の良
好な結合部を形成することが望ましい。
The pellet and the header are not limited to being connected by the soldering portion, but may be connected by a gold-tin eutectic layer or a conductive adhesive layer (such as a silver paste layer). However, it is desirable to form a joint having good thermal conductivity in consideration of the heat radiation effect of the pellet to the header.

【0044】ドレイン用電極パッドは、ペレットの第2
主面(下面)側に配設してヘッダに電気的に接続するに
限らず、ゲート用電極パッドおよびソース用電極パッド
と同じ側に配設してインナリードにバンプによる接続部
によって電気的に接続してもよい。
The drain electrode pad is formed by the second pellet.
Not only is it arranged on the main surface (lower surface) side to be electrically connected to the header, but is also arranged on the same side as the gate electrode pad and the source electrode pad, and is electrically connected to the inner lead by a bump connection portion. You may connect.

【0045】ヘッダはペレットにインナリードボンディ
ングされる前に結合するに限らず、インナリードボンデ
ィング後またはインナリードボンディングと同時にペレ
ットに結合してもよい。
The header is not limited to being bonded to the pellet before the inner lead bonding, but may be bonded to the pellet after the inner lead bonding or simultaneously with the inner lead bonding.

【0046】ヘッダの形状、大きさ、構造等は、要求さ
れる放熱性能、実装形態(例えば、押さえ具や締結ボル
トの使用の有無等)、ペレットの性能、大きさ、形状、
構造等々の諸条件に対応して選定することが望ましく、
必要に応じて、放熱フィンやボルト挿通孔、雌ねじ等々
を設けることができる。
The shape, size, structure, etc. of the header are determined based on the required heat radiation performance, mounting form (for example, whether or not a retainer or a fastening bolt is used), the performance, size, shape, and the like of the pellet.
It is desirable to select according to various conditions such as the structure,
If necessary, radiation fins, bolt insertion holes, internal threads, and the like can be provided.

【0047】また、ヘッダを形成する材料としては銅系
材料を使用するに限らず、アルミニウム系等のような熱
伝導性の良好な他の金属材料を使用することができる。
特に、炭化シリコン(Sic)等のように熱伝導性に優
れ、かつ、熱膨張率がペレットの材料であるシリコンの
それと略等しい材料を使用することが望ましい。
The material for forming the header is not limited to a copper-based material, but may be another metal material having good thermal conductivity such as an aluminum-based material.
In particular, it is desirable to use a material having excellent thermal conductivity, such as silicon carbide (Sic), and having a coefficient of thermal expansion substantially equal to that of silicon as the material of the pellet.

【0048】本発明は、高出力で低価格であり、しか
も、高い放熱性能が要求されるパワーMOSFETに利
用して優れた効果が得られる。
The present invention can provide an excellent effect when used in a power MOSFET which is required to have a high output and a low price and high heat radiation performance.

【0049】[0049]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
The effects obtained by typical aspects of the invention disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0050】インナリードをペレットに接続部によって
電気的かつ機械的に接続することにより、ボンディング
ワイヤによる電気的接続を廃止することができるため、
ボンディングワイヤによる電気的接続に比べて外部抵抗
分を大幅に低減することができ、また、ボンディングワ
イヤによる電気的接続を廃止することにより、パッケー
ジを小形軽量化することができるため、パワーMOSF
ET全体としての性能を高めることができる。
Since the inner lead is electrically and mechanically connected to the pellet by a connecting portion, the electrical connection by the bonding wire can be eliminated.
The external resistor-can be greatly reduced as compared with the electrical connection by the bonding wires, also by abolishing the electrical connection by the bonding wires, it is possible to compact lightweight package, power MOSF
The performance of the entire ET can be improved.

