JP3024531B2 - プロピレンオキサイドの製造方法 - Google Patents
プロピレンオキサイドの製造方法Info
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- JP3024531B2 JP3024531B2 JP7317841A JP31784195A JP3024531B2 JP 3024531 B2 JP3024531 B2 JP 3024531B2 JP 7317841 A JP7317841 A JP 7317841A JP 31784195 A JP31784195 A JP 31784195A JP 3024531 B2 JP3024531 B2 JP 3024531B2
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- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プロピレンオキサ
イドの製造方法に関するものである。更に詳しくは、本
発明は、反応混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機
珪酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の珪素化
合物並びに該珪素化合物と化学的に結合したチタンを含
有する不均一触媒を用い、プロピレンとエチルベンゼン
ハイドロパーオキサイドを反応させることによりプロピ
レンオキサイドを得るプロピレンオキサイドの製造方法
であって、使用に伴う触媒活性の低下を極めて低い水準
に維持することができるプロピレンオキサイドの製造方
法に関するものである。なお、プロピレンオキサイド
は、ポリウレタンの製造原料などとして有用な化合物で
ある。
イドの製造方法に関するものである。更に詳しくは、本
発明は、反応混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機
珪酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の珪素化
合物並びに該珪素化合物と化学的に結合したチタンを含
有する不均一触媒を用い、プロピレンとエチルベンゼン
ハイドロパーオキサイドを反応させることによりプロピ
レンオキサイドを得るプロピレンオキサイドの製造方法
であって、使用に伴う触媒活性の低下を極めて低い水準
に維持することができるプロピレンオキサイドの製造方
法に関するものである。なお、プロピレンオキサイド
は、ポリウレタンの製造原料などとして有用な化合物で
ある。
【０００２】
【従来の技術】反応混合物に不溶であり、固体シリカ及
び無機珪酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の
珪素化合物並びに該珪素化合物と化学的に結合したチタ
ンを含有する不均一触媒を用い、プロピレンとエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイドを反応させることにより
プロピレンオキサイドを得る方法は公知である（たとえ
ば、特公昭５６−３５９４１号公報、特公昭５４−４０
５２５号公報、特公昭５４−４０５２６号公報又は特公
昭５０−３００４９号公報及び特願平７−７３３１９号
参照。）。ところが、従来の方法によると、使用中の時
間経過に伴い触媒の活性が著しく低下し、特に工業的観
点から不都合であるという問題があった。
び無機珪酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の
珪素化合物並びに該珪素化合物と化学的に結合したチタ
ンを含有する不均一触媒を用い、プロピレンとエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイドを反応させることにより
プロピレンオキサイドを得る方法は公知である（たとえ
ば、特公昭５６−３５９４１号公報、特公昭５４−４０
５２５号公報、特公昭５４−４０５２６号公報又は特公
昭５０−３００４９号公報及び特願平７−７３３１９号
参照。）。ところが、従来の方法によると、使用中の時
間経過に伴い触媒の活性が著しく低下し、特に工業的観
点から不都合であるという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】かかる現状に鑑み、本
発明が解決しようとする課題は、反応混合物に不溶であ
り、固体シリカ及び無機珪酸塩からなる群から選ばれる
少なくとも一種の珪素化合物並びに該珪素化合物と化学
