JP3005416B2 - マイクロ波・ミリ波モノリシック集積回路 - Google Patents

マイクロ波・ミリ波モノリシック集積回路

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JP3005416B2
JP3005416B2 JP6031437A JP3143794A JP3005416B2 JP 3005416 B2 JP3005416 B2 JP 3005416B2 JP 6031437 A JP6031437 A JP 6031437A JP 3143794 A JP3143794 A JP 3143794A JP 3005416 B2 JP3005416 B2 JP 3005416B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はマイクロ波・ミリ波モノ
リシック集積回路に関し、特にマイクロ波・ミリ波帯の
増幅器、周波数変換器、発振器、逓倍器、変調器、スイ
ッチなどに用いられるモノリシック集積回路に関する。
【0002】近年、半導体製造技術の高度化が進み、ミ
リ波帯まで使用可能で高性能な、たとえば高電子移動度
トランジスタ(HEMT:High Electron Mobility Tra
nsistor )のような能動素子が開発されている。一方、
マイクロ波・ミリ波帯においては、回路の小型化、軽量
化、半導体プロセスによる量産性などに優れている点
で、電界効果トランジスタ(FET)などの能動素子と
抵抗やコンデンサなどの受動素子とを同一基板上に集積
化して、ある特定の機能を実現するモノリシック集積回
路が注目されてきている。
【0003】
【従来の技術】図10は従来のマイクロ波・ミリ波モノ
リシック集積回路の一例を示す図である。図示の回路は
たとえばガリウム・砒素(GaAs)からなる半導体基
板の表面上に形成されたものである。この半導体基板の
裏面にはメタルが設けられており、共通の接地(グラン
ド)になっている。
【0004】図面の中央に配置されているのは能動素子
1である。この能動素子1はFETとすることができ、
ゲートG、ソースSおよびドレインDの各電極を有して
いる。ゲートGには主信号を伝送する信号伝送線路2が
接続され、ドレインDにも主信号を伝送するための信号
伝送線路3が接続され、ソースSはバイアホール4の電
極に接続されていて、能動素子1はソース接地の回路構
成になっている。各信号伝送線路2、3の途中にはMI
M(Metal-Insulator-Metal )キャパシタ5、6が設け
られており、直流成分を遮断するためのカップリングコ
ンデンサを構成している。各信号伝送線路2、3にはま
た、インピーダンスを調整するための整合回路用線路で
ある整合オープンスタブ7、8および能動素子1にバイ
アス電圧を印加するためのバイアス線路9、10が接続
されている。バイアス線路9、10の信号伝送線路2、
3から使用周波数の1/4波長の長さの位置にはMIM
キャパシタ11、12が設けられており、マイクロ波・
ミリ波モノリシック集積回路が動作する周波数でインピ
ーダンス的にオープンに見えるように、これらMIMキ
ャパシタ11、12によって高周波的に接地されてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、マイクロ波
・ミリ波帯で使用されるモノリシック集積回路では、能
動素子の能力が高くなると、使用周波数以外の低い周波
数ではそれ以上に使用周波数よりもかなり高い能力を持
っていることが一般的である。したがって、使用周波数
以外の不要な低い周波数での特性を考慮に入れないでモ
ノリシック集積回路を製作すると、使用周波数以外の低
い周波数で発振してしまう可能性がある。
【0006】また、モノリシック集積回路の低価格化を
考えると、チップサイズをできるだけ小さくする必要が
ある。本発明はこのような点に鑑みてなされたものであ
り、使用周波数以外の不要な低い周波数帯での発振を防
止できる機能を有し、かつチップ面積を小さくすること
ができるマイクロ波・ミリ波モノリシック集積回路を提
供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】図1は上記目的を達成す
る第1の発明の原理構成図である。図において、半導体
基板上にマイクロ波・ミリ波帯で動作する電界効果トラ
