JP2976743B2 - シャドウマスク及びカラーフィルタのパターンむらの検査方法 - Google Patents
シャドウマスク及びカラーフィルタのパターンむらの検査方法Info
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- JP2976743B2 JP2976743B2 JP5049134A JP4913493A JP2976743B2 JP 2976743 B2 JP2976743 B2 JP 2976743B2 JP 5049134 A JP5049134 A JP 5049134A JP 4913493 A JP4913493 A JP 4913493A JP 2976743 B2 JP2976743 B2 JP 2976743B2
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、略同一形状の多数の光
を透過するパターンを備えるシャドウマスク／カラーフ
ィルターの一定面積領域に光線を照射してその透過量を
測定する工程を、上記シャドウマスク／カラーフィルタ
ーの略全面について繰り返すことにより、上記パターン
のむらの有無を検査する方法に関し、特に撮影系に起因
する誤差を防止して正確に測定できる方法に関する。
を透過するパターンを備えるシャドウマスク／カラーフ
ィルターの一定面積領域に光線を照射してその透過量を
測定する工程を、上記シャドウマスク／カラーフィルタ
ーの略全面について繰り返すことにより、上記パターン
のむらの有無を検査する方法に関し、特に撮影系に起因
する誤差を防止して正確に測定できる方法に関する。
【０００２】本発明は、シャドウマスクに設けられた貫
通孔パターンのむらの検査、あるいは液晶ディスプレイ
に適用されるカラーフィルターの画素パターンの検査等
に利用することができる。
通孔パターンのむらの検査、あるいは液晶ディスプレイ
に適用されるカラーフィルターの画素パターンの検査等
に利用することができる。
【０００３】
【従来の技術】シャドウマスクに設けられた貫通孔やカ
ラーフィルターの画素等の光を透過するパターンを透過
する光量又はその光線透過率を測定して上記パターンの
良否を判定する方法は公知である。そして、この方法に
よれば、これらパターンの複数を含む領域をＣＣＤ等の
測定機器の一画素に対応させて、その領域毎にその良否
を判定することができ、測定回数を上記パターンの数よ
り少なくすることができるため、極めて多数の上記パタ
ーン備えるシャドウマスクやカラーフィルターを効率的
に検査することが可能となる。
ラーフィルターの画素等の光を透過するパターンを透過
する光量又はその光線透過率を測定して上記パターンの
良否を判定する方法は公知である。そして、この方法に
よれば、これらパターンの複数を含む領域をＣＣＤ等の
測定機器の一画素に対応させて、その領域毎にその良否
を判定することができ、測定回数を上記パターンの数よ
り少なくすることができるため、極めて多数の上記パタ
ーン備えるシャドウマスクやカラーフィルターを効率的
に検査することが可能となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この方
法において、透過光の光源にむらがある場合や、上記測
定機器にむらがある場合等、撮影系に起因するむらがあ
る場合には、上記測定結果にこの撮影系のむらが反映さ
れるため、上記パターンにむらがない場合にも不良とい
う判定結果が得られ、従って正確な測定ができないとい
う問題点があった。
法において、透過光の光源にむらがある場合や、上記測
定機器にむらがある場合等、撮影系に起因するむらがあ
る場合には、上記測定結果にこの撮影系のむらが反映さ
れるため、上記パターンにむらがない場合にも不良とい
う判定結果が得られ、従って正確な測定ができないとい
う問題点があった。
【０００５】本発明はこのような事情によってなされた
もので、上記撮影系に起因するむらをがある場合であっ
てもこのむらが判定結果に影響することなく、従って撮
影系の良否に係わらず正確な判定のできる検査方法を提
供することを目的とする。
もので、上記撮影系に起因するむらをがある場合であっ
てもこのむらが判定結果に影響することなく、従って撮
影系の良否に係わらず正確な判定のできる検査方法を提
供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、略
同一形状の多数の光を透過するパターンを備えるシャド
ウマスク／カラーフィルターの一定面積領域に光線を照
射しその透過量を測定する工程を、上記シャドウマスク
／カラーフィルタの略全面について繰り返すことによ
り、上記パターンのむらの有無を検査する方法におい
て、少なくとも１０個以上のパターンを含む一定面積領
域の透過量を測定し、次いで上記シャドウマスク／カラ
ーフィルタを移動させて上記一定面積領域に隣接する同
面積領域の透過量を測定し、この二つの領域の透過量の
差を求めて上記シャドウマスク／カラーフィルターのパ
ターンのむらを検出することを特徴とするシャドウマス
ク／カラーフィルターのパターンの検査方法である。 す
なわち、この互いに隣接する同一面積領域における透過
量の差を求めて差がほぼ零に近い設定許容値以下であれ
ば、パターンむらがないと判定し、設定許容値を越えた
場合には、パターンむらがあると判定するものである。
同一形状の多数の光を透過するパターンを備えるシャド
ウマスク／カラーフィルターの一定面積領域に光線を照
射しその透過量を測定する工程を、上記シャドウマスク
／カラーフィルタの略全面について繰り返すことによ
り、上記パターンのむらの有無を検査する方法におい
て、少なくとも１０個以上のパターンを含む一定面積領
域の透過量を測定し、次いで上記シャドウマスク／カラ
ーフィルタを移動させて上記一定面積領域に隣接する同
面積領域の透過量を測定し、この二つの領域の透過量の
差を求めて上記シャドウマスク／カラーフィルターのパ
ターンのむらを検出することを特徴とするシャドウマス
ク／カラーフィルターのパターンの検査方法である。 す
なわち、この互いに隣接する同一面積領域における透過
量の差を求めて差がほぼ零に近い設定許容値以下であれ
ば、パターンむらがないと判定し、設定許容値を越えた
場合には、パターンむらがあると判定するものである。
【０００７】このような技術的手段において、例えば、
電子線を透過する多数の貫通孔を備えるシャドウマスク
が適用できる。そして、この場合には光を透過するパタ
ーンとして上記貫通孔のパターンが適用でき、これら多
数のパターンのうち十ないしそれ以上のパターンを含む
広い面積を一領域として同時に測定する。尚、この場
合、電子線はシャドウマスクの略中央に配置された電子
銃から発射され、シャドウマスク中央部から周辺部に向
かってその発射角度が漸次変化するため、この電子線を
透過させる上記シャドウマスクの貫通孔パターンの形状
もシャドウマスクの中央部から周辺部に向かって漸次変
化するが、隣接する領域間においてはその変化がわずか
でありこの変化を無視しても実害を生じない。
電子線を透過する多数の貫通孔を備えるシャドウマスク
が適用できる。そして、この場合には光を透過するパタ
ーンとして上記貫通孔のパターンが適用でき、これら多
数のパターンのうち十ないしそれ以上のパターンを含む
広い面積を一領域として同時に測定する。尚、この場
合、電子線はシャドウマスクの略中央に配置された電子
銃から発射され、シャドウマスク中央部から周辺部に向
かってその発射角度が漸次変化するため、この電子線を
透過させる上記シャドウマスクの貫通孔パターンの形状
もシャドウマスクの中央部から周辺部に向かって漸次変
化するが、隣接する領域間においてはその変化がわずか
でありこの変化を無視しても実害を生じない。
【０００８】また、液晶ディスプレイ等に使用されるカ
ラーフィルターにも適用することもできる。この場合に
は上記光を透過するパターンとしてカラーフィルターの
画素が適用できる。カラーフィルターの画素は、それぞ
れ、赤色、緑色、青色の着色フィルター層を備えること
が通常であることから、対応する色フィルターを介して
光源から透過光を照射することにより、それぞれの色の
画素毎に透過光を測定することが可能となる。
ラーフィルターにも適用することもできる。この場合に
は上記光を透過するパターンとしてカラーフィルターの
画素が適用できる。カラーフィルターの画素は、それぞ
れ、赤色、緑色、青色の着色フィルター層を備えること
が通常であることから、対応する色フィルターを介して
光源から透過光を照射することにより、それぞれの色の
画素毎に透過光を測定することが可能となる。
【０００９】
【作用】本発明によれば、シャドウマスク／カラーフィ
ルターの一定面積領域の透過量を測定し、次いでシャド
ウマスク／カラーフィルターを移動させてこの一定面積
領域に隣接する同面積領域の透過量を測定し、この二つ
の領域の透過量の差を求めて上記パターンのむらを検出
するため、撮影系に起因するむらは上記二つの領域の透
過量の双方に反映され、その差を求めることにより相殺
されてデータ上から消失する。
ルターの一定面積領域の透過量を測定し、次いでシャド
ウマスク／カラーフィルターを移動させてこの一定面積
領域に隣接する同面積領域の透過量を測定し、この二つ
の領域の透過量の差を求めて上記パターンのむらを検出
するため、撮影系に起因するむらは上記二つの領域の透
過量の双方に反映され、その差を求めることにより相殺
されてデータ上から消失する。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１は本発明に係る実施例の検査方法を説明する
説明図である。
する。図１は本発明に係る実施例の検査方法を説明する
説明図である。
【００１１】すなわち、ガラス板等の透明基台２上にシ
ャドウマスク又はカラーフィルター１を載置する。そし
て、透明基台２の下側に光源３を配置して、その１軸移
動テーブル２を通してシャドウマスク又はカラーフィル
ター１に光線を照射する。尚、図中４は拡散板であり、
光源３から生じた光線を均一な拡散光に変換するもので
ある。
ャドウマスク又はカラーフィルター１を載置する。そし
て、透明基台２の下側に光源３を配置して、その１軸移
動テーブル２を通してシャドウマスク又はカラーフィル
ター１に光線を照射する。尚、図中４は拡散板であり、
光源３から生じた光線を均一な拡散光に変換するもので
ある。
【００１２】一方、シャドウマスク又はカラーフィルタ
ー１上にはＣＣＤカメラ又は撮像管５が配置され、この
ＣＣＤカメラ又は撮像管５の一画素は上記シャドウマス
ク又はカラーフィルター１の貫通孔のうち１０個の孔を