的に結合したチタンを含有する不均一触媒を用い、プロ
ピレンとエチルベンゼンハイドロパーオキサイドを反応
させることによりプロピレンオキサイドを得るプロピレ
ンオキサイドの製造方法であって、使用に伴う触媒活性
の低下を極めて低い水準に維持することができるプロピ
レンオキサイドの製造方法を提供する点に存する。
発明が解決しようとする課題は、反応混合物に不溶であ
り、固体シリカ及び無機珪酸塩からなる群から選ばれる
少なくとも一種の珪素化合物並びに該珪素化合物と化学
的に結合したチタンを含有する不均一触媒を用い、プロ
ピレンとエチルベンゼンハイドロパーオキサイドを反応
させることによりプロピレンオキサイドを得るプロピレ
ンオキサイドの製造方法であって、使用に伴う触媒活性
の低下を極めて低い水準に維持することができるプロピ
レンオキサイドの製造方法を提供する点に存する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、反
応混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機珪酸塩から
なる群から選ばれる少なくとも一種の珪素化合物並びに
該珪素化合物と化学的に結合したチタンを含有する不均
一触媒を用い、プロピレンとエチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイドを反応させることによりプロピレンオキサ
イドを得るプロピレンオキサイドの製造方法であって、
反応混合物中の有機酸の濃度が２μｍｏｌ／ｇ以下であ
り、かつ該反応混合物中のプロピレングリコールの濃度
が１０μｍｏｌ／ｇ以下である条件下に反応を行うプロ
ピレンオキサイドの製造方法に係るものである。
応混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機珪酸塩から
なる群から選ばれる少なくとも一種の珪素化合物並びに
該珪素化合物と化学的に結合したチタンを含有する不均
一触媒を用い、プロピレンとエチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイドを反応させることによりプロピレンオキサ
イドを得るプロピレンオキサイドの製造方法であって、
反応混合物中の有機酸の濃度が２μｍｏｌ／ｇ以下であ
り、かつ該反応混合物中のプロピレングリコールの濃度
が１０μｍｏｌ／ｇ以下である条件下に反応を行うプロ
ピレンオキサイドの製造方法に係るものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明で用いられる触媒は、反応
混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機珪酸塩からな
る群から選ばれる少なくとも一種の珪素化合物並びに該
珪素化合物と化学的に結合したチタンを含有する不均一
触媒である。かかる触媒は公知である（たとえば特公昭
５６−３５９４１号公報、特公昭５４−４０５２５号公
報、特公昭５４−４０５２６号公報及び特公昭５０−３
００４９号公報及び特願平７−７３３１９号参照）が、
その代表的な調製法は次のとおりである。すなわち、固
体シリカであるシリカゲル、及びチタン酸テトライソプ
ロピル、チタン酸テトラエチルなどのチタン化合物と必
要ならアセチルアセトンなどの添加物を、イソプロパノ
ール、エタノールなどの溶媒中に投入し、室温で撹拌し
た後、固体を濾別する。更に該固体をイソプロパノー
ル、エタノールなどの溶媒で洗浄した後、乾燥する。乾
燥された固体を４００〜９００℃程度で１〜１８時間程
度焼成する。焼成した固体を、ヘキサメチルジシラザン
などのシリル化剤とトルエンなどの溶媒中で５０〜３０
０℃程度で０．５〜５時間程度加熱撹拌した後、固体を
濾別する。その後、固体をトルエンなどの溶媒で洗浄
し、真空乾燥することにより本発明の触媒が得られる。
混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機珪酸塩からな
る群から選ばれる少なくとも一種の珪素化合物並びに該
珪素化合物と化学的に結合したチタンを含有する不均一
触媒である。かかる触媒は公知である（たとえば特公昭
５６−３５９４１号公報、特公昭５４−４０５２５号公
報、特公昭５４−４０５２６号公報及び特公昭５０−３
００４９号公報及び特願平７−７３３１９号参照）が、
その代表的な調製法は次のとおりである。すなわち、固
体シリカであるシリカゲル、及びチタン酸テトライソプ
ロピル、チタン酸テトラエチルなどのチタン化合物と必
要ならアセチルアセトンなどの添加物を、イソプロパノ
