JP2987120B2 - 核磁気共鳴を用いた検査装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は核磁気共鳴を用いた
画像の計測を行なう装置に係わり，特に励起ＲＦパルス
として複数のサブパルスから構成されるＲＦバーストを
印加する装置に係わる。

【０００２】

【従来の技術】磁気共鳴イメージング装置は，核磁気共
鳴を利用して被写体の断層像を計測する装置である。磁
気共鳴イメージング装置では被写体内の原子核を励起す
るために，静磁場強度に比例した周波数のＲＦパルスを
被写体に印加する。この励起ＲＦパルスとしては振幅を
変調したＲＦバーストを印加する方法が知られている
（特願平７−１１７０１５号）。ここで，ＲＦバースト
とは複数のサブパルスから構成される一連のＲＦパルス
をいう。図１に示すようなｓｉｎｃ関数で振幅変調した
時間軸上のＲＦバーストをフーリエ変換すると，周波数
軸上では特定の幅を持った方形周期波となる。ここで，
時間軸上のＲＦバーストを構成するサブパルスの間隔を
ｕ（ｓｅｃ）とすると，周波数軸上の方形周期波の周期
は１／ｕ（Ｈｚ）である。また，時間軸上のＲＦバース
トを振幅変調したｓｉｎｃ関数の周期をＴ（ｓｅｃ）と
すると，周波数軸上の方形周期波の幅は，１／Ｔ（Ｈ
ｚ）となる。周波数軸上での波形は原子核の励起プロフ
ァイル，即ち横磁化の絶対値を表す。特にＴ＝２ｕとし
て振幅変調したＲＦバーストを励起ＲＦパルスとして用
いた場合，励起されている領域と励起されていない領域
が同じ体積で交互に現れる。このＴ＝２ｕとした振幅変
調ＲＦバーストの搬送周波数を１／（２ｕ）（Ｈｚ）だ
けシフトしたＲＦバーストをフーリエ変換すると，図２
に示すように，励起されている領域と励起されていない
領域がちょうど入れ替わる。図２に示したような搬送周
波数を１／（２ｕ）（Ｈｚ）だけシフトした２つの振幅
変調ＲＦバーストを被写体に印加することにより，被写
体の撮影断面内の原子核ほぼ全てを励起して撮影でき
る。

【０００３】その具体例として，上記２つの振幅変調Ｒ
Ｆバーストのうちの第１の振幅変調ＲＦバーストを被写
体に印加して撮影した直後，第２の振幅変調ＲＦバース
トを被写体に印加して撮影し，それぞれを２次元逆フー
リエ変換した後，合成する方法がある。この方法の詳細
については，特願平８−７４９６０号に述べられている
が，以下の具体例をもとに簡単に説明する。例えば，第
１の振幅変調ＲＦバーストを被写体に印加した時の励起
プロファイルの方形周期波の幅が０．５ｍｍ，撮影画像
のリードアウト傾斜磁場印加方向のピクセルサイズが１
ｍｍとなる条件で，図３に示した撮影シーケンスにより
撮影し，得られた複数個のエコーを２次元逆フーリエ変
換する。図３の横軸は時間を，縦軸はＲＦパルスや傾斜
磁場等の強度を表す。図３において，１は励起ＲＦパル
ス，２はリードアウト傾斜磁場，３はエンコード傾斜磁
場，４はスライス傾斜磁場，６はエコー（磁気共鳴信
号），３１は１８０度パルスである。励起ＲＦパルス１
は，５個のサブパルス１−ａ，１−ｂ，１−ｃ，１−
ｄ，１−ｅから構成されている。リードアウト傾斜磁場
２と同時に励起ＲＦパルス１を印加し，被写体内部の原
子核を励起する。

