JP3009735B2 - 多電極アブレーション装置 - Google Patents

多電極アブレーション装置

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ロナルド ジー ラックス
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リタ メディカル システムズ インコーポレイテッド
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Description

【発明の詳細な説明】 継続出願データ 本件出願は、米国出願第08/148,439号の一部継続出願
であり、この内容は本書にインコーポレーション・バイ
・リファレンスされている。
背 景 発明の分野 本発明は、一般に、体内の塊、例えば腫瘍を処置し退
治する装置に関し、特に腫瘍の周りを複数のニードル電
極で包囲し、アブレーション容積を画定する退避可能な
多数ニードル電極装置に関する。
関連技術の説明 腫瘍の処理を行うための現在の切開処置は極めて、破
壊的であり、健全な組織の多大な損傷を引き起こす。そ
のような外科的な処置においては、外科医は、転移を生
じるような腫瘍のシーディングを形成する領域内におい
ては、腫瘍を切開しないように配慮しなければならな
い。近年、製品の開発は、伝統的な外科的処置の外傷性
のものを最小化することを主眼としている。
腫瘍の処理のツールとしてハイパーセミア（hyperthe
mia）の領域において比較的多くの活動が行われて来て
いる。腫瘍の温度を上昇させることは、がん性腫瘍の処
置、管理では有効である。ハイパーセミアによってがん
細胞を選択的に撲滅する機構はまだ完全には知られてい
ない。しかし、以下のようながん性組織についてのハイ
パーセミアの以下の４つの細胞上の効果が言われてい
る。（ｉ）細胞あるいは細胞核メンブレン透過性あるい
は流動性の変化、（ii）細胞質のリソソーム分解、消化
酵素の解放を生じさせること、（iii）細胞呼吸に影響
するたんぱく質の熱的損傷及びDNAあるいはRNAの合成
（iv）免疫システムの潜在的活性化。腫瘍に熱を加える
処置方法には直接接触型高周波（RF）アプリケータ、マ
イクロ波放射、誘導接続RFフィールド、超音波、及び各
種の簡単な熱伝導技術が含まれる。
これらのすべての処置に関係する問題のなかには、体
の表面下、数センチの深さで極めて局所的な熱を発生さ
せるという要求がある。一定の技術がマイクロ波放射、
及び超音波に関して開発され、さまざまな所望の深さで
エネルギーを集中させるようになっている。高周波を付
加することが外科処置中、深いところで用いられる。し
かし、局在化の程度は一般に乏しく、健全な組織を害す
る結果となる。
誘電加熱も入力エネルギーの局在化が乏しい。誘電加
熱は、体の表面にアンテナを配置することによって行う
ことができるが、表面うず電流がアンテナのごく近傍に
発生する。高周波電流を用いて運転した場合に、望まし
くない表面化熱が生じて、下部組織への加熱を減退させ
る。
したがって、内部腫瘍の加熱を行うための非侵襲性処
置は実質的に特定のかつ選択的の処置を達成するには困
難を伴う。
ハイパーセミアは、高周波あるいはマイクロ波源から
発生することができるものであり、組織に熱を加えるが
正常な細胞が生き延びるように45℃を超えることはな
い。加熱療法においては、45℃を超える熱エネルギーが
付加され、組織の損傷、乾燥及びたんぱく質の変質を生
じる結果となる。ハイパーセミアは、最近悪性腫瘍の治
療に使用されている。ハイパーセミアでは、特定の領域
に隙間の電流加熱によって局在化させ、一方で、同時に
健全な周辺の組織に対する熱的損傷を最小化するような
ハイパーセミアの状態を誘発することが望ましい。頻繁
に、腫瘍は、皮下に位置し、腫瘍を特定するには、内視
鏡処置あるいは外部放射のいずれかを必要とする。体内
組織の深層でハイパーセミアを外部から誘発すること
は、電流密度が健全な組織に吸収されることによって希
釈されるため、困難となる。RFエネルギーの一部が筋肉
／脂肪及び骨との界面で反射する。このことがさらに小
規模の腫瘍に直接既知の量のエネルギーを付加せしめる
という問題に加わる。
間質型（interstitial）の局所的なハイパーセミアを
使用する試みが極めて有効であるということはこれまで
のところ実証されていない。ハイパーセミアによる腫瘍
の大きさの減少は熱投与に関係する。熱投与は、所定時
間腫瘍全体に付加される最小有効温度である。血の流れ
が加熱されている腫瘍の熱損失の主な要素であり、血の
流れは腫瘍を変化させるため、均等の腫瘍組織を加熱す
るほど、より効果的な処置を達成することができる。
同じことが高周波エネルギーを使用する腫瘍自体のア
ブレーションについてもいえる。腫瘍等の塊に対して高
周波アブレーションを使用する異なる方法が活用されて
いる。腫瘍を加熱する代わりに、腫瘍は、エネルギーが
印加されて退治される。この方法は、（ｉ）塊の全てを
効果的にアブレーションするための高周波アブレーショ
ン電極の位置決め、（ii）腫瘍領域への高周波アブレー
ション電極の導入及び（iii）非腫瘍組織へ損傷を与え
ることのない有効なアブレーションを達成するための高
周波エネルギーの制御された供給及び監視を含む、さま
ざまな要因のために、実行することがこれまで困難であ
った。
極力非侵襲的に腫瘍を処置するための多くの異なる処
置方法及び装置が存在する。このようなものの１つとし
て米国特許第4,920,978号に開示されるような腫瘍に高
周波ハイパーセミアを発生させる内視鏡がある。マイク
ロ波内視鏡装置は米国特許第4,409,993号に記載されて
いる。米国特許第4,920,978号には、高周波ハイパーセ
ミア用の内視鏡が開示されている。
米国特許第4,763,671号では、最小化侵襲性処置は腫
瘍の中に介在するように挿入される２つのカテーテルを
使用している。このカテーテルは腫瘍の容積の中に配置
され、それぞれのカテーテルは高周波電力源に接続され
ている。米国特許第4,565,200号には、電極システムが
開示されており、ここでは単一の入口導入カニューレが
選択された体の部分に電極を挿入するために使用されて
いる。
しかし有効な処置装置として電極は腫瘍に対して好適
に位置決めされる。電極が位置決めされた後、腫瘍をア
ブレーションする高周波エネルギーを制御して供給し、
蓄積することが望ましい。これによって健全な組織を破
壊することを減少することができる。
最小化侵襲型処置に有効な高周波腫瘍処置装置に対す
るニーズがある。このような装置は、処理電極で腫瘍の
周りを包囲し、規制されたアブレーション容積を画定
し、そのご電極が制御された量の高周波エネルギーを供
給するようになっていることが望ましい。さらに、前ア
ブレーションステップ中において、注入が可能であり、
アブレーション後において、周囲の組織が45℃未満のハ
イパーセミア温度になるように電磁気（“EM"）エネル
ギーで予め調整することができる装置へのニーズがあ
る。
これによって、局部的なアブレーションとハイパーセ
ミアの後における化学療法と腫瘍部位の各種の液体の点
滴との相乗的効果が得られる。
概 要 本発明の目的は、最小化侵襲的な方法において、腫瘍
のような所望の組織の部位をアブレーションする高周波
アブレーション装置を提供することである。
本発明の他の目的は、供給カテーテルからアブレーシ
ョン容積を画定するように前進させられる選択可能な複
数の退避可能電極を備えた高周波組織アブレーション装
置を提供することである。
本発明のさらに他の目的は、供給カテーテルに対して
及びこれから退避可能な複数の電極を備えた高周波組織
アブレーション装置を提供することである。この電極
は、非展開状態で供給カテーテル内に少なくとも部分的
に位置し、供給カテーテルの先端から外方に向けて前進
させられた展開状態では膨張・展開あるいは拡大・拡張
して、アブレーション容積を画定する。
本発明の他の目的は、第１の曲率半径を有する第一セ
クション及び該第１セクションから延び、第２の曲率あ
るいは実質的に直線的幾何形状を有する第２セクション
とを有する展開電極を備えた高周波組織アブレーション