ール、エタノールなどの溶媒中に投入し、室温で撹拌し
た後、固体を濾別する。更に該固体をイソプロパノー
ル、エタノールなどの溶媒で洗浄した後、乾燥する。乾
燥された固体を４００〜９００℃程度で１〜１８時間程
度焼成する。焼成した固体を、ヘキサメチルジシラザン
などのシリル化剤とトルエンなどの溶媒中で５０〜３０
０℃程度で０．５〜５時間程度加熱撹拌した後、固体を
濾別する。その後、固体をトルエンなどの溶媒で洗浄
し、真空乾燥することにより本発明の触媒が得られる。
【０００６】本発明の方法は、プロピレンとエチルベン
ゼンハイドロパーオキサイドを反応させることによりプ
ロピレンオキサイドを得るプロピレンオキサイドの製造
方法である。ここでエチルベンゼンハイドロパーオキサ
イドとしては、通常、エチルベンゼンを空気酸化に付す
ことにより得られるエチルベンゼンハイドロパーオキサ
イドが用いられる。
ゼンハイドロパーオキサイドを反応させることによりプ
ロピレンオキサイドを得るプロピレンオキサイドの製造
方法である。ここでエチルベンゼンハイドロパーオキサ
イドとしては、通常、エチルベンゼンを空気酸化に付す
ことにより得られるエチルベンゼンハイドロパーオキサ
イドが用いられる。
【０００７】プロピレンオキサイドを得る反応は、上記
の溶液とプロピレンとを、前記の触媒の存在下に接触さ
せることにより行われる。反応温度は、通常０〜２００
℃、好ましくは２５〜２００℃である。反応圧力は、通
常１００〜１００００ＫＰａである。反応時間は、反応
をバッチ方式で行う場合は０．５〜５ｈｒであり、反応
を流通方式を行う場合は、空塔速度で０．５〜２０ｈｒ
-1である。通常、エチルベンゼンハイドロパーオキサイ
ドは合成の際に原料及び溶媒として用いられるエチルベ
ンゼンの溶液としてエポキシ化反応に供される。このエ
チルベンゼン溶液中には合成反応の副生成物を含んでい
ても良い。エポキシ化反応には希釈剤としてさらに第二
の溶剤を用いることができる。第二の溶媒としては、ベ
ンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、
オルトジクロロベンゼンなどの芳香族化合物；オクタ
ン、デカン、ドデカンなどの脂肪族化合物をあげること
ができる。また、反応に供されるプロピレンを過剰に用
い、溶媒の一部としてもよい。反応に供される溶液中の
エチルベンゼンハイドロパーオキサイドの濃度は、通常
２〜５０重量％である。また、該溶液中には、通常０．
０１〜０．５重量％程度の有機酸が含有されている。該
有機酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸
などをあげることができる。
の溶液とプロピレンとを、前記の触媒の存在下に接触さ
せることにより行われる。反応温度は、通常０〜２００
℃、好ましくは２５〜２００℃である。反応圧力は、通
常１００〜１００００ＫＰａである。反応時間は、反応
をバッチ方式で行う場合は０．５〜５ｈｒであり、反応
を流通方式を行う場合は、空塔速度で０．５〜２０ｈｒ
-1である。通常、エチルベンゼンハイドロパーオキサイ
ドは合成の際に原料及び溶媒として用いられるエチルベ
ンゼンの溶液としてエポキシ化反応に供される。このエ
チルベンゼン溶液中には合成反応の副生成物を含んでい
ても良い。エポキシ化反応には希釈剤としてさらに第二
の溶剤を用いることができる。第二の溶媒としては、ベ
ンゼン、トルエン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、
オルトジクロロベンゼンなどの芳香族化合物；オクタ
ン、デカン、ドデカンなどの脂肪族化合物をあげること
ができる。また、反応に供されるプロピレンを過剰に用
い、溶媒の一部としてもよい。反応に供される溶液中の
エチルベンゼンハイドロパーオキサイドの濃度は、通常
２〜５０重量％である。また、該溶液中には、通常０．
０１〜０．５重量％程度の有機酸が含有されている。該
有機酸としては、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸
などをあげることができる。
【０００８】本発明の最大の特徴は、反応混合物中の有
機酸の濃度が２μｍｏｌ／ｇ以下、好ましくは１μｍｏ
ｌ／ｇ以下であり、かつ該反応混合物中のプロピレング
リコールの濃度が１０μｍｏｌ／ｇ以下、好ましくは５
μｍｏｌ／ｇ以下である条件下に反応を行う点に存す
る。このことにより、はじめて、触媒の使用に伴う触媒
活性の低下を極めて低い水準に維持することができる。
機酸の濃度が２μｍｏｌ／ｇ以下、好ましくは１μｍｏ
ｌ／ｇ以下であり、かつ該反応混合物中のプロピレング
