JP3024399B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP3024399B2 JP4303538A JP30353892A JP3024399B2 JP 3024399 B2 JP3024399 B2 JP 3024399B2 JP 4303538 A JP4303538 A JP 4303538A JP 30353892 A JP30353892 A JP 30353892A JP 3024399 B2 JP3024399 B2 JP 3024399B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路に関
し、DRAM等の基板バイアス発生回路を内蔵する半導
体集積回路において、低い電源電圧で基板バイアス発生
回路を動作させる際に有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】DRAM等のMOSトランジスタで構成
された半導体集積回路においては、MOSトランジスタ
のソース・ドレイン領域と基板間の接合容量を小さくす
るためや、アンダーシュート等のノイズにより、NMO
Sトランジスタのソース・ドレイン領域と基板が順方向
にバイアスされてラッチアップを引き起こしたり、セル
のデータを破壊したりしないように、負の基板電圧が印
加されている。DRAMにおいては図5のような基板バ
イアス発生回路が内蔵されている。
【0003】1は発振回路であり、発振回路1からは互
いに相補な交流を出力し、この出力によって2系統のチ
ャージポンプ回路を駆動する。片方のチャージポンプ回
路はポンピングキャパシタ104と整流素子であるPチ
ャンネルMOSトランジスタ101、102で構成され
ており、もう一方のチャージポンプ回路はポンピングキ
ャパシタ111と整流素子であるPチャンネルMOSト
ランジスタ108、109で構成されている。
【0004】この基板バイアス発生回路の動作を説明す
る。発振回路1から出力された互いに相補な交流によっ
てポンピングキャパシタ104と111が逆相で駆動さ
れる。ポンピングキャパシタ104に”H”が入力され
るとノード106の電位が上昇する。この時、ポンピン
グキャパシタ111には”L”が入力されてノード11
3の電位が降下する。ノード106とノード113の電
位差によってPチャンネルMOSトランジスタ101が
オンし、ノード106の電荷がVSSに放出される。引
き続いてポンピングキャパシタ104に”L”が入力さ
れ、ノード106の電位が降下する。この時、ポンピン
グキャパシタ111には”H”が入力されてノード11
3の電位が上昇し、PチャンネルMOSトランジスタ1
01がオフする。ノード106の電位が上記のVSSに
放出された電荷分降下するので、基板とノード106の
電位差によってPチャンネルMOSトランジスタ102
がオンし、基板の正の電荷がノード106に吸い上げら
れる。このような動作をくりかえして基板電流を供給す
る。一方のチャージポンプ回路で基板の電荷を吸い上げ
ている間に、もう一方のチャージポンプ回路で余った電
荷をVSSに放出するので、リップルが少ない基板電流
を供給できる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年、素子の微細化が
進み、MOSトランジスタにおいては、ゲート酸化膜が
ますます薄くなる傾向にある。DRAM等のICにおい
ては、信頼性の確保のためにゲートに印加される電圧を
低くする必要が生じ、また、消費電力を低減する効果も
得られることなどから、電源電圧(VCC)を5.0V
から3.3Vもしくは3.0Vに変更したものが開発され
ている。
【0006】基板から正の電荷を吸い出すことによって
生じる基板電流(IBB)を基板バイアス発生回路で消
費する消費電流(ICC)で割ったものを、基板電流供
給効率とする。上記の基板バイアス発生回路において、
ポンピングキャパシタ104の容量をC、電源電圧をV
CCとすると、ポンピングキャパシタ104で1周期の
間に消費される電荷はC×VCCであり、基板からノー
ド106に1周期の間に吸い上げられる電荷は、基板電
位をVBB、PチャンネルMOSトランジスタのしきい
値電圧をVthとすると、C×(VCC+VBB−Vt
h)となる。基板電流供給効率は理想的には(VCC+