【０００４】次に，スライス傾斜磁場４と１８０度パル
ス３１を同時に被写体を印加すると，スライス傾斜磁場
印加方向に垂直な特定の幅を持った断面内（撮影断面）
にある原子核の磁気モーメントは反転し，断面外にある
原子核の磁気モーメントは位相がバラバラになる。次
に，リードアウト傾斜磁場２を印加することによりエコ
ー６が発生する。エコー６−１−ｅ，６−１−ｄ，６−
１−ｃ，６−１−ｂ，６−１−ａは，それぞれサブパル
ス１−ｅ，１−ｄ，１−ｃ，１−ｂ，１−ａの１８０度
パルスによるスピンエコーである。エコー６−１−ｅ，
６−１−ｄ，６−１−ｃ，６−１−ｂ，６−１−ａを観
察した後，リードアウト傾斜磁場２の極性を反転する
と，フィールドエコー６−２−ａ，６−２−ｂ，６−２
−ｃ，６−２−ｄ，６−２−ｅが発生する。エコー６−
２−ａ，６−２−ｂ，６−２−ｃ，６−２−ｄ，６−２
−ｅは，それぞれエコー６−１−ａ，６−１−ｂ，６−
１−ｃ，６−１−ｄ，６−１−ｅの傾斜磁場反転による
フィールドエコーであるから，エコー６−２−ａ，６−
２−ｂ，６−２−ｃ，６−２−ｄ，６−２−ｅは，それ
ぞれサブパルス１−ａ，１−ｂ，１−ｃ，１−ｄ，１−
ｅに対応している。このように５個のサブパルス１−
ａ，１−ｂ，１−ｃ，１−ｄ，１−ｅに対応する５個の
エコーを１つのセットとして，リードアウト傾斜磁場反
転を繰り返しによりｎセットのエコー群を発生し，画像
再構成に必要な数のエコーを計測する。

【０００５】この画像の１ピクセルと励起プロファイル
の位置関係を図４に示す。無限個のサブパルスから構成
される振幅変調ＲＦバーストを励起ＲＦパルスとして用
いれば，励起プロファイルは完全方形周期波となるが，
図３の撮影シーケンスでは５個のサブパルスを用いてい
るため，励起プロファイルは完全な方形周期波とはなら
ない。しかし，ここではこの励起プロファイルをほぼ方
形周期波と見なせるものとして説明する。この画像の１
ピクセルには，実際には励起されている０．５ｍｍの領
域のみの情報を持っている。搬送周波数を１／（２ｕ）
（Ｈｚ）だけシフトした第２の振幅変調ＲＦバーストを
被写体に印加して撮影し，２次元逆フーリエ変換するす
ると，今度の画像の１ピクセルには先程励起されていな
かった０．５ｍｍの領域のみの情報を持っている。２つ
の画像を１ピクセルおきに交互に配列し合成すれば，リ
ードアウト傾斜磁場印加方向の空間分解能０．５ｍｍの
画像ができる。即ち，撮影画像のリードアウト傾斜磁場
印加方向のピクセルサイズを１ｍｍから０．５ｍｍに改
めることができる。第１の振幅変調ＲＦバーストと第２
の振幅変調ＲＦバーストの印加において，それぞれ励起
する領域が異なるため，２つの撮影の間には磁化の回復
を待つための時間は必要ない。

【０００６】上述したように，５個のサブパルスを用い
た場合，励起プロファイルは完全方形周期波とはならな
いため，隣のピクセルに若干の漏れ込みが生じるが，実
用上問題のない程度である。ただし，励起プロファイル
が完全な方形周期波に近づくほど，搬送周波数を１／
（２ｕ）（Ｈｚ）だけシフトした振幅変調ＲＦバースト
を併用した時に，被写体の撮影断面内の原子核の中で励
起されるものの割合が１００パーセントに近づく。以上
示したように，第１の振幅変調ＲＦバーストと第２の振
幅変調ＲＦバーストを励起ＲＦパルスとして用いて連続
して撮影し，２つの画像を合成することによって，被写
体の撮影断面内の原子核ほぼ全てを励起して撮影きる。

【０００７】図３に示した撮影シーケンスにより得られ
たエコーの１個１個について，そのエコー取得時の１ピ
クセル内の磁化の励起状態を詳しく見る。図５の
（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）の中の矢印５
１−ａ，５１−ｂ，５１−ｃ，５１−ｄ，５１−ｅは，
それぞれ励起ＲＦバーストを構成するサブパルス１−
ａ，１−ｂ，１−ｃ，１−ｄ，１−ｅに対応するスピン
エコーあるいはフィールドエコー取得時の１ピクセル内
の励起されている領域における横磁化の向きを示してい
る。サブパルス１−ｂ，１−ｃ，１−ｄに対応するエコ
ー取得時の励起領域における横磁化の向き５１−ｂ，５
１−ｃ，５１−ｄがほぼそろっているのに対して，サブ
パルス１−ａ，１−ｅに対応するエコー取得時の励起領
域における横磁化の向き５１−ａ，５１−ｅは部分的に
反転していることが分かる。このように励起されている
領域の横磁化の位相がそろっていないため，サブパルス
１−ａ，１−ｅに対応するスピンエコーあるいはフィー
ルドエコーの大きさは他のエコーと較べて小さい。この
ためサブパルス１−ａ，１−ｅに対応するスピンエコー
あるいはフィールドエコーを像再構成データとして用い
ると，画像全体のＳ／Ｎ比が低下する。図６に示したよ
うな３つのサブパルスからなる振幅変調ＲＦバーストを
励起ＲＦパルスとして用いれば，励起されている領域の
横磁化の位相が全てのエコーにおいてほぼそろうが，励
起プロファイルがｓｉｎ関数形状となってしまうため隣
のピクセルへの漏れ込みが大きく，搬送周波数を１／
（２ｕ）（Ｈｚ）だけシフトした振幅変調ＲＦバースト
を併用しても，被写体の撮影断面内の原子核ほぼ全てを
励起して撮影できない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ｓｉｎｃ関数で振幅変
調したＲＦバーストの１８０度パルスによるスピンエコ
ーまたは傾斜磁場反転によるフィールドエコー全てを像
再構成に用いると，上述したように画像全体のＳ／Ｎ比
が低下するという欠点がある。また，ｓｉｎｃ関数の中
心サブパルスと隣り合わせた３つのサブパルスからなる
振幅変調ＲＦバーストを励起ＲＦパルスとして用いれ
ば，励起プロファイルはｓｉｎ関数形状となってしまう
ため，搬送周波数を１／（２ｕ）（Ｈｚ）だけシフトし
た振幅変調ＲＦバーストを併用しても被写体の撮影断面
内の原子核ほぼ全てを励起して撮影できないという欠点
がある。本発明はこの問題を解消し，被写体の撮影断面
内の原子核ほぼ全てを励起し，かつ画像全体のＳ／Ｎ比
を向上させる核磁気共鳴を用いた検査装置を提供する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は，励起Ｒ
Ｆパルスとして５個以上のサブパルスから構成されるｓ
ｉｎｃ関数で振幅変調したＲＦバーストを用い，リード
アウト傾斜磁場反転によるフィールドエコー取得時にお
いて，ｓｉｎｃ関数の中心サブパルスと隣り合わせた３
つのサブパルスに対応するフィールドエコーのみが発生
するようにリードアウト傾斜磁場の印加量を決める点に
ある。

【００１０】即ち、所定の磁場空間に配置された被写体
に印加する，ｓｉｎｃ関数で振幅変調したＲＦバースト
からなる励起用ＲＦパルスを発生する手段と，被写体内
に生じる核磁気共鳴にともなう信号を１８０度パルスに
より発生するスピンエコー群あるいはリードアウト傾斜
磁場の極性反転により発生するフィールドエコー群とし
て計測する手段とを有し，被写体の断層像を作成する核
磁気共鳴を用いた検査装置において，ｓｉｎｃ関数で振
幅変調したＲＦバーストを構成するサブパルスの個数が
５個以上であり，リードアウト傾斜磁場の極性反転によ
るフィールドエコーの計測時に，ｓｉｎｃ関数の中心に
位置するサブパルスと隣り合わせた３つのサブパルスに
対応するフィールドエコーが発生するようにリードアウ
ト傾斜磁場の印加量を定め、１８０度パルスにより発生
するスピンエコー群のうち２番目に発生するエコーから
計測する。さらに、上記サブパルスの個数を７個とし
て，１８０度パルスにより発生するスピンエコー群のう
ち３番目に発生するエコーから計測する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の第一の実施例の撮影シー
ケンスを図７に示す。図７の横軸は時間を，縦軸はＲＦ
パルスや傾斜磁場等の強度を表す。図７において，１は
励起ＲＦパルス，２はリードアウト傾斜磁場，３はエン
コード傾斜磁場，４はスライス傾斜磁場，６はエコー，
３１は１８０度パルスである。傾斜磁場２と同時に励起
ＲＦパルス１を印加し，被写体内部の原子核を励起す
る。この時，リードアウト傾斜磁場印加方向の励起プロ
ファイルは図４に示したような方形周期波になり，搬送
周波数を１／（２ｕ）（Ｈｚ）だけシフトした振幅変調
ＲＦバーストを併用することにより，被写体の撮影断面
内の原子核ほぼ全てを励起して撮影できる。次に，スラ
イス傾斜磁場４と１８０度パルス３１を同時に被写体を
印加すると，スライス傾斜磁場印加方向に垂直な特定の
幅を持った断面内にある原子核の磁気モーメントは反転
し，断面外にある原子核の磁気モーメントは位相がバラ
バラになる。

【００１２】次に，リードアウト傾斜磁場２を印加する
ことによりエコー６が発生する。ここで，従来の撮影シ
ーケンスを示した図３においては，この１セット目のエ
コー群６−１発生において，５個のエコーを発生した
が，本実施例では４個のエコーが発生するようにリード
アウト傾斜磁場の印加量を決める。続いて，リードアウ
ト傾斜磁場反転による２セット目のエコー群６−２発生
において，３個のエコーを発生するようにリードアウト
傾斜磁場の印加量を決める。以下，リードアウト傾斜磁
場反転による３セット目以降のエコー群６−３発生にお
いても，３個のエコーを発生するようにリードアウト傾
斜磁場の印加量を決める。即ち，リードアウト傾斜磁場
反転によるフィールドエコー取得時において，励起ＲＦ
バーストを振幅変調したｓｉｎｃ関数の中心に位置する
サブパルスと隣り合わせた３つのサブパルスに対応する
フィールドエコーのみが発生するようにリードアウト傾
斜磁場の印加量を決める。リードアウト傾斜磁場反転の
繰り返しにより，画像再構成に必要な数のエコーを発生
し，それらを計測する。

【００１３】ここで，１セット目の４個のエコーの中
で，１番目のエコー６−１−ｅは計測せず，残りの３個
のエコーを計測する。２セット目以降の３個のエコーは
全て計測する。即ち，励起ＲＦバーストを振幅変調した
ｓｉｎｃ関数の中心に位置するサブパルスと隣り合わせ
た３つのサブパルスに対応するエコーのみを計測し，画
像再構成を行なう。エコー取得時の励起されている領域
の横磁化の向きがほぼそろっているエコーのみを像再構
成に用いるため，画像全体のＳ／Ｎ比を従来例に較べて
向上するという効果がある。

【００１４】本発明の第二の実施例の撮影シーケンスを
図８に示す。図８において，１は励起ＲＦパルス，２は
リードアウト傾斜磁場，３はエンコード傾斜磁場，４は
スライス傾斜磁場，６はエコー，３１は１８０度パルス
である。傾斜磁場２と同時に励起ＲＦパルス１を印加
し，被写体内部の原子核を励起する。この時，リードア
ウト傾斜磁場印加方向の励起プロファイルは図９に示す
ような方形周期波になる。励起ＲＦパルスとして５個の
サブパルスからなる振幅変調ＲＦバーストを用いた第一
の実施例（図７）の場合の励起プロファイル（図４）と
比較して，励起ＲＦパルスとして７個のサブパルスから
なる振幅変調ＲＦバーストを用いた本実施例の方が，励
起プロファイルがより完全な方形周期波に近づく。励起
プロファイルが完全な方形周期波に近づくほど，搬送周
波数を１／（２ｕ）（Ｈｚ）だけシフトした振幅変調Ｒ
Ｆバーストを併用した時に，被写体の撮影断面内の原子
核の中で励起される割合が１００パーセントに近づく。