リコールの濃度が１０μｍｏｌ／ｇ以下、好ましくは５
μｍｏｌ／ｇ以下である条件下に反応を行う点に存す
る。このことにより、はじめて、触媒の使用に伴う触媒
活性の低下を極めて低い水準に維持することができる。
【０００９】反応混合物中の酸の含有量を本発明の範囲
に低減させる第一の方法として、反応に供するエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド含有溶液を水又は塩基水
溶液で洗浄する方法をあげることができる。塩基水溶液
としては、金属水酸化物、金属炭酸塩、金属重炭酸塩、
アンモニア、アミンなどの水溶液をあげることができ
る。該金属としては、ナトリウム、カリウム、リチウム
などをあげることができる。塩基水溶液中の塩基の濃度
は、通常０．１〜２０重量％である。
に低減させる第一の方法として、反応に供するエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド含有溶液を水又は塩基水
溶液で洗浄する方法をあげることができる。塩基水溶液
としては、金属水酸化物、金属炭酸塩、金属重炭酸塩、
アンモニア、アミンなどの水溶液をあげることができ
る。該金属としては、ナトリウム、カリウム、リチウム
などをあげることができる。塩基水溶液中の塩基の濃度
は、通常０．１〜２０重量％である。
【００１０】反応混合物中の酸の含有量を本発明の範囲
に低減させる第二の方法として、反応に供するエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド含有溶液をイオン交換樹
脂との接触処理に付す方法をあげることができる。イオ
ン交換樹脂としてはスチレン系強塩基性イオン交換樹脂
などをあげることができる。
に低減させる第二の方法として、反応に供するエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド含有溶液をイオン交換樹
脂との接触処理に付す方法をあげることができる。イオ
ン交換樹脂としてはスチレン系強塩基性イオン交換樹脂
などをあげることができる。
【００１１】一方、反応混合物中のプロピレングルコー
ルの含有量を本発明の範囲に低減させる方法としては、
反応混合物中から水を除去する方法をあげることができ
る。すなわち、プロピレングリコールは、プロピレンと
エチルベンゼンハイドロパーオキサイドの反応の副生物
として生成するが、反応系内の水は該副反応を促進する
作用を有するのである。反応系から水を除去する方法と
しては、モレキュラーシーブ、シリカゲル、オルト蟻酸
エステル、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの脱水
剤を用いる方法、蒸留による方法などをあげることがで
きる。
ルの含有量を本発明の範囲に低減させる方法としては、
反応混合物中から水を除去する方法をあげることができ
る。すなわち、プロピレングリコールは、プロピレンと
エチルベンゼンハイドロパーオキサイドの反応の副生物
として生成するが、反応系内の水は該副反応を促進する
作用を有するのである。反応系から水を除去する方法と
しては、モレキュラーシーブ、シリカゲル、オルト蟻酸
エステル、ジシクロヘキシルカルボジイミドなどの脱水
剤を用いる方法、蒸留による方法などをあげることがで
きる。
【００１２】脱水剤を用いる具体的方法としては、エチ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液及びまたはプロ
ピレンを脱水剤で処理して脱水したのち反応に供する方
法、脱水剤を反応系に共存させる方法などをあげること
ができる。
ルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液及びまたはプロ
ピレンを脱水剤で処理して脱水したのち反応に供する方
法、脱水剤を反応系に共存させる方法などをあげること
ができる。
【００１３】蒸留による具体的方法としては、エチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド溶液及びまたはプロピレ
ンを蒸留により脱水したのち反応に供する方法などをあ
げることができる。
ンゼンハイドロパーオキサイド溶液及びまたはプロピレ
ンを蒸留により脱水したのち反応に供する方法などをあ
げることができる。
【００１４】なお、反応混合物中の有機酸の濃度はイオ
ンクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィーなどに
より測定することができる。また、反応混合物中のプロ