VBB−Vth)/VCCとなるので、基板電流供給効
率は基板電位(VBB)が低くなるにしたがって小さく
なる。
【0007】電源電圧が下がっても、アンダーシュート
等のノイズに対するマージンの確保のため、基板電位を
あまり浅くすることはできない。電源電圧が3.0Vで
上記の基板バイアス発生回路を用いて基板電位−2Vを
得ようとした場合、PチャンネルMOSトランジスタの
しきい値電圧Vthを0.7Vと仮定すれば、基板電流
供給効率は0.1以下となる。電源電圧が低下したこと
により、基板バイアス発生回路で消費する電流が増加し
てしまう。
【0008】本発明はこのような課題に鑑みてなされ、
低電源電圧時においても、十分に低い基板電位を効率よ
く供給する基板バイアス発生回路を内蔵した半導体集積
回路を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、第1のチャージポンプ回路の出力を第
2のチャージポンプ回路でさらにポンピングし、第1の
チャージポンプ回路を駆動する周波数の1/2の周波数
で、第2のチャージポンプ回路を駆動することとした。
【0010】具体的に説明すると、請求項1の発明は、
第1のチャージポンプ回路と、第1のチャージポンプ回
路の出力をさらにポンピングする、第2のチャージポン
プ回路を備え、第1のチャージポンプ回路は発振回路の
出力で駆動し、第2のチャージポンプ回路は、発振回路
の1/2の周波数で発振する分周回路によって駆動する
ものである。
【0011】請求項3の発明は、上記請求項1の発明に
おいて、第1のチャージポンプ回路と逆相の信号で駆動
される第3のチャージポンプ回路と、第2のチャージポ
ンプ回路と逆相の信号で駆動され、前記第3のチャージ
ポンプ回路の出力をさらにポンピングする、第4のチャ
ージポンプ回路を更に有し、第2および第4のチャージ
ポンプ回路の出力整流ダイオードをそれぞれ第1および
第2のNチャンネルMOSトランジスタで構成し、前記
第2のチャージポンプ回路を構成する第1のキャパシタ
の出力で、前記第2のNチャンネルMOSトランジスタ
のゲートを制御し、前記第4のチャージポンプ回路を構
成する第2のキャパシタの出力で、前記第1のNチャン
ネルMOSトランジスタのゲートを制御すると共に、前
記第1および第2のキャパシタの出力が共に”H”とな
る期間が発生しないように、前記分周回路の出力信号を
遅延させる遅延回路と、前記分周回路の出力信号と前記
遅延回路の出力信号を入力信号としたNAND回路およ
びNOR回路と、前記NAND回路の出力信号を反転す
るインバータ回路を更に有し、前記第2のチャージポン
プ回路と前記第4のチャージポンプ回路を、一方は前記
NOR回路の出力で駆動し、他方は前記インバータ回路
の出力で駆動するものである。
【0012】請求項4の発明は、上記請求項1の発明に
おいて、基板電位に応じて、基板電位がある電位以上で
は”H”、基板電位がある電位以下では”L”を出力す
る基板電位検出回路と、前記基板電位検出回路の”L”
レベル出力を基板電位に変換するレベルシフト回路と、
前記第1のチャージポンプ回路の出力端子と基板との接
続を制御するMOSトランジスタスイッチを更に有し、
前記レベルシフト回路の出力信号が前記MOSトランジ
スタスイッチの制御信号として用いられ、前記基板電位
検出回路の出力信号が、前記発振回路の出力を前記分周
回路に伝達する回路の制御信号として用いられる。
【0013】
【作用】請求項1の発明によれば、第1のチャージポン
プ回路の1/2の周波数で駆動される、第2のチャージ
ポンプ回路で、第1のチャージポンプ回路の出力をさら
にポンピングするので、第1のチャージポンプ回路によ
る、第1のチャージポンプ回路出力ノードの電荷の排出
が完了してから、第2のチャージポンプ回路によって、
前記ノードに基板の電荷が吸い上られ、効率よく、低い
基板電位を発生できる。
【0014】請求項3の発明によれば、2系統のチャー
ジポンプ回路列は相補的な交流で駆動されるので、例え
ば、第1のチャージポンプ回路出力ノードが”L”レベ
ルになった場合、第3のチャージポンプ回路出力ノード
は”H”レベルになり、第2のNチャンネルMOSトラ
ンジスタがオン状態となるので、第1のチャージポンプ
回路出力ノードに現れた”L”レベルの電位は、ロスす
ることなく基板に伝達される。また、第1のチャージポ
