JP2973754B2 - パルプの晒制御装置 - Google Patents
パルプの晒制御装置Info
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- JP2973754B2 JP2973754B2 JP4332887A JP33288792A JP2973754B2 JP 2973754 B2 JP2973754 B2 JP 2973754B2 JP 4332887 A JP4332887 A JP 4332887A JP 33288792 A JP33288792 A JP 33288792A JP 2973754 B2 JP2973754 B2 JP 2973754B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、パルプ工場のパルプ生
産工程の中のパルプ晒工程において、パルプの生産量を
変更した場合に、パルプが晒プラント内を下流に向けて
移行してゆく工程に合わせて、晒薬品の添加量を変更
し、下流側反応塔の塔内の反応液の液位の変更を行う制
御装置に関する。
産工程の中のパルプ晒工程において、パルプの生産量を
変更した場合に、パルプが晒プラント内を下流に向けて
移行してゆく工程に合わせて、晒薬品の添加量を変更
し、下流側反応塔の塔内の反応液の液位の変更を行う制
御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】パルプの生産工場においては従来、パル
プの生産量（本文中は流量の意）を変更した際は、制御
装置では晒薬品の添加流量の目標設定値の変更は直ちに
行われていた。従ってパルプの流れが新しい生産量に移
行するのに合わせて、制御装置の晒薬品の添加流量の目
標設定値を変更すること、及びパルプの生産量の増減に
合わせて反応塔でのパルプの反応時間を確保するために
反応液の液位を変えること、等の処置はとられていなか
った。そのため、晒薬品の損失やパルプ中への晒薬品の
残留量が多くなる、又は処理するパルプの量に対して処
理のための晒薬品が不足する等の問題が指摘され、製品
の品質を重視する必要から問題の解決が課題となってい
た。
プの生産量（本文中は流量の意）を変更した際は、制御
装置では晒薬品の添加流量の目標設定値の変更は直ちに
行われていた。従ってパルプの流れが新しい生産量に移
行するのに合わせて、制御装置の晒薬品の添加流量の目
標設定値を変更すること、及びパルプの生産量の増減に
合わせて反応塔でのパルプの反応時間を確保するために
反応液の液位を変えること、等の処置はとられていなか
った。そのため、晒薬品の損失やパルプ中への晒薬品の
残留量が多くなる、又は処理するパルプの量に対して処
理のための晒薬品が不足する等の問題が指摘され、製品
の品質を重視する必要から問題の解決が課題となってい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、パル
プの生産量の変更に伴って生じる下記の問題を解決する
ことを目的とする。 １）パルプの生産量が多くなると晒薬品の添加量も増加
するが、反応塔の中では前回のパルプの生産量に見合っ
た薬品量で反応しているところへ、増加した生産量に見
合った量の晒薬品が添加されるので処理するパルプの量
に対して晒薬品が過剰になり、薬品の損失やパルプ中へ
の晒薬品の残留量が多くなる。 ２）パルプの生産量を減少させる時は、反応塔の中では
前回のパルプの生産量に見合った晒薬品量で反応してい
るところへ、必要以下の晒薬品が添加されることになる
ので処理するパルプの量に対して晒薬品が不足する。 ３）パルプの生産量が変更されると、パルプの流速が増
減するのに合わせて、反応塔の内部でパルプと晒薬品と
の晒反応時間を確保するために、塔内の液位の増減をす
る必要が生じる。 ４）新しい生産量が設定されると、その値がプロセスの
下流に移行するのに合わせて順次新しい設定値で調節動
作をさせる。
プの生産量の変更に伴って生じる下記の問題を解決する
ことを目的とする。 １）パルプの生産量が多くなると晒薬品の添加量も増加
するが、反応塔の中では前回のパルプの生産量に見合っ
た薬品量で反応しているところへ、増加した生産量に見
合った量の晒薬品が添加されるので処理するパルプの量
に対して晒薬品が過剰になり、薬品の損失やパルプ中へ
の晒薬品の残留量が多くなる。 ２）パルプの生産量を減少させる時は、反応塔の中では
前回のパルプの生産量に見合った晒薬品量で反応してい
るところへ、必要以下の晒薬品が添加されることになる
ので処理するパルプの量に対して晒薬品が不足する。 ３）パルプの生産量が変更されると、パルプの流速が増
減するのに合わせて、反応塔の内部でパルプと晒薬品と
の晒反応時間を確保するために、塔内の液位の増減をす
る必要が生じる。 ４）新しい生産量が設定されると、その値がプロセスの
下流に移行するのに合わせて順次新しい設定値で調節動
作をさせる。
【０００４】
【課題を解決するための手段】パルプを漂白するための
晒工程において、設定されたパルプの生産量に適合する
ように晒薬品の添加流量を計算する比率演算器と、その
比率演算器により求められた晒薬品の添加流量を目標設
定値とする流量調節手段と、パルプの生産量、濃度、滞
留時間、反応塔の容積とから反応塔内の反応液の液位を
計算する液位演算器と、その液位演算器により求められ
た液位を目標設定値とする反応塔の液位調節手段と、パ
ルプの生産量の変更に従って、晒薬品の添加流量を変更
するために比率演算器へ計算値の更新を指令するととも
に、液位演算器へ計算値の更新を指令し、新しい生産量
に基づくパルプの流量値が下流に移行するのに従って順
次新しい設定値で調節動作をさせることを指令する制御
手段とから構成することを特徴とする。
晒工程において、設定されたパルプの生産量に適合する
ように晒薬品の添加流量を計算する比率演算器と、その
比率演算器により求められた晒薬品の添加流量を目標設
定値とする流量調節手段と、パルプの生産量、濃度、滞
留時間、反応塔の容積とから反応塔内の反応液の液位を
計算する液位演算器と、その液位演算器により求められ
た液位を目標設定値とする反応塔の液位調節手段と、パ
ルプの生産量の変更に従って、晒薬品の添加流量を変更
するために比率演算器へ計算値の更新を指令するととも
に、液位演算器へ計算値の更新を指令し、新しい生産量
に基づくパルプの流量値が下流に移行するのに従って順
次新しい設定値で調節動作をさせることを指令する制御
手段とから構成することを特徴とする。
【０００５】
【作用】本発明では、調節計器とシーケンス制御手段を
組み合わせることにより、パルプの生産量が変更される
と、プラントの下流に向けて新しい生産量が移行してゆ
くのに合わせて、晒薬品の添加流量を変更し、下流側の
反応塔内の反応時間を考慮して反応液の液位の変更を行
うので、新しい生産量に於ける最適な制御へのスムーズ
な移行が可能となる。
組み合わせることにより、パルプの生産量が変更される
と、プラントの下流に向けて新しい生産量が移行してゆ
くのに合わせて、晒薬品の添加流量を変更し、下流側の
反応塔内の反応時間を考慮して反応液の液位の変更を行
うので、新しい生産量に於ける最適な制御へのスムーズ
な移行が可能となる。
【０００６】
【実施例】以下図面を用いて本発明を説明する。図１は
本発明の計装ブロック図である。パルプ生産量設定手段
１は晒薬品の添加流量の比率演算器３，１２及び液位演
算器７，１６へ生産量を指令し、シーケンス制御手段
２，１１へは起動を指令する。生産量の指令の方法は、
デイジタル制御装置を使用する場合は、キーボード入力
装置等による。その他の場合としては工業計器により構
成することが出来る。いずれも設定と同時にシーケンス
制御手段へ起動信号を出力する。シーケンス制御手段
２，１１は、パルプの新しい生産量（流量値）が下流側
に移行する時刻に合わせて、晒薬品の添加流量を計算す
る比率演算器３，１２の起動を指令し、下流側の液位演
算器７，１６の起動を指令し、新しい生産量が下流に移
行するのに合わせて新しい設定値で順次制御動作をさせ
る。パルプの新しい生産量（流量値）が下流側に移行し
たことを検出する手段は、反応塔の液位の検出及び予め
計測した時間による。
本発明の計装ブロック図である。パルプ生産量設定手段
１は晒薬品の添加流量の比率演算器３，１２及び液位演
算器７，１６へ生産量を指令し、シーケンス制御手段
２，１１へは起動を指令する。生産量の指令の方法は、
デイジタル制御装置を使用する場合は、キーボード入力
装置等による。その他の場合としては工業計器により構
成することが出来る。いずれも設定と同時にシーケンス
制御手段へ起動信号を出力する。シーケンス制御手段
２，１１は、パルプの新しい生産量（流量値）が下流側
に移行する時刻に合わせて、晒薬品の添加流量を計算す
る比率演算器３，１２の起動を指令し、下流側の液位演
算器７，１６の起動を指令し、新しい生産量が下流に移
行するのに合わせて新しい設定値で順次制御動作をさせ
る。パルプの新しい生産量（流量値）が下流側に移行し
たことを検出する手段は、反応塔の液位の検出及び予め
計測した時間による。
【０００７】パルプの生産量（流量）に対して晒薬品の
添加流量を計算する比率演算器３，１２は添加薬品流量
調節計４，１３へ流量の目標設定値を出力する。添加薬
品流量調節計４，１３は設定された流量値になるよう晒
薬品の流量調節弁６，１５を駆動する。制御のアルゴリ
ズムの例としては、比例、微分、積分演算機能その他が
利用できる。以降の調節計も同様である。添加薬品の流
量発信器５，１４はその出力信号が添加薬品流量調節計
４，１３の計測入力信号となる。添加薬品の流量調節弁
６，１５は添加薬品流量調節計４，１３の制御出力によ
り開度を設定する。液位演算器７，１６はパルプの生産
量、パルプ濃度、反応塔容積、必要な滞留時間から反応
塔の制御液位を計算する。
添加流量を計算する比率演算器３，１２は添加薬品流量
調節計４，１３へ流量の目標設定値を出力する。添加薬
品流量調節計４，１３は設定された流量値になるよう晒
薬品の流量調節弁６，１５を駆動する。制御のアルゴリ
ズムの例としては、比例、微分、積分演算機能その他が
利用できる。以降の調節計も同様である。添加薬品の流
量発信器５，１４はその出力信号が添加薬品流量調節計
４，１３の計測入力信号となる。添加薬品の流量調節弁
６，１５は添加薬品流量調節計４，１３の制御出力によ
り開度を設定する。液位演算器７，１６はパルプの生産
量、パルプ濃度、反応塔容積、必要な滞留時間から反応
塔の制御液位を計算する。
【０００８】反応塔液位調節計８，１７は液位演算器
７，１６の計算結果により設定された液位になるように
液位調節弁１０，１９の開度を設定する。反応塔の液位
発信器９，１８はその出力信号が反応塔液位調節計８，
１７の計測入力信号となる。液位調節弁１０，１９は反
応塔２０，２２からパルプ液を抜き出し，液位を目標値
に保つために設けてあり、反応塔液位調節計８，１７に
より開度を設定する。
７，１６の計算結果により設定された液位になるように
液位調節弁１０，１９の開度を設定する。反応塔の液位
発信器９，１８はその出力信号が反応塔液位調節計８，
１７の計測入力信号となる。液位調節弁１０，１９は反
応塔２０，２２からパルプ液を抜き出し，液位を目標値
に保つために設けてあり、反応塔液位調節計８，１７に
より開度を設定する。
【０００９】反応塔２０，２２は内部でパルプと添加薬
品の晒反応が行われる。パルプの生産量が変更されれ
ば、通過するパルプの速度も変更され、反応時間を確保
するために反応塔の液位は変更される。ドラムフイルタ
２１で水分の調整が行われる。併せて薬品が添加され
る。流量調節計２２はパルプ生産量設定手段１により設
定された、生産量に相当する流量値になるようにパルプ
の流量を制御する。パルプ濃度計２５は流入する原料パ
ルプの濃度を検出し、シーケンス制御手段２，１１を経
て薬品添加比率演算器３，１２に入力される。図２はパ
ルプの生産量を変更する際のシーケンス動作を説明する
フローチャートである。
品の晒反応が行われる。パルプの生産量が変更されれ
ば、通過するパルプの速度も変更され、反応時間を確保
するために反応塔の液位は変更される。ドラムフイルタ
２１で水分の調整が行われる。併せて薬品が添加され
る。流量調節計２２はパルプ生産量設定手段１により設
定された、生産量に相当する流量値になるようにパルプ
の流量を制御する。パルプ濃度計２５は流入する原料パ
ルプの濃度を検出し、シーケンス制御手段２，１１を経
て薬品添加比率演算器３，１２に入力される。図２はパ
ルプの生産量を変更する際のシーケンス動作を説明する
フローチャートである。
【００１０】次に本制御装置の動作を図１に従って説明
する。パルプ生産量設定手段１を操作してパルプの新し
い生産量の信号を出力する。それを受けてＡ薬品添加比
率演算器３は添加薬品流量調節計４のための目標設定値
ＦｒAを次の計算により求める。 ＦｒA＝ＲA×Ｆ（ｍ3／ｈ） ＦｒAは添加薬品流量調節計の目標設定値である。（ｍ3
／ｈ） ＲAは晒工程にあるパルプ液に対するＡ薬品添加比率で
ある。
する。パルプ生産量設定手段１を操作してパルプの新し
い生産量の信号を出力する。それを受けてＡ薬品添加比
率演算器３は添加薬品流量調節計４のための目標設定値
ＦｒAを次の計算により求める。 ＦｒA＝ＲA×Ｆ（ｍ3／ｈ） ＦｒAは添加薬品流量調節計の目標設定値である。（ｍ3
／ｈ） ＲAは晒工程にあるパルプ液に対するＡ薬品添加比率で
ある。
【００１１】原料パルプの種類や運転条件、薬品の種
類、濃度、温度によって選択される。別途求めておく。
Ｆは新しいパルプ生産量であり、パルプ生産量設定手段
１で設定し、パルプ流量調節計２２により制御し維持さ
れるパルプ液の晒処理流量である。（ｍ3／ｈ） 上記計算結果を受けて添加薬品流量調節計４はこの新し
い目標設定値ＦｒAにより制御を開始する。同時にパル
プの新しい生産量の信号を受けて、Ａ反応塔２０のレベ
ル演算器７は液位調節計８のための液位の目標設定値Ｌ
SVAを次の計算により求める。
類、濃度、温度によって選択される。別途求めておく。
Ｆは新しいパルプ生産量であり、パルプ生産量設定手段
１で設定し、パルプ流量調節計２２により制御し維持さ
れるパルプ液の晒処理流量である。（ｍ3／ｈ） 上記計算結果を受けて添加薬品流量調節計４はこの新し
い目標設定値ＦｒAにより制御を開始する。同時にパル
プの新しい生産量の信号を受けて、Ａ反応塔２０のレベ
ル演算器７は液位調節計８のための液位の目標設定値Ｌ
SVAを次の計算により求める。
【００１２】ＬSVA＝（Ｆ×ＤO×ＴA）×１００／（ＣA
×ＤA） （％） ＬSVAはＡ反応塔の液位設定値であり有効塔高に対する
比である。（％） Ｆは上記と同じパルプの新しい生産量である。（ｍ3／
ｈ） ＤAはＡ反応塔内で維持すべきパルプ濃度であり原料や
運転条件の変更にともなって変更されることがある。連
続または不連続に計測して求めておく。（％） ＴAは塔内でのパルプの必要な滞留時間であり液位、薬
品の種類、濃度、温度 に依存する。別途求めておく。（ｈ） ＣAはＡ反応塔の有効容積である。（ｍ3） ＤOは供給パルプ濃度である。（％） この計算結果を受けてＡ反応塔液位調節計８は新しい目
標設定値ＬSVAにより制御を開始する。
×ＤA） （％） ＬSVAはＡ反応塔の液位設定値であり有効塔高に対する
比である。（％） Ｆは上記と同じパルプの新しい生産量である。（ｍ3／
ｈ） ＤAはＡ反応塔内で維持すべきパルプ濃度であり原料や
運転条件の変更にともなって変更されることがある。連
続または不連続に計測して求めておく。（％） ＴAは塔内でのパルプの必要な滞留時間であり液位、薬
品の種類、濃度、温度 に依存する。別途求めておく。（ｈ） ＣAはＡ反応塔の有効容積である。（ｍ3） ＤOは供給パルプ濃度である。（％） この計算結果を受けてＡ反応塔液位調節計８は新しい目
標設定値ＬSVAにより制御を開始する。
【００１３】反応塔液位調節計８が制御動作をした結
果、Ａ反応塔２０の新しい液位が設定偏差内に収まった
事が検出されると、シーケンス制御手段の動作はシーケ
ンス２に進む。このステップは図２に示している。また
パルプ生産量設定手段１を操作してパルプの新しい生産
量の信号が出力されると、それを受けてＢ薬品添加比率
演算器１２は添加薬品流量調節計１３のための目標設定
値ＦｒBを次の計算により求める。
果、Ａ反応塔２０の新しい液位が設定偏差内に収まった
事が検出されると、シーケンス制御手段の動作はシーケ
ンス２に進む。このステップは図２に示している。また
パルプ生産量設定手段１を操作してパルプの新しい生産
量の信号が出力されると、それを受けてＢ薬品添加比率
演算器１２は添加薬品流量調節計１３のための目標設定
値ＦｒBを次の計算により求める。
【００１４】ＦｒB＝ＲB×Ｆ（ｍ3／ｈ） ＦｒBは添加薬品流量調節計の目標設定値（ｍ3／ｈ） ＲBは晒工程にあるパルプ液に対するＢ薬品添加比率 原料パルプの種類や運転条件、薬品の種類、濃度、温度
によって選択される。別途求めておく。 Ｆは新しいパルプ生産量である。（ｍ3／ｈ） 上記計算結果を受けて添加薬品流量調節計１３はこの新
しい目標設定値ＦｒBにより制御を開始する。同時に新
しいパルプの生産量の信号を受けて、Ｂ反応塔２２の液
位演算器１６は液位調節計１７のための液位の目標設定
値ＬSVBを次の計算により求める。
によって選択される。別途求めておく。 Ｆは新しいパルプ生産量である。（ｍ3／ｈ） 上記計算結果を受けて添加薬品流量調節計１３はこの新
しい目標設定値ＦｒBにより制御を開始する。同時に新
しいパルプの生産量の信号を受けて、Ｂ反応塔２２の液
位演算器１６は液位調節計１７のための液位の目標設定
値ＬSVBを次の計算により求める。
【００１５】ＬSVB＝（Ｆ×Ｄ0×ＴB）×１００／（ＣB
×ＤB） （％） ＬSVBはＢ反応塔の液位設定値であり有効塔高に対する
比（％） Ｆはパルプの新しい生産量（ｍ3／ｈ） ＤBはＢ反応塔内で維持すべきパルプ濃度であり原料や
運転条件の変更にともなって変更されることがある。連
続または不連続に計測して求めておく。（％） ＴBは塔内でのパルプの必要な滞留時間（ｈ）であり液
位、薬品の種類、濃度、温度に依存する時間であり、別
途求めておく。 ＣBはＢ反応塔の有効容積である。（ｍ3） Ｄ0は供給パルプ濃度である。（％）
×ＤB） （％） ＬSVBはＢ反応塔の液位設定値であり有効塔高に対する
比（％） Ｆはパルプの新しい生産量（ｍ3／ｈ） ＤBはＢ反応塔内で維持すべきパルプ濃度であり原料や
運転条件の変更にともなって変更されることがある。連
続または不連続に計測して求めておく。（％） ＴBは塔内でのパルプの必要な滞留時間（ｈ）であり液
位、薬品の種類、濃度、温度に依存する時間であり、別
途求めておく。 ＣBはＢ反応塔の有効容積である。（ｍ3） Ｄ0は供給パルプ濃度である。（％）
【００１６】この計算結果を受けてＢ反応塔液位調節計
１７は新しい目標設定値ＬSVBにより制御を開始する。
反応塔液位調節計１７が制御動作をした結果、Ｂ反応塔
２２の新しい液位が設定偏差内に収まった事が検出され
ると、シーケンス制御は終了し、新しく生産量が設定さ
れるまでこの値を持続する。また上記方法で求めた添加
薬品流量調節計の目標設定値（ｍ3／ｈ）は、パルプの
新しく変更された流量値が薬品注入点に到達する時刻に
合わせて新しい目標設定値（ｍ3／ｈ）に切り換える。
その切り換えはシーケンス制御手段により新流量が下流
へ移行する時刻Ｔ1，Ｔ2に合わせて順次実施する。その
到達時間は予め求めておく。
１７は新しい目標設定値ＬSVBにより制御を開始する。
反応塔液位調節計１７が制御動作をした結果、Ｂ反応塔
２２の新しい液位が設定偏差内に収まった事が検出され
ると、シーケンス制御は終了し、新しく生産量が設定さ
れるまでこの値を持続する。また上記方法で求めた添加
薬品流量調節計の目標設定値（ｍ3／ｈ）は、パルプの
新しく変更された流量値が薬品注入点に到達する時刻に
合わせて新しい目標設定値（ｍ3／ｈ）に切り換える。
その切り換えはシーケンス制御手段により新流量が下流
へ移行する時刻Ｔ1，Ｔ2に合わせて順次実施する。その
到達時間は予め求めておく。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、調節計器とシーケンス
制御装置を組み合わせることにより、パルプの生産量が
変更されと、プラントの下流に向けて新しい生産量に切
り替わるのに合わせて、薬品の添加量を変更し、下流側
の反応塔内の滞留時間を考慮して操業レベルの変更を行
い、新しい生産量へのスムーズな移行が可能となる。従
って薬品の損失やパルプ中への薬品の残留量が多くな
る、又は処理するパルプの量に対して処理のための薬品
が不足する等の問題は解消され、製品の品質を向上させ
