JP2992502B2 - 銀を主成分とする管内粉末タイプのマトリックス型高臨界温度超伝導体マルチフィラメントストランドの製造方法 - Google Patents
銀を主成分とする管内粉末タイプのマトリックス型高臨界温度超伝導体マルチフィラメントストランドの製造方法Info
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/20—Permanent superconducting devices
- H10N60/203—Permanent superconducting devices comprising high-Tc ceramic materials
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Yarns And Mechanical Finishing Of Yarns Or Ropes (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高臨界温度(HT
c)マルチフィラメント超伝導体ストランドと、そのよ
うなストランドの製造法に関するものである。とりわ
け、本発明は、交流で使用される銀被覆(クラッド)付
きマルチフィラメント高臨界温度超伝導体ストランド
と、そのようなストランドの製造法に関するものであ
る。
c)マルチフィラメント超伝導体ストランドと、そのよ
うなストランドの製造法に関するものである。とりわ
け、本発明は、交流で使用される銀被覆(クラッド)付
きマルチフィラメント高臨界温度超伝導体ストランド
と、そのようなストランドの製造法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】高臨界温度マルチフィラメント超伝導体
ストランドの交流での使用は、誘導電流による損失を引
き起こす。非常に小さいピッチで導線を撚り合わせ、フ
ィラメントの直径を小さくすることによって、これらの
損失を抑える方法が知られている。しかしながら、この
方法は、フィラメントが抵抗性障壁によって電気的に互
いにデカップリングされている場合にしか有効でない。
ストランドの交流での使用は、誘導電流による損失を引
き起こす。非常に小さいピッチで導線を撚り合わせ、フ
ィラメントの直径を小さくすることによって、これらの
損失を抑える方法が知られている。しかしながら、この
方法は、フィラメントが抵抗性障壁によって電気的に互
いにデカップリングされている場合にしか有効でない。
【0003】「管内粉末」(Powder In Tube)テクノロ
ジーによる高臨界温度マルチフィラメントストランドを
つくりだす方法も知られている。この方法は、熱処理後
に、超伝導材料に、特には高臨界温度セラミックタイプ
の超伝導材料に変化することができる粉末反応体でビレ
ットを満たすというものである。
ジーによる高臨界温度マルチフィラメントストランドを
つくりだす方法も知られている。この方法は、熱処理後
に、超伝導材料に、特には高臨界温度セラミックタイプ
の超伝導材料に変化することができる粉末反応体でビレ
ットを満たすというものである。
【0004】次に、このビレットは真空下で閉鎖され、
引き伸ばされ、新しいビレットの中で束にされ、今度は
この新しいビレットが真空下で閉鎖され、引き伸ばされ
る。その結果得られるマルチフィラメントストランド
は、同じ工程を受けることができ、表面積単位ごとの求
められているフィラメント数が得られるまで、連続して
行われる。
引き伸ばされ、新しいビレットの中で束にされ、今度は
この新しいビレットが真空下で閉鎖され、引き伸ばされ
る。その結果得られるマルチフィラメントストランド
は、同じ工程を受けることができ、表面積単位ごとの求
められているフィラメント数が得られるまで、連続して
行われる。
【0005】このようにして形成されたストランドは、
たとえば圧延及び/または撚り合わせによって最終的な
形に成形され、次に、粉末反応体の変換のために熱的に
処理される。
たとえば圧延及び/または撚り合わせによって最終的な
形に成形され、次に、粉末反応体の変換のために熱的に
処理される。
【0006】ビレットを構成する材料は、引き伸ばしと
圧延のさまざまな段階の工程を受けることができるよう
に十分に可延性があり、不活性組成を有するか、または
少なくとも、超伝導体相への粉末反応体の変換の熱処理
のためにまったく影響をもたないものでなければならな
いことが知られている。ビレットの構成材料として銀を
使用することも知られている。
圧延のさまざまな段階の工程を受けることができるよう
に十分に可延性があり、不活性組成を有するか、または
少なくとも、超伝導体相への粉末反応体の変換の熱処理
のためにまったく影響をもたないものでなければならな
いことが知られている。ビレットの構成材料として銀を
使用することも知られている。
【0007】しかしながら、銀は、高臨界温度超伝導体
の作動温度において伝導性の高い材料である。このた
め、フィラメント間の電気的デカップリングはほとんど
存在しない。
の作動温度において伝導性の高い材料である。このた
め、フィラメント間の電気的デカップリングはほとんど
存在しない。
【0008】1または2%で、PdまたはAuタイプの
不純物によってAgをドーピングする方法が知られてい
る。この技術によって、20Kで20のゲインを抵抗率
に得ることができる。
不純物によってAgをドーピングする方法が知られてい
る。この技術によって、20Kで20のゲインを抵抗率
に得ることができる。
【0009】しかしながら、Ag/Pd合金は高価であ
り、大量生産においては経済的に大きな欠点となる。
り、大量生産においては経済的に大きな欠点となる。
【0010】また、成分の少なくとも一つが酸化可能な
金属合金でできた少なくとも一つの外側厚み層と、銀の
内側厚み層を有する少なくとも一つの多層複合ビレット
を作り出す方法が知られている。
金属合金でできた少なくとも一つの外側厚み層と、銀の
内側厚み層を有する少なくとも一つの多層複合ビレット
を作り出す方法が知られている。
【0011】このとき、金属合金の酸化可能な成分が、
金属合金と銀との境界で拡散し、酸素または酸素化合物
の存在によって、前記境界で絶縁酸化物を形成しなが
ら、酸化される。
金属合金と銀との境界で拡散し、酸素または酸素化合物
の存在によって、前記境界で絶縁酸化物を形成しなが
ら、酸化される。
【0012】このようにして、フィラメントのデカップ
リングは著しく改善される。しかし、この酸化物の障壁
をつくりだすことによって酸素が消費され、前駆体が超
伝導体相に適切に合成されるのを妨げる。
リングは著しく改善される。しかし、この酸化物の障壁
をつくりだすことによって酸素が消費され、前駆体が超
伝導体相に適切に合成されるのを妨げる。
【0013】この問題を解決するために、絶縁障壁とし
て、前駆体と同じ挙動をもつ化合物、すなわち、高臨界
温度マルチフィラメントストランドの作動温度における
超伝導率は低いが、酸素を透過する化合物を使用する方
法がすでに提案されている(SPA’97、1997年
3月6日−8日,XU’AN、中国 に紹介されたY.