ンジスタ1が設けられており、その能動素子1の1つの
電極はバイアホール4の上の電極4aに接続され、バイ
アホール4を介して半導体基板の裏のメタルに接地され
ている。電界効果トランジスタ1のドレイン3には、使
用周波数の1/4波長の長さを有する1/4波長線路2
2が接続されており、その他端にはバイアス電圧を印加
するためのバイアス線路10が接続されている。この1
/4波長線路22の他端にはまた、第1のMIMキャパ
シタ24の上部電極および抵抗26の一端が接続され
る。さらに、抵抗26の他端は第1のMIMキャパシタ
24より容量の大きい第2のMIMキャパシタ28の上
部電極に接続されている。第1のMIMキャパシタ24
および第2のMIMキャパシタ27、28はこれらのい
ずれの下部電極もバイアホール4の上の電極4aに接続
されている。
【0008】図6は上記目的を達成する第2の発明の原
理構成図である。図において、半導体基板上にマイクロ
波・ミリ波帯で動作する電界効果トランジスタ1が設け
られており、その電界効果トランジスタ1の1つの電極
はバイアホール4の上の電極4aに接続され、バイアホ
ール4を介して半導体基板の裏のメタルに接地されてい
る。電界効果トランジスタ1のドレイン3には、整合回
路用線路8aが接続されており、その他端にはバイアス
電圧を印加するためのバイアス線路10が接続されてい
る。この整合回路用線路8aの他端にはまた、第1のM
IMキャパシタ24の上部電極および抵抗26の一端が
接続される。さらに、抵抗26の他端は第1のMIMキ
ャパシタ24より容量の大きい第2のMIMキャパシタ
28の上部電極に接続されている。第1のMIMキャパ
シタ24および第2のMIMキャパシタ28はこれらの
いずれの下部電極もバイアホール4の上の電極4aに接
続されている。
【0009】
【作用】第1の発明の上述の手段によれば、1/4波長
線路22の他端に接続された第1のMIMキャパシタ2
4は、使用周波数に対してショートとなる容量を有し、
したがって、1/4波長線路22には信号伝送線路3か
ら見ればオープン状態になる。また、1/4波長線路2
2の他端に接続された抵抗26および第2のMIMキャ
パシタ28の回路は、第2のMIMキャパシタ28が第
1のMIMキャパシタ24より大きな容量を有して容量
の大きさによりある低周波以上ではショート状態にある
ので、抵抗接地の回路構成になっている。これにより、
使用外低周波域では発振防止のための安定化回路になっ
ている。
【0010】第2の発明の上述の手段によれば、整合回
路用線路8aの他端に接続された第1のMIMキャパシ
タ24は、使用周波数に対してショートとなる容量を有
し、整合回路用線路8aは能動素子1から見ると、使用
周波数でショートスタブの整合回路構成になる。また、
整合回路用線路8aの他端に接続された抵抗26および
第2のMIMキャパシタ28の回路は、第2のMIMキ
ャパシタ28が第1のMIMキャパシタ24より大きな
容量を有しているので、抵抗接地の回路構成になってい
る。これにより、使用外低周波域で発振防止用の安定化
回路となるとともに、整合回路を兼用できるのでチップ
面積を小さくすることが可能になる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図1は第1の発明の一実施例を示す構成図であ
る。図において、半導体基板上に設けられた能動素子1
はT型ゲートを有し、バイアホール4を介してソース接
地されたFETとして示してある。
【0012】能動素子1のゲート側およびドレイン側の
信号伝送線路2、3には、整合オープンスタブ7、8の
他に、使用周波数の1/4波長の長さを有する1/4波
長線路21、22がそれぞれ接続されている。1/4波
長線路21、22の反対側の端部にはバイアス電圧を印
加するためのバイアス線路9、10、第1のMIMキャ
パシタ23、24および抵抗25、26が接続されてい
る。さらに、抵抗25、26には第1のMIMキャパシ
タ23、24よりも容量の大きな第2のMIMキャパシ
タ27、28が直列に接続されている。これら第1のM
IMキャパシタ23、24および第2のMIMキャパシ
タ27、28は、バイアホール4の上の電極4aに隣接
配置されている。
【0013】1/4波長線路21、22と第1のMIM
キャパシタ23、24との間の接続は1/4波長線路2
1、22の端部と第1のMIMキャパシタ23、24の