含む面積の領域に対応しており、これら１０個の貫通孔
を透過した光線の光量を測定できる。
ー１上にはＣＣＤカメラ又は撮像管５が配置され、この
ＣＣＤカメラ又は撮像管５の一画素は上記シャドウマス
ク又はカラーフィルター１の貫通孔のうち１０個の孔を
含む面積の領域に対応しており、これら１０個の貫通孔
を透過した光線の光量を測定できる。
【００１３】そして、上記１軸移動テーブル２を図の左
右方向に移動させて、上記一定面積領域毎に透過量を測
定する。こうして測定ざれた透過量は電気信号に変換さ
れてＣＰＵ６に転送される。
右方向に移動させて、上記一定面積領域毎に透過量を測
定する。こうして測定ざれた透過量は電気信号に変換さ
れてＣＰＵ６に転送される。
【００１４】ＣＰＵ６に取り込まれた透過量データは、
隣接する二領域の透過量データの差を算出し、この差が
予め設定された許容誤差範囲内か否かを判定する。尚、
上記二領域の透過量データが一致する場合にはその差は
０である。一方、この差が上記許容誤差範囲外である場
合には、上記二領域のいずれかに欠陥があり、シャドウ
マスク又はカラーフィルター１のむらが大きいことが分
かる。そして、その結果をモニター７に表示して警告す
る。
隣接する二領域の透過量データの差を算出し、この差が
予め設定された許容誤差範囲内か否かを判定する。尚、
上記二領域の透過量データが一致する場合にはその差は
０である。一方、この差が上記許容誤差範囲外である場
合には、上記二領域のいずれかに欠陥があり、シャドウ
マスク又はカラーフィルター１のむらが大きいことが分
かる。そして、その結果をモニター７に表示して警告す
る。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、撮影系に起因するむら
は相殺されてデータ上から消失するため、この撮影系に
起因するむらの有無に係わりなく、正確に上記シャドウ
マスク／カラーフィルターのパターンのむらの有無を検
査することが可能となるという効果を奏する。
は相殺されてデータ上から消失するため、この撮影系に
起因するむらの有無に係わりなく、正確に上記シャドウ
マスク／カラーフィルターのパターンのむらの有無を検
査することが可能となるという効果を奏する。
【図１】図１は本発明の実施例に係る検査装置の説明
図。
図。
１…シャドウマスク又はカラーフィルター ２…１軸移
動テーブル ３…光源 ４…拡散板 ５…ＣＣＤカメラ又は撮像管 ６…ＣＰＵ ７…モニター
動テーブル ３…光源 ４…拡散板 ５…ＣＣＤカメラ又は撮像管 ６…ＣＰＵ ７…モニター
Claims (1)
- 【請求項１】略同一形状の多数の光を透過するパターン
を備えるシャドウマスク／カラーフィルターの一定面積
領域に光線を照射しその透過量を測定する工程を、上記
シャドウマスク／カラーフィルタの略全面について繰り
返すことにより、上記パターンのむらの有無を検査する
方法において、少なくとも１０個以上のパターンを含む一定面積領域 の
透過量を測定し、次いで上記シャドウマスク／カラーフ
ィルタを移動させて上記一定面積領域に隣接する同面積
領域の透過量を測定し、 この二つの領域の透過量の差を求めて上記シャドウマス
ク／カラーフィルターのパターンのむらを検出すること
を特徴とするシャドウマスク／カラーフィルターのパタ
ーンむらの検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5049134A JP2976743B2 (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | シャドウマスク及びカラーフィルタのパターンむらの検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5049134A JP2976743B2 (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | シャドウマスク及びカラーフィルタのパターンむらの検査方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06258183A JPH06258183A (ja) | 1994-09-16 |
| JP2976743B2 true JP2976743B2 (ja) | 1999-11-10 |
Family
ID=12822600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5049134A Expired - Fee Related JP2976743B2 (ja) | 1993-03-10 | 1993-03-10 | シャドウマスク及びカラーフィルタのパターンむらの検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2976743B2 (ja) |
-
1993
- 1993-03-10 JP JP5049134A patent/JP2976743B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06258183A (ja) | 1994-09-16 |
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