B.HUANGとR.FLUKIGERの論文)。この
ような化合物として、たとえば、優れた超伝導体ではな
いBi2202または、AlやMgやTiの汚染によっ
て変性したBi2212が知られている。Bi2212
の場合には、たとえば、SrAl2O4またはCaAl2
O4が形成され、それによって、Bi2212の超伝導
体相を有するために必要な化学量論比をこわしてしま
う。
て、前駆体と同じ挙動をもつ化合物、すなわち、高臨界
温度マルチフィラメントストランドの作動温度における
超伝導率は低いが、酸素を透過する化合物を使用する方
法がすでに提案されている(SPA’97、1997年
3月6日−8日,XU’AN、中国 に紹介されたY.
B.HUANGとR.FLUKIGERの論文)。この
ような化合物として、たとえば、優れた超伝導体ではな
いBi2202または、AlやMgやTiの汚染によっ
て変性したBi2212が知られている。Bi2212
の場合には、たとえば、SrAl2O4またはCaAl2
O4が形成され、それによって、Bi2212の超伝導
体相を有するために必要な化学量論比をこわしてしま
う。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的の一つ
は、前駆体を超伝導体相へ合成するために、非伝導層の
優れた酸素透過性は保持したままで、フィラメントのデ
カップリングが著しく改善された長いマルチフィラメン
トストランドを得ることができるような、すでに提案さ
れている先に記載のアプローチを利用した製造法を提案
することにある。
は、前駆体を超伝導体相へ合成するために、非伝導層の
優れた酸素透過性は保持したままで、フィラメントのデ
カップリングが著しく改善された長いマルチフィラメン
トストランドを得ることができるような、すでに提案さ
れている先に記載のアプローチを利用した製造法を提案
することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】このため、本発明は、銀
を主成分にしたマトリクス型高臨界温度超伝導体マルチ
フィラメントストランドの管内粉末タイプの製造法に関
するものである。
を主成分にしたマトリクス型高臨界温度超伝導体マルチ
フィラメントストランドの管内粉末タイプの製造法に関
するものである。
【0016】この方法において、モノフィラメント段階
では、銀を主成分にした第一外囲器(エンベロープ)
を、熱処理後に高臨界温度超伝導材料に変化することが
できる粉末反応体で満たす。
では、銀を主成分にした第一外囲器(エンベロープ)
を、熱処理後に高臨界温度超伝導材料に変化することが
できる粉末反応体で満たす。
【0017】その結果得られるビレットは、一つのモノ
フィラメントストランドに引き伸ばされる。
フィラメントストランドに引き伸ばされる。
【0018】マルチフィラメントの第一段階では、前記
のモノフィラメントストランドが切断され、その結果得
られる断片で銀を主成分にした第二外囲器が満たされ、
そのようにしてマルチフィラメントビレットが形成さ
れ、今度はそのマルチフィラメントビレットが、一つの
マルチフィラメントストランドに引き伸ばされる。
のモノフィラメントストランドが切断され、その結果得
られる断片で銀を主成分にした第二外囲器が満たされ、
そのようにしてマルチフィラメントビレットが形成さ
れ、今度はそのマルチフィラメントビレットが、一つの
マルチフィラメントストランドに引き伸ばされる。
【0019】マルチフィラメントの第二段階は少なくと
も一度行われ、該第二段階では、前記マルチフィラメン
トストランドが切断され、その結果得られる断片で、銀
を主成分にした新しい外囲器が満たされ、そのようにし
てマルチフィラメントビレットが形成され、今度はその
新しいマルチフィラメントビレットが、一つの新しいマ
ルチフィラメントストランドに引き伸ばされ、新しいマ
ルチフィラメントストランドの成形が行われ、成形され
たストランドの熱処理が行われる。
も一度行われ、該第二段階では、前記マルチフィラメン
トストランドが切断され、その結果得られる断片で、銀
を主成分にした新しい外囲器が満たされ、そのようにし
てマルチフィラメントビレットが形成され、今度はその
新しいマルチフィラメントビレットが、一つの新しいマ
ルチフィラメントストランドに引き伸ばされ、新しいマ
ルチフィラメントストランドの成形が行われ、成形され
たストランドの熱処理が行われる。
【0020】本発明によれば、モノフィラメント段階の
予備段階として、1996年12月11日付けのヨーロ
ッパ特許EP 0 531 188に記載されている方
法から派生した方法によって、銀を主成分にした少なく
とも一枚の箔と、酸素を透過する非超伝導体セラミック
材料の少なくとも一つの層を有する複合多層材料が調製
される。
予備段階として、1996年12月11日付けのヨーロ
ッパ特許EP 0 531 188に記載されている方
法から派生した方法によって、銀を主成分にした少なく
とも一枚の箔と、酸素を透過する非超伝導体セラミック
材料の少なくとも一つの層を有する複合多層材料が調製
される。
【0021】モノフィラメント段階中に、銀を主成分に
した材料の第一の厚み層と第二の厚み層との間に複合多
層材料の厚み層を差し挟み、そのようにして銀を主成分
とする前記の第一の外囲器が形成される。
した材料の第一の厚み層と第二の厚み層との間に複合多
層材料の厚み層を差し挟み、そのようにして銀を主成分
とする前記の第一の外囲器が形成される。
【0022】マルチフィラメントストランドの性能をさ
らに改善するために、銀を主成分とした第一外囲器と、
