JP3012643B1 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

Info

Publication number
JP3012643B1
JP3012643B1 JP11070797A JP7079799A JP3012643B1 JP 3012643 B1 JP3012643 B1 JP 3012643B1 JP 11070797 A JP11070797 A JP 11070797A JP 7079799 A JP7079799 A JP 7079799A JP 3012643 B1 JP3012643 B1 JP 3012643B1
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal plate
mold
semiconductor device
resin
upper mold
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP11070797A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2000269252A (ja
Inventor
伸之 森
Original Assignee
九州日本電気株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 九州日本電気株式会社 filed Critical 九州日本電気株式会社
Priority to JP11070797A priority Critical patent/JP3012643B1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3012643B1 publication Critical patent/JP3012643B1/ja
Publication of JP2000269252A publication Critical patent/JP2000269252A/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【要約】 【課題】 樹脂バリを生じさせずに外部電極、あるいは
ダミー電極を有する半導体装置を製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 上金型2の一部に金属板6を真空吸着さ
せ、予め半導体素子4を搭載した下金型3上に、金属板
6を吸着保持させた上金型2を組合わせ、組合わされた
上、下金型2,3内に、封止用樹脂を注入し、上金型2
に吸着保持された部分を除いて金属板6の一部を半導体
素子4と共に注入樹脂と一体化し、注入樹脂の固化を待
って大部分を外部に露出させた金属板6を一体に有する
半導体装置を得る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子を樹脂
封止する半導体装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】基板上に半田ボール等の外部リードを平
面的(グリッド状)に配置した半導体装置は、ボールグ
リッドアレイ(BGA)型の半導体装置といわれてい
る。
【0003】PGA型の半導体装置及びその製造方法と
して、例えば、特開平10−163250号公報(先行
例1)には、図5に示すように、それぞれ突起部21
a、21bを有する上下の金型22,23を用い、外部
電極24を外部に露出させて半導体素子25を搭載した
基板26を金型22,23の突起部21a、21b間に
上下より挟み込んで樹脂の注入を行う方法が記載されて
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】先行例1の方法によれ
ば、樹脂注入時に外部電極24が、注入樹脂で覆われる
ことはないが、上下金型22,23で単に挟んだだけで
あるため、半導体素子25と突起部21a、21b間に
隙間が生じ、その隙間内に封入樹脂が入り込み、製品に
樹脂バリが生ずるという問題がある。
【0005】また、パッケージが半導体素子より大きい
場合は、パッケージ周囲にダミー端子を作ることができ
ない。
【0006】本発明の目的は、樹脂バリを生じさせずに
外部電極、あるいはダミー電極を有する半導体装置を製
造する方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による半導体装置の製造方法においては、吸
着処理と、注型処理と、脱型処理とを有し、封止用金型
を用いて半導体装置に金属板を一体形成する半導体装置
の製造方法であって、封止用金型は、上金型と、下金型
との組合せであり、吸着処理は、上金型の一部に金属板
を真空吸着させ、予め半導体素子を搭載した下金型上
に、金属板を吸着保持させた上金型を組合わせる処理で
あり、注型処理は、組合わされた上下金型内に、封止用
樹脂を注入し、上金型に吸着保持された部分を除いて金
属板の一部を半導体素子と共に注入樹脂と一体化する処
理であり、脱型処理は、注入樹脂の固化を待って大部分
を外部に露出させた金属板を一体に有する半導体装置を
上下金型内から脱型する処理である。
【0008】また、上金型は、突起部を有し、突起部に
は、金属板を吸着保持させる真空吸着孔が開口され、吸
着処理は、上金型を下金型上に下降させ、突起部に真空
吸着された金属板を半導体素子上に押付ける処理であ
る。
【0009】また、上金型は、突起部を有し、突起部に
は、金属板を吸着保持させる真空吸着孔が開口され、吸
着処理は、上金型を下金型上に下降させ、突起部に真空
吸着された金属板を上下金型内に注入された注入樹脂が
固化するまでの間、金属板を突起部に吸着保持させ、固
化した樹脂上に接着させる処理を含むものである。
【0010】また、金属板は、トレイ上にセットされ、
吸着処理は、上金型をトレイ内に下降させて金属板を吸
着し、ついで下金型上に移行させる処理を含むものであ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図に