【0051】また、ソース電極がゲート電極とインナリ
ードとの接続平面積よりも大きい接続平面積を有する接
続部を介してインナリードに接続されることにより、電
気的抵抗を小さく抑制することができるため、外部抵抗
分を大幅に低減することができる。また、ヘッダがイン
ナリード群とは別体になっているため、インナリードの
材質に無関係に放熱性能の良好な材質を用いてヘッダを
形成することにより、ヘッダの放熱性能を高めることが
でき、また、ヘッダと無関係にインナリードを最適な材
質をもって形成することができ、半導体装置の品質およ
び信頼性を高めることができる。
Further, the source electrode and the gate electrode are
With a connection area larger than the connection area with the
By connecting to the inner lead through the connection,
Since the air resistance can be suppressed small, the external resistance
Minutes can be greatly reduced. Also, if the header is
Since it is separate from the inner lead group , the heat dissipation performance of the header can be improved by forming the header using a material with good heat dissipation performance regardless of the material of the inner lead. In addition, the inner lead can be formed with an optimal material, and the quality and reliability of the semiconductor device can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例であるパワーMOSFET
示しており、(a)は一部切断平面図、(b)は正面断
面図である。
1A and 1B show a power MOSFET according to an embodiment of the present invention, wherein FIG. 1A is a partially cutaway plan view, and FIG. 1B is a front sectional view.

【図2】本発明の一実施例であるパワーMOSFET
製造方法に使用されるペレットを示しており、(a)は
平面図、(b)は正面断面図である。
FIGS. 2A and 2B show a pellet used in a method for manufacturing a power MOSFET according to one embodiment of the present invention, wherein FIG. 2A is a plan view and FIG.

【図3】同じく多連リードフレームを示しており、
(a)は一部省略平面図、(b)は正面断面図である。
FIG. 3 also shows a multiple lead frame,
(A) is a partially omitted plan view, and (b) is a front sectional view.

【図4】ペレットボンディング後のヘッダを示してお
り、(a)は平面図、(b)は正面断面図、(c)は一
部省略一部切断拡大側面図である。
4A and 4B show a header after pellet bonding, in which FIG. 4A is a plan view, FIG. 4B is a front sectional view, and FIG.

【図5】インナリードボンディング後を示しており、
(a)は一部省略平面図、(b)は正面断面図である。
FIG. 5 shows a state after inner lead bonding,
(A) is a partially omitted plan view, and (b) is a front sectional view.

【図6】樹脂封止体成形工程を示しており、(a)は正
面断面図、(b)はb−b線に沿う断面図である。
6A and 6B show a resin sealing body forming step, in which FIG. 6A is a front sectional view, and FIG. 6B is a sectional view along line bb.

【図7】樹脂封止体成形後を示しており、(a)は一部
省略平面図、(b)は正面断面図である。
7A and 7B show a state after molding of a resin sealing body, wherein FIG. 7A is a partially omitted plan view and FIG. 7B is a front sectional view.

【図8】本発明の他の実施例であるパワーMOSFET
を示しており、(a)は一部切断平面図、(b)は正面
断面図である。
FIG. 8 is a power MOSFET according to another embodiment of the present invention.
(A) is a partially cut plan view, and (b) is a front sectional view.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…パワートランジスタ(パワーMOSFET)、10
…ペレット、11…サブストレート、12…ゲート、1
3…シリコン酸化膜、14…ソース、15…ドレイン、
16…絶縁膜、17…ゲート用コンタクトホール、18
…ソース用コンタクトホール、19…ゲート用電極パッ
ド、20…ソース用電極パッド、21…ドレイン用電極
パッド、22…ゲート用バンプ、23…ソース用バン
プ、24…保護膜、25…ゲート用接続部、26…ソー
ス用接続部、27…ドレイン用接続部、30…多連リー
ドフレーム、31…単位リードフレーム、32…外枠、
33…セクション枠、34…ダム部材、35、36、3
7…インナリード、38、39、40…アウタリード、
41…ヘッダ、42…取付孔、43…はんだ付け層(ペ
レットボンディング層)、44…トランスファ成形法に
よる樹脂封止体、44A…ポッティング法による樹脂封
止体、45…取付孔、46…接着材、50…トランスフ
ァ成形装置、51…上型、52…下型、53…キャビテ
ィー、54…ポット、55…プランジャ、56…カル、
57…ランナ、58…ゲート、59…凹所、60a、6
0b…凸部、61…レジン。
1: Power transistor ( power MOSFET ), 10
... pellet, 11 ... substrate, 12 ... gate, 1
3 ... silicon oxide film, 14 ... source, 15 ... drain,
16: insulating film, 17: contact hole for gate, 18
... Source contact hole, 19 ... Gate electrode pad, 20 ... Source electrode pad, 21 ... Drain electrode pad, 22 ... Gate bump, 23 ... Source bump, 24 ... Protective film, 25 ... Gate connection part , 26: source connection, 27: drain connection, 30: multiple lead frame, 31: unit lead frame, 32: outer frame,
33: section frame, 34: dam member, 35, 36, 3
7 ... inner lead, 38, 39, 40 ... outer lead,
41: header, 42: mounting hole, 43: soldering layer (pellet bonding layer), 44: resin sealing body by transfer molding method, 44A: resin sealing body by potting method, 45: mounting hole, 46: adhesive material , 50: transfer molding apparatus, 51: upper mold, 52: lower mold, 53: cavity, 54: pot, 55: plunger, 56: cull,
57: runner, 58: gate, 59: recess, 60a, 6
0b: convex portion, 61: resin.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−166984(JP,A) 特開 平2−257660(JP,A) 特開 平2−281737(JP,A) 特開 昭53−135576(JP,A) 特開 平5−121615(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/60 311 H01L 23/48 H01L 29/78 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-5-166984 (JP, A) JP-A-2-257660 (JP, A) JP-A-2-281737 (JP, A) JP-A-53-1979 135576 (JP, A) JP-A-5-121615 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H01L 21/60 311 H01L 23/48 H01L 29/78