上部電極とを結ぶエアブリッジによって行われている。
同様に、抵抗25、26と第2のMIMキャパシタ2
7、28との間の接続は抵抗25、26に1/4波長線
路側と対抗する側に端子として形成されたメタルと第2
のMIMキャパシタ27、28の上部電極とを結ぶエア
ブリッジによって行われている。また、第1のMIMキ
ャパシタ23、24および第2のMIMキャパシタ2
7、28はいずれも下部電極がバイアホール4の上の電
極4aに接続されている。
【0014】上記の構成によれば、1/4波長線路2
1、22の端部は第1のMIMキャパシタ23、24を
介して接地される回路と抵抗25、26および第2のM
IMキャパシタ27、28を介して接地される回路とが
接続された構成になっている。第1のMIMキャパシタ
23、24は、使用周波数ではショート状態に近く、使
用周波数以外の低い周波数域ではオープンに近い容量の
ものを用いる。また、抵抗25、26が接続された第2
のMIMキャパシタ27、28は使用外低周波域ではシ
ョートになる容量のものを用いており、第1のMIMキ
ャパシタ23、24よりも容量は大きい。これにより、
使用周波数では1/4波長線路21、22を通して第1
のMIMキャパシタ23、24の回路が見え、使用外低
周波域では抵抗25、26および第2のMIMキャパシ
タ27、28が見える。したがって、使用周波数ではバ
イアス回路となり、使用外低周波では発振防止の安定化
回路となる。
【0015】図2は第1の発明の別の実施例を示す構成
図である。この図によれば、容量の大きい第2のMIM
キャパシタ27、28をバイアホール4の上の電極4a
の上に載せた構成を有している。このため、バイアホー
ル4の上の電極4aと第2のMIMキャパシタ27、2
8の下部電極とは共通にされ、その分、基板上のスペー
スを節約することができる。なお、作用については、図
1の構成によるものと実質的に差異はない。
【0016】図3は第1の発明の別の実施例を示す構成
図である。この図によれば、第1のMIMキャパシタ2
3および第2のMIMキャパシタ27をバイアホール4
の上の電極4aの上に載せた構成を有している。このた
め、バイアホール4の上の電極4aと第1のMIMキャ
パシタ23および第2のMIMキャパシタ27の下部電
極とは共通にされ、その分、基板上のスペースを節約す
ることができる。もちろん、図示はしないが、第1のM
IMキャパシタ24および第2のMIMキャパシタ28
についても同じ構成である。なお、作用については、図
1の構成によるものと実質的に差異はない。
【0017】図4は第1の発明のさらに別の実施例を示
す構成図である。この図によれば、半導体基板上に設け
られた能動素子1はI型ゲートを有し、バイアホール4
を介してソース接地されたFETとして示してある。第
1のMIMキャパシタ23、24および第2のMIMキ
ャパシタ27、28は、1つのバイアホール4の上の電
極4aに隣接して配置された構成を有している。なお、
作用については、図1の構成によるものと実質的に差異
はない。
【0018】図5は第1の発明の別の実施例を示す構成
図である。この図によれば、図4の構成において、第1
のMIMキャパシタ23、24および第2のMIMキャ
パシタ27、28を1つのバイアホール4の上の電極4
aの上に載せた構成を有しており、図示の例では第2の
MIMキャパシタ27、28の誘電体は共通に形成され
ている。このため、バイアホール4の上の電極4aと第
1のMIMキャパシタ23、24および第2のMIMキ
ャパシタ27、28の下部電極とは共通にされ、その
分、基板上のスペースを節約することができる。なお、
作用については、図1の構成によるものと実質的に差異
はない。
【0019】図6は第2の発明の一実施例を示す構成図
である。図において、半導体基板上に設けられた能動素
子1はT型ゲートを有し、バイアホール4を介してソー
ス接地されたFETとして示してある。
【0020】能動素子1のゲート側およびドレイン側の
信号伝送線路2、3には、整合ショートスタブの一部と
して作用する整合回路用線路7a、8aがそれぞれ接続
されている。この整合回路用線路7a、8aの他端には
バイアス電圧を印加するためのバイアス線路9、10、
第1のMIMキャパシタ23、24および抵抗25、2
6が接続されている。さらに、抵抗25、26には第1
のMIMキャパシタ23、24より容量の大きい第2の