【００１５】次に，スライス傾斜磁場４と１８０度パル
ス３１を同時に被写体を印加すると，スライス傾斜磁場
印加方向に垂直な特定の幅を持った断面内にある原子核
の磁気モーメントは反転し，断面外にある原子核の磁気
モーメントは位相がバラバラになる。次に，リードアウ
ト傾斜磁場２を印加することによりエコー６が発生す
る。本実施例では１セット目のエコー群６−１の発生に
おいて，５個のエコーが発生するようにリードアウト傾
斜磁場の印加量を決める。続いて，リードアウト傾斜磁
場反転による２セット目のエコー群６−２発生におい
て，３個のエコーを発生するようにリードアウト傾斜磁
場の印加量を決める。以下，リードアウト傾斜磁場反転
による３セット目以降のエコー群発生においても，３個
のエコーを発生するようにリードアウト傾斜磁場の印加
量を決める。即ち，リードアウト傾斜磁場反転によるフ
ィールドエコー取得時において，励起ＲＦバーストを振
幅変調したｓｉｎｃ関数の中心に位置するサブパルスと
隣り合わせた３つのサブパルスに対応するフィールドエ
コーのみが発生するようにリードアウト傾斜磁場の印加
量を決める。リードアウト傾斜磁場反転の繰り返しによ
り，画像再構成に必要な数のエコーを発生し，それらを
計測する。

【００１６】ここで，１セット目の５個のエコーの中
で，１番目と２番目のエコー６−１−ｆと６−１−ｅは
計測せず，残りの３個のエコーを計測する。２セット目
以降の３個のエコーは全て計測する。即ち，励起ＲＦバ
ーストを振幅変調した ｓｉｎｃ関数の中心に位置する
サブパルスと隣り合わせた３つのサブパルスに対応する
エコーのみを計測し，画像再構成を行なう。エコー取得
時の励起されている領域の横磁化の向きがほぼそろって
いるエコーのみを像再構成に用いるため，画像全体のＳ
／Ｎ比を従来例に較べて向上するという効果がある。ま
た，励起ＲＦバーストのサブパルスの個数を増やすほ
ど，励起プロファイルは完全な方形周期波に近づく。こ
のため励起ＲＦバーストのサブパルスの個数を増やすほ
ど，撮影時間は増加するが，搬送周波数を１／（２ｕ）
（Ｈｚ）だけシフトした振幅変調ＲＦバーストを併用し
た時に，被写体の撮影断面内の原子核の中で励起される
ものの割合が１００パーセントに近づくという効果があ
る。この場合も，励起ＲＦバーストを振幅変調したｓｉ
ｎｃ関数の中心に位置するサブパルスと隣り合わせた３
つのサブパルスに対応するエコーのみを計測して画像再
構成を行なうことにより，画像全体のＳ／Ｎ比を従来例
に較べて向上できる。

【００１７】以上，本発明を特定の撮影シーケンスにつ
いて説明したが，上記以外の撮影シーケンスについても
同様に，励起ＲＦバーストを振幅変調したｓｉｎｃ関数
の中心に位置するサブパルスと隣り合わせた３つのサブ
パルスに対応するエコーのみを計測して画像再構成を行
なうことにより，画像全体のＳ／Ｎ比を従来例に較べて
向上できる。例えば，１セット目のエコーは，１８０度
パルスにより発生するスピンエコーである必要はなく，
リードアウト傾斜磁場の反転により発生するフィールド
エコーであっても良い。同様に２セット目以降のエコー
は，リードアウト傾斜磁場の反転により発生するフィー
ルドエコーである必要はなく，１８０度パルスにより発
生するスピンエコーであっても良い。