モノフィラメントストランドと、銀を主成分とした第二
外囲器と、マルチフィラメントストランドと、銀を主成
分とした新しい外囲器と、新しいマルチフィラメントス
トランドの横断面は、できれば正方形または長方形の全
体的形状であることが望ましいが、たとえば円形や六角
形といった他の何らかの形状も可能である。
らに改善するために、銀を主成分とした第一外囲器と、
モノフィラメントストランドと、銀を主成分とした第二
外囲器と、マルチフィラメントストランドと、銀を主成
分とした新しい外囲器と、新しいマルチフィラメントス
トランドの横断面は、できれば正方形または長方形の全
体的形状であることが望ましいが、たとえば円形や六角
形といった他の何らかの形状も可能である。
【0023】一実施形態においては、複合多層材料を調
製するために、重合体/粉末の均質混合物を得るよう
に、使用される重合体の溶融温度程度の温度において、
熱処理後に、酸素を透過する非超伝導セラミック材料に
変化することができる粉末と重合体を混ぜ合わせ、銀ア
ロイと重合体と粉末の均質混合物との複合多層中間材料
を得るように、使用される重合体の溶融温度程度の温度
において、重合体と粉末の均質混合物とともに少なくと
も一枚の銀箔が熱間で圧縮され、重合体を除去し、酸素
を透過する非超伝導体セラミックで粉末を合成し、酸素
を透過する非超伝導体セラミックを銀箔に固着させるた
めに、粉末の溶融温度程度の温度で、重合体及び粉末の
均質混合物と銀合金との複合多層材料が加熱され、その
ようにして複合多層材料が形成される。
製するために、重合体/粉末の均質混合物を得るよう
に、使用される重合体の溶融温度程度の温度において、
熱処理後に、酸素を透過する非超伝導セラミック材料に
変化することができる粉末と重合体を混ぜ合わせ、銀ア
ロイと重合体と粉末の均質混合物との複合多層中間材料
を得るように、使用される重合体の溶融温度程度の温度
において、重合体と粉末の均質混合物とともに少なくと
も一枚の銀箔が熱間で圧縮され、重合体を除去し、酸素
を透過する非超伝導体セラミックで粉末を合成し、酸素
を透過する非超伝導体セラミックを銀箔に固着させるた
めに、粉末の溶融温度程度の温度で、重合体及び粉末の
均質混合物と銀合金との複合多層材料が加熱され、その
ようにして複合多層材料が形成される。
【0024】銀を主成分とした二枚の箔の間で粉末と重
合体の均質混合物が熱間圧縮されるように定めることも
できる。
合体の均質混合物が熱間圧縮されるように定めることも
できる。
【0025】成形された新しいマルチフィラメントスト
ランドのモノフィラメントの周囲に必要とされる、酸素
を透過する非超伝導体セラミックの厚さに応じて、粉末
と重合体との均質混合物の層の厚さが選択される。
ランドのモノフィラメントの周囲に必要とされる、酸素
を透過する非超伝導体セラミックの厚さに応じて、粉末
と重合体との均質混合物の層の厚さが選択される。
【0026】ある実施形態においては、粉末は、たとえ
ば、AlやMgやTiによって汚染されたBi2212
を主成分とする。
ば、AlやMgやTiによって汚染されたBi2212
を主成分とする。
【0027】他の実施形態においては、粉末はBi22
01を主成分とする。
01を主成分とする。
【0028】本発明はまた、複数の超伝導体フィラメン
トを有する高臨界温度超伝導体マルチフィラメントスト
ランドに関するものであり、各超伝導体フィラメント
は、高臨界温度超伝導体セラミックでできた芯を有し、
高臨界温度超伝導体セラミックでできた前記の芯は、A
gを主成分とした合金でできた第一の被覆で取り囲ま
れ、その第一の被覆自体が、酸素を透過する非超伝導体
セラミック層で取り囲まれ、さらにそのセラミック層自
体が、Agを主成分とした合金でできた第二の被覆で取
り囲まれる。
トを有する高臨界温度超伝導体マルチフィラメントスト
ランドに関するものであり、各超伝導体フィラメント
は、高臨界温度超伝導体セラミックでできた芯を有し、
高臨界温度超伝導体セラミックでできた前記の芯は、A
gを主成分とした合金でできた第一の被覆で取り囲ま
れ、その第一の被覆自体が、酸素を透過する非超伝導体
セラミック層で取り囲まれ、さらにそのセラミック層自
体が、Agを主成分とした合金でできた第二の被覆で取
り囲まれる。
【0029】本発明の第一の利点は、前駆体と非超伝導
体セラミックとの間の組成の類似性の結果得られる。こ
のことが、化学的非相容性(インコンパチピリティ)の
問題をすべて解決する。
体セラミックとの間の組成の類似性の結果得られる。こ
のことが、化学的非相容性(インコンパチピリティ)の
問題をすべて解決する。
【0030】本発明の他の利点は、本発明による方法の
機械的及び熱的処理段階が、従来の段階と比べて変わる
ものではないという点によって得られる。したがって、
特に適合させる必要がなく、既存の設備を使用すること
ができる。
機械的及び熱的処理段階が、従来の段階と比べて変わる
ものではないという点によって得られる。したがって、
特に適合させる必要がなく、既存の設備を使用すること
ができる。
【0031】セラミック障壁の抵抗率のゲインは、銀に
対して、300Kでおよそ103、20Kにおいては1
05となる。
対して、300Kでおよそ103、20Kにおいては1
05となる。
【0032】添付の図面を参照して、以下に、本発明の
他の利点及び特性を説明する。
他の利点及び特性を説明する。
【0033】
【発明の実施の形態】以下の説明において、非超伝導体
とは、超伝導体の特性をもたない材料、すなわち、高臨
界温度超伝導体の作動温度について、その抵抗率がゼロ
でない(およそ2mΩ/cm)材料を意味する。
とは、超伝導体の特性をもたない材料、すなわち、高臨
界温度超伝導体の作動温度について、その抵抗率がゼロ
でない(およそ2mΩ/cm)材料を意味する。
【0034】さらに、酸素を透過するとは、材料が酸素
と可逆的平衡状態にあることを意味する。つまり、捕捉
された酸素が、材料の成分と(Agとのように)可逆的
酸化物を形成することを意味している。このため、前駆
体のために酸素が必要な場合には、酸化物は前駆体に対
して酸素を解放する。
と可逆的平衡状態にあることを意味する。つまり、捕捉
された酸素が、材料の成分と(Agとのように)可逆的
酸化物を形成することを意味している。このため、前駆
体のために酸素が必要な場合には、酸化物は前駆体に対
して酸素を解放する。
【0035】本発明は、銀を主成分としたマトリックス
型の高臨界温度超伝導体マルチフィラメントストランド
の管内粉末タイプの製造法に関するものである。
型の高臨界温度超伝導体マルチフィラメントストランド
の管内粉末タイプの製造法に関するものである。
【0036】管内粉末方法は、以下の段階を有してい
る。
る。
【0037】モノフィラメント段階においては、銀を主
成分とした第一外囲器が、熱処理後、高臨界温度超伝導
体材料に変化することができる粉末で満たされ、その結
果得られるビレットがモノフィラメントストランドに引
き伸ばされる。
成分とした第一外囲器が、熱処理後、高臨界温度超伝導
体材料に変化することができる粉末で満たされ、その結
果得られるビレットがモノフィラメントストランドに引
き伸ばされる。
【0038】第一のマルチフィラメント段階において
は、前記マルチフィラメントが切断され、その結果得ら
れる断片で、銀を主成分とする第二外囲器を満たし、そ
のようにして、マルチフィラメントビレットが形成さ
れ、今度は、マルチフィラメントビレットが、マルチフ
ィラメントストランドに引き伸ばされる。
は、前記マルチフィラメントが切断され、その結果得ら
れる断片で、銀を主成分とする第二外囲器を満たし、そ
のようにして、マルチフィラメントビレットが形成さ
れ、今度は、マルチフィラメントビレットが、マルチフ
ィラメントストランドに引き伸ばされる。
【0039】第二のマルチフィラメント段階が、少なく
とも一回行われ、該段階においては、前記マルチフィラ
メントストランドが切断され、その結果得られる断片
で、銀を主成分とする新しい外囲器を満たし、そのよう
にして、新しいマルチフィラメントビレットが形成さ
れ、今度は、新しいマルチフィラメントビレットが、新
しいマルチフィラメントストランドに引き伸ばされる。
とも一回行われ、該段階においては、前記マルチフィラ
メントストランドが切断され、その結果得られる断片
で、銀を主成分とする新しい外囲器を満たし、そのよう
にして、新しいマルチフィラメントビレットが形成さ
れ、今度は、新しいマルチフィラメントビレットが、新
しいマルチフィラメントストランドに引き伸ばされる。
【0040】成形及び熱処理段階においてはそれぞれ、
新しいマルチフィラメントストランドの成形が行われ、
成形されたストランドの熱処理が行われる。
新しいマルチフィラメントストランドの成形が行われ、
成形されたストランドの熱処理が行われる。
【0041】酸素の透過性を保持しながらもマルチフィ
ラメントストランドのフィラメントのデカップリングを
著しく改善するために、この方法は、以下の補足的段階
を含んでいる。
ラメントストランドのフィラメントのデカップリングを
著しく改善するために、この方法は、以下の補足的段階
を含んでいる。
【0042】モノフィラメント段階の予備段階として、
銀を主成分とする少なくとも一枚の箔と、酸素を透過す
る少なくとも一つの非超伝導体セラミック材料層が調製
され、さらにモノフィラメント段階においては、銀を主
成分とする材料の第一及び第二の厚み層の間に複合多層
材料を差し挟み、その結果、銀を主成分とする前記第一
外囲器が形成される。
銀を主成分とする少なくとも一枚の箔と、酸素を透過す
る少なくとも一つの非超伝導体セラミック材料層が調製
され、さらにモノフィラメント段階においては、銀を主
成分とする材料の第一及び第二の厚み層の間に複合多層
材料を差し挟み、その結果、銀を主成分とする前記第一
外囲器が形成される。
【0043】酸素を透過する非超伝導体セラミック材料
の層は、その非超伝導性によって、フィラメントを互い
に効果的にデカップリングするほとんど伝導性をもたな
い層を構成し、酸素を透過するセラミックであるので、
このほとんど伝導性をもたない層を介して前駆体に必要
な酸素の供給が可能になり、合成の熱処理の時に前駆体
の超伝導層への完全な合成を得ることができる。
の層は、その非超伝導性によって、フィラメントを互い
に効果的にデカップリングするほとんど伝導性をもたな
い層を構成し、酸素を透過するセラミックであるので、
このほとんど伝導性をもたない層を介して前駆体に必要
な酸素の供給が可能になり、合成の熱処理の時に前駆体
の超伝導層への完全な合成を得ることができる。
【0044】好適には、図に示されているように、銀を
主成分とした第一外囲器と、モノフィラメントストラン
ドと、銀を主成分とする第二外囲器と、マルチフィラメ
ントストランドと、銀を主成分とする新しい外囲器と、
新しいマルチフィラメントストランドの横断面は、でき
れば正方形または長方形の全体的形状をもつことが望ま
しいが、たとえば、円形または六角形のような他の形状
もまた可能である。
主成分とした第一外囲器と、モノフィラメントストラン
ドと、銀を主成分とする第二外囲器と、マルチフィラメ
ントストランドと、銀を主成分とする新しい外囲器と、
新しいマルチフィラメントストランドの横断面は、でき
れば正方形または長方形の全体的形状をもつことが望ま
しいが、たとえば、円形または六角形のような他の形状
もまた可能である。
【0045】複合多層材料を調製するために、熱処理後
に、酸素を透過する非超伝導体セラミック材料に変化す
ることができる粉末と重合体を混ぜ合わせる。混合は、
重合体と粉末の均質混合物を得るために、使用される重
合体の溶融温度程度の温度で行われる。
に、酸素を透過する非超伝導体セラミック材料に変化す
ることができる粉末と重合体を混ぜ合わせる。混合は、
重合体と粉末の均質混合物を得るために、使用される重
合体の溶融温度程度の温度で行われる。
【0046】重合体と粉末の均質混合物とともに少なく
とも一枚の銀箔が熱間圧縮される。そこでもまた、温度
は、使用される重合体の溶融温度程度である。このよう
にして、銀の合金と、重合体と粉末の均質混合物との複
合多層中間材料が得られる。
とも一枚の銀箔が熱間圧縮される。そこでもまた、温度
は、使用される重合体の溶融温度程度である。このよう
にして、銀の合金と、重合体と粉末の均質混合物との複
合多層中間材料が得られる。
【0047】重合体を除去し、酸素を透過する非超伝導
体セラミックへの粉末の合成を行い、酸素を透過する非
超伝導体セラミックを銀箔に固着させるために、粉末の
溶融温度程度の温度において、重合体と粉末の均質混合
物と、銀の合金との複合多層材料が加熱される。
体セラミックへの粉末の合成を行い、酸素を透過する非
超伝導体セラミックを銀箔に固着させるために、粉末の
溶融温度程度の温度において、重合体と粉末の均質混合
物と、銀の合金との複合多層材料が加熱される。
【0048】このようにして、複合多層材料が得られ
る。
る。
【0049】図3Aから図3Cは、複合多層材料の実施
例である。
例である。
【0050】図3Aは、銀箔1と、酸素を透過する非超
伝導体セラミック層2を有する二重層材料を示してい
る。
伝導体セラミック層2を有する二重層材料を示してい
る。
【0051】図3Bは、酸素を透過する非超電導体セラ
ミック2が二枚の銀箔1の間にはさまれるようなサンド
イッチ型材料を示している。これは、銀を主成分とする
二枚の箔の間で重合体と粉末の均質混合物が熱間圧縮さ
れることによって得られる。この変形実施形態によっ
て、二重層材料よりも厚みのある、酸素を透過する非超
伝導体セラミック層を有することができる。
ミック2が二枚の銀箔1の間にはさまれるようなサンド
イッチ型材料を示している。これは、銀を主成分とする
二枚の箔の間で重合体と粉末の均質混合物が熱間圧縮さ
れることによって得られる。この変形実施形態によっ
て、二重層材料よりも厚みのある、酸素を透過する非超
伝導体セラミック層を有することができる。
【0052】図3Cは、酸素を透過する非超伝導体セラ
ミック層2が互いに接触する二つの二重層材料を示して
いる。この技法によって、通常のサンドイッチ材料より
厚みのある酸素を透過する非超伝導体セラミックの層3
(重ね合わされた二つの層2)を有するサンドイッチ材
料を得ることができる(図3B参照)。
ミック層2が互いに接触する二つの二重層材料を示して
いる。この技法によって、通常のサンドイッチ材料より
厚みのある酸素を透過する非超伝導体セラミックの層3
(重ね合わされた二つの層2)を有するサンドイッチ材
料を得ることができる(図3B参照)。
【0053】銀を主成分とする材料の第一及び第二の厚
み層の間に挿入するための複合二層材料の成形は、好適
には、酸素を透過する非超伝導体セラミック層が圧縮さ
れるように行われる。
み層の間に挿入するための複合二層材料の成形は、好適
には、酸素を透過する非超伝導体セラミック層が圧縮さ
れるように行われる。
【0054】通常のサンドイッチの場合には、中立線の
引っ張られる側に生じる恐れのある亀裂は、中立線の反
対側の圧縮においてセラミックで塞ぐことができる。
引っ張られる側に生じる恐れのある亀裂は、中立線の反
対側の圧縮においてセラミックで塞ぐことができる。
【0055】同様に、上記した技法によるサンドイッチ
材料の場合には、スリップ平面の二層材料が引っ張られ
る側に生じる恐れのある亀裂は、スリップ平面の反対側
の圧縮においてセラミックで塞ぐことができる。
材料の場合には、スリップ平面の二層材料が引っ張られ
る側に生じる恐れのある亀裂は、スリップ平面の反対側
の圧縮においてセラミックで塞ぐことができる。
【0056】サンドイッチ材料の場合には、複合多層材
料の先端が互いに覆われているときには、覆いとなるA
g箔のデカップリングを行わなければならない。
料の先端が互いに覆われているときには、覆いとなるA
g箔のデカップリングを行わなければならない。
【0057】重合体と粉末の均質混合物の層の厚さ、つ
まりしたがって酸素を透過する非超伝導体セラミックの
最初の層の厚さは、方法の終わりに新しいマルチフィラ
メントストランドのフィラメントの周囲に求められる、
酸素を透過する非超伝導体セラミックの厚さに応じて計
算される。たとえば、方法の終わりにフィラメントの周
りに酸素を透過する非超伝導体セラミックの1から2μ
mの厚さをもたせたい場合、また方法の終わりの新しい
マルチフィラメントストランドのフィラメントとモノフ
ィラメントの間で400の縮径率が選択される場合に
は、モノフィラメントにおいて、およそ400から80
0μmの酸素を透過する非超伝導体セラミックの最初の
厚さを備えなければならない。
まりしたがって酸素を透過する非超伝導体セラミックの
最初の層の厚さは、方法の終わりに新しいマルチフィラ
メントストランドのフィラメントの周囲に求められる、