ンプ回路出力ノードと第3のチャージポンプ回路出力ノ
ードの電位が同時に”H”レベルとならないように制御
されているので、第1叉は第3のチャージポンプ回路出
力ノードから基板に、正の電荷が逆流することはない。
【0015】請求項4の発明によれば、基板電位検出回
路の出力信号によって、第1、第3のチャージポンプ回
路の出力と基板との接続の制御と、発振回路の出力信号
を分周回路に伝達する回路を制御するので、第1、第3
のチャージポンプ回路のみで基板電位を発生するか、第
1、第3のチャージポンプ回路の出力をそれぞれ第2、
第4のチャージポンプ回路で更にポンピングして基板電
位を発生するか、基板電位のレベルにより選択すること
ができる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例に係る半導体集積回路
について詳細に説明する。
【0017】(実施例1)図1は本発明の第1の実施例
に係る基板バイアス発生回路である。
【0018】同図において1は発振回路、2は発振回路
1の出力信号を1/2の周波数に変換する分周回路であ
る。PチャンネルMOSトランジスタ101、102と
ポンピングキャパシタ104で第1のチャージポンプ回
路を構成し、PチャンネルMOSトランジスタ103と
ポンピングキャパシタ105で第2のチャージポンプ回
路を構成している。第1、第2のチャージポンプ回路と
類似した構成の第3、第4のチャージポンプ回路がさら
に設けられている。
【0019】発振回路1からは互いに相補的な交流を出
力し、ポンピングキャパシタ104と111を逆位相で
駆動する。ポンピングキャパシタ104に”H”が入力
されると、ノード106の電位を持ち上げようとし、同
時にポンピングキャパシタ111には”L”が入力され
て、ノード113の電位が下がり、トランジスタ101
はオン状態となる。したがって、ノード106はポンピ
ングキャパシタ104によってチャージアップされる
が、電位がVSSより上がらず、余分な電荷がVSSに
放出される。引き続いてポンピングキャパシタ104
に”L”が入力されると、ノード106の電位を引き下
げようとし、同時にポンピングキャパシタ111には”
H”が入力されて、ノード113の電位が上がり、トラ
ンジスタ101はオフ状態となる。したがって、ノード
106にはVSSから正の電荷が流入することはなく、
ノード106の電位が下がり、ダイオード形態のPチャ
ンネルMOSトランジスタ102がオン状態となり、ノ
ード107の電荷が吸い上げられる。以上の動作を1サ
イクルとして、第1のチャージポンプ回路によって、ノ
ード107に負の電圧を発生する。
【0020】このようにして作られた負の電圧を第2の
チャージポンプ回路でさらに引き下げる。この際、ポン
ピングキャパシタ105に”L”が入力され、ノード1
07に基板の電荷を吸い上げを開始する時のノード10
7の電位と、ポンピングキャパシタ105に”H”が入
力され、ノード107をチャージアップし終えた時のノ
ード107の電位が等しければ、第2のチャージポンプ
回路でロスすることなく、基板に負の電圧を供給でき
る。したがって、第2のチャージポンプ回路を第1のチ
ャージポンプ回路の2倍の周期で動作させればよい。こ
の時、発生可能な基板電位は−(2VCC−2Vth)
である(VCCは電源電圧、VthはPチャンネルMO
Sトタンジスタのしきい値電圧)。
【0021】図2は本実施例の基板バイアス発生回路
と、従来型の基板バイアス発生回路の基板電流供給効率
をスパイスシミュレーションによって比較したグラフで
ある。
【0022】電源電圧を3.0V、PチャンネルMOS
トランジスタのしきい値電圧を0.7Vとすると、基板
電位が−1.5V付近で従来の基板バイアス発生回路よ
りも、本発明の基板バイアス発生回路の基板電流供給効
率の方がよくなり、従来の基板バイアス発生回路では、
上記の条件では、基板電位−2Vを発生できないが、本
発明の基板バイアス発生回路では、基板電流供給効率2
0%で、基板電位−2Vを発生できる。
【0023】(実施例2)図3は第2および第4のチャ
ージポンプ回路と、これらを駆動する回路の変形例を示
す回路図である。図1に示すように、第2および第4の
チャージポンプ回路の整流素子は、ダイオード形態のP
チャンネルMOSトランジスタで構成されているので、
基板の電位は、ノード107、114の電位よりも、P