MIMキャパシタ27、28が直列に接続されている。
これら第1のMIMキャパシタ23、24および第2の
MIMキャパシタ27、28は、バイアホール4の上の
電極4aに隣接配置されている。
【0021】整合回路用線路7a、8aと第1のMIM
キャパシタ23、24との間の接続は整合回路用線路7
a、8aの端部と第1のMIMキャパシタ23、24の
上部電極とを結ぶエアブリッジによって行われている。
同様に、抵抗25、26と第2のMIMキャパシタ2
7、28との間の接続は抵抗25、26に整合回路用線
路側と対抗する側に端子として形成されたメタルと第2
のMIMキャパシタ27、28の上部電極とを結ぶエア
ブリッジによって行われている。また、第1のMIMキ
ャパシタ23、24および第2のMIMキャパシタ2
7、28はいずれも下部電極がバイアホール4の上の電
極4aに接続されている。
【0022】上記の構成によれば、整合回路用線路7
a、8aの端部は第1のMIMキャパシタ23、24を
介して接地される回路と抵抗25、26および第2のM
IMキャパシタ27、28を介して接地される回路とが
接続された構成になっている。第1のMIMキャパシタ
23、24は、使用周波数に対してショートとなる容量
を有し、整合回路用線路7a、8aは、能動素子1から
見ると、使用周波数でショートスタブの整合回路構成に
なっている。一方、第2のMIMキャパシタ27、28
は第1のMIMキャパシタ23、24より大きな容量を
有しているので、ある周波数以上ではショート状態にあ
り、信号伝送線路2、3は抵抗接地の回路構成になる。
これにより、使用周波数ではバイアス回路になり、使用
周波数以外の低い周波数帯においては発振防止の安定化
回路となっている。さらに、整合回路にショートスタブ
を用いているため、整合回路も兼用していることにな
り、一層パターンスペース、すなわちチップ面積を小さ
くすることができる。
【0023】図7は第2の発明の別の実施例を示す構成
図である。この図によれば、容量の大きい第2のMIM
キャパシタ27、28をバイアホール4の上の電極4a
の上に載せた構成を有している。このため、バイアホー
ル4の上の電極4aと第2のMIMキャパシタ27、2
8の下部電極とは共通にされ、その分、基板上のスペー
スを節約することができる。
【0024】また、図示はしないが、第1のMIMキャ
パシタ23、24および第2のMIMキャパシタ27、
28を一緒にバイアホール4の上の電極4aの上に載せ
た構成にすることもできる。この場合、バイアホール4
の上の電極4aと第1のMIMキャパシタ23、24お
よび第2のMIMキャパシタ27、28の下部電極とは
共通にすることができ、基板上のスペースを一層節約す
ることができる。なお、作用については、図6の構成に
よるものと実質的に差異はない。
【0025】図8は第2の発明の別の実施例を示す構成
図である。この図によれば、半導体基板上に設けられた
能動素子1はI型ゲートを有し、バイアホール4を介し
てソース接地されたFETとして示してある。第1のM
IMキャパシタ23、24および第2のMIMキャパシ
タ27、28は、1つのバイアホール4の上の電極4a
に隣接して配置された構成を有している。
【0026】また、図示はしないが、第1のMIMキャ
パシタ23、24および第2のMIMキャパシタ27、
28を1つのバイアホール4の上の電極4aの上に載せ
た構成にすることもできる。この場合、バイアホール4
の上の電極4aと第1のMIMキャパシタ23、24お
よび第2のMIMキャパシタ27、28の下部電極とは
共通にすることができ、基板上のスペースを一層節約す
ることができる。なお、作用については、図6の構成に
よるものと実質的に差異はない。
【0027】図9は第1の発明を60GHZ 帯周波数変
換器に適用した一実施例を示す構成図である。中間周波
数信号(IF信号)の周波数は500MHZ とした。図
において、半導体基板上に設けられた能動素子であるH
EMT101はT型ゲートを有し、バイアホール4を介
してソース接地されている。
【0028】この周波数変換器は、RF入力線路132
よりMIMキャパシタ105を介してHEMT101の
ゲートから入力させ、ローカル信号をローカル入力線路
133よりMIMキャパシタ106を介してHEMT1
01のドレインから入力させ、IF信号をIF出力線路
134よりMIMキャパシタ131を介してHEMT1