酸素を透過する非超伝導体セラミックの厚さに応じて計
算される。たとえば、方法の終わりにフィラメントの周
りに酸素を透過する非超伝導体セラミックの1から2μ
mの厚さをもたせたい場合、また方法の終わりの新しい
マルチフィラメントストランドのフィラメントとモノフ
ィラメントの間で400の縮径率が選択される場合に
は、モノフィラメントにおいて、およそ400から80
0μmの酸素を透過する非超伝導体セラミックの最初の
厚さを備えなければならない。
【0058】限定的でないある実施形態においては、粉
末は、AlまたはMgまたはTiによって汚染されたB
i2212を主成分とする。
末は、AlまたはMgまたはTiによって汚染されたB
i2212を主成分とする。
【0059】限定的でない他の実施形態においては、粉
末はBi2201を主成分とする。
末はBi2201を主成分とする。
【0060】本発明はまた、複数の超伝導体フィラメン
ト10を有する高臨界温度超伝導体マルチフィラメント
ストランドに関するものであり、各超伝導体フィラメン
ト10は、高臨界温度超伝導体セラミックの芯11を有
し、前記の高臨界温度超伝導体セラミック芯11は、A
gを主成分とした合金でできた第一被覆12によって取
り囲まれ、この第一被覆自体が酸素を透過する非超伝導
体セラミック層13によって取り囲まれ、さらにそのセ
ラミック層自体が、Agを主成分とする合金でできた第
二の被覆14で取り囲まれる。
ト10を有する高臨界温度超伝導体マルチフィラメント
ストランドに関するものであり、各超伝導体フィラメン
ト10は、高臨界温度超伝導体セラミックの芯11を有
し、前記の高臨界温度超伝導体セラミック芯11は、A
gを主成分とした合金でできた第一被覆12によって取
り囲まれ、この第一被覆自体が酸素を透過する非超伝導
体セラミック層13によって取り囲まれ、さらにそのセ
ラミック層自体が、Agを主成分とする合金でできた第
二の被覆14で取り囲まれる。
【0061】ストランドを構成する高臨界温度超伝導体
フィラメント10は、抵抗性合金被覆15の中に含まれ
る。
フィラメント10は、抵抗性合金被覆15の中に含まれ
る。
【0062】当然のことながら、本発明は、ここに説明
され図示された実施形態に限定されるものではなく、本
発明から逸脱しない限り、当業者がアクセス可能な数多
くの変形形態が可能である。とりわけ、本発明の枠を出
ない限り、汚染されたBi2201またはBi2212
を、同じ特性を有する他の何らかの材料に置き換えるこ
とができる。フィラメントの横断面は、本発明を逸脱し
ない限り、たとえば円形または六角形といった異なる形
状にすることもできる。ストランドの中のフィラメント
の配置もまた、本発明を逸脱しない限り、変えることが
できる。とりわけ、フィラメントは、層をずらして配置
することも可能である。
され図示された実施形態に限定されるものではなく、本
発明から逸脱しない限り、当業者がアクセス可能な数多
くの変形形態が可能である。とりわけ、本発明の枠を出
ない限り、汚染されたBi2201またはBi2212
を、同じ特性を有する他の何らかの材料に置き換えるこ
とができる。フィラメントの横断面は、本発明を逸脱し
ない限り、たとえば円形または六角形といった異なる形
状にすることもできる。ストランドの中のフィラメント
の配置もまた、本発明を逸脱しない限り、変えることが
できる。とりわけ、フィラメントは、層をずらして配置
することも可能である。
【図1】正方形タイプの本発明によるマルチフィラメン
トストランドの横断面図である。
トストランドの横断面図である。
【図2】正方形タイプの図1に表わされた本発明による
マルチフィラメントストランドの詳細図である。
マルチフィラメントストランドの詳細図である。
【図3A】本発明による複合多層材料の変形実施形態の
概略図である。
概略図である。
【図3B】本発明による複合多層材料の変形実施形態の
概略図である。
概略図である。
【図3C】本発明による複合多層材料の変形実施形態の
概略図である。
概略図である。
11 芯 12 第一の被覆 13 非超伝導体セラミック層 14 第二の被覆
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−335414(JP,A) 特開 平6−76650(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01B 13/00 H01B 12/10
Claims (7)
- 【請求項1】 モノフィラメント段階において、銀を主
成分とする第一外囲器が、熱処理後に高臨界温度超伝導
体材料に変化することができる粉末反応体で満たされ、 その結果として得られるビレットが、モノフィラメント
ストランドに引き伸ばされ、 第一のマルチフィラメント段階において、前記のモノフ
ィラメントストランドが切断され、その結果として得ら
れる断片で、銀を主成分とする第二外囲器を満たし、そ
れによって、マルチフィラメントビレットがつくりださ
れ、今度は、マルチフィラメントビレットがマルチフィ
ラメントストランドに引き伸ばされ、 第二のマルチフィラメント段階が、少なくとも一度行わ
れ、該段階において、 前記マルチフィラメントストランドが切断され、その結
果として得られる断片で、銀を主成分とする新しい外囲
器を満たし、そのようにして新しいマルチフィラメント
ビレットがつくりだされ、今度は新しいマルチフィラメ
ントビレットが、新しいマルチフィラメントストランド
に引き伸ばされ、 新しいマルチフィラメントストランドの成形が行われ、 成形されたストランドの熱処理が行われる、 銀を主成分とする管内粉末タイプのマトリックス型高臨