ピレングリコールの濃度はガスクロマトグラフィーによ
り測定することができる。
ンクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィーなどに
より測定することができる。また、反応混合物中のプロ
ピレングリコールの濃度はガスクロマトグラフィーによ
り測定することができる。
【００１５】
【実施例】次に、本発明を実施例によって説明する。
【００１６】実施例１ （１）触媒調製 市販のシリカゲル（１０〜４０ｍｅｓｈ、表面積３００
ｍ2 、平均細孔径１０ｎｍ、１００ｇ）、チタン酸テト
ライソプロピル（２．２ｇ）、アセチルアセトン（１．
６４ｇ）及びイソプロパノール（４００ｍｌ）を混合
し、３０分間室温で撹拌後混合物を濾過した。固体部を
イソプロパノール（２００ｍｌ）で浸し、かき混ぜ洗浄
した後、液を濾別した。この操作を計３回繰り返した。
固体部を真空乾燥（５０℃、１０ｍｍＨｇ、１ｈｒ）し
た後、窒素気流下、５００℃で２時間乾燥した。更に空
気気流下６００℃で４時間焼成した。かくして得られた
固体（１００ｇ）並びにヘキサメチルジシラザン（４０
ｇ）及びトルエン（５００ｇ）を混合し、１時間加熱還
流した。混合物から濾過により液を留去した。トルエン
（５００ｇ）で洗浄し、真空乾燥（１２０℃、１０ｍｍ
Ｈｇ、３時間）することにより触媒を得た。
ｍ2 、平均細孔径１０ｎｍ、１００ｇ）、チタン酸テト
ライソプロピル（２．２ｇ）、アセチルアセトン（１．
６４ｇ）及びイソプロパノール（４００ｍｌ）を混合
し、３０分間室温で撹拌後混合物を濾過した。固体部を
イソプロパノール（２００ｍｌ）で浸し、かき混ぜ洗浄
した後、液を濾別した。この操作を計３回繰り返した。
固体部を真空乾燥（５０℃、１０ｍｍＨｇ、１ｈｒ）し
た後、窒素気流下、５００℃で２時間乾燥した。更に空
気気流下６００℃で４時間焼成した。かくして得られた
固体（１００ｇ）並びにヘキサメチルジシラザン（４０
ｇ）及びトルエン（５００ｇ）を混合し、１時間加熱還
流した。混合物から濾過により液を留去した。トルエン
（５００ｇ）で洗浄し、真空乾燥（１２０℃、１０ｍｍ
Ｈｇ、３時間）することにより触媒を得た。
【００１７】（２）反応用溶液の洗浄 エチルベンゼンを空気酸化に付すことにより得られたエ
チルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液（３４. ８ｗ
ｔ％、溶媒 エチルベンゼン、２０００ｇ）と炭酸ナト
リウム水溶液（１０ｗｔ％、２００ｇ）を攪拌混合し、
分液した。油層をもう一度炭酸ナトリウム水溶液（１０
ｗｔ％、２００ｇ）で洗浄した。分液した油層をさらに
２００ｇの水で１１回洗った後、シリカゲルで乾燥し
て、洗浄エチルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液
（３２. ７ｗｔ％) を得た。
チルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液（３４. ８ｗ
ｔ％、溶媒 エチルベンゼン、２０００ｇ）と炭酸ナト
リウム水溶液（１０ｗｔ％、２００ｇ）を攪拌混合し、
分液した。油層をもう一度炭酸ナトリウム水溶液（１０
ｗｔ％、２００ｇ）で洗浄した。分液した油層をさらに
２００ｇの水で１１回洗った後、シリカゲルで乾燥し
て、洗浄エチルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液
（３２. ７ｗｔ％) を得た。
【００１８】（３）反応 前記の触媒（仕込みベースのＴｉ含有量０. ３７ｗｔ
％、４ｇ）、上記の方法で洗浄して得られたエチルベン
ゼンハイドロパーオキサイド溶液（６０ｇ）及びプロピ
レン（７５ｇ）をオートクレーブに仕込み、１２０℃で
１時間反応した。反応終了後濾過により触媒を回収し、
エチルベンゼンで洗浄した。回収洗浄触媒を用いて同じ
反応を繰り返した。このようにして同一の反応を３回繰
り返した。反応混合物中の有機酸の濃度は０．２μｍｏ
ｌ／ｇであり、また該反応混合物中のプロピレングリコ
ールの濃度は４μｍｏｌ／ｇであった。結果を表１に示
した。
％、４ｇ）、上記の方法で洗浄して得られたエチルベン
ゼンハイドロパーオキサイド溶液（６０ｇ）及びプロピ
レン（７５ｇ）をオートクレーブに仕込み、１２０℃で
１時間反応した。反応終了後濾過により触媒を回収し、
エチルベンゼンで洗浄した。回収洗浄触媒を用いて同じ
反応を繰り返した。このようにして同一の反応を３回繰
り返した。反応混合物中の有機酸の濃度は０．２μｍｏ
ｌ／ｇであり、また該反応混合物中のプロピレングリコ