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体ペレットの回路要素が作り込まれ
た側の主面に配置されたソース電極およびゲート電極
と、前記半導体ペレットの前記主面と反対側の主面に配
置されたドレイン電極と、前記ソース電極、ゲート電
極、ドレイン電極のそれぞれに接続された複数のインナ
リードとを有するパワーMOSFETにおいて、 前記ソース電極が前記ゲート電極と前記インナリードと
の接続平面積よりも大きい接続平面積を有する接続部を
介して前記インナリードに電気的かつ機械的に接続され
ていることを特徴とするパワーMOSFET。
1. A semiconductor pellet circuit element is formed.
Electrode and gate electrode arranged on the main surface
And a main surface of the semiconductor pellet opposite to the main surface.
Drain electrode, the source electrode, and the gate electrode.
Multiple inner wires connected to each of the pole and drain electrodes
In the power MOSFET having a lead, the source electrode is connected to the gate electrode and the inner lead.
Connection area having a connection plane area larger than the connection plane area of
Electrically and mechanically connected to the inner lead through
A power MOSFET characterized in that:
【請求項2】 前記接続部は半田バンプまたは金バンプ
から成ることを特徴とする請求項1に記載のパワーMO
SFET。
2. The method according to claim 1, wherein the connection portion is a solder bump or a gold bump.
The power MO according to claim 1, comprising:
SFET.
【請求項3】 前記ドレイン電極と前記インナリードと
は導電性接着剤または半田層を介して接続されているこ
とを特徴とする請求項1または2に記載のパワーMOS
FET。
3. The drain electrode and the inner lead
Are connected via a conductive adhesive or solder layer.
3. The power MOS according to claim 1, wherein:
FET.
【請求項4】 前記ソース電極は半田バンプによる接続
部を介して前記インナリードに接続され、また、前記ド
レイン電極は半田層を介して前記インナリードに接続さ
れ、前記ドレイン電極の半田層は前記ソース電極の半田
バンプよりも融点の高い半田材によって形成されている
ことを特徴とする請求項1、2または3に記載のパワー
MOSFET。
4. The source electrode is connected by a solder bump.
Connected to the inner lead through the
The rain electrode is connected to the inner lead via a solder layer.
And the solder layer of the drain electrode is
Made of solder material with higher melting point than bump
The power according to claim 1, 2 or 3, wherein:
MOSFET.
【請求項5】 前記ソース電極と前記インナリードとは
複数の接続個所を有する接続部を介して接続されている
ことを特徴とする請求項1、2、3または4に記載のパ
ワーMOSFET。
5. The source electrode and the inner lead
Connected via a connection with multiple connection points
The package according to claim 1, 2, 3, or 4, wherein
Power MOSFET.
【請求項6】 前記ドレイン電極と前記インナリードと6. The drain electrode and the inner lead
はヘッダを介して接続されていることを特徴とする請求Are connected via a header
項1、2、3、4または5に記載のパワーMOSFEItem 7. Power MOSFE according to item 1, 2, 3, 4, or 5
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