よって説明する。図1は、本発明の方法に用いる半導体
素子の樹脂封止用金型1を示す図である。樹脂封止用金
型1は、上金型2と、下金型3との組み合わせであり、
下金型3内には、半導体素子4を搭載したリードフレー
ム5がセットされる。
【0012】半導体素子4上には、外部電極端子となる
金属板6、たとえば銅板が重ねられ、金属板6は、上金
型2の突起部7によって押さえられ、上金型2と、下金
型3との間に形成される空間には、封入用樹脂8が注入
される。
【0013】本発明においては、上金型2を貫通し、突
起部7の下面に開口する真空吸着孔9を設け、この真空
吸着孔9に真空ポンプ10を接続し、真空ポンプ10で
真空吸着孔9内を脱気し、突起部7の下面に金属板6を
吸着保持させるものである。
【0014】本発明において、上金型2の突起部7の径
は、約φ0.3mmであり、真空吸着孔9の口径は、突
起部7の径よりやや小さい約φ0.25mmである。
【0015】また、外部電極端子として使用する金属板
6は、径が約φ0.5mm程度の銅板である。本発明
は、封止用金型を用い、吸着処理と、注型処理と、脱型
処理とを順におこなって、半導体装置に金属板を一体形
成するものである。
【0016】本発明において、吸着処理は、上金型2の
一部に金属板6を真空吸着させ、予め半導体素子4を搭
載した下金型3上に、金属板6を吸着保持させた上金型
2を組合わせる処理であり、注型処理は、組合わされた
上下金型2,3内に、封止用樹脂8を注入し、上金型2
に吸着保持された部分を除いて金属板6の一部を半導体
素子4と共に注入樹脂8と一体化する処理であり、脱型
処理は、注入樹脂8の固化を待って大部分を外部に露出
させた金属板6を一体に有する半導体装置を上下金型内
から脱型する処理である。
【0017】図2において、吸着処理に先立ち、金属板
6をセットしておくためのトレイ11を用意する。金属
板6は、予め導電性接着剤を塗布し、トレイ11の定位
置に収容しておく。まず、金属板6をセットしたトレイ
11の直上に上金型2を移動する。
【0018】そして、吸着処理を開始する。吸着処理と
しては、まず、真空ポンプ10を起動し、上金型2をト
レイ11内に降下させ、突起部7に金属板6を真空吸着
させ、上金型2が2以上の突起部を有するときにはそれ
ぞれの突起部7に金属板6を真空吸着させる。
【0019】次いで、突起部7に金属板6を吸着保持さ
せたまま、予め半導体素子2を搭載した下金型7上に上
金型2を移動させ、その後、下金型3上に上金型5を降
下させ、金属板6を突起部7に吸着保持させたまま、図
1に示すように金属板6を半導体素子4の定位置に圧接
する。
【0020】上金型2と下金型3との組合わせによる封
止用金型1は、180℃程度の温度に保たれており、そ
の温度で金属板6に塗布された導電性接着剤が融解し、
金属板6は半導体素子2に接着される。
【0021】そして、注型処理として、組合わされた
上、下金型2,3内に、封止用樹脂8が注入され、脱型
処理として、注入樹脂8の固化を待って、上,下金型
2,3内から脱型し、図3に示すように、外部電極とし
て大部分が封止用樹脂8の表面に露出した金属板6を一
体に有する半導体装置12を得る。
【0022】図4は、半導体素子4上に、外部電極端子
として金属板6を設けると共に、半導体素子4を封止す
る封止用樹脂8に、ダミー端子として金属板6aを設け
る例である。
【0023】この実施態様において、吸着処理は、前述
のように上金型2の一部に金属板6を真空吸着させ、予
め半導体素子4を搭載した下金型3上に、金属板6、6
aを吸着保持させた上金型2を組合わせるとともに、上
金型2を下金型3上に下降させ、突起部7に真空吸着さ
れた金属板6を半導体素子4上に接着させると共に、あ
わせて金属板6aを上、下金型2,3内に注入された封
止用樹脂8が固化するまでの間、金属板6、6aを突起
部7に吸着保持させ、封止用樹脂8上に接着させる処理
を含むものである。
【0024】この実施形態では、注型処理によって、
上、下金型2,3内に注入された封止用樹脂8の部分つ
まり、半導体素子4がない樹脂部分に金属板6aがセッ
トされる。この例においては、チップサイズより大きい
パッケージが必要な場合に適用して、パッケージ周囲に
固定用として形成するダミー端子に利用できる。
【0025】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、封止用
金型の上金型に形成された突起部を貫通して真空吸引孔
を開口し、金属板を真空吸引により突起部に吸着させ、
金属板を吸着した突起部を半導体素子に押しつけること
によって、相互間が互いに密着し、突起部と金属板間、
および金属板と半導体素子間が封止用樹脂が侵入しない
ため、樹脂ばりが形成されることがなく、したがって、
脱型処理後、樹脂バリの除去処理は不要となる。
【0026】また、上金型の突起部に金属板を吸着保持
したまま、金属板の下方空間に封止用樹脂を注入して、
パッケージ周囲に固定用として必要なダミー端子を容易
に形成することが出来る。
【0027】本発明によれば、半導体素子上に金属板を
貼り付け、そこに半田ボールを形成するためチップサイ
ズのボールグリッドアレイ(BGA)型半導体装置に適
用して優れた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を示す樹脂封止用金型の断
面図である。
【図2】本発明による半導体装置の製造工程における吸
着処理要領を示す図である。
【図3】本発明方法によって製造された半導体装置の一
実施形態を示す図である。
【図4】本発明方法によって製造された半導体装置の他
の実施形態を示す図である。
【図5】先行例1に示されている樹脂封止用金型の断面
図である。
【符号の説明】
1 樹脂封止用金型 2 上金型 3 下金型 4 半導体素子 5 リードフレーム 6、6a 金属板 7 突起部 8 樹脂 9 真空吸着孔 10 真空ポンプ 11 トレイ 12 半導体装置