装置を提供することである。
本発明のさらに他の目的は、２つあるいはそれ以上の
曲率半径を有する展開電極を備えた高周波組織アブレー
ション装置を提供することである。
本発明のさらに別の目的は、２つあるいはそれ以上の
平面において少なくとも１つの曲率半径を有する展開電
極を備えた高周波組織アブレーション装置を提供するこ
とである。
本発明のさらに他の目的は、供給カテーテルの先端近
傍に位置する１つの湾曲セクションと、展開電極のその
湾曲セクションから延びる非湾曲セクションとを有する
少なくとも１つの展開電極を備えた高周波組織アブレー
ション装置を提供することである。また、このアブレー
ション装置は、少なくとも２つの曲率半径を有する少な
くとも１つの展開電極を備えている。
本発明のさらに他の目的は、複数の退避可能な電極を
有する組織アブレーション装置であって、それぞれの展
開電極が供給カテーテルの近傍に位置する少なくとも１
つの湾曲セクション及び該展開電極の湾曲セクションを
超えて延びる非湾曲セクションとを備えたものを提供す
ることである。
これらの及び他の目的は、先端部及び基端部を有する
供給カテーテルを備えた組織アブレーション装置によっ
て達成される。ハンドルが供給カテーテルの基端部に取
り付けられる。電極展開装置が供給カテーテルの少なく
とも一部に配置される。この装置は、カテーテルの先端
から出没可能な複数の電極を備えている。電極は、それ
らが供給カテーテル内に位置する場合には、非展開状態
にある。これらの電極がカテーテルの先端部から外部に
前進させれられるにつれてこれらの電極は展開状態とな
り、アブレーション容積を画定する。それぞれの電極は
第１の曲率半径を有する第一セクションと、該第一セク
ションから延び、第２の曲率半径あるいはほぼ直線状の
幾何形状を有する第二セクションとを有する。
これと別に、それぞれの展開電極は、ニードルが供給
カテーテルの先端部を通って前進させられ、選択された
組織部位において位置決め状態となったとき形成される
少なくとも２つの曲率半径を有する。
他の実施例においては、それぞれの電極は２つあるい
はそれ以上の平面において少なくとも１つの曲率半径を
持つ。さらに、この電極展開装置は少なくとも２つの曲
率半径を有する少なくとも１つの展開電極、及び２つ以
上の平面において少なくとも１つ以上の曲率半径を有す
る少なくとも１つの展開電極を備えることができる。
さらに別の実施例では、電極展開装置は供給カテーテ
ルの先端部近傍に位置する少なくとも１つの湾曲セクシ
ョンと、展開電極の該湾曲セクションを超えて延びる非
湾曲セクションとを有する少なくとも１つの展開電極を
備える。この電極展開装置はまた、少なくとも２つの曲
率半径を有する少なくとも１つの展開電極を備える。
本発明の他の実施例においては、それぞれの展開電極
は、供給カテーテルの先端部近傍に位置する少なくとも
１つの湾曲セクションと、展開電極の湾曲セクションを
超えて延びる非湾曲セクションとを有する。
電極テンプレートを供給カテーテルの先端部に配置す
ることができる。これは組織内で選択された塊の外延を
包囲する関係に電極の展開を案内するのに有益である。
電極は、中空とすることができる。調整可能な電極絶
縁体を全部または一部の電極に対して隣接かつ包囲する
関係で配置することができる。この電極絶縁体は調整可
能になっており、電極導電性表面を画定するように電極
に沿って前進及び退避できるようになっている。
電極展開装置は、供給カテーテルの先端部に及びこれ
から電極を前進及び退避するカムを備えることができ
る。また、供給カテーテルには、１つ以上の電極と協働
する一つ以上のガイドチューブを配置することができ
る。
媒体（これに限るものではないが電解質及び化学治療
溶液を含む）注入源は、中空電極と協働することができ
る。
電極は尖った先端を有し、テーパ付の端部とすること
ができ、これによって、組織を介して、これらを導入
し、選択された組織部位に前進させることができるよう
になっている。
電極展開装置は、供給カテーテルから取り外し可能に
なっている。オブチュレータ（obturator）をまず供給
カテーテル内に配置する。このオブチュレータは鋭利な
先端部とすることができる。供給カテーテルは、オブチ
ュレータを供給カテーテル内に配置した状態で皮下的に
体内の臓器あるいは部位に前進させられる。一度、位置
決めされると、オブチュレータは取り外され、電極展開
装置が供給カテーテル内に挿入される。この電極は、供
給カテーテル内に配置されている間は非展開状態であっ
て、好ましくは縮小かあるいは弾性負荷がかけられてい
る。これらの電極は、供給カテーテルの先端部から出る
と、３次元的に供給カテーテルの先端周縁部から側部方
向に向けて展開するような十分な強度を有する材料から
構成されている。これらの電極は、側部方向への動き
を、組織から加わる力がニードルの進行方向を変更させ
るまで継続する。
この結果、それぞれの電極は、（ｉ）第一曲率半径を
有する第一セクション及び該第一セクションから延び、
第２の曲率半径を有するかまたは実質的に直線状のセク
ションを有する第二セクション、（ii）２つの曲率半
径、（iii）２つあるいはそれ以上の平面において１の
曲率半径、あるいは（iv）２つ以上の平面における２つ
の曲率半径の内の１つとの組み合わせの何れかを有す
る。さらに、電極展開装置は複数の異なる電極について
１つ以上のこれらの展開幾何形状を有することもでき
る。すべての電極が同じ展開幾何形状を有する必要はな
い。
電極が腫瘍のような塊の周りの配置された後、（これ
に限られるものではないが電解液を含む）種々の溶液を
アブレーション前ステップにおいて塊に電極を介して導
入することができる。高周波エネルギーが付加される
と、塊は乾燥する。アブレーション後ステップ処置で
は、化学治療剤をその部位に導入し、その後電極をその
導入カテーテル内に退避させる。全体のアブレーション
装置を取り外しても、追加のアブレーション処置を行っ
てもよい。
図面の簡単な説明 図１は、供給カテーテル、ハンドル、及び展開電極を
有する本発明の組織アブレーション装置の斜視図であ
る。
図２は、図１の発明の組織アブレーション装置の断面
図である。
図３は、２つの曲率半径を有する本発明の電極の斜視
図である。
図４は、３つの平面内における１つの曲率半径を有す
る本発明の電極の斜視図である。
図５は、供給カテーテルの先端部に近接して位置する
１つの湾曲セクション、及び直線セクションを有する本
発明の電極の斜視図である。
図６は、供給カテーテルの先端部に近接した１つの湾
曲セクション、第１のほぼ直線状セクション、及び該第
１の直線状セクションに関して側部方向に連続する第２
の直線状セクションを有する本発明の電極の斜視図であ
る。
図７は、供給カテーテルの先端部に配置されるガイド
チューブを有する、本発明と協働する供給カテーテルの
断面図である。
図８は、本発明の電極の断面図である。
図９は、図１に示される組織アブレーション装置の斜
視図であって、供給カテーテルが皮下的に体内を通って
導入され、アブレーションされるべき腫瘍のある肝臓の
外部あるいは僅かに突入する位置に配置された状態を示
している。
図10は、供給カテーテル内に配置されたオブチュレー
タを有する本発明の組織アブレーション装置の斜視図で
ある。
図11は、肝臓に隣接する体内に配置され、オブチュレ
ータが取り除かれた状態を示す図10に図示した本発明の
組織アブレーション装置の斜視図である。
図12は、肝臓に隣接する体内に配置され、電極テンプ
レートを有する、電極展開装置が、オブチュレータの代
わりに供給カテーテル内に配置されている図10に図示し
た本発明の組織アブレーション装置の斜視図である。
図13は、展開電極が腫瘍を囲み、アブレーション容積
を画定した状態を示す本発明のアブレーション装置の斜
視図である。
図14は、肝臓に隣接する体内に配置され、展開電極が
腫瘍を囲み液をアブレーション前処置中において腫瘍部
位に注入する状態を示す、図10に図示した本発明の組織
アブレーション装置の斜視図である。
図15は、腫瘍に高周波エネルギーを印加している状態
を示す、図10に示す発明の組織アブレーション装置の斜
視図である。
図16は、腫瘍の電子−乾燥を示す、本発明の組織アブ
レーション装置の斜視図である。
図17は、アブレーション後処置中において腫瘍に液を
点滴する状態を示す、本発明の組織アブレーション装置
の斜視図である。
図18は、本発明の電極間の２極アブレーション示す図
である。
図19は、本発明の電極間の単極アブレーションを示す
図である。
図20は、高周波及び超音波モジュール及びモニターを
有する本発明のアブレーションシステムの斜視図であ
る。
図21は、本発明のアブレーションシステムのブロック
ダイヤグラムである。
好ましい実施例の詳細な説明 組織アブレーション装置10が図１に示されている。
アブレーション装置10は、基端部14と先端部16とを有
する当業者に周知の供給カテーテル12を備えている。供
給カテーテル12は、約５乃至16Fのサイズとすることが
できる。ハンドル18は、着脱自在に基端部14に取り付け
られている。電極展開装置は少なくとも部分的には、供
給カテーテル12内に位置しており、先端部16から出没自
在の複数の電極20を備えている。電極20は、異なる大き
さ、形状、形態とすることができる。１つの実施例で
は、これらはニードル電極であり、27乃至14ゲージのサ
イズを有する。電極20は、供給カテーテル内に保持され
ている間は、非展開位置にある。この非展開位置におい
ては、電極20は、縮小状態にあり、弾性負荷がかかって
おり、一般には、閉じ込められた状態にあり、ニチノー
ル（nitinol）のような適当な形状記憶金属から形成さ
れている場合には、ほぼ直線状で閉じ込められてる。電
極20が先端部16から前進させられるに応じて、膨張、拡
大して展開状態となり、図２に詳細に示すように組織が
アブレーション（処置、撲滅）されるアブレーション容
積を画定する。電極20は、２極モードでも単極モードで
も動作する。電極が２極モードで使用される場合には、
アブレーション容積は複数の電極20の周辺でほぼ画定さ
れる。１つの実施例では、アブレーション容積の断面の
幅は約４センチメートルである。しかし、これと異なる
アブレーション容積を組織アブレーション装置10によっ
て達成できることを理解されたい。
アブレーション容積はまず、アブレーション処置され
るべき腫瘍のような塊を画定するように決定される。電
極20は、容量アブレーション用の所定のパターンで塊す
なわち腫瘍を包囲する関係で配置される。まず、画像シ
ステムが腫瘍すなわち選択された塊を画定するために使
用される。好適の画像システムは、これに限られるもの
ではないが、超音波、コンピュータ化トモグラフィー
（CT）走査、Ｘ線フィルム、Ｘ線透視装置、磁器共鳴画
像形成、電磁気像形成等を含む。塊すなわち腫瘍の容積
を画定するためにこれらの装置を使用することは当業者
には、周知である。
超音波を使用する場合には、超音波トランスデューサ
が患者の体に対象領域に超音波エネルギーを発信する。
この超音波エネルギーは器官及び組織形態が異なること
によって反射される。反射されたエネルギーは、トラン
スジューサによって検出され、この結果として得られた
電気信号が処理されて対象領域の像を形成する。この方
法で、アブレーション容積が確認され、これに対応した
適当な電極展開装置が供給カテーテル12に挿入される。
アブレーション容積は、アブレーション装置10がアブ
レーション処置位置に導入される前にほぼ画定される。
このアブレーション容積の画定は、アブレーション装置
10を適当な位置に位置決めするのに役立つ。この方法
で、アブレーションされる組織の容積が減少されて、腫
瘍を包囲する一定の領域を含む、画定塊すなわち腫瘍に
ほぼ限定される。すなわち、よく制御されて画定され
る。腫瘍を取り巻く小さなエリアが腫瘍のすべてをアブ
レーションすることを保証するようにアブレーションさ
れる。
図２を再び参照すると、電極セクション20（ａ）はこ
れらが先端部16から導き出されたとき展開状態となる。
電極20は、通常は供給カテーテル12内に配置されている
間は非展開状態の非膨張、非拡張形態をとるが、これら
は膨張拡大することができるものである。一般に、電極
セクション20（ｂ）は、非展開状態にある間は保持され
た位置にある。この状態は、これに限定されるものでは
ないが、以下のような方法によって達成することができ
る。（ｉ）電極が予め弾性的に圧縮されて、供給カテー
テル12内に閉じ込められており、供給カテーテル12から
解放されたときのみアーチ状、噴水状に拡張される。
（ii）電極はさらに詳細に後述するように、形状記憶金
属から形成されている。（iii）電極は供給カテーテル1
2の外側で拡張形状を生じる選択的な電極材料から構成
されている。あるいは、（iv）供給カテーテル12が供給
カテーテル12内に電極20を封入するとともに、カテーテ
ルの外側への電極をその進行方向に所望の拡張アブレー
ション容積を形成するように案内するガイドチューブを
備えている。図２に示すように、電極20は、供給カテー
テル内に保持されている間は、予め弾性的に負荷がかけ
られている。これが非展開位置である。電極が供給カテ
ーテル12から前進させられ、組織内に入っていくにつれ
て、電極20は、展開して先端部16から“扇状、噴水状あ
るいは打ち上げ花火状”に広がり、供給カテーテル12の
長手方向に対して側部方向に動く。展開された電極20が
前進し続けると、その扇状、噴水状あるいは打ち上げ火
花状の領域は増大して先端部16の直径を超えて拡大す
る。
重要なことは、それぞれの電極が展開位置において
は、膨張、拡大あるいは拡張していることであり、集合
的に、展開電極20がアブレーションされる組織の容積を
画定することである。既述のように、良性、悪性にかか
わらず、腫瘍をアブレーションする必要がある場合に
は、腫瘍の外表面で画定される部分を僅かにこえる領域
をアブレーションすることが望ましい。これによって、
すべての腫瘍を撲滅する可能性を向上させることができ
る。
展開電極20は、これに限られるものではないが（ｉ）
第一の曲率半径を有する第一セクション及び該第一セク
ションをから延び、第２曲率半径あるいはほぼ直線状の
幾何形状を有する第二セクション、（ii）少なくとも２
つの曲率半径、（iii）１つ以上の平面における少なく
とも１つの曲率半径、（iv）供給カテーテル先端部16に
位置する肘部を有する湾曲セクションと該湾曲セクショ
ンからのびる非湾曲セクション、あるいは（ｖ）先端部
16近傍の湾曲セクション、第１の直線状セクション、及
び該第一の直線状セクションに関して角度を有する他の
湾曲セクションあるいは第二の直線状セクション、よう
な種々の異なる展開幾何形態をとることができるもので
ある。展開電極20は互いに並行である必要はない。複数
の展開電極20は、ニードル電極展開装置の一部を構成す
るものであるが、そのすべてが同じ展開幾何形態、たと
えば、少なくとも２つの曲率半径をとることができ、あ
るいはさまざまな幾何形態たとえば、２つの平面におい
て、１つは２つの曲率半径を有し、第２のものは１つの
曲率半径を有し、残りのものは供給カテーテル12の先端
部16近傍では湾曲セクションを有し、該湾曲セクション
を超える部分では非湾曲セクションを有するようにする
こともできる。
カム22あるいはその他の起動装置が供給カテーテル内
に配置され、電極20を供給カテーテル12から前進させ、
あるいはその中に退避させることができるようになって
いる。カムの実際の動作はハンドル18で制御できるよう
になっている。適当なカムは、当業者に周知の従来の設
計形態をとる。
電極20の異なる幾何形態が図３乃至図６に示されてい
る。図３では、電極20は第１の曲率半径20（ｃ）と第２
の曲率半径20（ｄ）とを有する。電極20は２つ以上の曲
率半径を有することもできる。図４に示すように、電極
20は３つの平面に延びる少なくとも１つの曲率半径を有
している。図５では、それぞれの電極は、供給カテーテ
ル12の先端部16の近傍の第１湾曲セクション20（ｅ）を
有する。第１のほぼ直線状のセクション20（ｆ）は湾曲
セクション20（ｅ）をから延び、この２つは肘部20
（ｇ）において連続している。電極20はアノード及びカ
ソードとして機能する。複数の電極20は互いにほぼ並行
なあるいは並行でない直線セクション20（ｆ）を有する
ことができる。図６は供給カテーテル12の先端部16の近
傍に位置する第１湾曲セクション20（ｅ）、第１直線状
セクション20（ｆ）、及び第１直線状セクション20
（ｆ）から延びる第２直線状セクション20（ｈ）とを備
える電極20を図示している。セクション20（ｈ）を直線
状、湾曲、あるいはこれらの組み合わせとすることもで
きる。図６に図示された複数の電極20は、並行なあるい
は並行でない第１直線状セクション20（ｆ）を備えるこ
とができる。
本発明の１つの実施例においては、電極20は、弾性的
に負荷がかけられており、かつその非展開位置に収縮状
態にされている。電極20が供給カテーテル12の先端部16
から前進させられるにつれて、電極は、展開され、扇
状、噴水状あるいは打ち上げ花火状に膨張、拡大あるい
は拡張される。電極20は、組織の抵抗が電極20を形成す
る材料の強度を上回るようになるまで、扇状、噴水状あ
るいは打ち上げ花火状に膨張、拡大あるいは拡張し続け
る。この組織の抵抗があった場合には、電極20は、屈折
し、当初の外方への扇状、噴水状あるいは打ち上げ花火
状の膨張、拡大あるいは拡張方向に対し、内法に向けて
延びるようになる。この屈折が図３の湾曲セクション20
（ｃ）及び20（ｄ）を形成するとともに、図４、５及び
６の他の電極20形態をも形成することができる。電極20
の扇状、噴水状あるいは打ち上げ花火状に進行する範囲
は、電極の材料強度に依存する。好適な材料には、ステ
ンレス鋼、プラチナ、金、銀、銅及びその他導電ポリマ
ーを含む電磁気導電材料が含まれる。好ましくは、電極
20は、ステンレス鋼あるいはニッケルチタンから構成さ
れ、約27から14ゲージの大きさを有する。
１つの実施例では、電極20は、ニッケルチタンのよう
な形状記憶合金から形成され、このような金属は、レイ
ケム（Raychem）コーポレーションから市販されてい
る。さらに、抵抗性加熱エレメントを電極20の内部通路
に配置してもよい。抵抗性加熱エレメントは、電極20に
熱移動をもたらす好適な金属で構成することができ、電
極20の温度が電極材料、たとえば形状記憶合金に周知の
ような所定の歪みを生じるようなレベルに到達したとき
に、展開電極20に所定の歪みを生じさせるようになって
いる。全ての電極20が形状記憶合金である必要はない。
組織内に導かれる電極20の先端部のみを所望の展開幾何
形態を生じさせるような形状記憶合金から構成すること
もできる。さらに、これに限定するものではないが、ス
テアリングワイヤを含む機械的装置を電極20の先端部に
取り付け、組織の塊をアブレーションするために最終配
置位置に到達するまで、電極先端を組織に関して所望の
方向に方向づけし、偏向させ、動かすようにするもでき
る。
また、供給カテーテルが１つあるいはそれ以上のガイ
ドチューブ24を備えることができる。図７に示すよう
に、このガイドチューブは、供給カテーテル12の先端部
16から電極が前進させられるとき扇状、噴水状あるいは
打ち上げ花火状のパターンで電極20の拡大あるいは拡張
を方向づけするのに役立つ。ガイドチューブ24は、ステ
ンレス鋼、スプリング鋼及びこれに限定するものではな
いが、ナイロン及びポリエステルを含む熱硬化性プラス
チック、及び体内の特定の部位に電極を収めるのに十分
な大きさと長さを有する。
図８は、鋭利な先端24を有する電極20の１つの実施例
である。テーパ付のすなわち、鋭利端24を形成すること
によって、組織を通過して電極20を前進させることが容
易となる。電極20は、セグメント化することができ、複
数の液体分配ポート26を備えることができる。このポー
トは電極20のすべてあるいは一部のまわりに均等に形成
することができる。液体分配ポート26は中空である場合
には、電極20内に形成することができ、電極20を介して
所望の組織部位にさまざまな液媒体を導入し、流通させ
ることができる。そのような液媒体には、限定するもの
ではないが、電解質溶液、ペーストあるいはゲル、さら
に化学治療剤が含まれる。好適な導電性ゲルの例には、
生理学的食塩水のような電解水溶液からなるカルボキシ
メチルセルロースゲルがある。
液分配ポート26の大きさは、電極20の大きさ形状によ
って変化する。また電極20は、電極20の外表面に沿って
摺動自在の調整可能絶縁体スリーブ28と協働する。この
絶縁体スリーブ28は、電極20の導電性表面のサイズを画
定するように電極20にそって前進及び退避させられる。
絶縁体スリーブ28は、外科医によりハンドル18で起動さ
れ、電極20に沿ってその位置が制御されるようになって
いる。電極20が供給カテーテル12からでて、組織内に入
るとき絶縁体スリーブ28は、電極が組織を貫通して動く
とき電極20の周りで位置決めされる。また、絶縁体スリ
ーブ28は、アブレーションされる目標の塊の周りに電極
20が位置決めされた後で、所望の長さの電極20に沿って
前進することもできる。絶縁体スリーブはこのようにし
て電極20とともに組織を貫通して前進することができ
る。あるいは、作動源を与える電極20なしで組織を貫通
して動くこともできる。このように、所望のアブレーシ
ョン容積が展開電極20及びそれぞれの展開電極上の絶縁
体スリーブ28の位置決めによって画定される。この方法
で、極めて正確なアブレーション容積が生成する。絶縁
体スリーブを形成する好適材料には、これに限定される
ものではないが、ナイロン、ポリイミド、その他の熱硬
化性プラスチック等が含まれる。
図９は、組織アブレーション装置10の皮下挿入を図示
している。組織アブレーション装置10は、選択された組
織塊すなわち腫瘍に電極20を皮下的に導入するのに使用
することができるものである。電極20は、体内に皮下的
に挿入されているときには、非展開位置に止まっている
ことができ、そして、アブレーションされる選択された
塊を含む選択された器官に対して供給される。供給カテ
ーテル12がハンドル18から取り外される。供給カテーテ
ルが取り外されると、電極展開装置（複数の電極20）を
挿入することができ、供給カテーテル12から除去するこ
とができる。皮下的処置が行われる場合には最初にオブ
チュレータ30が供給カテーテル12内に挿入される。図10
に示すように、オブチュレータ30は、組織を貫通する鋭
利先端部32を備え、供給カテーテル12を選択された組織
部位に導入するのを補助する。選択された組織部位は腫
瘍あるいはその他の塊を有する体内の器官あるいは、実
際の腫瘍そのものでもよい。
オブチュレータ30は、つぎに供給カテーテルから取り
除かれる（図11）。電極展開装置が、つぎに供給カテー
テル12内に挿入され、カテーテルはつぎにハンドル18に
再び取り付けられる（図12）。図12に示すように、電極
展開装置は電極テンプレート34を選択的に備えることが
できる。このテンプレートは組織の選択された塊の外側
が包囲関係になるように電極の展開を案内する。
電極20は、つぎに供給カテーテル12の先端部16から前
進させられ、塊を包囲する所望のアブレーション容積を
形成するように展開される。図13では、供給カテーテル
12は、肝臓に隣接して配置される。電極展開装置は、電
極テンプレート34を備えた供給カテーテルに導入され
る。これによって、電極展開装置は肝臓に突入し、カム
22は、電極20を供給カテーテル12から外側に、展開位置
に前進させる。それぞれの電極20は、肝臓に突入して、
これを通って進行し、腫瘍を包囲する関係で位置決めさ
れて停止する。アブレーション容積は、選択的であり、
まず、アブレーションする領域を画像形成することによ
って決定する。アブレーション容積は、腫瘍の外延を包
囲する全ての展開電極20の周縁によって画定される。い
ったん、アブレーション容積が決定されると、電極セッ
トが選択され、この電極がアブレーション容積を画定す
るように展開する。アブレーション容積を生成するにお
いて、各種の異なる要因が重要たなってくる。基本的に
は、異なる電極は、電極材料の形態、電極の前弾性負荷
の度合い及び転換状態での電極の幾何形態により、種々
の展開度を有する。組織アブレーション装置10は、異な
る電極20のセットがさまざまなアブレーション容積を画
定するように供給カテーテル12に挿入されるのを許容す
る。
腫瘍のアブレーションを行う前に、アブレーション前
ステップを行うこともできる。さまざまな異なる溶液
（たとえば、食塩水といった電解溶液を含む）を図14に
示すように腫瘍部位に導入することができる。図15は、
腫瘍に高周波エネルギーを印加する状態を示している。
電極絶縁体28が、アブレーションが生じない電極20の部
分に配置される。このことによってさらにアブレーショ
ン容積が限定される。腫瘍あるいはその他の目標塊すな
わち目標組織の実際の電子−乾燥が図16に示されてい
る。既述のように、展開電極20は、その電極の一部に沿
って配置された電極絶縁体28とともに、アブレーション
容積及び結果として生じる乾燥される塊の量を画定す
る。
乾燥につづいて、電極20は、選択的にアブレーション
後処理において、さまざまな溶液を導入することがてき
る。このステップは図17に示されている。好適の溶液は
（これに限定されるものではないが）化学治療剤であ
る。
図18は、２極モードで動作する組織アブレーション装
置10を示している。この単極動作については図19に示さ
れている。複数の電極20のそれぞれの電極は、アブレー
ションプロセスにおいて異なる役割を担う。異なる電極
間で極性変更を生じさせるようにしてもよい。
組織アブレーションシステム36（モジュール形式とす
ることができる）が図20に示されており、表示装置38を
備えている。組織アブレーションシステム36は、また、
高周波エネルギー源、マイクロ波源、超音波源、カメラ
あるいはVCRのような視覚化装置、電解質及び化学治療
溶液源及び温度あるいはインピーダンスをモニターする
のに使用できるコントローラを備えることができる。
展開電極20の一つは、マイクロ波源に接続されたマイ
クロ波アンテナとすることができる。この電極はまず高
周波電力源42に接続され、つぎにマイクロ波源にスイッ
チ接続される。
図21を参照すると、電力供給源40が高周波電力（源）
発生装置42にエネルギーを供給し、つぎに組織アブレー
ション装置10の電極20に供給する。マルチプレクサ46が
電流、電圧及び（電極20に配置することができる多数の
温度センサの）温度を測定する。マルチプレクサ46はコ
ントローラ48によって駆動されており、コントローラ48
は、デジタルあるいはアナログコントローラでも、ソフ
トウエアで動作するコンピュータとすることもできる。
コントローラ48がコンピュータである場合には、コント
ローラは、システムバスを介して接続されたCPUを備え
る。このシステムは、公知のキーボード、ディスクドラ
イブ、あるいは他の非揮発性メモリシステム、ディスプ
レー及びそのための周辺装置を備える。また、バスに
は、プログラムメモリ及びデータメモリが接続される。
オペレータインターフェース50は、オペレータコント
ローラ52及びディスプレー38を備える。コントローラ48
は、超音波トランスジューサ、温度センサ、及び観察光
学機器及び光ファイバ（もしあれば）を有する画像形成
システムに接続されている。
電流及び電圧はインピーダンスを計算するのに使用さ
れる。診断は、超音波、CTスキャン、その他公知の方法
で行われる。画像形成は、処置の前後及びその途中にお
いて行うことができる。
温度センサは供給される電圧電流を測定する。これら
のセンサの出力は、コントローラ48が高周波電力の供給
を制御するのに使用される。また、コントローラ48は、
温度及び電力を制御するのに使用することができる。供
給される高周波エネルギーの量は、電力量を制御する。
電力の供給特性は、コントローラ48に組み込むことがで
きる。このことは、供給されるべき予めセットされた量
のエネルギーを特性づけることができるのと同様であ
る。
フィードバックによってインピーダンス及び温度を測
定することができ、コントローラ48あるいは電磁エネル
ギー源42、すなわち高周波あるいはマイクロ波源（もし
コントローラについている場合には）のいずれにおいて
行うこともできる。インピーダンスを測定する場合に
は、少量の非アブレーション高周波エネルギーを供給す
ることによって行うことができる。電圧及び電流をつぎ
に測定する。
回路、ソフトウェア、及びコントローラ48へのフィー
ドバックによってプロセスコントロールができ、（ｉ）
高周波、超音波等を含む電力、（ii）デューティサイク
ル（オン−オフ及びワット）、（iii）単極あるいは２
極エネルギー供給、（iv）化学治療溶液及び電解質溶液
供給、質量流量及び圧力及び（ｖ）いつアブレーション
が完了したか、温度及び／またはインピーダンスの決
定、を変更するのに使用することができる。これらのプ
ロセス変数は、多くの部位においてモニターされる温
度、及びモニターされる電流に対するインピーダンスに
基づいて制御し、変更することができるものであって、
アブレーションプロセス中の組織の電流搬送能力の変化
を示すものである。
上記の本発明の好ましい実施例の記述は、解説、説明
の目的で行われたものである。これによって消尽される
ことを意図したものでなく、本発明を開示された正確な
形態に限定するものでもない。多くの修正及び変形が当
業者に明瞭であることは明らかである。本実施例は、本
発明の原理とその実際上の適用を最も良く説明するよう
に選択され記述されているものであり、これによって、
他の当業者さまざまな実施例についてさまざまな修正を
行って、検討された特定の要求に適合するように本発明
を理解することができるものである。本発明の範囲は、
添付の請求の範囲及びその同等物によって画定されるこ
とを意図している。
フロントページの続き (72)発明者 ラックス ロナルド ジー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95945 グラス ヴァリー グレンブル ック エステータス コート 10724 (72)発明者 シャーキー ヒュー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94065 レッドウッド ショアーズ コ ーリエント ポイント 935 (56)参考文献 特開 平２−121675（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−174668（ＪＰ，Ａ) 特表 平７−503645（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) A61B 17/39 - 17/39 330 A61N 1/06,1/40 ＥＰＡＴ

Claims (72)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】先端部と基端部とを有する供給カテーテル
    と、 該供給カテーテルの基端部に取り付けられるハンドル
    と、 少なくとも部分的に前記供給カテーテル内に位置し、複
    数の退避可能な電極を有する電極展開装置とを備え、 それぞれの電極が、前記供給カテーテル内に位置してい
    るとき非展開状態をとり、前記供給カテーテルの先端部
    から前進させられたとき膨張、拡大あるいは拡張された
    展開状態をとり、展開電極の間にアブレーション容積を
    画定し、それぞれの展開電極が前記供給カテーテルを介
    して前進させられて所望の組織部位に位置決めされたと
    き容積アブレーション用の所定のパターンで組織の中の
    選択された塊を包囲する関係で配置されるような少なく
    とも２つの曲率半径を有することを特徴とする組織アブ
    レーション装置。
  2. 【請求項２】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、それぞれの電極が展開状態で、１つの平面に
    おいて少なくとも２つの曲率半径を有することを特徴と
    する組織アブレーション装置。
  3. 【請求項３】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、それぞれの電極が展開状態で、２つ以上の平
    面において少なくとも２つの曲率半径を有することを特
    徴とする組織アブレーション装置。
  4. 【請求項４】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、少なくとも１つの電極が、膨張、拡大あるい
    は拡張された展開状態において、一つの平面において少
    なくとも２つの曲率半径を有し少なくとも１つの電極が
    前記展開状態において２つ以上の平面において少なくと
    も２つの曲率半径を有することを特徴とする組織アブレ
    ーション装置。
  5. 【請求項５】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、さらに、組織の中の選択された塊の外延を包
    囲する関係で電極の展開を案内する、供給カテーテルの
    先端部に配置された電極テンプレートを備えていること
    を特徴とする組織アブレーション装置。
  6. 【請求項６】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、電極が中空で、液体分配ポートを備えている
    ことを特徴とする組織アブレーション装置。
  7. 【請求項７】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、さらに、それぞれの電極に隣接し、これを包
    囲する関係で配置された調整可能電極絶縁体を備えてお
    り、それぞれの調整可能電極絶縁体が電極導電性表面を
    画定するにように電極に沿って前進及び退避できるよう
    になっていることを特徴とする組織アブレーション装
    置。
  8. 【請求項８】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、さらに、供給カテーテルの先端部から電極を
    出没させるための、前記電極展開装置と協働する電極前
    進及び退避部材を備えていることを特徴とする組織アブ
    レーション装置。
  9. 【請求項９】請求項（１）に記載のアブレーション装置
    において、さらに、供給カテーテルに配置される１つ以
    上のガイドチューブを備えていることを特徴とする組織
    アブレーション装置。
  10. 【請求項１０】請求項（６）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、それぞれの電極に接続された注入
    媒体源を備えていることを特徴とする組織アブレーショ
    ン装置。
  11. 【請求項１１】請求項（６）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、それぞれの電極に接続された化学
    治療剤減を備えたことを特徴とする組織アブレーション
    装置。
  12. 【請求項１２】請求項（１）に記載のアブレーション装
    置において、それぞれの電極が鋭利な先端部を備えてい
    ることを特徴とする組織アブレーション装置。
  13. 【請求項１３】請求項（１）に記載のアブレーション装
    置において、前記電極展開装置が供給カテーテルから取
    り外し可能であることを特徴とする組織アブレーション
    装置。
  14. 【請求項１４】請求項（13）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、供給カテーテル内に配置された着
    脱自在のオブチュレータを備えていることを特徴とする
    組織アブレーション装置。
  15. 【請求項１５】請求項（14）に記載のアブレーション装
    置において、該オブチュレータが鋭利な先端部を備えて
    いることを特徴とする組織アブレーション装置。
  16. 【請求項１６】請求項（13）に記載のアブレーション装
    置において、供給カテーテルがハンドルから取り外し可
    能であることを特徴とする組織アブレーション装置。
  17. 【請求項１７】請求項（14）に記載のアブレーション装
    置において、オブチュレータは供給カテーテル内に配置
    されており該供給カテーテルを体内の部位に導入するこ
    とを特徴とする組織アブレーション装置。
  18. 【請求項１８】請求項（14）に記載のアブレーション装
    置において、前記オブチュレータは供給カテーテルが体
    内の部位に位置決めされた後、供給カテーテルから除去
    され、電極展開装置がつぎに供給カテーテル内に配置さ
    れることを特徴とする組織アブレーション装置。
  19. 【請求項１９】先端部と基端部とを有する供給カテーテ
    ルと、 該供給カテーテルの基端部に取り付けられるハンドル
    と、 少なくとも部分的に前記供給カテーテル内に位置し、複
    数の退避可能な電極を有する電極展開装置とを備え、 それぞれの電極が、前記供給カテーテル内に位置してい
    るとき非展開状態をとり、前記供給カテーテルの先端部
    から前進させられたとき膨張、拡大あるいは拡張された
    展開状態をとり、展開電極の間にアブレーション容積を
    画定し、それぞれの展開電極が前記供給カテーテルを介
    して前進させられて所望の組織部位に位置決めされたと
    き容積アブレーション用の所定のパターンで組織の中の
    選択された塊を包囲する関係で配置されるように２つ以
    上の平面において少なくとも１つの曲率半径を有するこ
    とを特徴とする組織アブレーション装置。
  20. 【請求項２０】請求項（19）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、組織の中の選択された塊の外延を
    包囲する関係で電極の展開を案内する、供給カテーテル
    の先端部に配置された電極テンプレートを備えているこ
    とを特徴とする組織アブレーション装置。
  21. 【請求項２１】請求項（19）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、それぞれの電極に隣接し、これを
    包囲する関係で配置された調整可能電極絶縁体を備えて
    おり、それぞれの調整可能電極絶縁体が電極導電性表面
    を画定するにように電極に沿って前進及び退避できるよ
    うになっていることを特徴とする組織アブレーション装
    置。
  22. 【請求項２２】請求項（19）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、供給カテーテルの先端部から電極
    を出没させるための、前記電極展開装置と協働する電極
    前進及び退避部材を備えていることを特徴とする組織ア
    ブレーション装置。
  23. 【請求項２３】請求項（19）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、供給カテーテルに配置される１つ
    以上のガイドチューブを備えていることを特徴とする組
    織アブレーション装置。
  24. 【請求項２４】先端部と基端部とを有する供給カテーテ
    ルと、 該供給カテーテルの基端部に取り付けられるハンドル
    と、 少なくとも部分的に前記供給カテーテル内に位置し、複
    数の退避可能な電極を有する電極展開装置とを備え、 それぞれの電極が、前記供給カテーテル内に位置してい
    るとき非展開状態をとり、前記供給カテーテルの先端部
    から前進させられたとき膨張、拡大あるいは拡張された
    展開状態をとり、展開電極の間にアブレーション容積を
    画定し、少なくとも１つの展開電極が少なくとも２つの
    曲率半径を有し、少なくとも１つの展開電極が２つ以上
    の平面において少なくとも１つの曲率半径を有すること
    によってそれぞれの展開電極が展開位置において容積ア
    ブレーション用の所定のパターンで組織の中の選択され
    た塊を包囲する関係で配置されるようになっていること
    を特徴とする組織アブレーション装置。
  25. 【請求項２５】請求項（24）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、組織の中の選択された塊の外延を
    包囲する関係で電極の展開を案内する、供給カテーテル
    の先端部に配置された電極テンプレートを備えているこ
    とを特徴とする組織アブレーション装置。
  26. 【請求項２６】請求項（24）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、それぞれの電極に隣接し、これを
    包囲する関係で配置された調整可能電極絶縁体を備えて
    おり、それぞれの調整可能電極絶縁体が電極導電性表面
    を画定するにように電極に沿って前進及び退避できるよ
    うになっていることを特徴とする組織アブレーション装
    置。
  27. 【請求項２７】請求項（24）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、供給カテーテルの先端部から電極
    を出没させるための、前記電極展開装置と協働する電極
    前進及び退避部材を備えていることを特徴とする組織ア
    ブレーション装置。
  28. 【請求項２８】請求項（24）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、供給カテーテルに配置される１つ
    以上のガイドチューブを備えていることを特徴とする組
    織アブレーション装置。
  29. 【請求項２９】先端部と基端部とを有する供給カテーテ
    ルと、 該供給カテーテルの基端部に取り付けられるハンドル
    と、 少なくとも部分的に前記供給カテーテル内に位置し、複
    数の退避可能な電極を有する電極展開装置とを備え、 それぞれの電極が、前記供給カテーテル内に位置してい
    るとき非展開状態をとり、前記供給カテーテルの先端部
    から前進させられたとき膨張、拡大あるいは拡張された
    展開状態をとり、展開電極の間にアブレーション容積を
    画定し、少なくとも１つの展開電極が供給カテーテルの
    先端部近傍に位置する少なくとも１つの湾曲セクション
    と、該展開電極の湾曲セクションを超えて延びる非湾曲
    セクションとを有し、少なくとも１つの展開電極が少な
    くとも２つの曲率半径を有しており、これによって、前
    記それぞれの展開電極が容積アブレーション用の所定の
    パターンで組織の中の選択された塊を包囲する関係で配
    置されていることを特徴とする組織アブレーション装
    置。
  30. 【請求項３０】請求項（29）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、組織の中の選択された塊の外延を
    包囲する関係で電極の展開を案内する、供給カテーテル
    の先端部に配置された電極テンプレートを備えているこ
    とを特徴とする組織アブレーション装置。
  31. 【請求項３１】請求項（29）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、それぞれの電極に隣接し、これを
    包囲する関係で配置された調整可能電極絶縁体を備えて
    おり、それぞれの調整可能電極絶縁体が電極導電性表面
    を画定するにように電極に沿って前進及び退避できるよ
    うになっていることを特徴とする組織アブレーション装
    置。
  32. 【請求項３２】請求項（29）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、供給カテーテルの先端部から電極
    を出没させるための、前記電極展開装置と協働する電極
    前進及び退避部材を備えていることを特徴とする組織ア
    ブレーション装置。
  33. 【請求項３３】請求項（29）に記載のアブレーション装
    置において、さらに、供給カテーテルに配置される１つ
    以上のガイドチューブを備えていることを特徴とする組
    織アブレーション装置。
  34. 【請求項３４】先端部と基端部とを有する供給カテーテ
    ルと、 該供給カテーテルの基端部に取り付けられるハンドル
    と、 少なくとも部分的に前記供給カテーテル内に位置し、複
    数の退避可能な電極を有する電極展開装置とを備え、 それぞれの電極が、前記供給カテーテル内に位置してい
    るとき非展開状態をとり、前記供給カテーテルの先端部
    から前進させられたとき膨張、拡大あるいは拡張された
    展開状態をとり、展開電極の間にアブレーション容積を
    画定し、それぞれの展開電極が供給カテーテルの先端部
    近傍に位置し、第１の曲率半径を有する第一セクション
    と、前記第一セクションを超えて延び、第二の曲率半径
    または略直線状の幾何形状を有する第二セクションとを
    有しており、それぞれの展開電極が容積アブレーション
    用の所定のパターンで組織の中の選択された塊を包囲す
    る関係で配置されていることを特徴とする組織アブレー
    ション装置。
  35. 【請求項３５】請求項（34）に記載のアブレーション装
    置において、それぞれの電極は、前記第二セクションを
    超えて延びる第三セクションを有しており、該第三セク
    ションは、前記第二セクションに対して側部位置にあ
    り、湾曲した、またはほぼ直線状の幾何形状を有してい
    ることを特徴とする組織アブレーション装置。
  36. 【請求項３６】所望の組織部位において局部ハイパーセ
    ミアとアブレーションを達成するアブレーション装置で
    あって、 基端部と該基端部から延びる先端部とを有する中空ルー
    メンの供給カテーテルと、 該供給カテーテルに関して前進及び退避させられるよう
    に前記供給カテーテル内に配置され、２極モードで使用
    される複数の電極と、 該複数の電極を前進及び退避させる電極前進及び退避部
    材と、を備え、 前記複数の電極は前記供給カテーテル内に実質的に退避
    した非展開状態と、所望の組織部位において展開するよ
    うに前記先端部から前進させられた展開状態とをとるこ
    とができるようになっており、それぞれの展開電極が容
    積アブレーション用の所定のパターンで組織の中の選択
    された塊を包囲する関係で配置されるようになっている
    ことを特徴とするアブレーション装置。
  37. 【請求項３７】請求項（36）に記載のアブレーション装
    置において、前記電極がステンレス鋼、白金、銀、同及
    びニッケルチタンからなるグループから選択される電磁
    誘導材料を備えていることを特徴とするアブレーション
    装置。
  38. 【請求項３８】請求項（36）または（37）に記載のアブ
    レーション装置において、前記電極が27から14ゲージの
    大きさを有することを特徴とするアブレーション装置。
  39. 【請求項３９】請求項（36）に記載のアブレーション装
    置において、前記電極が形状記憶合金を備えていること
    を特徴とするアブレーション装置。
  40. 【請求項４０】請求項（39）に記載のアブレーション装
    置において、前記形状記憶合金がニチノールであること
    を特徴とするアブレーション装置。
  41. 【請求項４１】請求項（36）ないし（40）のいずれかの
    請求項に記載のアブレーションにおいて、前記電極が鋭
    利な先端部を備えていることを特徴とするアブレーショ
    ン装置。
  42. 【請求項４２】請求項（36）ないし（41）のいずれかの
    請求項に記載のアブレーションにおいて、前記電極が非
    展開状態で供給カテーテル内に実質的に収容されるよう
    に未拡張状態になっていることを特徴とするアブレーシ
    ョン装置。
  43. 【請求項４３】請求項（36）ないし（42）のいずれかの
    請求項に記載のアブレーションにおいて、複数の電極が
    前記供給カテーテルの中空ルーメン内に配置されてお
    り、該電極は、展開状態において所望の組織部位の腫瘍
    のアブレーション容積を画定するように拡張されること
    を特徴とするアブレーション装置。
  44. 【請求項４４】請求項（43）に記載のアブレーション装
    置において、前記電極の少なくとも１つが他の電極と異
    なる形状を有することを特徴とするアブレーション装
    置。
  45. 【請求項４５】請求項（43）または（44）に記載のアブ
    レーション装置において、前記アブレーション容積が、
    前記複数の電極の周辺部で実質的に画定されることを特
    徴とするアブレーション装置。
  46. 【請求項４６】請求項（43）または（44）に記載のアブ
    レーション装置において、前記複数の電極が展開状態で
    ３次元アブレーション容積を画定することを特徴とする
    アブレーション装置。
  47. 【請求項４７】請求項（43）または（44）に記載のアブ
    レーション装置において、前記電極が前記供給カテーテ
    ルの先端部から前進させられるとき前記展開状態をとる
    ように拡張されることを特徴とするアブレーション装
    置。
  48. 【請求項４８】請求項（43）または（44）に記載のアブ
    レーション装置において、前記電極が前記供給カテーテ
    ルの先端部から前進させられるとき前記展開状態をとる
    ように噴水状に拡張されることを特徴とするアブレーシ
    ョン装置。
  49. 【請求項４９】請求項（43）または（44）に記載のアブ
    レーション装置において、前記電極が前記供給カテーテ
    ルの先端部から前進させられるとき前記展開状態をとる
    ように拡張されることを特徴とするアブレーション装
    置。
  50. 【請求項５０】請求項（43）または（44）に記載のアブ
    レーション装置において、前記電極が前記供給カテーテ
    ルの先端部から前進させられるとき前記展開状態をとる
    ように横方向に拡張されることを特徴とするアブレーシ
    ョン装置。
  51. 【請求項５１】請求項（43）または（44）に記載のアブ
    レーション装置において、前記電極が前記供給カテーテ
    ルの先端部から前進させられるとき前記展開状態をとる
    ように３次元的に拡張されることを特徴とするアブレー
    ション装置。
  52. 【請求項５２】請求項（51）に記載のアブレーション装
    置において、前記電極が展開状態において少なくとも１
    つの曲率を有することを特徴とするアブレーション装
    置。
  53. 【請求項５３】請求項（52）に記載のアブレーション装
    置において、前記電極が展開状態において少なくとも２
    つの曲率を有することを特徴とするアブレーション装
    置。
  54. 【請求項５４】請求項（53）に記載のアブレーション装
    置において、少なくとも１つの電極が展開状態において
    １つの平面内で少なくとも２つの曲率を有し、少なくと
    も１つの電極が展開状態において２つ以上の平面におい
    て２つ以上の曲率を有することを特徴とするアブレーシ
    ョン装置。
  55. 【請求項５５】請求項（36）ないし（54）のいずれかの
    請求項に記載のアブレーションにおいて、さらに、前記
    電極の展開を案内するために前記供給カテーテルの先端
    部に配置される電極テンプレートを備えていることを特
    徴とするアブレーション装置。
  56. 【請求項５６】請求項（36）ないし（55）のいずれかの
    請求項に記載のアブレーションにおいて、前記電極が中
    空であり、注入媒体分配ポートを備えていることを特徴
    とするアブレーション装置。
  57. 【請求項５７】請求項（36）ないし（56）のいずれかの
    請求項に記載のアブレーションにおいて、さらに、前記
    電極に近接し、これを取り囲むように配置される調整可
    能電極絶縁体を備えており、該調整可能電極絶縁体は、
    電極導電表面を画定するように電極に沿って前進及び退
    避できるようになっていることを特徴とするアブレーシ
    ョン装置。
  58. 【請求項５８】請求項（57）に記載のアブレーション装
    置において、前記電極絶縁体がナイロン及びポリアミド
    からなるグループから選択される熱硬化性樹脂を備えて
    いることを特徴とするアブレーション装置。
  59. 【請求項５９】請求項（58）において、さらに、電極前
    進退避部材を制御するハンドルを備えていることを特徴
    とするアブレーション装置。
  60. 【請求項６０】請求項（36）ないし（59）のいずれかの
    請求項に記載のアブレーションにおいて、さらに、前記
    展開状態に前記電極を案内するために前記供給カテーテ
    ル内に配置されるガイドチューブを備えていることを特
    徴とするアブレーション装置。
  61. 【請求項６１】請求項（60）に記載されたアブレーショ
    ン装置において、前記ガイドチューブがステンレス鋼、
    ばね鋼、及びナイロン及びポリエステルを含む熱硬化性
    プラスチックスからなるグループ選択される材料を備え
    ていることを特徴とするアブレーション装置。
  62. 【請求項６２】請求項（56）に記載されたアブレーショ
    ン装置において、さらに前記電極に結合された注入媒体
    の供給源を備えていることを特徴とするアブレーション
    装置。
  63. 【請求項６３】請求項（62）に記載されたアブレーショ
    ン装置において、前記供給源が化学療養剤のためのもの
    であるアブレーション装置。
  64. 【請求項６４】請求項（36）ないし（63）のいずれかの
    請求項に記載されたアブレーション装置において、前記
    電極が前記供給カテーテルに対して着脱可能になってい
    ることを特徴とするアブレーション装置。
  65. 【請求項６５】請求項（36）ないし（64）のいずれかの
    請求項に記載されたアブレーション装置において、さら
    に、選択された組織部位に供給カテーテルの導入を補助
    するために供給カテーテル内に配置される着脱自在の閉
    塞器を備えていることを特徴とするアブレーション装
    置。
  66. 【請求項６６】請求項（65）に記載のアブレーション装
    置において、前記閉塞器が鋭利な先端を有することを特
    徴とするアブレーション装置。
  67. 【請求項６７】請求項（65）または（66）に記載のアブ
    レーション装置において、前記前記閉塞器が、前記供給
    カテーテルが前記選択された組織部位に配置された後前
    記供給カテーテルから除去され、その後、前記電極が前
    記供給カテーテル内に配置されることを特徴とするアブ
    レーション装置。
  68. 【請求項６８】請求項（36）ないし（67）のいずれかの
    請求項に記載されたアブレーション装置において、温度
    またはインピダンスを検出するセンサが電極に設けられ
    ることを特徴とするアブレーション装置。
  69. 【請求項６９】請求項（68）に記載のアブレーション装
    置において、前記センサが電極に供給される電圧又は電
    流を測定することを特徴とするアブレーション装置。
  70. 【請求項７０】請求項（68）または（69）に記載のアブ
    レーション装置において、前記センサの出力が前記電極
    に供給される電力を制御するのに用いられることを特徴
    とするアブレーション装置。
  71. 【請求項７１】請求項（70）に記載のアブレーション装
    置において、前記電力が高周波電源であることを特徴と
    するアブレーション装置。
  72. 【請求項７２】請求項（70）または（71）に記載のアブ
    レーション装置において、前記電極に供給される電力の
    プロファイルが前記センサの出力に基づくフィードバッ
    クに従って制御されることを特徴とするアブレーション
    装置。
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