チャンネルMOSトランジスタのしきい値電圧だけ高く
なる。そこで、第2および第4のチャージポンプ回路の
整流素子をそれぞれNチャンネルMOSトランジスタ1
15、116で構成し、NチャンネルMOSトランジス
タ115のゲートはノード114と接続し、Nチャンネ
ルMOSトランジスタ116のゲートはノード107と
接続する。このような構成にすれば、第2のチャージポ
ンプ回路と第4のチャージポンプ回路が逆位相で駆動さ
れるので、ノード107に”L”が現れたときは、ノー
ド114は”H”になり、NチャンネルMOSトランジ
スタ115がオン状態となって、ノード107の電位が
基板にトランジスタのしきい値電圧に関わらずロスなく
伝達される。
【0024】さらに、分周回路2の出力と、分周回路2
の出力を遅延回路3で遅延させた信号のNOR出力と、
分周回路2の出力と、分周回路2の出力を遅延回路3で
遅延させた信号のNAND出力を反転させた信号で、第
2のチャージポンプ回路と第4のチャージポンプ回路を
駆動する。分周回路2から”H”が出力されると、NO
R回路の出力はただちに”L”に遷移し、NAND回路
の出力を反転させた信号は、遅延回路3で設定された遅
延時間だけ遅れて”H”に遷移する。分周回路2から”
L”が出力されると、NOR回路の出力は遅延回路3で
設定された遅延時間だけ遅れて”H”に遷移し、NAN
D回路の出力を反転させた信号はただちに”L”に遷移
する。したがって、ノード107とノード114が同時
に”H”となる期間が存在しないので、基板にノード1
07、114の電荷が逆流することはない。
【0025】(実施例3)図4は本発明の第3の実施例
に係り、基板電位によって基板電位の発生方法を変更す
る基板バイアス発生回路である。図2に示すように、基
板電位が高い間は、従来のように、チャージポンプ回路
1段のみで基板電位を発生した方が基板電流供給効率が
よい。基板電位が低くなると、1段目のチャージポンプ
回路の出力をさらに2段目のチャージポンプ回路でポン
ピングした方が基板電流供給効率がよくなる。したがっ
て、基板電位が高い間は従来のように、チャージポンプ
回路1段のみで基板電位を発生し、1段目のチャージポ
ンプ回路の出力をさらに2段目のチャージポンプ回路で
ポンピングした方が、基板電流供給効率がよくなるレベ
ルまで基板電位が低くなると、1段目のチャージポンプ
回路の出力をさらに2段目のチャージポンプ回路でポン
ピングして、基板電位を供給する構成とすれば、最も効
率よく基板電位を発生できる。
【0026】基板は、第2、第4のチャージポンプ回路
の出力と接続されているが、NチャンネルMOSトラン
ジスタ117、118を介して、ノード107、114
とも接続されている。レベルシフト回路4は基板電位検
出回路5から出された振幅VCC−VSSの信号を、振
幅VCC−VBBの信号に変換し、この信号でNチャン
ネルMOSトランジスタスイッチ117、118を制御
する。
【0027】基板電位検出回路5は、1段目のチャージ
ポンプ回路の出力をさらに2段目のチャージポンプ回路
でポンピングした方が基板電流供給効率がよくなるレベ
ルに基板電位が達すると、”L”を出力し、この”L”
信号をレベルシフト回路4で基板電位に変換する。すな
わち、1段目のチャージポンプ回路の出力をさらに2段
目のチャージポンプ回路でポンピングした方が基板電流
供給効率がよくなるレベルに基板電位が達すると、Nチ
ャンネルMOSトランジスタ117、118のゲートに
基板電位が印加され、NチャンネルMOSトランジスタ
117、118がオフ状態となり、基板とノード10
7、114が切り離される。また、発振回路1の出力
は、基板電位検出回路5の出力が”L”となることによ
って、分周回路2に伝えられる。
【0028】したがって、基板電位検出回路5の出力
が”L”になると、基板とノード107、114が切り
離されるとともに、第2、第4のチャージポンプ回路が
駆動され、1段目のチャージポンプ回路の出力をさらに
2段目のチャージポンプ回路でポンピングするという構
成で基板電位を発生する。
【0029】
【発明の効果】以上説明してきたとおり、請求項1の発
明によれば、第1のチャージポンプ回路の出力を第2の
チャージポンプ回路でさらにポンピングし、第1のチャ
ージポンプ回路を駆動する周波数の1/2の周波数で第
2のチャージポンプ回路を駆動するので、電源電圧3.
