JP2968881B2 - プリント回路用液状ソルダーレジストインク組成物 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、プリント配線基板の製
造に適した、希アルカリ水溶液で現像可能な液状ソルダ
ーレジストインク組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、民生用及び産業用の各種プリ
ント配線基板のレジストパターン形成法には、スクリー
ン印刷法が多く用いられている。しかし、近年、印刷配
線板の配線密度が高まると共にパターン形成にも厳密な
寸法精度が要求されるようになってきたため、解像度が
低く、印刷時のインクのにじみ及び線間へのインクの埋
り不良が発生しやすいスクリーン印刷法では最近の高密
度化に対応しきれなくなっている。そこで、このような
問題を解決するために、ドライフィルムや液状の現像可
能なレジストインクが開発され、その中でも特に希アル
カリ水溶液で現像可能なものが注目されている。

【０００３】このような液状レジストインク組成物とし
て、特公昭５６−４０３２９号及び特公昭５７−４５７
８５号公報に、エポキシ樹脂に不飽和モノカルボン酸を
反応させると共に多塩基酸無水物を付加してなる反応生
成物を必須成分とする組成物が示されている。また、特
開昭６１−２４３８６９号公報に、ノボラック型エポキ
シアクリレートに酸無水物を付加してなる希アルカリ水
溶液に可溶な樹脂、光重合開始剤、希釈剤及びエポキシ
化合物からなる熱硬化性成分を含有する希アルカリ現像
型の液状レジストインク用感光性樹脂組成物が開示され
ている。上記公報に記載された感光性樹脂組成物中には
多塩基酸無水物を付加したエポキシアクリレート（以
下、多塩基酸付加型エポキシアクリレートと言う）が使
用されている。

【０００４】ところで、トリグリシジルイソシアヌレー
トは、それ自体、耐熱性や耐薬品性等の優れた特性を有
するため、希アルカリ現像型液状レジストインク組成物
の熱硬化成分として広く利用され、例えば特開昭６３−
２０５６５０号公報等にその成分を配合した液状レジス
トインク組成物が開示されている。

【０００５】そこで、前記多塩基酸付加型エポキシアク
リレートと同様の製法でトリグリシジルイソシアヌレー
トから誘導された多塩基酸付加型エポキシアクリレート
を希アルカリ現像型液状レジストインク組成物に使用す
ることが考えられる。

【０００６】しかし、前記トリグリシジルイソシアヌレ
ートから誘導された多塩基酸付加型エポキシアクリレー
トは、使用する不飽和モノカルボン酸の種類にもよるが
Ｃ＝Ｃ基の含有率が高く、光硬化性には優れるものの、
多くの場合、常温で液状又は高粘着性樹脂の形態を示す
ため、組成物中に多く配合するとプリキュア後における
皮膜の粘着性が強くなると共にパターンの接触露光時に
パターンフィルムの汚れ及び貼り付き等を生じ、実用に
供することができなかった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、プリ
キュア後における優れた被膜特性によりパターンの接触
露光を容易に行うことができ、しかも可撓性、基材密着
性、はんだ耐熱性及び耐電蝕性にも優れた、希アルカリ
現像可能なプリント回路用液状ソルダーレジストインク
組成物を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明に係る希アルカリ
水溶液で現像可能な液状ソルダーレジストインク組成物
は、 Ａ．トリグリシジルイソシアヌレート及びノボラック型
エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸との反応物に、イ
ソシアネート基を分子中に少なくとも２個有するイソシ
アネート化合物及び飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物
を反応させて得られ、トリグリシジルイソシアヌレート
及びノボラック型エポキシ樹脂からなる全エポキシ化合
物中にトリグリシジルイソシアヌレートが少なくとも２
５重量％含まれてなる紫外線硬化性樹脂、 Ｂ．光重合開始剤、 Ｃ．希釈剤及び Ｄ．熱硬化性エポキシ化合物 を含有してなることを特徴とするものである。

【０００９】以下、本発明を詳細に説明する。 〈Ａ．紫外線硬化性樹脂について〉 紫外線硬化性樹脂は、既述のように、トリグリシジルイ
ソシアヌレート及びノボラック型エポキシ樹脂と不飽和
モノカルボン酸との反応物に、イソホロンジイソシアネ
ート等の、イソシアネート基を分子中に少なくとも２個
有するイソシアネート化合物及び飽和若しくは不飽和多
塩基酸無水物を反応させて得られる。

【００１０】不飽和モノカルボン酸としては、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸及び桂皮酸等を
挙げることができるが、特にアクリル酸が好ましい。

【００１１】また、イソシアネート化合物としては、例
えば、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−ト
リレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネー
ト、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシア
ネート、トルイジンジイソシアネート、リジンジイソシ
アネート、トリメチレンジイソシアネート、テトラメチ
レンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、トリ
フェニルメタントリイソシアネート及びポリメチレンポ
リフェニルポリイソシアネート等を挙げることができる
が、特にイソホロンジイソシアネート、水添キシリレン
ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート及びキシ
リレンジイソシアネート等が好ましい。

【００１２】さらに、飽和若しくは不飽和多塩基酸無水
物としては、例えば、無水マレイン酸、無水コハク酸、
無水イタコン酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタ
ル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナ
ジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸及びメチルヘキサ
ヒドロ無水フタル酸等の２塩基酸無水物、並びに無水ト
リメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノ
ンテトラカルボン酸及びメチルシクロヘキセンテトラカ
ルボン酸無水物等の３塩基酸以上の酸無水物を挙げるこ
とができる。

【００１３】紫外線硬化性樹脂は、例えば、トリグリシ
ジルイソシアヌレート及びノボラック型エポキシ樹脂と
不飽和モノカルボン酸とを反応させてエポキシアクリレ
ートを合成し、次いでこれにイソシアネート化合物を反
応させた後、酸無水物を反応させて得られる。

【００１４】さらに詳細に説明すると、トリグリシジル
イソシアヌレート及びノボラック型エポキシ樹脂をカル
ビトールアセテート、セロソルブアセテート及びメチル
エチルケトン等の有機溶剤に溶解し、ハイドロキノン及
びハイドロキノンモノメチルエーテル等の熱重合禁止
剤、並びにベンジルジメチルアミン及びトリエチルアミ
ン等の第３級アミン類、並びにトリメチルベンジルアン
モニウムクロライド及びメチルトリエチルアンモニウム
クロライド等の第４級アンモニウム塩類、或はさらにト
リフェニルスチビン等の触媒を使用して、アクリル酸等
の不飽和モノカルボン酸をエポキシ基の１化学当量に対
して好ましくは約０．７〜１．３化学当量、特に好まし
くは約０．９〜１．１化学当量となる比で、常法により
好ましくは６０〜１５０℃、特に好ましくは８０〜１２
０℃の反応温度で反応させて、エポキシアクリレートか
らなる第一の反応生成物が得られる。

【００１５】次いで、前記第一の反応生成物にイソシア
ネート化合物を、前者の２級水酸基１化学当量に対して
好ましくはイソシアネート基０．０１〜０．９０化学当
量、特に好ましくはイソシアネート基０．０５〜０．５
０化学当量となる比で、常法により触媒としてジブチル
スズジラウレート等の有機スズ化合物若しくはベンジル
ジメチルアミン等の第３級アミン類を加えて又は加えず
に先の反応で配合した触媒で、２０〜１００℃の反応温
度で加熱撹拌により反応させて、第二の反応生成物が得
られる。なお、第一の反応生成物中の水酸基１化学当量
に対するイソシアネート基の前記反応量が０．０１化学
当量より少ない場合は密着性向上等の効果が充分でな
く、また０．９０化学当量より多い場合は希釈剤に対す
る紫外線硬化性樹脂の溶解性が不良となり易く、特に
０．０５〜０．５０化学当量の範囲で最良のインク特性
が得られる。

【００１６】続いて、前記第二の反応生成物に酸無水物
を、先の第一の反応生成物中の水酸基１化学当量に対し
て酸無水物０．９９〜０．１０化学当量となる比で反応
させる。このとき、酸無水物としては前記飽和若しくは
不飽和多塩基酸無水物より少なくとも１種を選択し、常
法により７０〜１２０℃の反応温度で加熱撹拌により反
応させて、所要の紫外線硬化性樹脂が得られる。

【００１７】なお、紫外線硬化性樹脂は、前記の合成例
に限らず、常法での種々の合成法によって合成可能であ
り、例えばエポキシ樹脂にアクリル酸等の不飽和モノカ
ルボン酸を反応させてエポキシアクリレートとした後、
先ず酸無水物を反応させ、その後にイソシアネート化合
物等を反応させて合成することもできる。

【００１８】前記第一の反応生成物の合成に際しては、
既述のように、トリグリシジルイソシアヌレートに、そ
の他のエポキシ化合物として、ノボラック型エポキシ樹
脂（フェノールノボラック型、クレゾールノボラック
型）が併用される。この場合、トリグリシジルイソシア
ヌレートの優れた特徴を保持するために、トリグリシジ
ルイソシアヌレート及びノボラック型エポキシ樹脂から
なる全エポキシ化合物中にトリグリシジルイソシアヌレ
ートが少なくとも２５重量％含まれる必要があり、特に
４０重量％以上含まれることが好ましい。

【００１９】得られた紫外線硬化性樹脂の酸価は、３０
〜１６０ｍｇＫＯＨ／ｇ程度であることが好ましい。そ
の酸価が３０より小さい場合はアルカリ現像液に対する
溶解性が悪くなり、逆に１６０より大きい場合は硬化膜
の耐アルカリ性及び電気特性等のレジストとして重要な
特性を低下させる要因となる。

【００２０】なお、前記紫外線硬化性樹脂には、公知の
多塩基酸付加型エポキシアクリレート、及びトリグリシ
ジルイソシアヌレート以外のエポキシ化合物から本発明
に係る紫外線硬化性樹脂と同様の製法で誘導した紫外線
硬化性樹脂等を適宜併用することもできる。

【００２１】〈Ｂ．光重合開始剤について〉 光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベン
ゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとそのアル
キルエーテル類、並びにアセトフェノン、２，２−ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエト
キシ−２−フェニルアセトフェノン、１，１−ジクロロ
アセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン及び２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン等の
アセトフェノン類、並びに２−メチルアントラキノン及
び２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類、並
びに２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチ
ルチオキサントン、２−クロロチオキサントン及び２，
４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン
類、並びにアセトフェノンジメチルケタール及びベンジ
ルジメチルケタール等のケタール類、並びにベンゾフェ
ノン等のベンゾフェノン類又はキサントン類を挙げるこ
とができ、これらは安息香酸系又は第三級アミン系等の
公知の光重合促進剤と併用してもよい。

【００２２】前記光重合開始剤は、紫外線硬化性樹脂１
００重量部に対して好ましくは０．１〜３０重量部、特
に好ましくは１〜２５重量部配合される。

【００２３】〈Ｃ．希釈剤について〉 希釈剤としては、光重合性モノマー及び／又は有機溶剤
を使用することができる。前記光重合性モノマーとし
て、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリド
ン、アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリ
コールアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリ
レート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリレート
及びメラミンアクリレート、又は前記アクリレートに対
応する各メタクリレート等の水溶性モノマー、並びにジ
エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジアクリレート、フ
ェノキシエチルアクリレートテトラヒドロフルフリルア
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、トリメチロ
ールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、イソボニルアクリレー
ト、シクロペンタニル（モノ又はジ）アクリレート、シ
クロペンテニル（モノ又はジ）アクリレート、又は前記
アクリレートに対応する各メタクリレート類及び多塩基
酸とヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとのモノ
−、ジ−、トリ−又はそれ以上のポリエステル等の非水
溶性モノマー、並びにビスフェノールＡ型エポキシアク
リレート、フェノールノボラック型エポキシアクリレー
ト、クレゾールノボラック型エポキシアクリレート等の
エポキシアクリレート、及びポリエステルアクリレー
ト、ウレタンアクリレート等の高分子量アクリレートモ
ノマー等を挙げることができ、前記水溶性モノマー、非
水溶性モノマー及び高分子量アクリレートモノマー等は
各々単独で或は適宜互いに組み合わせて使用することが
できる。なお、前記エポキシアクリレートは、イソシア
ネート基を分子中に少なくとも２個有する化合物又は多
塩基酸無水物等で一部架橋されていてもよい。

【００２４】また、前記有機溶剤としては、例えば、メ
チルエチルケトン及びシクロヘキサノン等のケトン類、
並びにトルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素類、並
びにセロソルブ及びブチルセロソルブ等のセロソルブ
類、並びにカルビトール及びブチルカルビトール等のカ
ルビトール類、並びに酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソ
ルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート及びブチ
ルカルビトールアセテート等の酢酸エステル類等を挙げ
ることができる。

【００２５】前記水溶性モノマー、非水溶性モノマー及
び高分子量アクリレートモノマー等の光重合性モノマー
は、紫外線硬化性樹脂を希釈し、塗布し易い状態にする
と共に酸価を調整し、光重合性を与える。水溶性モノマ
ーを単独で或は非水溶性モノマーや高分子量アクリレー
トモノマー等と組み合わせて使用する場合は、水溶性モ
ノマーの配合比率が多くなるとアルカリ水溶液への溶解
性が向上するが、これを多用すると完全硬化したレジス
ト材の耐水性が低下するので、レジスト材がアルカリ水
溶液に難溶とならない程度に、好ましくは紫外線硬化性
樹脂の１００重量％以下の範囲で配合すればよい。ま
た、前記有機溶剤は、紫外線硬化性樹脂を溶解、希釈
し、液状として塗布可能にすると共に乾燥により造膜さ
せる。

【００２６】前記希釈剤は、単独で又は２種以上の混合
物として、紫外線硬化性樹脂１００重量部に対して好ま
しくは３０〜３５０重量部、特に好ましくは５０〜２５
０重量部配合される。

【００２７】〈Ｄ．熱硬化性エポキシ化合物について〉 熱硬化性エポキシ化合物として、例えばビスフェノール
Ａ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、
フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、Ｎ−グリシジル型エポキシ樹脂
又は脂環式エポキシ樹脂等の、一分子中に２個以上のエ
ポキシ基を有するものを各々単独で或は適宜互いに組み
合わせて使用することができ、これらはイソシアネート
基を分子中に少なくとも２個有する化合物又は多塩基酸
無水物等で一部架橋されていてもよい。前記熱硬化性エ
ポキシ化合物は、前記紫外線硬化性樹脂１００重量部に
対して好ましくは１０〜１５０重量部、特に好ましくは
３０〜１００重量部配合される。

【００２８】以上の各成分Ａ〜Ｄを配合してなる液状ソ
ルダーレジストインク組成物には、必要に応じて、イミ
ダゾール誘導体、ポリアミン類、グアナミン類、３級ア
ミン類、４級アンモニウム塩類、ポリフェノール類及び
多塩基酸無水物等のエポキシ樹脂硬化剤及び硬化促進剤
類、並びに硫酸バリウム、酸化珪素、タルク、クレー及
び炭酸カルシウム等の充填剤、並びにフタロシアニンブ
ルー、フタロシアニングリーン、酸化チタン及びカーボ
ンブラック等の着色用顔料、並びに消泡剤、密着性付与
剤又はレベリング剤等の各種添加剤、或はハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロー
ル、ターシャリブチルカテコール及びフェノチアジン等
の重合禁止剤等を加えてもよい。

【００２９】本発明に係る液状レジストインク組成物の
使用方法として、例えば、プリント配線基板にスプレ
ー、ロールコーター又はスクリーン印刷等により塗布し
た後、溶剤を揮発させるために７０〜９０℃でプリキュ
アを行ない、その後、パターンを描いたマスクを乾燥し
たインク表面に接触させ又は接触させずに当てがい、ケ
ミカルランプ、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドラン
プ等を用いて紫外線を照射することによりパターンを形
成し、現像後、後加熱することにより、目的とするレジ
スト皮膜を形成させることができる。また、この組成物
は、ソルダーレジストとしてのみならず、熱による後硬
化を加えないことによりエッチングレジストとしても使
用することができる。

【００３０】

【実施例】以下に、実施例及び比較例を示して本発明を
具体的に説明するが、本発明はそれらの実施例に限定さ
れるものではない。なお、以下に使用される「部」及び
「％」は、全て重量基準である。

【００３１】〔実施例１〕ＴＥＰＩＣ−Ｓ（日産化学社製トリグリシジルイソシア
ヌレート）７０部及びエピコート１５４（油化シェルエ
ポキシ社製ノボラックエポキシ樹脂、エポキシ当量１７
８）５３．４部をカルビトールアセテート６１部に加熱
溶解したものに、撹拌下にアクリル酸７４部、ハイドロ
キノン０．１部及びベンジルジメチルアミン０．７部を
加え、９０〜１００℃で２４時間、常法により反応させ
た。この反応液を冷却した後、カルビトールアセテート
２０部、スワゾール１５００（丸善石油化学社製芳香族
系溶剤）８１部、イソホロンジイソシアネート２７部及
びジブチルスズジラウレート０．１部を加え、５０℃で
４時間撹拌下に反応させた。さらに、この反応生成物に
テトラヒドロ無水フタル酸７６部を加え、１００℃に昇
温すると共に約３時間撹拌下に反応させ、紫外線硬化性
樹脂（Ａ−１）を得た。

【００３２】 ［配合成分］ 紫外線硬化性樹脂（Ａ−１） ４０ 部 「エピコート１５４」（油化シェルエポキシ社製ノボラックエポキシ樹脂、エ ポキシ当量１７８） １８ 部 ベンジルジメチルケタール ３ 部 「モダフロー」（モンサント社製レベリング剤） １ 部 シリカ（平均粒径１μｍ） ２５ 部 フタロシアニングリーン ０．５部 「スワゾール１５００」（丸善石油化学社製芳香族系溶剤） １２ 部 ジシアンジアミド ０．５部 ─────────────────────────────────── 合計 １００ 部

【００３３】前記組成の配合成分を３本ロールで混練
し、希アルカリ現像型の液状レジストインクを調製した
後、このインクを、銅箔３５μｍのガラスエポキシ基材
からなる銅張積層板及びこれを予めエッチングしてパタ
ーンを形成しておいたプリント配線基板の全面にスクリ
ーン印刷により塗布し、溶剤を揮発させるために９０℃
でプリキュアを２０分行ない、膜厚２０μｍの乾燥塗膜
を得た。その後、パターンを描いたマスクを塗膜面に直
接当てがい、５００ｍＪの紫外線を照射し、次に１％炭
酸ナトリウム水溶液を現像液として現像することにより
パターンを形成し、さらに１５０℃で３０分間加熱硬化
を行い、テストピースを作成した。

【００３４】〔比較例１〕 ＴＥＰＩＣ−Ｓ（日産化学社製トリグリシジルイソシア
ヌレート）１００部をカルビトールアセテート５７部に
加熱溶解したものに、撹拌下にアクリル酸７４部、ハイ
ドロキノン０．１部及びベンジルジメチルアミン０．７
部を加え、９０〜１００℃で２４時間、常法により反応
させた。この反応液を冷却した後、カルビトールアセテ
ート１０部、スワゾール１５００（丸善石油化学社製芳
香族系溶剤）６７部及びテトラヒドロ無水フタル酸７６
部を加え、１００℃に昇温すると共に約３時間撹拌下に
反応させ、紫外線硬化性樹脂（Ｂ−１）を得た。

【００３５】 ［配合成分］ 紫外線硬化性樹脂（Ｂ−１） ４０ 部 「エピコート１５４」（油化シェルエポキシ社製ノボラックエポキシ樹脂、エ ポキシ当量１７８） １８ 部 ベンジルジメチルケタール ３ 部 「モダフロー」（モンサント社製レベリング剤） １ 部 シリカ（平均粒径１μｍ） ２５ 部 フタロシアニングリーン ０．５部 「スワゾール１５００」（丸善石油化学社製芳香族系溶剤） １２ 部 ジシアンジアミド ０．５部 ─────────────────────────────────── 合計 １００ 部

【００３６】前記組成の配合成分について、実施例１と
同じ方法で希アルカリ現像型の液状レジストインクを調
製すると共にテストピースを作成した。

【００３７】〔比較例２〕 エピコート１５４（油化シェルエポキシ社製ノボラック
エポキシ樹脂、エポキシ当量１７８）１７８部をカルビ
トールアセテート６８部に加熱溶解したものに、撹拌下
にアクリル酸７４部、ハイドロキノン０．１部及びベン
ジルジメチルアミン０．７部を加え、９０〜１００℃で
２４時間、常法により反応させた。この反応液を冷却し
た後、カルビトールアセテート２０部、スワゾール１５
００（丸善石油化学社製芳香族系溶剤）８８部及びテト
ラヒドロ無水フタル酸７６部を加え、１００℃に昇温す
ると共に約３時間撹拌下に反応させ、紫外線硬化性樹脂
（Ｂ−２）を得た。

