JP2960829B2 - 高圧力充填物を有するエキシマランプ - Google Patents
高圧力充填物を有するエキシマランプInfo
- Publication number
- JP2960829B2 JP2960829B2 JP5013566A JP1356693A JP2960829B2 JP 2960829 B2 JP2960829 B2 JP 2960829B2 JP 5013566 A JP5013566 A JP 5013566A JP 1356693 A JP1356693 A JP 1356693A JP 2960829 B2 JP2960829 B2 JP 2960829B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lamp
- halogen
- pressure
- microwave energy
- operating temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70016—Production of exposure light, i.e. light sources by discharge lamps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/02—Details
- H01J61/12—Selection of substances for gas fillings; Specified operating pressure or temperature
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J61/00—Gas-discharge or vapour-discharge lamps
- H01J61/82—Lamps with high-pressure unconstricted discharge having a cold pressure > 400 Torr
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/044—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by a separate microwave unit
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J65/00—Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
- H01J65/04—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels
- H01J65/042—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field
- H01J65/048—Lamps in which a gas filling is excited to luminesce by an external electromagnetic field or by external corpuscular radiation, e.g. for indicating plasma display panels by an external electromagnetic field the field being produced by using an excitation coil
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/24—Circuit arrangements in which the lamp is fed by high frequency ac, or with separate oscillator frequency
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/26—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc
- H05B41/28—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters
- H05B41/2806—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters with semiconductor devices and specially adapted for lamps without electrodes in the vessel, e.g. surface discharge lamps, electrodeless discharge lamps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B20/00—Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Discharge Lamps And Accessories Thereof (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
- Discharge Lamp (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は改良したエキシマランプ
及びランプバルブに関するものである。
及びランプバルブに関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、所定の物質を処置するために紫外
線を使用する多くの産業上のプロセスが開発されてい
る。幾つかのこのようなプロセスにおいては、該物質は
その上に光硬化性のコーティングを有しており、且つ紫
外線が化学反応により該コーティングを「キュア」即ち
硬化させる。このような光硬化可能なコーティングは、
例えば、透明のものであるか又は染料を加えたものとす
ることが可能であり、且つ平坦な基板や例えば缶等の湾
曲した物体を包含する多様な物体へ付与される。光硬化
可能なコーティングは、更に、集積回路の製造において
使用されるプロセスである半導体フォトリソグラフィを
実施する場合にも使用される。
線を使用する多くの産業上のプロセスが開発されてい
る。幾つかのこのようなプロセスにおいては、該物質は
その上に光硬化性のコーティングを有しており、且つ紫
外線が化学反応により該コーティングを「キュア」即ち
硬化させる。このような光硬化可能なコーティングは、
例えば、透明のものであるか又は染料を加えたものとす
ることが可能であり、且つ平坦な基板や例えば缶等の湾
曲した物体を包含する多様な物体へ付与される。光硬化
可能なコーティングは、更に、集積回路の製造において
使用されるプロセスである半導体フォトリソグラフィを
実施する場合にも使用される。
【0003】光硬化可能コーティングに対して光照射す
るために使用される紫外線ランプは、水銀を含有してお
り、スペクトルの特定の領域に対して強調を加えるため
に1つ又はそれ以上の添加物が存在するバルブ充填物を
使用することが通常である。従って、該ランプにより射
出される光のスペクトルは、水銀元素のスペクトルであ
るか、又は水銀と特定の添加物のスペクトルである。
るために使用される紫外線ランプは、水銀を含有してお
り、スペクトルの特定の領域に対して強調を加えるため
に1つ又はそれ以上の添加物が存在するバルブ充填物を
使用することが通常である。従って、該ランプにより射
出される光のスペクトルは、水銀元素のスペクトルであ
るか、又は水銀と特定の添加物のスペクトルである。
【0004】このようなランプにより発生される水銀の
スペクトルは、200乃至400ナノメータの比較的広
いスペクトル帯域にわたって存在する光照射を有してい
る。該光照射は帯域全体にわたって分布しているので、
帯域全体のうちの特定の狭い部分におけるランプの効率
は比較的低いものである。
スペクトルは、200乃至400ナノメータの比較的広
いスペクトル帯域にわたって存在する光照射を有してい
る。該光照射は帯域全体にわたって分布しているので、
帯域全体のうちの特定の狭い部分におけるランプの効率
は比較的低いものである。
【0005】ある適用場面においては、ランプの光照射
出力の殆どがより幅狭の帯域内に存在するものであるこ
とが望ましい場合がある。その一例として、ある光硬化
可能な物質は、紫外線スペクトルの他の部分における光
照射よりも、比較的狭い250−300ナノメータの帯
域内の紫外線照射に対してより多くの応答性を有してい
る。このような物質は、250−300ナノメータ帯域
内にその光出力の殆どが集中しているランプによってよ
り迅速に硬化させることが可能である。
出力の殆どがより幅狭の帯域内に存在するものであるこ
とが望ましい場合がある。その一例として、ある光硬化
可能な物質は、紫外線スペクトルの他の部分における光
照射よりも、比較的狭い250−300ナノメータの帯
域内の紫外線照射に対してより多くの応答性を有してい
る。このような物質は、250−300ナノメータ帯域
内にその光出力の殆どが集中しているランプによってよ
り迅速に硬化させることが可能である。
【0006】近年、エキシマ光照射を射出する放電装置
が公知となっている。エキシマは、通常の条件下におい
て非拘束の又は弱く拘束された基底状態を有する励起さ
れた不安定な分子化合物であり、従って、古典物理から
は知られていないものである。即ち、エキシマ化合物
は、励起された状態においてのみ存在する。エキシマ化
合物は1マイクロ秒未満で解離し、且つその減衰期間中
に、狭いバンド即ち帯域において光照射の形態で結合エ
ネルギを発散させる。
が公知となっている。エキシマは、通常の条件下におい
て非拘束の又は弱く拘束された基底状態を有する励起さ
れた不安定な分子化合物であり、従って、古典物理から
は知られていないものである。即ち、エキシマ化合物
は、励起された状態においてのみ存在する。エキシマ化
合物は1マイクロ秒未満で解離し、且つその減衰期間中
に、狭いバンド即ち帯域において光照射の形態で結合エ
ネルギを発散させる。
【0007】殆どの通常のエキシマ装置はレーザである
が、最近マイクロ波駆動型エキシマランプが提案されて
いる。Kumagai及びObara著「マイクロ波放
電により励起されたKrF(B⇒X)エキシマランプの
新たな高効率準連続的動作(New High−Eff
iciency Quasi−ContinuousO
peration of A KrF (B⇒X) E
xcimer Lamp Excited by Mi
crowave Discharge)」、アプライド
フィジックスレターズ、 Vol.54,No.26,
1989年6月26日、2619−2621頁の文献に
おいては、約248nmの周りの数ナノメータの非常に
狭いバンド即ち帯域内において光照射を射出するランプ
が記載されている。このランプは、ヘリウムとネオンと
のバッファガス混合物内に少量の弗素とクリプトンとを
含有する充填物を使用している。この文献は、適切な効
率を達成するためにこのランプを低い圧力において動作
させることが必要であり、ハロゲン圧力が1トールで所
望の全圧が50トールにおいて12.1%の効率が得ら
れることが記載されている。この効率は、ある適用場面
においては十分に高いものと言えない場合がある。
が、最近マイクロ波駆動型エキシマランプが提案されて
いる。Kumagai及びObara著「マイクロ波放
電により励起されたKrF(B⇒X)エキシマランプの
新たな高効率準連続的動作(New High−Eff
iciency Quasi−ContinuousO
peration of A KrF (B⇒X) E
xcimer Lamp Excited by Mi
crowave Discharge)」、アプライド
フィジックスレターズ、 Vol.54,No.26,
1989年6月26日、2619−2621頁の文献に
おいては、約248nmの周りの数ナノメータの非常に
狭いバンド即ち帯域内において光照射を射出するランプ
が記載されている。このランプは、ヘリウムとネオンと
のバッファガス混合物内に少量の弗素とクリプトンとを
含有する充填物を使用している。この文献は、適切な効
率を達成するためにこのランプを低い圧力において動作
させることが必要であり、ハロゲン圧力が1トールで所
望の全圧が50トールにおいて12.1%の効率が得ら
れることが記載されている。この効率は、ある適用場面
においては十分に高いものと言えない場合がある。
【0008】
【課題を解決するための手段】最も広義においては、本
発明により、動作温度において約350トール以上の圧
力においてハロゲンを有する充填物を収容するエキシマ
ランプが提供される。本発明によれば、動作期間中にお
けるハロゲン圧力が約750トール以上のものである場
合に更に良好な結果が得られ、且つハロゲン圧力が約6
気圧以上である場合には更に良好な結果が得られる。該
充填物は、ハロゲンを含有するか、又はハロゲンと稀ガ
スとを含有することが可能である。
発明により、動作温度において約350トール以上の圧
力においてハロゲンを有する充填物を収容するエキシマ
ランプが提供される。本発明によれば、動作期間中にお
けるハロゲン圧力が約750トール以上のものである場
合に更に良好な結果が得られ、且つハロゲン圧力が約6
気圧以上である場合には更に良好な結果が得られる。該
充填物は、ハロゲンを含有するか、又はハロゲンと稀ガ
スとを含有することが可能である。
【0009】更に、本発明によれば、稀ガスとハロゲン
とを含有する充填物を有しており、その充填物の全圧が
動作温度において約2.5気圧以上であり、且つ好適に
は10気圧以上であるエキシマランプが提供される。本
発明のこの側面によれば、ハロゲンの分圧は350トー
ル以上であるか又はそれ以下とすることが可能である。
とを含有する充填物を有しており、その充填物の全圧が
動作温度において約2.5気圧以上であり、且つ好適に
は10気圧以上であるエキシマランプが提供される。本
発明のこの側面によれば、ハロゲンの分圧は350トー
ル以上であるか又はそれ以下とすることが可能である。
【0010】特定のスペクトル範囲の強調を与えるため
に該充填物に特定の物質を添加することが可能である。
例えば、250−350ナノメータ範囲内においてスペ
クトルの強調を与えるために充填物を含有するエキシマ
に亜鉛を添加することが可能である。更に、該充填物
は、ハロゲンの組合わせ、稀ガスと複数個のハロゲンと
の組合わせ、複数個の稀ガス/ハロゲンの組合わせ、又
はハロゲンと複数個の稀ガスとの組合わせを有すること
が可能である。一方、該充填物はハロゲンのみから構成
することが可能であり、又ハロゲンと稀ガスとの組合わ
せから構成することが可能である。
に該充填物に特定の物質を添加することが可能である。
例えば、250−350ナノメータ範囲内においてスペ
クトルの強調を与えるために充填物を含有するエキシマ
に亜鉛を添加することが可能である。更に、該充填物
は、ハロゲンの組合わせ、稀ガスと複数個のハロゲンと
の組合わせ、複数個の稀ガス/ハロゲンの組合わせ、又
はハロゲンと複数個の稀ガスとの組合わせを有すること
が可能である。一方、該充填物はハロゲンのみから構成
することが可能であり、又ハロゲンと稀ガスとの組合わ
せから構成することが可能である。
【0011】本発明のマイクロ波励起型実施例によれ
ば、マイクロ波エネルギはマグネトロン又はその他の装
置により供給される。該充填物は適宜の被包体内に収容
され、該被包体は例えば石英から構成される。マイクロ
波エネルギは結合手段により該充填物へ結合され、該結
合手段は、マイクロ波エネルギに対しては透過性ではな
いが該充填物により射出されたエキシマ光に対しては実
質的に透過性のメッシュを有しており、該光照射がラン
プの外側へ出力することを可能としている。
ば、マイクロ波エネルギはマグネトロン又はその他の装
置により供給される。該充填物は適宜の被包体内に収容
され、該被包体は例えば石英から構成される。マイクロ
波エネルギは結合手段により該充填物へ結合され、該結
合手段は、マイクロ波エネルギに対しては透過性ではな
いが該充填物により射出されたエキシマ光に対しては実
質的に透過性のメッシュを有しており、該光照射がラン
プの外側へ出力することを可能としている。
【0012】
【実施例】図1を参照すると、水銀充填物を有するマイ
クロ波駆動型ランプにより発生される紫外線スペクトル
が示されている。理解される如く、このランプの紫外線
パワー出力は200−400ナノメータの範囲にわたっ
て分布している。上述した如く、このパワーがより狭い
範囲に集中していることが望ましい場合がある。何故な
らば、特定の光硬化可能物質がこのような狭い範囲内の
光に対してのみ応答する場合には、そのパワーの残部は
ほぼ浪費されるからである。
クロ波駆動型ランプにより発生される紫外線スペクトル
が示されている。理解される如く、このランプの紫外線
パワー出力は200−400ナノメータの範囲にわたっ
て分布している。上述した如く、このパワーがより狭い
範囲に集中していることが望ましい場合がある。何故な
らば、特定の光硬化可能物質がこのような狭い範囲内の
光に対してのみ応答する場合には、そのパワーの残部は
ほぼ浪費されるからである。
【0013】本発明の第一実施例に基づくランプを図2
乃至5に示してある。このランプは、被包体即ちバルブ
4を有しており、該被包体(バルブ)は、エキシマ形成
用の充填物を収容している。このランプは、更に、マグ
ネトロン20を有すると共に、マグネトロン20により
発生されたマイクロ波エネルギをバルブの充填物に対し
て結合させる結合手段を有している。
乃至5に示してある。このランプは、被包体即ちバルブ
4を有しており、該被包体(バルブ)は、エキシマ形成
用の充填物を収容している。このランプは、更に、マグ
ネトロン20を有すると共に、マグネトロン20により
発生されたマイクロ波エネルギをバルブの充填物に対し
て結合させる結合手段を有している。
【0014】該結合手段は、リフレクタ即ち反射器6と
メッシュ8とから構成されるマイクロ波空胴2を有して
いる。図2に示される如く、リフレクタ6はスロット1
6及び18を有しており、該スロットを介してマイクロ
波エネルギが結合即ち供給される。更に、メッシュ8は
実質的にマイクロ波エネルギに対しては不透過性であ
り、従ってマイクロ波エネルギを空胴内に閉込め、一方
メッシュ8はバルブ4内の充填物により射出される光照
射に対しては実質的に透過性である。
メッシュ8とから構成されるマイクロ波空胴2を有して
いる。図2に示される如く、リフレクタ6はスロット1
6及び18を有しており、該スロットを介してマイクロ
波エネルギが結合即ち供給される。更に、メッシュ8は
実質的にマイクロ波エネルギに対しては不透過性であ
り、従ってマイクロ波エネルギを空胴内に閉込め、一方
メッシュ8はバルブ4内の充填物により射出される光照
射に対しては実質的に透過性である。
【0015】図1乃至4に示した特定のランプにおける
マイクロ波結合手段の別の部分は反転した箱形の金属か
らなる構成体22を有している。図2,4,5を参照す
ると、この構成体が、側壁部材48と角度をもって配設
された部外50及び52とから構成されていることが理
解される。構成体22は、図2及び5に示した如く、リ
フレクタ6に嵌合され、且つリフレクタと一体となって
この構成体は、マイクロ波エネルギを結合スロットへ供
給するためのマイクロ波包囲体乃至は導波手段を形成す
る。マグネトロン発射器が、チャンバ端部から等距離に
位置した開口24内に配設されており、従って該発射器
は結合スロットから等距離において該導波手段内に位置
されている。反転箱形の構成体22の底部はフランジ2
4及び26を有しており、該フランジは例えば螺子等に
よりリフレクタから延在するフランジ28及び32へ固
着することが可能である。
マイクロ波結合手段の別の部分は反転した箱形の金属か
らなる構成体22を有している。図2,4,5を参照す
ると、この構成体が、側壁部材48と角度をもって配設
された部外50及び52とから構成されていることが理
解される。構成体22は、図2及び5に示した如く、リ
フレクタ6に嵌合され、且つリフレクタと一体となって
この構成体は、マイクロ波エネルギを結合スロットへ供
給するためのマイクロ波包囲体乃至は導波手段を形成す
る。マグネトロン発射器が、チャンバ端部から等距離に
位置した開口24内に配設されており、従って該発射器
は結合スロットから等距離において該導波手段内に位置
されている。反転箱形の構成体22の底部はフランジ2
4及び26を有しており、該フランジは例えば螺子等に
よりリフレクタから延在するフランジ28及び32へ固
着することが可能である。
【0016】構成体22は、更に、図5に示した如く、
部材32及び34を有することが可能であり、これらの
部材は側壁40及び42の内側の長さ方向に沿って延在
しており、且つこれらの側壁をリフレクタに接続してい
る。部材32及び34は導波路手段の高さを短くする硬
化を有すると共に、マイクロ波エネルギのスロット16
及び18に対するより効率的な結合を与えている。さら
に、導波路手段の側壁はその中に結合孔54を有してお
り、且つリフレクタ6は、図3に示した如く、その上部
に沿って冷却用の孔56を有している。本ランプは、導
波路手段及びマイクロ波チャンバを貫通して且つランプ
被包体(バルブ)を通過して空気又はその他の冷却用ガ
スを流通させることにより冷却される。
部材32及び34を有することが可能であり、これらの
部材は側壁40及び42の内側の長さ方向に沿って延在
しており、且つこれらの側壁をリフレクタに接続してい
る。部材32及び34は導波路手段の高さを短くする硬
化を有すると共に、マイクロ波エネルギのスロット16
及び18に対するより効率的な結合を与えている。さら
に、導波路手段の側壁はその中に結合孔54を有してお
り、且つリフレクタ6は、図3に示した如く、その上部
に沿って冷却用の孔56を有している。本ランプは、導
波路手段及びマイクロ波チャンバを貫通して且つランプ
被包体(バルブ)を通過して空気又はその他の冷却用ガ
スを流通させることにより冷却される。
【0017】マグネトロン22より発生されるマイクロ
波エネルギの周波数及びチャンバ2の長手方向寸法は、
動作期間中に、長手方向におけるチャンバーの中間位置
に最小値即ち0点を有する対称的な定在波がマイクロ波
チャンバ内に存在するように設定される。そのような状
態で付勢されると、図1乃至4に示したマイクロ波結合
用構成体は、該被包体即ちバルブがその長さにわたって
バランスした光出力を発生するような態様でマイクロ波
エネルギを被包体即ちバルブ4に結合させる。本発明の
最初の且つ最も広義の側面によれば、バルブ4内の充填
物はハロゲンか、又はハロゲンと稀ガスとの組合せを有
している。該ハロゲンは動作温度において約350トー
ル以上の圧力におけるものである。上述した如く、この
ハロゲン圧力が約750トール以上のものである場合に
より良好の結果が得られ、且つ動作期間中のハロゲン圧
力が6気圧以上である場合には更に良好な結果が得られ
る。
波エネルギの周波数及びチャンバ2の長手方向寸法は、
動作期間中に、長手方向におけるチャンバーの中間位置
に最小値即ち0点を有する対称的な定在波がマイクロ波
チャンバ内に存在するように設定される。そのような状
態で付勢されると、図1乃至4に示したマイクロ波結合
用構成体は、該被包体即ちバルブがその長さにわたって
バランスした光出力を発生するような態様でマイクロ波
エネルギを被包体即ちバルブ4に結合させる。本発明の
最初の且つ最も広義の側面によれば、バルブ4内の充填
物はハロゲンか、又はハロゲンと稀ガスとの組合せを有
している。該ハロゲンは動作温度において約350トー
ル以上の圧力におけるものである。上述した如く、この
ハロゲン圧力が約750トール以上のものである場合に
より良好の結果が得られ、且つ動作期間中のハロゲン圧
力が6気圧以上である場合には更に良好な結果が得られ
る。
【0018】本発明の更に別の側面によれば、稀ガスと
ハロゲンとの組合せを有する充填物を収容するバルブの
場合には、充填物の全圧は、動作温度において約2.5
気圧以上に設定され、且つ、好適には10気圧以上に設
定され、一方ハロゲン圧力は350トール以上か又は以
下のものとすることが可能である。
ハロゲンとの組合せを有する充填物を収容するバルブの
場合には、充填物の全圧は、動作温度において約2.5
気圧以上に設定され、且つ、好適には10気圧以上に設
定され、一方ハロゲン圧力は350トール以上か又は以
下のものとすることが可能である。
【0019】稀ガスとハロゲンとの組合せはエキシマ光
照射を射出し、且つその組合せとしては、XeBr,K
rBr,XeI,XeCl,KrCl,ArCl,Xe
F,KrF,ArF,NeFなどがある。更に、該充填
物は、複数個のハロゲンと一つの稀ガス、複数個の稀ガ
スと一つのハロゲン、又は複数個のハロゲンと複数個の
稀ガスとの組合せを有することが可能である。更に、ス
ペクトルの異なった領域においてスペクトルの強調を与
えるために該充填物に所要の物質を添加することが望ま
しい場合がある。例えば、水銀、亜鉛、カドミウム又は
それらの何らかの組合せをこの目的のための添加物とし
て使用することが可能である。
照射を射出し、且つその組合せとしては、XeBr,K
rBr,XeI,XeCl,KrCl,ArCl,Xe
F,KrF,ArF,NeFなどがある。更に、該充填
物は、複数個のハロゲンと一つの稀ガス、複数個の稀ガ
スと一つのハロゲン、又は複数個のハロゲンと複数個の
稀ガスとの組合せを有することが可能である。更に、ス
ペクトルの異なった領域においてスペクトルの強調を与
えるために該充填物に所要の物質を添加することが望ま
しい場合がある。例えば、水銀、亜鉛、カドミウム又は
それらの何らかの組合せをこの目的のための添加物とし
て使用することが可能である。
【0020】図2乃至5に示したようなランプが上述し
た本発明に基づいて高圧充填物を使用する場合に、適宜
の効率でエキシマ光照射が得られる。その光照射はメッ
シュ8を介してリフレクタ6によりランプの外部へ反射
され、そのようにして取出された光照射が何らかの目的
のために利用される。更に、このようにして構成された
装置において、ある限界内において充填物の圧力と共に
効率が増加し、且つある限界内においてその効率がパワ
ー密度と共に増加することが判明した。パワー(電力)
密度は、約225ワット/ccを超えるべく設定され、
且つ好適には、約1000ワット/ccを超えるべく設
定され、それは、適宜の冷却により、約750℃と95
0℃との間の動作温度(壁温度)となる。
た本発明に基づいて高圧充填物を使用する場合に、適宜
の効率でエキシマ光照射が得られる。その光照射はメッ
シュ8を介してリフレクタ6によりランプの外部へ反射
され、そのようにして取出された光照射が何らかの目的
のために利用される。更に、このようにして構成された
装置において、ある限界内において充填物の圧力と共に
効率が増加し、且つある限界内においてその効率がパワ
ー密度と共に増加することが判明した。パワー(電力)
密度は、約225ワット/ccを超えるべく設定され、
且つ好適には、約1000ワット/ccを超えるべく設
定され、それは、適宜の冷却により、約750℃と95
0℃との間の動作温度(壁温度)となる。
【0021】図2乃至5に示したものと同様の特定のラ
ンプにおいて、キセノンと臭素との混合物を含有する充
填物を使用した。臭素は約7.2気圧の圧力で存在した
が、キセノンは動作温度において約2.5気圧において
存在した。このランプに対するパワー入力は1482ワ
ットであった。
ンプにおいて、キセノンと臭素との混合物を含有する充
填物を使用した。臭素は約7.2気圧の圧力で存在した
が、キセノンは動作温度において約2.5気圧において
存在した。このランプに対するパワー入力は1482ワ
ットであった。
【0022】このランプにより供給されたスペクトルを
図6に示してある。殆どの光照射が、図1に示した水銀
ランプのスペクトルと異なり、約50ナノメータ(即
ち、250−300nm)の範囲にわたって集中してい
ることが理解される。このスペクトルはXeBr線を有
しており、それに続いてBr2 線が存在しており、且つ
可視光スペクトル(400nm以上)は平坦であり且つ
特定の構造を有するものではないことに注意すべきであ
る。このランプの効率は充填物の圧力が増加すると共に
増加する傾向にあることが判明した。
図6に示してある。殆どの光照射が、図1に示した水銀
ランプのスペクトルと異なり、約50ナノメータ(即
ち、250−300nm)の範囲にわたって集中してい
ることが理解される。このスペクトルはXeBr線を有
しており、それに続いてBr2 線が存在しており、且つ
可視光スペクトル(400nm以上)は平坦であり且つ
特定の構造を有するものではないことに注意すべきであ
る。このランプの効率は充填物の圧力が増加すると共に
増加する傾向にあることが判明した。
【0023】別のケースとして、バルブをキセノンと臭
素とで充填し、動作期間中におけるその臭素の圧力は約
7.2気圧であり且つキセノンの圧力は約5気圧であっ
た。1168ワットのパワーをこのランプに付与し、図
7に示したスペクトルが得られた。このランプの効率は
250−300ナノメータ範囲において14.6%であ
り、それは上述したKumagai及びObaraの文
献に記載されている物よりも高い効率である。
素とで充填し、動作期間中におけるその臭素の圧力は約
7.2気圧であり且つキセノンの圧力は約5気圧であっ
た。1168ワットのパワーをこのランプに付与し、図
7に示したスペクトルが得られた。このランプの効率は
250−300ナノメータ範囲において14.6%であ
り、それは上述したKumagai及びObaraの文
献に記載されている物よりも高い効率である。
【0024】注意すべきことであるが、図6及び7に示
したスペクトルは、約50ナノメータの帯域内に殆どの
光照射が集中しており、それはKumagai及びOb
araの文献に記載されている実施例におけるよりも実
質的に広いバンド即ち帯域である。このことはある適用
場面にとっては重要な利点である。更に注意すべきこと
であるが、異なった特定の充填物を使用することにより
異なった幅の帯域に光照射が集中したスペクトルを得る
ことが可能である。
したスペクトルは、約50ナノメータの帯域内に殆どの
光照射が集中しており、それはKumagai及びOb
araの文献に記載されている実施例におけるよりも実
質的に広いバンド即ち帯域である。このことはある適用
場面にとっては重要な利点である。更に注意すべきこと
であるが、異なった特定の充填物を使用することにより
異なった幅の帯域に光照射が集中したスペクトルを得る
ことが可能である。
【0025】上述したバルブ即ち被包体を充填するため
に使用された手順は、マニホールドを一定圧力の液体臭
素及びキセノンで充填し、次いで液体窒素を使用して、
該マニホールドの収容物の殆どを単一のバルブに凍結さ
せる。その収容物を凍結させたままバルブの端部にナビ
ンを付加する。勿論、ハライド化合物を使用することに
より該バルブにハロゲンを添加させることが可能であ
る。このランプをスタートさせる手順は、該バルブ上に
液体窒素をスプレイして臭素を凍結させ、その上で、マ
イクロ波励起のもとで該バルブ近傍にテスラコイルを配
置させて該ランプをスタートさせる。
に使用された手順は、マニホールドを一定圧力の液体臭
素及びキセノンで充填し、次いで液体窒素を使用して、
該マニホールドの収容物の殆どを単一のバルブに凍結さ
せる。その収容物を凍結させたままバルブの端部にナビ
ンを付加する。勿論、ハライド化合物を使用することに
より該バルブにハロゲンを添加させることが可能であ
る。このランプをスタートさせる手順は、該バルブ上に
液体窒素をスプレイして臭素を凍結させ、その上で、マ
イクロ波励起のもとで該バルブ近傍にテスラコイルを配
置させて該ランプをスタートさせる。
【0026】図8を参照すると、球状バルブを組込だマ
イクロ波ランプを使用する本発明の別の実施例が示され
ている。この実施例においては、バルブ70はリフレク
タ72とメッシュ74とから構成されるマイクロ波空胴
内に配設されている。マグネトロン76がマイクロ波エ
ネルギを供給し、それは導波路78によりスロット80
を介してリフレクタ72内に供給される。バルブ70に
よって射出される紫外線照射はリフレクタ72により反
射されメッシュ74を通過してランプの外部に取出され
る。該バルブは加圧空気を吹付けながらモータ82によ
り回転させることにより冷却される。図8に示したラン
プは、エキシマ光照射を発生するために上述したような
バルブ充填物を使用することが可能である。
イクロ波ランプを使用する本発明の別の実施例が示され
ている。この実施例においては、バルブ70はリフレク
タ72とメッシュ74とから構成されるマイクロ波空胴
内に配設されている。マグネトロン76がマイクロ波エ
ネルギを供給し、それは導波路78によりスロット80
を介してリフレクタ72内に供給される。バルブ70に
よって射出される紫外線照射はリフレクタ72により反
射されメッシュ74を通過してランプの外部に取出され
る。該バルブは加圧空気を吹付けながらモータ82によ
り回転させることにより冷却される。図8に示したラン
プは、エキシマ光照射を発生するために上述したような
バルブ充填物を使用することが可能である。
【0027】本発明の充填物の好適実施例はマイクロ波
駆動型ランプに関連するものであるが、該充填物は、例
えばRF駆動型ランプやアークランプ等の電気的駆動型
ランプの任意のタイプにおいてエキシマ光照射を発生さ
せるために使用することが可能である。この点に関し
て、図9はRFエネルギにより駆動される上述した如き
充填物を有する無電極ランプ100を示している。図9
を参照すると、RF発振器102がRF領域における電
磁エネルギを供給し、それはコイル104へ供給され
る。コイル104は該エネルギを適宜の高いパワー密度
でランプ100と誘導的に結合させるべく配列されてい
る。当業者にとって明らかな如く、誘導結合の代りに容
量結合を使用することも可能である。図10は、本発明
の充填物が設けられており、電極112及び114を具
備するアークランプ110を示している。アークランプ