る効果がある。
制御装置を組み合わせることにより、パルプの生産量が
変更されと、プラントの下流に向けて新しい生産量に切
り替わるのに合わせて、薬品の添加量を変更し、下流側
の反応塔内の滞留時間を考慮して操業レベルの変更を行
い、新しい生産量へのスムーズな移行が可能となる。従
って薬品の損失やパルプ中への薬品の残留量が多くな
る、又は処理するパルプの量に対して処理のための薬品
が不足する等の問題は解消され、製品の品質を向上させ
る効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示した計装ブロック図であ
る。
る。
【図２】本装置の動作を説明するフローチャートであ
る。
る。
１ パルプ生産量設定手段 ２，１１ シーケンス制御手段 ３，１２ 生産量に対する薬品の添加比率演算器 ４，１３ 薬品流量調節計 ５，１４ 薬品流量発信器 ６，１５ 薬品流量調節弁 ７，１６ 反応塔液位演算器 ８，１７ 反応塔液位調節計 ９，１８ 反応塔液位発信器 １０，１９ 反応塔液位調節弁 ２０，２２ Ａ反応塔，Ｂ反応塔 ２１ ドラムフイルタ− ２２ パルプ流量調節計 ２３ パルプ流量計 ２４ パルプ調節弁 ２５ パルプ濃度計 ‐
Claims (1)
- 【請求項１】パルプを漂白するための晒工程において、 設定されたパルプの生産量に適合するように晒薬品の添
加流量を計算する比率演算器と、 その比率演算器により求められた晒薬品の添加流量を目
標設定値とする流量調節手段と、 パルプの生産量、濃度、滞留時間、反応塔の容積とから
反応塔内の反応液の液位を計算する液位演算器と、 その液位演算器により求められた液位を目標設定値とす
る反応塔の液位調節手段と、 パルプの生産量の変更に従って、晒薬品の添加流量を変
更するために比率演算器へ計算値の更新を指令するとと
もに、液位演算器へ計算値の更新を指令し、新しい生産
量に基づくパルプの流量値が下流の薬品注入点に移行す
るのに従って順次新しい設定値で調節動作をさせること
を指令する制御手段とから構成することを特徴とするパ
ルプの晒制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4332887A JP2973754B2 (ja) | 1992-12-14 | 1992-12-14 | パルプの晒制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4332887A JP2973754B2 (ja) | 1992-12-14 | 1992-12-14 | パルプの晒制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06184972A JPH06184972A (ja) | 1994-07-05 |
| JP2973754B2 true JP2973754B2 (ja) | 1999-11-08 |
Family
ID=18259913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4332887A Expired - Fee Related JP2973754B2 (ja) | 1992-12-14 | 1992-12-14 | パルプの晒制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2973754B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114326573B (zh) * | 2021-12-24 | 2023-10-10 | 浙江华章科技有限公司 | 一种基于plc系统的连续配浆方法及系统 |
-
1992
- 1992-12-14 JP JP4332887A patent/JP2973754B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH06184972A (ja) | 1994-07-05 |
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