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 吸着処理と、注型処理と、脱型処理とを
    有し、封止用金型を用いて半導体装置に金属板を一体形
    成する半導体装置の製造方法であって、 封止用金型は、上金型と、下金型との組合せであり、 吸着処理は、上金型の一部に金属板を真空吸着させ、予
    め半導体素子を搭載した下金型上に、金属板を吸着保持
    させた上金型を組合わせる処理であり、 注型処理は、組合わされた上下金型内に、封止用樹脂を
    注入し、上金型に吸着保持された部分を除いて金属板の
    一部を半導体素子と共に注入樹脂と一体化する処理であ
    り、 脱型処理は、注入樹脂の固化を待って大部分を外部に露
    出させた金属板を一体に有する半導体装置を上下金型内
    から脱型する処理であることを特徴とする半導体装置の
    製造方法。
  2. 【請求項2】 上金型は、突起部を有し、突起部には、
    金属板を吸着保持させる真空吸着孔が開口され、 吸着処理は、上金型を下金型上に下降させ、突起部に真
    空吸着された金属板を半導体素子上に押付ける処理であ
    ることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造
    方法。
  3. 【請求項3】 上金型は、突起部を有し、突起部には、
    金属板を吸着保持させる真空吸着孔が開口され、 吸着処理は、上金型を下金型上に下降させ、突起部に真
    空吸着された金属板を上下金型内に注入された注入樹脂
    が固化するまでの間、金属板を突起部に吸着保持させ、
    固化した樹脂上に接着させる処理を含むものであること
    を特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 金属板は、トレイ上にセットされ、 吸着処理は、上金型をトレイ内に下降させて金属板を吸
    着し、ついで下金型上に移行させる処理を含むものであ
    ることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装
    置の製造方法。
JP11070797A 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置の製造方法 Expired - Lifetime JP3012643B1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11070797A JP3012643B1 (ja) 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11070797A JP3012643B1 (ja) 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP3012643B1 true JP3012643B1 (ja) 2000-02-28
JP2000269252A JP2000269252A (ja) 2000-09-29

Family

ID=13441904

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11070797A Expired - Lifetime JP3012643B1 (ja) 1999-03-16 1999-03-16 半導体装置の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3012643B1 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5272191B2 (ja) * 2007-08-31 2013-08-28 三菱電機株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2000269252A (ja) 2000-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3619773B2 (ja) 半導体装置の製造方法
TW488053B (en) Semiconductor package having implantable conductive lands and method for manufacturing the same
TWI245429B (en) Photosensitive semiconductor device, method for fabricating the same and lead frame thereof
US7830006B2 (en) Structurally-enhanced integrated circuit package and method of manufacture
JP3194917B2 (ja) 樹脂封止方法
US20130316501A1 (en) Ultra-thin near-hermetic package based on rainier
JP3418385B2 (ja) 半導体集積回路パッケージの形成方法およびその製造方法
JP3879823B2 (ja) 薄型半導体装置のモールド方法及びそのモールド金型
JP2003170465A (ja) 半導体パッケージの製造方法およびそのための封止金型
JP3514101B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法並びに電子機器
JP3012643B1 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3139981B2 (ja) チップサイズパッケージの樹脂封止方法及び樹脂封止装置
JP2010512658A (ja) 集積回路パッケージおよび集積回路パッケージにおいて熱を放散させるための方法
JPH10125734A (ja) 半導体ユニットおよびその製造方法
JPH08241940A (ja) 半導体装置およびその製造方法
US6537858B1 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JP3560869B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3022910B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP3476186B2 (ja) 半導体装置の製造方法
JP2000252310A (ja) モールド方法および装置ならびにそれを用いた半導体装置の製造方法
JP2000174046A (ja) 樹脂封止方法
JP3644678B2 (ja) 半導体装置及びその製造方法
JP2000176967A (ja) 樹脂封止装置
JP2004172647A (ja) 半導体装置
JPH085550Y2 (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Effective date: 20040302

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040302

A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20040302

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

A521 Written amendment

Effective date: 20040302

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

A977 Report on retrieval

Effective date: 20050420

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050510

A521 Written amendment

Effective date: 20050708

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A131 Notification of reasons for refusal

Effective date: 20060228

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060428

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20070130

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070206

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100216

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110216

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees