JP3006288B2 - 遮断弁 - Google Patents

遮断弁

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JP3006288B2
JP3006288B2 JP4153208A JP15320892A JP3006288B2 JP 3006288 B2 JP3006288 B2 JP 3006288B2 JP 4153208 A JP4153208 A JP 4153208A JP 15320892 A JP15320892 A JP 15320892A JP 3006288 B2 JP3006288 B2 JP 3006288B2
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正樹 山口
徳良 大橋
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガスの事故を未然に防
ぐガス遮断装置、その他の遮断アクチュエータとして使
用される遮断弁に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一度発生すれば大惨事になる危険性の高
いガス事故を未然に防ぐため、従来より種々の安全装置
が利用されていた。近年、ガスの異常使用およびガス漏
れ時等を検出しガスを遮断するガス遮断装置が注目され
ている。特に近年、ガス配管の容易性、低価格等の優位
性のため、ガスメータに内蔵された流量センサによりガ
スの流量を監視しマイクロコンピュータ(以下マイコン
という)によりガスの使用状態を判断し、異常使用の場
合はガスメータに内蔵された遮断弁によりガスを遮断す
る電池電源によるマイコンガス遮断装置の需要が高まっ
ている。マイコンガス遮断装置の遮断弁としては、電池
の消耗を抑えるため動作の瞬間のみ電流を印加する自己
保持型電磁ソレノイドをアクチュエータとした遮断弁が
主に利用されている。特に最近では、より省電力で動作
可能な遮断弁や、開弁復帰動作も電磁力で行える遮断弁
が要求されている。
【0003】以下に、従来の遮断弁について説明する。
図10および図11は従来の遮断弁の開弁状態における
断面図、図12および図13は従来の遮断弁の閉弁状態
における断面図を示すものである。
【0004】図10に示すように、弁室121の一部に
設けられた弁座103と、ソレノイド101と、ソレノ
イド101に摺動可能に装入されたプランジャ102
と、プランジャ102のソレノイド101から突出する
端102aに弁座103と対向して同軸状に設けられた
弁体105と、弁体105を弁座103の方向に付勢す
るスプリング109とで遮断弁が構成されている。弁体
105は、円盤状でプランジャ102の端102aに揺
動可能に挿設され弁座103に当接可能な弁ゴム106
と、弁ゴム106の弁座103に対向する面の裏面に接
するようにスプリング109で付勢された弁ゴム受け1
07とで構成されている。
【0005】以上のように構成された遮断弁に関して、
以下その動作について説明する。開弁状態においては、
図10に示すように、弁ゴム106と弁座103との間
にガス流路122が形成され矢印のガスが通過可能であ
る。閉弁状態においては、プランジャ102がソレノイ
ド101から飛び出す方向に移動し、スプリング109
に付勢された弁ゴム受け107の圧力によって、弁ゴム
106と弁座103の角度を修正するように弁ゴム10
6を揺動させ、弁ゴム106の表面を圧縮変形させ、弁
座103に密着させることによってガスを遮断する。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の構成では、省電力動作の実現や電磁力による開弁
復帰動作を行うためにスプリング109の付勢力を低く
設定した遮断弁や、弁座103の径が大きい遮断弁にお
いては、以下のような問題点がある。
【0007】スプリング103が軸方向以外の偏心荷重
を有する場合や、弁体105の重心のズレや、プランジ
ャ102の中心軸と弁座103の中心軸とのズレなどに
よって、図11に示すように、開弁状態において弁座1
03のシール面と弁ゴム106の表面とが平行でない場
合(傾斜角θ)が発生し、特に、スプリング109の付
勢力を小さく設定した遮断弁や、弁座103の径が大き
いために弁体105の重量が大きい遮断弁において顕著
である。そして、図11の遮断弁が遮断動作を行ったと
きは、図12に示すように、まず弁ゴム106は接触部
126(図の上側)において弁座103に当接する。図
12において弁ゴム106と弁座103とを密着させる
ためには、接触部126にて滑り運動を行いつつ弁ゴム
106が揺動するか、または接触部126において弁ゴ
ム106を大きく圧縮変形させる必要があるが、スプリ
ング109の付勢力が小さい場合や、弁座103の径が
大きいために接触部126の接触面積が大きい場合は、
相対的に接触部126における摩擦力が大きくなるため
接触部126が充分な滑り運動を行えず、また相対的に
接触部126において弁ゴム106を圧縮変形させる圧
力が不充分で、弁ゴム106と弁座103が密着せず
(図の下側)、ガスの遮断が不完全になるという問題点
があった。
【0008】また、一般に弁ゴム受け107は真鍮等の
銅合金製であるために、弁ゴム106中の硫黄と化学反
応して硫化銅を形成し、弁ゴム106の面に弁ゴム受
け107が貼着することがある。このとき、水分や油分
等の介在により貼着が不均一となり、その後熱ストレス
などによって図13に示すように弁ゴム106の表面
弁座103に対向する部分が凹凸に波打つことがある。
この場合もスプリング109の付勢力が小さいと、弁ゴ
ム106と弁座103が図13のように充分密着せず、
ガスの遮断が不完全になるという問題点があった。
【0009】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、省電力動作の実現や電磁力による開弁復帰動作を行
うためにスプリングの付勢力を低く設定した遮断弁や、
弁座の径が大きい遮断弁において、弁座のシール面と弁
ゴム表面の角度に若干のズレが発生したときも流体を充
分遮断可能で、また、弁ゴム受けが弁ゴムに貼着しにく
いために流体を充分遮断可能な遮断弁を提供するもので
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の遮断弁は、弁体が、弁座に当接可能な弁ゴム
と、この弁ゴムの弁座に対向する面の裏面に配設された
剛体製の弁ゴム受けとで構成され、弁ゴム又は弁ゴム受
けの少くともいずれかに弁座の径より小さい内径を持ち
他方に当接する凸部を形成し、弁ゴムと弁ゴム受けとの
間に、これらの外円周から凸部の外側にかけて隙間を設
けたことを特徴としたものである。
【0011】さらに上記構成において、弁座の径よりも
若干小さい外径を持った円盤状で、弁ゴムの弁座に対向
する面に当接して弁座と同心上に配された弁ゴム押さえ
を備えたことを特徴とし、または、弁ゴム受けに鍍金加
工、樹脂塗装または金属化合物焼き付け加工が施された
ことを特徴としたものである。
【0012】
【作用】本発明の遮断弁は、弁ゴム又は弁ゴム受けの少
くともいずれかに弁座の径より小さい内径を持ち他方に
当接する凸部を形成することによって、弁ゴムと弁ゴム
受けとの間に、それらの外円周から凸部の外側にかけて
隙間を設けているために、開弁状態において弁座と弁ゴ
ムとの角度に若干のズレが発生した弁体が、遮断動作を
行い弁座と弁ゴムが一時的に部分接触となり空隙が生じ
た場合でも、弁ゴムが前記隙間のストローク内で曲げ変
形動作を行うことで、弁座の全周に弁ゴムが当接する
か、または前記空隙の開口面積が小さくなり弁ゴム上下
流の圧力差が大きくなり弁ゴムが弁座に吸引されること
によって、弁ゴムと弁座が滑り運動を行わなくても密着
し、流体を充分遮断することが可能である。この時、弁
ゴムの曲げ変形に必要な荷重は、厚み方向への圧縮変形
に必要な荷重と比較して充分小さくてよく、スプリング
の付勢力が小さい場合や、弁座と弁ゴム間の摩擦力が相
対的に大きい場合でも弁ゴムが曲げ変形動作を行うこと
ができ、流体を充分遮断することが可能である。
【0013】また、開弁状態において前記隙間を挟んで
対向する部分の弁ゴムと弁ゴム受けは閉弁時にのみ互い
に接触するため、化学反応が促進される機会が少なく、
弁ゴム受けが弁ゴムに貼着する可能性が低く、弁ゴム表
面が波打たず、かつ流体がガスの場合でもこれを充分遮
断することが可能である。
【0014】
【実施例】(実施例1) 以下、本発明の1実施例の遮断弁について、図面を参照
しながら説明する。
【0015】図1、図2はそれぞれ本発明の第1の実施
例における遮断弁の開弁状態または閉弁状態における断
面図、図3は本発明の第1の実施例における遮断弁の弁
体が傾いた状態における閉弁状態の断面図を示すもので
ある。
【0016】図1において、ソレノイド1と、ソレノイ
ド1に摺動可能に装入されたプランジャ2と、プランジ
ャ2のソレノイド1から突出する端2aに弁座3と対向
して同軸上に弁室21の上流側に設けられた弁体5と、
弁体5を弁座3の方向に付勢するよう弁体5とソレノイ
ド1との間に圧縮して配設されたスプリング9とで遮断
弁が構成されている。弁体5は、弁座3に当接可能で、
プランジャ2の端2aに揺動可能に挿設され、弁座3に
対向する面6aの裏面6bに弁座3の径より小さい内径
を持つ凸部6cを弁座3と同心に形成した円盤状の弁ゴ
ム6と、この弁ゴム6とほぼ同じ外径を持つ円盤状で、
弁ゴム6に対向する側に弁ゴム6の凸部6cとほぼ同じ
内径を持ち深さdが弁ゴムの凸部6cの高さhよりも若
干の巾sだけ小さな凹部7aを弁座3と同心に形成さ
れ、この凹部7aに弁ゴム6の凸部6cを嵌合されて配
設された剛体製の弁ゴム受け7とで構成されている。8
は弁ゴム6と弁ゴム受け7の間に形成したほぼ巾Sの
間で、弁ゴム6と弁ゴム受けの外周から弁ゴム6の凸
部6cの外にかけて形成している。ソレノイド1は、一
端がプランジャ2の弁体5が設けられた端2aの他端2
bと接触可能に同軸上に配設された強磁性体製のコアー
11と、片側の磁極がコアー11の他端と当接して配設
された永久磁石12と、コの字型に形成され内側中央部
が永久磁石12の他の磁極と当接して配設された強磁性
体製のヨーク13と、中央部に弁座3と同軸の穴を有し
ヨーク13の端と当接しかつ弁室21の一部に固定され
て配設された強磁性体製のフランジ14と、中心穴を有
しヨーク13の内側に弁座3と同軸上に配設されたコイ
ル15と、コイル15の中心穴とフランジ14の中心穴
を貫通して配設され内側にプランジャ2を摺動可能に挿
設されたパイプ16とで構成されている。スプリング9
は圧縮コイルスプリングで、弁ゴム受け7とフランジ1
4の間に圧縮して配設されている。
【0017】以上のように構成された遮断弁について、
以下図1から図を用いてその動作を説明する。開弁状
態においては、図1に示すように、プランジャ2がスプ
リング9の付勢力に抗してコアー11に当接し、永久磁
石12の磁力によって吸着保持され、弁ゴム6と弁座3
との間にガス流路22が形成されガスが通過可能であ
る。このとき、弁ゴム受け7の凹部7aの深さdが弁ゴ
ム6の凸部6cの高さhよりも若干小さいために、弁ゴ
ム6と弁ゴム受け7との間に外周円から弁ゴム6の凸部
6cの外側にかけて巾sを持つ隙間8が形成されてい
る。
【0018】そして、コイル15に永久磁石12による
磁界と逆方向の磁界を発生するように電流を印加した場
合は、プランジャ2とコアー11とを吸着保持している
磁力が減少し、スプリング9の付勢力の方が大きくなっ
て、プランジャ2がコアー11から離脱し、スプリング
9の付勢力によって弁体5が弁座3の方向に移動し、弁
ゴム6が弁座3に当接して、スプリング9に付勢された
弁ゴム受け7の圧力によって、弁ゴム6と弁座3の角度
を修正するように弁ゴム6が隙間8のストローク内で曲
げ変形動作を行うことで弁座3に密着し、図2に示すよ
うに閉弁状態となりガスを遮断する。
【0019】ところで、スプリング9が軸方向以外の偏
心荷重を有する場合や、弁体5の重心のズレや、プラン
ジャ2の中心軸と弁座3の中心軸との角度のズレなどに
よって、開弁状態において弁座3のシール面と弁ゴム6
の表面とが平行でない場合が発生する。特に、スプリン
グ9の付勢力を小さく設定した遮断弁や、弁座3の径が
大きいために弁体5の重量が大きい遮断弁において顕著
である。そしてこの状態から遮断弁が遮断動作を行った
ときは、図3に示すように、まず弁ゴム6は接触部26
において弁座3に当接し、弁座3と弁ゴム6が一時的に
部分接触となり空隙が生じる。次に、スプリング9の付
勢力によって、弁ゴム6が隙間8のストロークs内で曲
げ変形動作(図3の上側)を行うことで、弁座3の全周
に当接する。また、開弁状態における弁ゴム6と弁座3
との角度のズレが大きく弁ゴム6が隙間8のストローク
s内で曲げ変形動作を行っても弁座3の全周に当接しな
い場合でも、前記空隙の開口面積が小さくなり弁ゴム6
の上下流の圧力差が大きくなり弁ゴム6が弁座3に吸引
されることによって、弁ゴム6と弁座3が滑り運動を行
わなくても密着し、ガスを充分遮断することが可能であ
る。したがってこの場合は、弁ゴム6の弁座3に当接す
る面の裏面の一部は、弁ゴム受け7と当接せず、上下流
の圧力差によって弁座3に当接するように付勢されてい
ることになる。またこの時、弁ゴム6の曲げ変形に必要
な荷重は、厚み方向への圧縮変形に必要な荷重と比較し
て充分小さくてよく、スプリング9の付勢力が小さい場
合や、弁座3と弁ゴム6間の摩擦力が相対的に大きい場
合でも弁ゴム6が曲げ変形動作を行うことができ、ガス
を充分遮断することが可能である。
【0020】また、開弁状態において隙間8を挟んで対
向する部分の弁ゴム6と弁ゴム受け7は閉弁時にのみ互
いに接触するため、化学反応が促進される機会が少な
く、弁ゴム受け7が弁ゴム6に貼着する可能性が低く、
弁ゴム6の表面が波打たず、ガスを充分遮断することが
可能である。
【0021】以上の説明からも明らかなように、本実施
例による遮断弁は、弁ゴム6の凸部6cの高さhを弁ゴ
ム受け7の凹部7aの深さdより長くすることによって
開弁時に弁ゴム6と弁ゴム受け7との間に外円周から
ゴム6の凸部6cの外側にかけて隙間8が形成されるよ
うになっているため、省電力動作の実現や電磁力による
開弁復帰動作を行うためにスプリング9の付勢力を低く
設定した遮断弁や、弁座3の径が大きい遮断弁におい
て、弁座3のシール面と弁ゴム6表面の角度に若干のズ
レが発生したときもガスを充分遮断可能で、また、弁ゴ
ム受け7が弁ゴム6に貼着しにくいためにガスを充分遮
断可能な遮断弁を提供することができる。
【0022】なお、弁ゴム受け7は凹部7aを有すると
したが、平円盤状で弁ゴム6に隙間8を形成するように
係止されていてもよく、また、プランジャ2は弁ゴム6
を貫通していないが、ガスシール可能な嵌合とし貫通し
てもよい。
【0023】(実施例2) 以下本発明の第2の実施例について図面を参照しながら
説明する。
【0024】図4は本発明の第2の実施例における遮断
弁の開弁状態における断面図を示すものである。図4に
おいて、弁体35は、弁座3に当接可能で、プランジャ
2の端2aに揺動可能に挿設され、弁座3に対向する面
36aの裏面36bに弁座3の径より小さい外径を持つ
第1凸部36cと、さらに小さい外径を持つ第2凸部3
6dを弁座3と同心に形成した円盤状の弁ゴム36と、
弁ゴム36とほぼ同じ外径を持つ円盤状で、弁ゴム36
に対向する面に弁ゴム36の第2凸部36dとほぼ同じ
内径を持ち、深さd3が弁ゴムの第2凸部36dの高さ
h3とほぼ同じの凹部37aを弁座3と同心に形成さ
れ、この凹部37aに弁ゴム36の第2凸部36dを嵌
合されて配設された剛体製の弁ゴム受け37とで構成さ
れている。また隙間38は第一実施例と異なり、弁ゴム
36の第1凸部36cと弁ゴム受け37が当接するた
め、弁ゴム36と弁ゴム受け37との間に、これら外周
から弁座3の径よりも内側であって、かつ第1凸部36
cの外周面にかけて形成されている。そのほかの部分に
ついては、前記第1の実施例と同様であるので、詳細な
説明を省略する。
【0025】以上のように構成された遮断弁について、
以下その動作を説明する。開弁状態においては、弁ゴム
36の第1凸部36cと弁ゴム受け37が当接するた
め、隙間38が形成されている。閉弁動作については、
前記第1の実施例と同様であるので、説明を省略する。
【0026】以上の説明からも明らかなように、本実施
例による遮断弁は、弁ゴム36と弁ゴム受け37との間
に、これらの外円周から第1凸部36cの外側にかけて
隙間38を設けて配置されているため、省電力動作の実
現や電磁力による開弁復帰動作を行うためにスプリング
9の付勢力を低く設定した遮断弁や、弁座3の径が大き
い遮断弁において、弁座3のシール面と弁ゴム36表面
の角度に若干のズレが発生したときもガスを充分遮断可
能で、また、弁ゴム受け37が弁ゴム36に貼着しにく
いためにガスを充分遮断可能な遮断弁を提供することが
できる。
【0027】また本実施例の遮断弁は、隙間38のスト
ロークs3と張り出し長さL3が、スプリング9の巻き
内径に影響を与える弁ゴム36の第2凸部36dの大き
さを変更することなく、弁ゴム36の第1凸部36cの
大きさによって自由に設計できるため、大口径の弁など
においても隙間38が不用意に大きくならず、また弁ゴ
ム36の第1凸部36cを充分な強度を有する厚みに設
計でき、熱ストレスなどの影響による弁ゴム36の弁座
3に対向する面36aの変形を小さく抑える設計が可能
である。
【0028】(実施例3) 以下本発明の第3の実施例について図面を参照しながら
説明する。
【0029】図5は本発明の第3の実施例における遮断
弁の開弁状態における断面図を示すものである。図5に
おいて、弁体45は、弁座3に当接可能で、プランジャ
2の端2aに揺動可能に挿設され、弁座3に対向する面
46aの裏面46bに弁座3の径より小さい外径を持つ
凸部46cを弁座3と同心に形成した円盤状の弁ゴム4
6と、弁ゴム46とほぼ同じ外径を持つ円盤状で、弁ゴ
ム46に対向する面に深さが弁ゴム46の凸部46cの
高さとほぼ同じの凹部47aを弁座3と同心に形成さ
れ、この凹部47aに弁ゴム46の凸部46cを緩く嵌
合されて配設され、弁ゴム46側に弁座3の径より若干
小さい径の凸部47dを形成し、この弁ゴム受け47の
凸部47dの頂面と弁ゴム46の面46bを当接させて
弁ゴム受け47の外周に至る面47bと弁ゴム46との
間に隙間48を形成した剛体製の弁ゴム受け47とで構
成されている。
【0030】以上のように構成された遮断弁について、
以下その動作を説明する。開弁状態においては、弁ゴム
46はその裏面46bと弁ゴム受けの段差47cより内
周部47dが当接するため、弁ゴム46と弁ゴム受け4
7との間に外周円から弁座3の径よりも内側にかけて隙
間48が形成されている。閉弁動作については、前記第
1の実施例と同様であるので、説明を省略する。
【0031】以上の説明からも明らかなように、本実施
例による遮断弁は、弁ゴム46と弁ゴム受け47との間
に外円周から凸部47cの外側にかけて隙間48を設け
て配置されているため、省電力動作の実現や電磁力によ
る開弁復帰動作を行うためにスプリング9の付勢力を低
く設定した遮断弁や、弁座3の径が大きい遮断弁におい
て、弁座3のシール面と弁ゴム46表面の角度に若干の
ズレが発生したときもガスを充分遮断可能で、また、弁
ゴム受け47が弁ゴム46に貼着しにくいためにガスを
充分遮断可能な遮断弁を提供することができる。
【0032】また本実施例の遮断弁は、弁ゴム受け47
凸部47cの形状により隙間48を形成しているの
で、たとえば、大きな外径の弁ゴムの外周部を所定の大
きさに打ち抜いて弁ゴム46を形成する場合などの弁ゴ
ム金型の共用が可能である。
【0033】なお、図5において、弁ゴム46はプラン
ジャ2の端2aに揺動可能に挿設され、弁座3に対向す
る面46aの裏面46bに弁座3の径より小さい外径を
持つ凸部46cを弁座3と同心に形成し、弁ゴム受け4
7は弁ゴム46に対向する面に深さが弁ゴムの凸部46
cの高さとほぼ同じの凹部47aを弁座3と同心に形成
され、この凹部47aに弁ゴム46の凸部46cを緩く
嵌合されて配設されるとしたが、図6に示したように、
弁ゴム受け57は弁座3側の中心部に弁座3の径より小
さな凸部57aを有し、プランジャ2の端2aに揺動可
能に遊嵌され、弁ゴム56はドーナツ状の平円盤で、中
心穴56aを弁ゴム受け57の突起部57aに挿嵌され
てもよい。
【0034】(実施例4) 以下本発明の第4の実施例について図面を参照しながら
説明する。
【0035】図7は本発明の第4の実施例における遮断
弁の開弁状態における断面図を示すものである。弁体6
5は、弁座3に当接可能で、プランジャ2の端2aに揺
動可能に挿設され、弁座3に対向する面66aの裏面6
6bに弁座3の径より小さい外径を持つ凸部66cを弁
座3と同心に形成し、弁座3と対向する面66aの裏面
66bの外円周から弁座3の径より内側にかけて内周側
の厚みが厚く外周側の厚みが薄くなるよう弁ゴム受け6
7との隙間に68に勾配66dを設けられた円盤状の弁
ゴム66と、弁ゴム66とほぼ同じ外径を持つ円盤状
で、弁ゴム66に対向する側に弁ゴム66の凸部66c
とほぼ同じ内径を持ち、深さが弁ゴムの凸部66cの高
さとほぼ等しい凹部67aを弁座3と同心に形成され、
この凹部67aに弁ゴム66の凸部66cを緩く嵌合さ
れて配設された剛体製の弁ゴム受け67とで構成されて
いる。
【0036】以上のように構成された遮断弁について、
以下その動作を説明する。開弁状態においては、弁ゴム
66の裏面66b側の勾配66dによって、弁ゴム66
と弁ゴム受け67との間に外周円から凸部66cの外
にかけて隙間68が形成されている。閉弁動作について
は、前記第1の実施例と同様であるので、説明を省略す
る。
【0037】以上の説明からも明らかなように、本実施
例による遮断弁は、弁ゴム66と弁ゴム受け67との間
に外円周から凸部66cの外側にかけて隙間68を設け
て配置されているため、省電力動作の実現や電磁力によ
る開弁復帰動作を行うためにスプリング9の付勢力を低
く設定した遮断弁や、弁座3の径が大きい遮断弁におい
て、弁座3のシール面と弁ゴム66表面の角度に若干の
ズレが発生したときもガスを充分遮断可能で、また、弁
ゴム受け67が弁ゴム66に貼着しにくいためにガスを
充分遮断可能な遮断弁を提供することができる。
【0038】また本実施例の遮断弁は、隙間68が弁ゴ
ム66の勾配66dによって形成されているため弁ゴム
66外周部の重量が軽く内周部の強度を強く設定でき、
応力集中も起こりづらく、熱ストレスなどの影響による
弁ゴム66の弁座3に対向する面66aの変形を小さく
抑える設計が可能である。一方、閉弁時において弁ゴム
66が隙間68のストローク内で曲げ変形動作を行う場
合弁ゴム66の裏面66bが弁ゴム受け67に滑らかに
接触することによって前記変形動作を安定させ弁ゴム6
6の弁座3に対向する面66aの弁座3への密着の信頼
性を向上させるという特徴を有する。
【0039】なお、弁ゴム66は弁座3に対向する面6
6aの裏面66bに弁座3の径より小さい外径を持つ凸
部66cを弁座3と同心に形成し、弁ゴム受け67は弁
ゴム66に対向する側に弁ゴム66の凸部66cとほぼ
同じ内径を持ち、深さが弁ゴムの凸部66cの高さとほ
ぼ等しい凹部67aを弁座3と同心に形成され、この凹
部67aに弁ゴム66の凸部66cを緩く嵌合されて配
設されているとしたが、図8に示したように、弁ゴム受
け77はドーナツ状の平円盤で、中心孔77aに弁ゴム
76の凸部76cを嵌挿して係止しても良い。
【0040】(実施例5) 以下本発明の第5の実施例について図面を参照しながら
説明する。
【0041】図9は本発明の第5の実施例における遮断
弁の開弁状態における断面図を示すものである。弁体8
5は、弁座3に当接可能で、プランジャ82の端82a
に中心孔86eを貫通して挿嵌され、弁座3に対向する
面86aの裏面86bに弁座3の径より小さい外径を持
つ凸部86cを弁座3と同心に形成し、裏面86bの外
円周から弁座3の径より内側にかけて内周側の厚みが厚
く外周側の厚みが薄くなるよう弁ゴム受け87との隙間
88に勾配86dを設けられた円盤状の弁ゴム86と、
弁ゴム86とほぼ同じ内径を持ち中心部に孔87cを有
する円盤状で、弁ゴム86に対向する平面86bが弁ゴ
ム86の前記勾配86dより内周部と接触するように弁
ゴム86の凸部86cに係止された剛体製の弁ゴム受け
87と、弁座3の径より若干小さい外径を持つドーナツ
状の平円盤で、中心孔84aをプランジャ82に貫通さ
れ弁ゴム86の弁座3に対向する面86aに当接して配
設された剛体製の弁ゴム押さえ84と、弁ゴム押さえ8
4の中心孔84aより大きい外径を持ち、プランジャ8
2の先端82a係着された係止部材90とで構成されて
いる。
【0042】以上のように構成された遮断弁について、
以下その動作を説明する。開弁状態においては、弁ゴム
86の勾配86dによって、弁ゴム86と弁ゴム受け8
7との間に外周円から弁座3の径よりも内側にかけて隙
間88が形成されている。閉弁動作については、前記第
1の実施例と同様であるので、説明を省略する。
【0043】以上の説明からも明らかなように、本実施
例による遮断弁は、弁ゴム86と弁ゴム受け87との間
に外円周から弁座3の径より内側にかけて隙間88を設
けて配置されているため、省電力動作の実現や電磁力に
よる開弁復帰動作を行うためにスプリング9の付勢力を
低く設定した遮断弁や、弁座3の径が大きい遮断弁にお
いて、弁座3のシール面と弁ゴム86表面の角度に若干
のズレが発生したときもガスを充分遮断可能で、また、
弁ゴム受け87が弁ゴムに貼着しにくいためにガスを充
分遮断可能な遮断弁を提供することができる。
【0044】また本実施例の遮断弁は、弁ゴム86の中
心部が弁ゴム受け87と弁ゴム押さえ84とにはさまれ
て配設されているため、大口径の弁体などにおいても弁
ゴム86外周部の変形可能部分86fを小さく設計で
き、熱ストレスなどの影響による弁ゴム86の弁座3に
対向する面86aの特に弁座3側への倒れ込みによる変
形を小さく抑えることが可能であるという特徴を有す
る。
【0045】なお、隙間88は弁ゴム86に設けられた
勾配86dによって形成されるとしたが、弁ゴムまたは
弁ゴム受け87の少なくとも一方に弁座3の径より若干
小径の凸部が弁座3と同心に設けられることによって形
成されてもよい。
【0046】(実施例6) 以下本発明の第6の実施例について説明する。
【0047】本発明の第6の実施例における遮断弁の形
状は、第1から第5のいずれかの実施例に示した遮断弁
と同様であるので省略するが、弁ゴム受けは金属製で少
なくとも弁ゴムの弁座に当接可能な面の裏面と当接可能
な部分の表面に、ニッケル、クロムなどの鍍金加工、ま
たは、フッ素樹脂、アクリル樹脂などの樹脂塗装、また
は、二硫化モリブデンなどの金属化合物焼き付け加工が
施されたことを構造上の特徴とする。
【0048】以上のように構成された遮断弁の動作は、
第1から第5のいずれかの実施例に示した遮断弁と同様
であるので省略する。
【0049】本実施例による遮断弁は弁ゴム受けが鍍金
加工、樹脂塗装、または、金属化合物焼き付け加工され
ているため、閉弁時弁ゴム受けが弁ゴムと接触している
場合においても化学反応によって貼着する可能性が低
く、弁ゴム表面が波打たず、ガスを遮断する信頼性が向
上する。
【0050】なお上記第1から第6のいずれかの実施例
の中で、駆動機構はソレノイド、永久磁石を有する自
己保持型としたが、永久磁石のない開弁時通電型として
もよく、もちろん永久磁石を有する開弁・閉弁時通電型
としてもよく、ソレノイドを空気中に配するためにパイ
プとコアー及びパイプとフランジ間にガスシール部材を
設けてもよく、ソレノイドはガス中に配されてもよく、
パイプはなくてもよい。また、駆動機構はモータ等の電
動機でもよく、ダイヤフラム等の空力機構でもよく、ス
プリングのみでもよい。さらに、弁ゴムのシール面は平
面で弁座にビードを持つように示したが、弁座が平面で
弁ゴムにビードを設けてもよい。また弁は単弁構造とし
たが、弁体の中心部に差圧解消用の小径の弁部を構成し
副弁構造としてもよい。
【0051】また上記第1から第6のいずれかの実施例
の説明に使用した遮断弁の断面図において、スプリング
は弁ゴム受けとフランジとの間に圧縮して配設されてい
るように図示したが、ソレノイドの他の一部とプランジ
ャ間に圧縮して配設されてもよく、また、弁体を弁座の
方向に付勢するように弁体と、弁座側の構造物との間に
引張って配設されてもよい。
【0052】
【発明の効果】以上のように、本発明の遮断弁の請求項
1では、弁ゴム又は弁ゴム受けの少なくともいずれかに
弁座の径より小さい内径を持ち他方に当接する凸部を形
成することによって弁ゴムと弁ゴム受けとの間に外周か
凸部外側にかけて隙間を設けているために、開弁状態
において弁座と弁ゴムとの角度にズレが発生した弁体が
遮断動作を行い一時的に部分接触となり空隙が生じた場
合でも、弁ゴムが前記隙間のストローク内で曲げ変形動
作を行うことで、弁座の全周に弁ゴムが当接するか、ま
たは前記空隙の開口面積が小さくなり弁ゴム上下流の圧
力差が大きくなり弁ゴムが弁座に吸引されることによっ
て、弁ゴムと弁座が滑り運動を行わなくても密着し、流
体を充分遮断することが可能である。この時、弁ゴムの
曲げ変形に必要な荷重は、厚み方向への圧縮変形に必要
な荷重と比較して充分小さくてよく、スプリングの付勢
力が小さい場合や、弁座と弁ゴム間の摩擦力が相対的に
大きい場合でも弁ゴムが曲げ変形動作を行うことがで
き、流体を充分遮断することが可能である。
【0053】またその請求項2では、弁ゴムが弁ゴム受
けに支持されない箇所は内周側の肉厚を大きくし、開弁
状態での弁ゴムが前記箇所での経時劣化等による変形を
防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例における遮断弁の開弁状
態における断面図
【図2】同遮断弁の閉弁状態における部分断面図
【図3】同弁体が傾いた状態における閉弁状態の部分断
面図
【図4】本発明の第2の実施例における遮断弁の開弁状
態における部分断面図
【図5】本発明の第3の実施例における遮断弁の開弁状
態における部分断面図
【図6】同遮断弁の開弁状態における部分断面図
【図7】本発明の第4の実施例における遮断弁の開弁状
態における断面図
【図8】同遮断弁の開弁状態における部分断面図
【図9】本発明の第5の実施例における遮断弁の開弁状
態における部分断面図
【図10】従来の遮断弁の開弁状態における断面図
【図11】同弁体が傾いた状態での開弁状態における部
分断面図
【図12】同弁体が傾いた状態での閉弁状態における断
面図
【図13】従来の遮断弁の弁ゴムの表面が凹凸に波打っ
た状態での閉弁状態における断面図
【符号の説明】
3 弁座 5,35,45,65,85 弁体 6,36,46,56,66,76,86 弁ゴム 7,37,47,57,67,77,87 弁ゴム受け 8,38,48,68,88 隙間 84 弁ゴム押さえ
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−180783(JP,A) 特開 昭63−76974(JP,A) 特開 昭62−171576(JP,A) 実開 昭63−68581(JP,U) 特公 平1−52635(JP,B2) 実公 平3−19658(JP,Y2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) F16K 31/06

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】駆動機構と、この駆動機構に駆動される
    ランジャと、このプランジャの前記駆動機構から突出す
    る端に弁座と対向して同軸上の流体通路の上流側に設け
    られた弁体と、この弁体を前記弁座の方向に付勢するス
    プリングとで構成され、前記弁体は、前記弁座に当接可
    能な柔軟性を有した弁ゴムと、この弁ゴムの前記弁座に
    対向する面の裏面に配設された剛体製の弁ゴム受けとで
    構成され、前記弁ゴム又は前記弁ゴム受けの少くともいずれかに前
    記弁座の径より小さい内径を持ち他方に当接する凸部を
    形成し、 前記弁ゴムと前記弁ゴム受けとの間に、その外
    周から前記凸部の外側にかけて隙間を設けたことを特徴
    とする遮断弁。
  2. 【請求項2】弁ゴムは、凸部の外側に内周側の厚みが厚
    く外周側の厚みが薄くなるように弁ゴム受けとの隙間に
    勾配が設けられた請求項1記載の遮断弁。
  3. 【請求項3】弁ゴムは弁座に対向する面の裏面に弁座の
    径より小さい外径を持った凸部を形成し、弁ゴム受けは
    弁ゴム側に前記凸部外径とほぼ同じ内径を持ち深さが前
    記凸部高さより若干浅い凹部を形成し、この凹部に凸部
    を緩嵌し凸部頂面と凹部底面を当接して配された請求項
    1または2に記載の遮断弁。
  4. 【請求項4】弁ゴムは弁座に対向する面の裏面に弁座の
    径より小さい外径を持った少なくとも1段以上の凸部を
    形成し、弁ゴム受けは前記凸部のうち最も外径の大きな
    凸部と当接する部分が平面状に形成された請求項1また
    は2に記載の遮断弁。
  5. 【請求項5】弁ゴム受けは弁ゴムに対向する面に弁座の
    径より小さい外径を持った凸部を形成し、この凸部の頂
    面を弁ゴムの弁座に対向する面の裏面に当接させて凸部
    から外周にかけて隙間を形成した請求項1または2に記
    載の遮断弁。
  6. 【請求項6】弁ゴム受けは鍍金加工、樹脂塗装または金
    属化合物焼き付け加工が施されたことを特徴とする請求
    項1または2に記載の遮断弁。
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