【００１８】図１０に核磁気共鳴を用いた検査装置（以
下，単に検査装置という）の構成の一例を示す。図１に
於いて，１０１は静磁場を発生するマグネット，１０２
は傾斜磁場を発生するコイル，１０３は被検体（検査対
象である被写体）であり，これはマグネット１０１及び
コイル１０２内に設置される。また，シーケンサ１０４
は傾斜磁場電源１０５と高周波磁場発生器１０６に命令
を送り，傾斜磁場をコイル１０２より，高周波磁場をプ
ローブ１０７より，それぞれ発生する。高周波磁場はプ
ローブ１０７を通じて被検体１０３に印加される。被検
体１０３から発生した信号はプローブ１０７により受波
され，受信器１０８で検波が行われる。検波の基準とす
る磁気共鳴周波数は，シーケンサ１０４によりセットさ
れる。検波された信号は計算機１０９に送られ，ここで
画像再構成等の信号処理が行われる。結果はディスプレ
イ１１０に表示される。必要に応じて，記憶媒体１１１
に信号や測定条件を記憶させることもできる。静磁場均
一度を調整する必要がある時は，シムコイル１１２を使
う。シムコイル１１２は複数のチャネルからなり，シム
電源１１３により電流が供給される。静磁場均一度調整
時には，各コイルに流れる電流をシーケンサ１０４によ
り制御する。シーケンサ１０４はシム電源１１３に命令
を送り，静磁場不均一を補正するような付加的な磁場を
コイル１１２より発生させる。なお，シーケンサ１０４
は通常，予めプログラムされたタイミング，強度で各装
置が動作するように制御を行う。このプログラムのう
ち，特に高周波磁場，傾斜磁場，信号受信のタイミング
や強度を記述したものは，撮影のパルスシーケンスと呼
ばれている。

【００１９】

【発明の効果】被写体の撮影断面内の原子核ほぼ全てを
励起し，かつ画像全体のＳ／Ｎ比を向上できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】ｓｉｎｃ関数で振幅変調したＲＦバーストを示
す図。

【図２】搬送周波数を１／（２ｕ）（Ｈｚ）シフトした
振幅変調ＲＦバーストを示す図。

【図３】従来の撮影シーケンスを示す図。

【図４】５個のサブパルスから構成される振幅変調ＲＦ
バーストを用いた時の１ピクセル内の励起プロファイル
を示す図。

【図５】励起されている領域の横磁化の向きを示す図。

【図６】３個のサブパルスから構成されるＲＦバースト
を示す図。

【図７】本発明第一の実施例の撮影シーケンスを示す
図。

【図８】本発明第二の実施例の撮影シーケンスを示す
図。

【図９】７個のサブパルスから構成される振幅変調ＲＦ
バーストを用いた時の１ピクセル内の励起プロファイル
を示す図。

【図１０】核磁気共鳴を用いた検査装置の構成の一例を
示す図。

【符号の説明】

１…励起ＲＦパルス，２…リードアウト傾斜磁場，３…
エンコード傾斜磁場，４…スライス傾斜磁場，６…エコ
ー，３１…１８０度パルス，１−ａ，１−ｂ，１−ｃ，
１−ｄ，１−ｅ…サブパルス，５１…励起領域における
横磁化の向き，１０１…静磁場を発生するマグネット，
１０２…傾斜磁場を発生するコイル，１０３…被検体
（検査対象である被写体），１０４…シーケンサ，１０
５…傾斜磁場電源，１０６…高周波磁場発生器，１０７
…プローブ，１０８…受信器，１０９…計算機，１１０
…ディスプレイ，１１１…記憶媒体，１１２…シムコイ
ル，１１３…シム電源。

フロントページの続き (72)発明者 高橋 哲彦 東京都千代田区内神田一丁目１番14号 株式会社日立メディコ内 (56)参考文献 特開 平８−308809（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) A61B 5/055