ールの濃度は４μｍｏｌ／ｇであった。結果を表１に示
した。
【００１９】比較例１ 洗浄しないエチルベンゼンハイドロパーオキサイド溶液
を使うこと以外は実施例と同一の条件で３回繰り返して
反応を行った。反応混合物中の有機酸の濃度は７．６μ
ｍｏｌ／ｇであり、また該反応混合物中のプロピレング
リコールの濃度は３μｍｏｌ／ｇであった。結果を表１
に示した。
を使うこと以外は実施例と同一の条件で３回繰り返して
反応を行った。反応混合物中の有機酸の濃度は７．６μ
ｍｏｌ／ｇであり、また該反応混合物中のプロピレング
リコールの濃度は３μｍｏｌ／ｇであった。結果を表１
に示した。
【００２０】
【表１】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 実施例１ 比較例１ 反応混合物中濃度 有機酸類 μmol/g *1 0.2 7.6 PG μmol/g *2 4 3 相対反応速度比 *3 １回目 1.00 1.00 ２回目 0.95 0.91 ３回目 1.00 0.73 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
【００２１】＊１ 有機酸類 ＊２ ＰＧ：プロピレングリコール ＊３ 相対反応速度比：第１回目の反応速度を１とした
指数
指数
【００２２】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明により、反
応混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機珪酸塩から
なる群から選ばれる少なくとも一種の珪素化合物並びに
該珪素化合物と化学的に結合したチタンを含有する不均
一触媒を用い、プロピレンとエチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイドを反応させることによりプロピレンオキサ
イドを得るプロピレンオキサイドの製造方法であって、
触媒の使用に伴う触媒活性の低下を極めて低い水準に維
持することができるプロピレンオキサイドの製造方法を
提供することができた。
応混合物に不溶であり、固体シリカ及び無機珪酸塩から
なる群から選ばれる少なくとも一種の珪素化合物並びに
該珪素化合物と化学的に結合したチタンを含有する不均
一触媒を用い、プロピレンとエチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイドを反応させることによりプロピレンオキサ
イドを得るプロピレンオキサイドの製造方法であって、
触媒の使用に伴う触媒活性の低下を極めて低い水準に維
持することができるプロピレンオキサイドの製造方法を
提供することができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−133995（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−70097（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−7264（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 301/19 C07D 303/04
Claims (1)
- 【請求項１】 反応混合物に不溶であり、固体シリカ及
び無機珪酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の
珪素化合物並びに該珪素化合物と化学的に結合したチタ
ンを含有する不均一触媒を用い、プロピレンとエチルベ
ンゼンハイドロパーオキサイドを反応させることにより
プロピレンオキサイドを得るプロピレンオキサイドの製
造方法であって、反応混合物中の有機酸の濃度が２μｍ
ｏｌ／ｇ以下であり、かつ該反応混合物中のプロピレン
グリコールの濃度が１０μｍｏｌ／ｇ以下である条件下
に反応を行うプロピレンオキサイドの製造方法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7317841A JP3024531B2 (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | プロピレンオキサイドの製造方法 |
| US08/754,125 US5723637A (en) | 1995-12-06 | 1996-11-22 | Process for producing propylene oxide |
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