01のドレインから取り出す、ローカルドレイン注入型
HEMT周波数変換器である。
【0029】HEMT101のゲート側およびドレイン
側の信号線路2、3には、RF信号およびローカル信号
整合用の整合オープンスタブ107、108の他に、使
用周波数である60GHZ 付近で1/4波長の長さとな
る1/4波長線路21、22がそれぞれ接続されてい
る。ゲート側の1/4波長線路21の反対側の端部には
第1のMIMキャパシタ23、抵抗25およびスパイラ
ルインダクタ135が接続されている。また、ドレイン
側の1/4波長線路22の反対側の端部には第1のMI
Mキャパシタ24、抵抗26、高抵抗129およびIF
信号取り出し用のMIMキャパシタ131が接続されて
いる。さらに、抵抗25、26には第1のMIMキャパ
シタ23、24よりも容量の大きな第2のMIMキャパ
シタ27、28が直列に接続され、MIMキャパシタ1
31の下部電極にはIF出力線路が接続され、高抵抗1
29にはドレインバイアス電圧を印加するためのバイア
ス線路110が接続され、スパイラルインダクタ135
にはIF接地用のMIMキャパシタ130が接続されて
いる。また、MIMキャパシタ130の上部電極にはゲ
ートバイアス電圧を印加するためのバイアス線路109
が接続されている。これら第1のMIMキャパシタ2
3、24の下部電極および第2のMIMキャパシタ2
7、28の下部電極はバイアホール4の上の電極と共用
化されている。MIMキャパシタ130は、MIMキャ
パシタ130の下部電極とバイアホール4の上の電極が
共用化されていて接地されている。
【0030】1/4波長線路21、22と第1のMIM
キャパシタ23、24との間の接続は1/4波長線路2
1、22の端部と第1のMIMキャパシタ23、24の
上部電極を結ぶエアブリッジによって行われている。同
様に、抵抗25、26と第2のMIMキャパシタ27、
28との接続は抵抗25、26に1/4波長線路側と対
抗する側に端子として形成されたメタルと第2のMIM
キャパシタ27、28の上部電極とを結ぶエアブリッジ
によって行われる。同様に、スパイラルインダクタ13
5とMIMキャパシタ130の上部電極との接続、1/
4波長線路22とMIMキャパシタ131の上部電極と
の接続、およびゲートバイアス線路109とMIMキャ
パシタ130の上部電極との接続にもエアブリッジを用
いている。
【0031】第1のMIMキャパシタ23、24は60
GHZ 付近ではショート状態に近く、60GHZ より低
い周波数帯(例えば30GHZ 以下)ではオープンにな
るような容量のものを用いている。抵抗25、26に接
続された第2のMIMキャパシタ27、28は第1のM
IMキャパシタよりも容量は大きく、IF周波数ではオ
ープンに見え、IF周波数よりも高い周波数(例えば1
0GHZ 以上)ではショートに見えるキャパシタであ
る。また、スパイラルインダクタ135は、IF周波数
よりも高い周波数(例えば10GHZ 以上)では高イン
ピーダンスになるものである。MIMキャパシタ130
およびMIMキャパシタ131はIF周波数でショート
となる容量のキャパシタである。
【0032】上記の構成により、ゲート側回路では、信
号伝送線路2から1/4波長線路21以降の回路を見た
場合、60GHZ 付近の周波数では1/4波長線路2
1、第1のMIMキャパシタ23およびバイアホール4
で接地される回路によりオープンとなってバイアス回路
として働き、IF周波数よりも高く60GHZ よりも低
い周波数帯(例えば10〜30GHZ )では抵抗25
で、第2のMIMキャパシタおよびバイアホール4を介
し接地された回路となって発振防止の安定化回路とな
り、IF周波数ではMIMキャパシタ130およびバイ
アホール4で接地されショートとなっている。また、ド
レイン側回路では、信号伝送線路3から1/4波長線路
22以降の回路を見た場合、60GHZ 付近の周波数で
は、ゲート側と同様にバイアス回路として働き、IF周
波数よりも高く60GHZ よりも低い周波数帯(例えば
10〜30GHZ )でも、ゲート側と同様に発振防止の
安定化回路となり、IF周波数では、高抵抗129が接
続されているためドレインバイアス線路は見えず、MI
Mキャパシタ131を介しIF信号を取り出すことが出
来る回路となっている。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、電界効