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】所定の磁場空間に配置された被写体に印加
   する，ｓｉｎｃ関数で振幅変調したＲＦバーストからな
   る励起用ＲＦパルスを発生する手段と，前記被写体内に
   生じる核磁気共鳴にともなう信号を１８０度パルスによ
   り発生するスピンエコー群あるいはリードアウト傾斜磁
   場の極性反転毎に発生するフィールドエコー群として計
   測する手段とを有し，前記被写体の断層像を作成する核
   磁気共鳴を用いた検査装置において，前記ｓｉｎｃ関数
   で振幅変調したＲＦバーストを構成するサブパルスの個
   数が５個以上であり，前記リードアウト傾斜磁場の極性
   反転毎の前記フィールドエコー群の発生に於いて，前記
   ｓｉｎｃ関数の中心に位置する前記サブパルスと，前記
   中心に位置する前記サブパルスに隣り合わせた２つのサ
   ブパルスとからなる３つのサブパルスに対応する３つの
   フィールドエコーのみが発生するように前記リードアウ
   ト傾斜磁場の印加量を定め，前記３つのサブパルスに対
   応する３つの前記フィールドエコーのみを計測すること
   を特徴とする核磁気共鳴を用いた検査装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載の核磁気共鳴を用いた検査
   装置において，前記ＲＦバーストを構成する前記サブパ
   ルスの個数が５個であり，前記１８０度パルスにより発
   生するスピンエコー群のうち２番目に発生するエコーか
   ら計測することを特徴とする核磁気共鳴を用いた検査装
   置。
3. 【請求項３】請求項１に記載の核磁気共鳴を用いた検査
   装置において，前記ＲＦバーストを構成する前記サブパ
   ルスの個数が７個であり，前記１８０度パルスにより発
   生するスピンエコー群のうち３番目に発生するエコーか
   ら計測することを特徴とする核磁気共鳴を用いた検査装
   置。
4. 【請求項４】 所定の磁場空間に配置された被写体に印加
   する，ｓｉｎｃ関数で振幅変調したＲＦバーストからな
   る励起用ＲＦパルスを発生する手段と，前記被写体内に
   生じる核磁気共鳴にともなう信号を１８０度パルスによ
   り発生するスピンエコー群あ るいはリードアウト傾斜磁
   場の極性反転毎に発生するフィールドエコー群として計
   測する手段とを有し，前記被写体の断層像を作成する核
   磁気共鳴を用いた検査装置に於いて，前記ｓｉｎｃ関数
   で振幅変調したＲＦバーストを構成するサブパルスの個
   数が５個以上であり，前記リードアウト傾斜磁場の極性
   反転毎の前記フィールドエコー群の発生に於いて，前記
   ｓｉｎｃ関数の中心に位置する前記サブパルスと，前記
   中心に位置する前記サブパルスに隣り合わせたサブパル
   スとからなる３つのサブパルスに対応する３つのフィー
   ルドエコーのみが発生するように前記リードアウト傾斜
   磁場の印加量を定め，前記３つのサブパルスに対応する
   ３つの前記フィールドエコーのみを計測し，前記フィー
   ルドエコーの取得時に励起されている領域の横磁化の向
   きがほぼ揃っているエコーのみを画像再構成に用いるこ
   とを特徴とする核磁気共鳴を用いた検査装置。
5. 【請求項５】 所定の磁場空間に配置された被写体に印加
   する，ｓｉｎｃ関数で振幅変調したＲＦバーストからな
   る励起用ＲＦパルスを発生する手段と，前記被写体内に
   生じる核磁気共鳴にともなう信号を１８０度パルスによ
   り発生するスピンエコー群あるいはリードアウト傾斜磁
   場の極性反転毎に発生するフィールドエコー群として計
   測する手段とを有し，前記被写体の断層像を作成する核
   磁気共鳴を用いた検査装置に於いて，前記ｓｉｎｃ関数
   で振幅変調したＲＦバーストを構成するサブパルスの個
   数が５個以上であり，前記ｓｉｎｃ関数の中心に位置す
   る前記サブパルスと，前記中心に位置する前記サブパル
   スに隣り合わせたサブパルスとからなる３つのサブパル
   スに対応する３つのエコーのみを計測して画像再構成を
   行なうことを特徴とする核磁気共鳴を用いた検査装置。