電源112は、電気的エネルギを該ランプに結合させエ
キシマ光照射を発生させる。
駆動型ランプに関連するものであるが、該充填物は、例
えばRF駆動型ランプやアークランプ等の電気的駆動型
ランプの任意のタイプにおいてエキシマ光照射を発生さ
せるために使用することが可能である。この点に関し
て、図9はRFエネルギにより駆動される上述した如き
充填物を有する無電極ランプ100を示している。図9
を参照すると、RF発振器102がRF領域における電
磁エネルギを供給し、それはコイル104へ供給され
る。コイル104は該エネルギを適宜の高いパワー密度
でランプ100と誘導的に結合させるべく配列されてい
る。当業者にとって明らかな如く、誘導結合の代りに容
量結合を使用することも可能である。図10は、本発明
の充填物が設けられており、電極112及び114を具
備するアークランプ110を示している。アークランプ
電源112は、電気的エネルギを該ランプに結合させエ
キシマ光照射を発生させる。
【0028】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ限定
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図1】 水銀充填物を具備するマイクロ波ランプによ
り与えられる200乃至400nmの間のスペクトルを
示したグラフ図。
り与えられる200乃至400nmの間のスペクトルを
示したグラフ図。
【図2】 直線的なバルブを使用する本発明の一実施例
を示した概略図。
を示した概略図。
【図3】 直線的なバルブを使用する本発明の一実施例
を示した概略図。
を示した概略図。
【図4】 直線的なバルブを使用する本発明の一実施例
を示した概略図。
を示した概略図。
【図5】 直線的なバルブを使用する本発明の一実施例
を示した概略図。
を示した概略図。
【図6】 本発明の一実施例に基くランプの光出力スペ
クトルを示したグラフ図。
クトルを示したグラフ図。
【図7】 本発明の別の実施例に基くランプの光出力ス
ペクトルを示したグラフ図。
ペクトルを示したグラフ図。
【図8】 球状バルブを使用する本発明の別の実施例を
示した概略図。
示した概略図。
【図9】 本発明の別の実施例を示した概略図。
【図10】 本発明の別の実施例を示した概略図。
【符号の説明】 2 マイクロ波空胴(チャンバ) 4 バルブ(被包体) 6 リフレクタ(反射器) 8 メッシュ 20 マグネトロン 22 構成体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジェームズ ティー. ドーラン アメリカ合衆国, メリーランド 21702, フレデリック, エルローズ コート 536 (56)参考文献 実開 平2−42361(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 65/04
Claims (25)
- 【請求項1】 無電極ランプバルブにおいて、内部電極
も外部電極も有することがなく且つ紫外線透過性の被包
体と、動作温度において約350トール以上のハロゲン
圧力を発生する量のハロゲンを含有する前記被包体内に
設けた充填物、を有することを特徴とするランプバル
ブ。 - 【請求項2】 請求項1において、前記バルブ内のハロ
ゲンの量は、動作温度において約750トール以上の圧
力を発生するようなものであることを特徴とするランプ
バルブ。 - 【請求項3】 請求項1において、前記バルブ内のハロ
ゲンの量は、動作温度において約6気圧以上の圧力を発
生するようなものであるであることを特徴とするランプ
バルブ。 - 【請求項4】 請求項1又は3において、前記充填物
が、更に、稀ガスを有することを特徴とするランプバル
ブ。 - 【請求項5】 請求項1又は3において、電磁エネルギ
を発生する電源手段と、前記充填物を励起させるために
前記電磁エネルギを前記被包体に結合させる手段と組合
わされたことを特徴とするランプバルブ。 - 【請求項6】 請求項5において、前記電磁エネルギが
マイクロ波エネルギであることを特徴とするランプバル
ブ。 - 【請求項7】 請求項5において、前記電磁エネルギが
RFエネルギであることを特徴とするランプバルブ。 - 【請求項8】 請求項6において、前記マイクロ波エネ
ルギを225ワット/ccを超える電力密度で前記充填
物へ結合させることを特徴とするランプバルブ。 - 【請求項9】 請求項8において、前記電力密度が約1
000ワット/cc以上であることを特徴とするランプ
バルブ。 - 【請求項10】 請求項6又は8において、前記ハロゲ
ンが臭素であることを特徴とするランプバルブ。 - 【請求項11】 請求項4において、前記ハロゲンが臭
素であり且つ前記稀ガスがキセノンであることを特徴と
するランプバルブ。 - 【請求項12】 マイクロ波駆動型エキシマランプにお
いて、 紫外線透過性であり且つハロゲンを含有する充填物を収
容する被包体が設けられており、前記ハロゲンは動作温
度において約350トール以上の圧力において存在し、 マイクロ波エネルギを供給する電源手段が設けられてお
り、 前記充填物を励起するために前記電源手段から前記被包
体へマイクロ波エネルギを結合させる手段が設けられて
おり、 前記充填物により射出された光が前記ランプから外部に
出ることを可能とすると共にマイクロ波エネルギを閉込
めるメッシュ手段が設けられている、ことを特徴とする
ランプ。 - 【請求項13】 請求項12において、前記充填物が、
更に、稀ガスを有することを特徴とするランプ。 - 【請求項14】 請求項12又は13において、前記ハ
ロゲンは動作温度において750トール以上の圧力にお