果トランジスタのドレインを、1/4波長の長さを有す
る線路、容量の異なる2つのMIMキャパシタおよびバ
イアホールを用いて接地し、これらのMIMキャパシタ
の内、容量の大きい方のMIMキャパシタには抵抗を直
列に接続するように構成した。この構成により、使用周
波数でバイアス回路となり、使用外低周波域で発振防止
の安定化回路として作用すること+ができるようにな
る。また、整合回路にショートスタブを用いることで、
整合回路を上記構成に兼用させることができる。特に、
電界効果トランジスタのドレインを抵抗を介さずにMI
Mキャパシタを介して直接電極に接続する構成にしたの
で、ドレインで電流による電圧降下が生せず、回路をよ
り安定なものとすることができる。また、本発明の周波
数変換機能を有するマイクロ波・ミリ波モノリシック集
積回路では、1/4波長回路から直接変換周波数信号を
出力するようにしたので、損失が低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の発明の一実施例を示す構成図である。
【図2】第1の発明の別の実施例を示す構成図である。
【図3】第1の発明の別の実施例を示す構成図である。
【図4】第1の発明の別の実施例を示す構成図である。
【図5】第1の発明の別の実施例を示す構成図である。
【図6】第2の発明の一実施例を示す構成図である。
【図7】第2の発明の別の実施例を示す構成図である。
【図8】第2の発明の別の実施例を示す構成図である。
【図9】第1の発明を周波数変換器に適用した一実施例
を示す構成図である。
【図10】従来のマイクロ波・ミリ波モノリシック集積
回路の一例を示す図である。
【符号の説明】
1 能動素子 2,3 信号伝送線路 4 バイアホール 4a バイアホールの上の電極 7,8 整合オープンスタブ 7a,8a 整合回路用線路 9,10 バイアス線路 21,22 1/4波長線路 23,24 第1のMIMキャパシタ 25,26 抵抗 27,28 第2のMIMキャパシタ 101 HEMT(T型ゲート) 105,106 MIMキャパシタ 107,108 整合オープンスタブ 109 ゲートバイアス線路 110 ドレインバイアス線路 129 高抵抗 130,131 MIMキャパシタ 132 RF入力線路 133 ローカル入力線路 134 IF出力線路 135 スパイラルインダクタ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大橋 洋二 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 齊藤 民雄 神奈川県横浜市保土ヶ谷区神戸町134番 地 株式会社ミリウェイブ内 (56)参考文献 特開 昭61−100153(JP,A) 特開 平3−192801(JP,A) 実開 平2−92202(JP,U) 実開 平1−47117(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 29/80 H01L 27/04 H01L 21/338 H01L 21/822 H01L 27/06

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板上に設けられる電界効果トラ
    ンジスタ(1)と、前記半導体基板の表面に形成された
    電極に前記半導体基板の裏面に形成された接地電極を電
    気的に接続するバイアホール(4)とを少なくとも備え
    たマイクロ波・ミリ波モノリシック集積回路において、 一端が前記電界効果トランジスタ(1)のドレインに接
    続され、他端にはバイアス電圧を印加するバイアス線路
    が接続された、1/4波長線路(22)と、 上部電極が前記1/4波長線路の他端に接続され、下部
    電極が前記バイアホールの電極に接続された第1のMI
    Mキャパシタ(24)と、 一端が前記1/4波長線路の他端に接続された抵抗(2
    6)と、 上部電極が前記抵抗の他端に接続され、下部電極が前記
    バイアホールの電極に接続される、容量が前記第1のM
    IMキャパシタより大きい第2のMIMキャパシタ(2
    8)と、 を備えていることを特徴とするマイクロ波・ミリ波モノ
    リシック集積回路。
  2. 【請求項2】 前記第1のMIMキャパシタ(24)お