【００３８】 ［配合成分］ 紫外線硬化性樹脂（Ｂ−２） ４０ 部 「ＴＥＰＩＣ−Ｓ」（日産化学社製トリグリシジルイソシアヌレート） １０ 部 ヒドロキシエチルアクリレート ２ 部 「イルガキュアー９０７」（チバガイギー社製光重合開始剤） ２ 部 シリコーンレベリング剤 ０．５部 タルク（平均粒径３μｍ） １５ 部 フタロシアニングリーン ０．５部 酢酸ブチル ２９．５部 ２−メチルイミダゾール ０．５部 ─────────────────────────────────── 合計 １００ 部

【００３９】前記組成の配合成分について、実施例１と
同じ方法で希アルカリ現像型の液状レジストインクを調
製すると共にテストピースを作成した。

【００４０】〈試験結果〉 前記実施例１及び比較例１〜２で得られた液状ソルダー
レジストインク組成物のテストピースに関する諸物性試
験結果を下記の表１に示す。該試験結果によれば、実施
例１は、比較例１〜２に比べて全般的に優れ、特に、プ
リキュア後の被膜の表面タック、鉛筆硬度、表面性・光
沢、密着性、はんだ耐熱性、耐溶剤性、耐酸性及び絶縁
抵抗値の各試験項目に関して優れた物性を示している。

【００４１】なお、前記実施例１に対する別の参考比較
例として、紫外線硬化性樹脂の合成にノボラック型エポ
キシ樹脂を併用しないものを下記のように調製した。

【００４２】〔参考比較例〕ＴＥＰＩＣ−Ｓ（日産化学社製トリグリシジルイソシア
ヌレート）１００部をカルビトールアセテート６０部に
加熱溶解したものに、撹拌下にアクリル酸７４部、ハイ
ドロキノン０．１部及びベンジルジメチルアミン０．７
部を加え、９０〜１００℃で２４時間、常法により反応
させた。この反応液を冷却した後、カルビトールアセテ
ート１５部、スワゾール１５００（丸善石油化学社製芳
香族系溶剤）７５部、トリレンジイソシアネート２７部
及びジブチルスズジラウレート０．１部を加え、５０℃
で４時間撹拌下に反応させた。さらに、この反応生成物
にテトラヒドロ無水フタル酸７６部を加え、１００℃に
昇温すると共に約３時間撹拌下に反応させ、紫外線硬化
性樹脂を得た。

【００４３】得られた紫外線硬化性樹脂について実施例
１と同様に配合してテストピースを作成すると共に試験
に供したところ、耐金メッキ性について実施例１より劣
ることが判明した。

【００４４】

【表１】

【００４５】

【発明の効果】以上のように、本発明に係るプリント回
路用液状ソルダーレジストインク組成物は、トリグリシ
ジルイソシアヌレートの長所である良好な耐熱性等の性
質を保持しながら基材密着性及び耐電蝕性にも優れ、し
かもプリキュア後における被膜特性に優れているためパ
ターンの接触露光も容易に行うことができ、さらに解像
性、耐溶剤性及び耐メッキ性にも優れたものである。

【００４６】従って、この液状ソルダーレジストインク
組成物は、ソルダーレジストインクやエッチングレジス
トインクとして特に民生用や産業用のプリント配線基板
の製造に好適に使用することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 橋本 壯一 京都府宇治市伊勢田町井尻58番地 互応 化学工業株式会社内 (72)発明者 小田 俊和 京都府宇治市伊勢田町井尻58番地 互応 化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭52−76399（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−160242（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−237112（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−205650（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−173751（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−121444（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−232700（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁶，ＤＢ名) G03F 7/027 - 7/038 H05K 3/06

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】液状ソルダーレジストインク組成物
1. 【請求項１】 Ａ．トリグリシジルイソシアヌレート及
   びノボラック型エポキシ樹脂と不飽和モノカルボン酸と
   の反応物に、イソシアネート基を分子中に少なくとも２
   個有するイソシアネート化合物及び飽和若しくは不飽和
   多塩基酸無水物を反応させて得られ、トリグリシジルイ
   ソシアヌレート及びノボラック型エポキシ樹脂からなる
   全エポキシ化合物中にトリグリシジルイソシアヌレート
   が少なくとも２５重量％含まれてなる紫外線硬化性樹
   脂、 Ｂ．光重合開始剤、 Ｃ．希釈剤及び Ｄ．熱硬化性エポキシ化合物 を含有してなる、希アルカリ水溶液で現像可能なプリン
   ト回路用液状ソルダーレジストインク組成物。