界温度超伝導体マルチフィラメントストランドの製造方
法であって、 銀を主成分とする少なくとも一枚の箔と、酸素を透過す
る非超伝導体セラミック材料の少なくとも一つの層を有
する複合多層材料が調製され、 モノフィラメント段階において、銀を主成分とする材料
の第一の厚み層と第二の厚み層の間に複合多層材料の厚
み層が差し挟まれ、その結果、銀を主成分とする前記第
一の外囲器が形成されることを特徴とする、製造方法。 - 【請求項2】 銀を主成分とする第一外囲器と、モノフ
ィラメントストランドと、銀を主成分とする第二外囲器
と、マルチフィラメントストランドと、銀を主成分とす
る新しい外囲器と、新しいマルチフィラメントストラン
ドが、横断面が正方形または長方形の一般的形状を有す
ることを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 複合多層材料を調製するために、 重合体と、熱処理後に酸素を透過する非超伝導体セラミ
ック材料に変化することができる粉末を混ぜ合わせ、そ
の混合を、使用される重合体の溶融温度程度の温度で行
って、重合体と粉末の均質混合物を得、 使用される重合体の溶融温度程度の温度で、少なくとも
一枚の銀箔を重合体と粉末の均質混合物と共に熱間圧縮
して、銀の合金と重合体および粉末の均質混合物とでで
きた多層中間材料を得、 粉末の熔融温度程度の温度で、銀の合金と重合体および
粉末の均質混合物とでできた複合多層材料を焼成して、
重合体を除去し、酸素を透過する非超伝導体セラミック
への粉末の合成を行ない、酸素を透過する非超伝導体セ
ラミックを銀箔に固着させ、それによって複合多層材料
を形成することを特徴とする請求項1または2に記載の
方法。 - 【請求項4】 銀を主成分とする二枚の箔の間で重合体
と粉末の均質混合物を熱間圧縮することを特徴とする請
求項3に記載の方法。 - 【請求項5】 成形された新しいマルチフィラメントス
トランドのモノフィラメントの周りに望まれる、酸素を
透過する非超伝導体セラミックの厚さに応じて、重合体
と粉末の均質混合物の層の厚さが選択されることを特徴
とする請求項3または4に記載の方法。 - 【請求項6】 障壁の抵抗性材料が、たとえばAlまた
はMgまたはTiによって汚染されたBi2212を主
成分とすることを特徴とする請求項1から5のいずれか
一項に記載の方法。 - 【請求項7】 粉末がBi2201を主成分とすること
を特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の方
法。
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FR9703752A FR2761516B1 (fr) | 1997-03-27 | 1997-03-27 | Procede de decouplage d'un brin multifilamentaire supraconducteur htc a matrice a base d'argent, et brin multifilamentaire ainsi realise |
FR9703752 | 1997-03-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH117846A JPH117846A (ja) | 1999-01-12 |
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ID=9505231
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Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0867950B1 (ja) |
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CA (1) | CA2231076C (ja) |
DE (1) | DE69825652T2 (ja) |
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US6185810B1 (en) * | 1997-06-18 | 2001-02-13 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of making high temperature superconducting ceramic oxide composite with reticulated metal foam |
GB9805644D0 (en) * | 1998-03-18 | 1998-05-13 | Metal Manufactures Ltd | Superconducting tapes |
GB9805641D0 (en) * | 1998-03-18 | 1998-05-13 | Metal Manufactures Ltd | Superconducting tapes |
GB9805639D0 (en) * | 1998-03-18 | 1998-05-13 | Metal Manufactures Ltd | Superconducting tapes for alternating current and cables and other conductors in which they are used |
GB9805646D0 (en) * | 1998-03-18 | 1998-05-13 | Bicc Plc | Superconducting tapes |
JP3885358B2 (ja) | 1998-04-28 | 2007-02-21 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物高温超電導線材およびその製造方法 |
DE19833918C2 (de) * | 1998-07-28 | 2003-02-06 | Siemens Ag | Hoch-T¶c¶-Wechselstrommehrkernsupraleiter sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
FR2793344B1 (fr) * | 1999-05-06 | 2001-07-06 | Cit Alcatel | BRIN SUPRACONDUCTEUR A HAUTE TEMPERATURE CRITIQUE (HTc), METHODE DE FABRICATION D'UN TEL BRIN |
DE60042732D1 (de) * | 1999-11-08 | 2009-09-24 | Sumitomo Electric Industries | Hochtemperatur-oxid-supraleiterdraht und verfahren zu seiner herstellung. |
JP3783538B2 (ja) | 2000-08-29 | 2006-06-07 | 住友電気工業株式会社 | 酸化物超電導線材の製造方法 |
US7330744B2 (en) | 2001-11-14 | 2008-02-12 | Nexans | Metal salt resistive layer on an superconducting element |
JP4110967B2 (ja) * | 2002-12-27 | 2008-07-02 | ソニーケミカル&インフォメーションデバイス株式会社 | 保護素子 |
US8522420B2 (en) * | 2008-06-26 | 2013-09-03 | Oxford Superconducting Technology, Inc. | Manufacture of high temperature superconductor coils |
JP5458789B2 (ja) * | 2009-10-15 | 2014-04-02 | パナソニック株式会社 | 回路保護素子 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5011823A (en) * | 1987-06-12 | 1991-04-30 | At&T Bell Laboratories | Fabrication of oxide superconductors by melt growth method |
DE3885961D1 (de) * | 1987-07-24 | 1994-01-13 | Asea Brown Boveri | Verfahren zur Herstellung eines ummantelten Drahtes aus einem keramischen Hochtemperatur-Supraleiter. |
DK164423C (da) * | 1988-04-25 | 1992-11-09 | Haldor Topsoe As | Superledende kabel samt fremgangsmaade til fremstilling af et superledende kabel |
JPH0713888B2 (ja) * | 1989-03-27 | 1995-02-15 | 工業技術院長 | 超電導線 |
US5189260A (en) * | 1991-02-06 | 1993-02-23 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | Strain tolerant microfilamentary superconducting wire |
JP3567003B2 (ja) * | 1994-12-19 | 2004-09-15 | 株式会社日立製作所 | タリウム系超電導線 |
DE59603164D1 (de) * | 1995-03-15 | 1999-10-28 | Univ Geneve | Elektrischer leiter mit supraleitenden kernen und verfahren zur herstellung eines solchen leiters |
EP0966767A1 (de) * | 1996-12-20 | 1999-12-29 | Université de Genève, représentée par son Département de physique de la matière condensée | Verfahren zur herstellung eines elektrischen leiters mit supraleitenden kernen sowie ein solcher leiter |
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- 1997-03-27 FR FR9703752A patent/FR2761516B1/fr not_active Expired - Fee Related
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