    よび前記第2のMIMキャパシタ(28)は、その少な
    くとも一方の下部電極が前記半導体基板の表面に形成さ
    れたバイアホールの上の電極と共用されていることを特
    徴とする請求項1記載のマイクロ波・ミリ波モノリシッ
    ク集積回路。
  3. 【請求項3】 前記第1のMIMキャパシタ(24)お
    よび前記第2のMIMキャパシタ(28)は、その少な
    くとも一方の下部電極が前記半導体基板の表面に形成さ
    れたバイアホールの上の1つの電極と共用されているこ
    とを特徴とする請求項1記載のマイクロ波・ミリ波モノ
    リシック集積回路。
  4. 【請求項4】 半導体基板上に設けられる電界効果トラ
    ンジスタ(1)と、前記半導体基板の表面に形成された
    電極に前記半導体基板の裏面に形成された接地電極を電
    気的に接続するバイアホール(4)とを少なくとも備え
    たマイクロ波・ミリ波モノリシック集積回路において、 一端が前記電界効果トランジスタ(1)のドレインに接
    続され、他端にはバイアス電圧を印加するバイアス線路
    が接続された、整合回路用線路(8a)と、 上部電極が前記整合回路用線路の他端に接続され、下部
    電極が前記バイアホールの電極に接続された第1のMI
    Mキャパシタ(24)と、 一端が前記整合回路用線路の他端に接続された抵抗(2
    6)と、 上部電極が前記抵抗の他端に接続され、下部電極が前記
    バイアホールの電極に接続され、容量が前記第1のMI
    Mキャパシタより大きな第2のMIMキャパシタ(2
    8)と、 を備えていることを特徴とするマイクロ波・ミリ波モノ
    リシック集積回路。
  5. 【請求項5】 前記第1のMIMキャパシタ(24)お
    よび前記第2のMIMキャパシタ(28)は、その少な
    くとも一方の下部電極が前記半導体基板の表面に形成さ
    れたバイアホールの上の電極と共用されていることを特
    徴とする請求項4記載のマイクロ波・ミリ波モノリシッ
    ク集積回路。
  6. 【請求項6】 前記第1のMIMキャパシタ(24)お
    よび前記第2のMIMキャパシタ(28)は、その少な
    くとも一方の下部電極が前記半導体基板の表面に形成さ
    れたバイアホールの上の1つの電極と共用されているこ
    とを特徴とする請求項4記載のマイクロ波・ミリ波モノ
    リシック集積回路。
  7. 【請求項7】 半導体基板上に設けられる能動素子
    (1)と、前記半導体基板の表面に形成された電極に前
    記半導体基板の裏面に形成された接地電極を電気的に接
    続するバイアホール(4)とを少なくとも備え、周波数
    変換機能を有するマイクロ波・ミリ波モノリシック集積
    回路において、 一端が前記能動素子の信号伝送回路に接続され、他端に
    はバイアス電圧を印加するバイアス線路が接続された、
    1/4波長線路(21,22)と、 上部電極が前記1/4波長線路の他端に接続され、下部
    電極が前記バイアホールの電極に接続された第1のMI
    Mキャパシタ(23,24)と、 一端が前記1/4波長線路の他端に接続された抵抗(2
    5,26)と、 上部電極が前記抵抗の他端に接続され、下部電極が前記
    バイアホールの電極に接続される、容量が前記第1のM
    IMキャパシタより大きい第2のMIMキャパシタ(2
    7,28)とを備え、 前記能動素子の信号伝送路(21,22)にそれぞれ異
    なる周波数信号を入力し、1/4波長線路(22)の他
    端から変換周波数信号を出力することを特徴とするマイ
    クロ波・ミリ波モノリシック集積回路。
  8. 【請求項8】前記能動素子は電界効果トランジスタであ
    ることを特徴とする請求項7記載のマイクロ波・ミリ波
    モノリシック集積回路。
  9. 【請求項9】前記第1のMIMキャパシタ(23)と並
    列に接続され、前記変換周波数の周波数帯ではショート
    状態とみなせる第3のMIMキャパシタ(130)を有
    することを特徴とする請求項7記載のマイクロ波・ミリ
    波モノリシック集積回路。
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