0Vで基板電位が−2.0Vの場合において、基板電流
を20%の効率で発生させることが可能であり、電源電
圧の低電圧化に対応できる。
【0030】請求項3の発明によれば、2系統のチャー
ジポンプ回路列の、基板への出力を整流する素子は、N
チャンネルMOSトランジスタ115、116で構成さ
れ、NチャンネルMOSトランジスタ115、116の
ゲートは、電位が同時に”H”レベルとならないように
制御された、ノード107、114にそれぞれ接続され
ているので、電圧のロスがなく、また、電荷が逆流する
ことなしにノード107、114の電位を基板に伝達で
きる。
【0031】請求項4の発明によれば、基板電位検出回
路の出力信号によって、NチャンネルMOSトランジス
タ117、118の制御と、発振回路の出力信号を分周
回路に伝達する回路を制御を行うので、基板電位に応じ
て、最適の基板電流供給効率が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る基板バイアス発生
回路
【図2】同実施例の基板バイアス発生回路と、従来型の
基板バイアス発生回路の基板電流供給効率をスパイスシ
ミュレーションによって比較した特性図
【図3】本発明の第2の実施例に係る第2および第4の
チャージポンプ回路と、これらを駆動する回路の変形例
を示す回路図
【図4】本発明の第3の実施例に係る基板電位によって
基板電位の発生方法を変更する基板バイアス発生回路
【図5】従来の基板バイアス発生回路
【符号の説明】
1 発振回路 2 分周回路 3 遅延回路 4 レベルシフト回路 5 基板電位検出回路 101〜103,108,109,110 Pチャンネル
MOSトランジスタ 104、111 ポンピングキャパシタ 105、112 第1および第2のキャパシタ 115〜118 NチャンネルMOSトランジスタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G11C 11/40 - 11/406 H03K 19/094 H01L 27/04 H02M 3/07

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1のチャージポンプ回路と、 前記第1のチャージポンプ回路の出力をさらにポンピン
    グする第2のチャージポンプ回路と、 前記第1のチャージポンプ回路を駆動する発振周波数を
    出力する発振回路と、 前記第2のチャージポンプ回路を駆動する前記発振回路
    の1/2の周波数を出力する分周回路とを備えた半導体
    集積回路。
  2. 【請求項2】請求項1記載の第1のチャージポンプ回路
    と逆相の信号で駆動される第3のチャージポンプ回路
    と、第2のチャージポンプ回路と逆相の信号で駆動さ
    れ、前記第3のチャージポンプ回路の出力をさらにポン
    ピングする、第4のチャージポンプ回路を更に有した半
    導体集積回路。
  3. 【請求項3】請求項2記載の第2および第4のチャージ
    ポンプ回路の出力整流ダイオードをそれぞれ第1および
    第2のNチャンネルMOSトランジスタで構成し、前記
    第2のチャージポンプ回路を構成する第1のキャパシタ
    の出力で、前記第2のNチャンネルMOSトランジスタ
    のゲートを制御し、前記第4のチャージポンプ回路を構
    成する第2のキャパシタの出力で、前記第1のNチャン
    ネルMOSトランジスタのゲートを制御すると共に、 第1および第2のキャパシタの出力が共に”H”となる
    期間が発生しないように、前記分周回路の出力信号を遅
    延させる遅延回路と、 前記分周回路の出力信号と前記遅延回路の出力信号を入
    力信号としたNAND回路およびNOR回路と、 前記NAND回路の出力信号を反転するインバータ回路
    を更に有し、 前記第2のチャージポンプ回路と前記第4のチャージポ
    ンプ回路を、一方は前記NOR回路の出力で駆動し、他
    方は前記インバータ回路の出力で駆動することを特徴と
    する半導体集積回路。
  4. 【請求項4】請求項1記載の半導体集積回路において、
    基板電位に応じて、基板電位がある電位以上では”
    H”、基板電位がある電位以下では”L”を出力する基
    板電位検出回路と、 前記基板電位検出回路の”L”レベル出力を基板電位に
    変換するレベルシフト回路と、 前記第1のチャージポンプ回路の出力端子と基板との接
    続を制御するMOSトランジスタスイッチを更に有し、 前記レベルシフト回路の出力信号が前記MOSトランジ
    スタスイッチの制御信号として用いられ、前記基板電位
    検出回路の出力信号が、前記発振回路の出力を前記分周
    回路に伝達する回路の制御信号として用いられることを
    特徴とする半導体集積回路。
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