いて存在することを特徴とするランプ。 - 【請求項15】 請求項12又は13において、前記ハ
ロゲンが動作温度において約6気圧以上の圧力において
存在することを特徴とするランプ。 - 【請求項16】 請求項14において、前記マイクロ波
エネルギが225ワット/ccを超える電力密度におい
て前記充填物へ結合されることを特徴とするランプ。 - 【請求項17】 請求項16において、前記電力密度が
約1000ワット/cc以上であることを特徴とするラ
ンプ。 - 【請求項18】 マイクロ波駆動型エキシマランプにお
いて、 ハロゲンと稀ガスとを含有する充填物を収容する被包体
が設けられており、前記充填物は動作温度において約
2.5気圧以上の圧力において存在し、 マイクロ波エネルギを供給する電源手段が設けられてお
り、 前記充填物を励起させるために前記電源手段から前記被
包体へマイクロ波エネルギを結合させる手段が設けられ
ており、 前記充填物により射出された光が前記ランプから外部へ
出ることを許容すると共にマイクロ波エネルギを閉込め
るメッシュ手段が設けられている、ことを特徴とするラ
ンプ。 - 【請求項19】 請求項18において、前記充填物が動
作温度において約10気圧以上の圧力において存在する
ことを特徴とするランプ。 - 【請求項20】 マイクロ波駆動型エキシマランプにお
いて、 動作温度において約350トール以上の圧力において存
在するハロゲンからなる充填物を収容する被包体が設け
られており、 マイクロ波エネルギを供給する電源手段が設けられてお
り、 前記充填物を励起するために前記電源手段から前記被包
体へマイクロ波エネルギを結合する手段が設けられてお
り、 前記充填物により射出された光が前記ランプから外部へ
出ることを許容すると共にマイクロ波エネルギを閉込め
るメッシュ手段が設けられている、ことを特徴とするラ
ンプ。 - 【請求項21】 マイクロ波駆動型エキシマランプにお
いて、 稀ガスとハロゲンとからなる充填物を収容する被包体が
設けられており、前記ハロゲンは動作温度において約3
50トール以上の圧力において存在し、 マイクロ波エネルギを供給する電源手段が設けられてお
り、 前記充填物を励起するために前記電源手段から前記被包
体へマイクロ波エネルギを結合する手段が設けられてお
り、 前記充填物により射出された光を前記ランプから外部へ
出ることを許容すると共にマイクロ波エネルギを閉込め
るメッシュ手段が設けられている、ことを特徴とするラ
ンプ。 - 【請求項22】 電気的駆動型エキシマランプにおい
て、 紫外線透過性の被包体が設けられており、前記被包体は
動作温度において約350トール以上の圧力においてハ
ロゲンを有する充填物を収容しており、 前記電気エネルギを供給する手段が設けられており、 前記充填物を励起するために前記電気エネルギを前記被
包体へ結合させる手段が設けられている、ことを特徴と
するランプ。 - 【請求項23】 請求項22において、前記ハロゲンが
動作温度において約750トール以上の圧力において存
在することを特徴とするランプ。 - 【請求項24】 請求項23において、前記ハロゲンが
動作温度において約6気圧以上の圧力において存在する
ことを特徴とするランプ。 - 【請求項25】 請求項21において、前記ハロゲンが
臭素であり且つ前記稀ガスがキセノンであることを特徴
とするランプ。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US827041 | 1986-02-07 | ||
US82704192A | 1992-01-29 | 1992-01-29 | |
US008783 | 1993-01-27 | ||
US08/008,783 US5504391A (en) | 1992-01-29 | 1993-01-27 | Excimer lamp with high pressure fill |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07272697A JPH07272697A (ja) | 1995-10-20 |
JP2960829B2 true JP2960829B2 (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=26678619
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5013566A Expired - Lifetime JP2960829B2 (ja) | 1992-01-29 | 1993-01-29 | 高圧力充填物を有するエキシマランプ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5504391A (ja) |
JP (1) | JP2960829B2 (ja) |
DE (1) | DE4302555C2 (ja) |
Families Citing this family (70)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5504391A (en) * | 1992-01-29 | 1996-04-02 | Fusion Systems Corporation | Excimer lamp with high pressure fill |
US6788460B2 (en) * | 1998-04-15 | 2004-09-07 | Duke University | Projection screen apparatus |
US6483612B2 (en) | 1998-04-15 | 2002-11-19 | Duke University | Projection screen apparatus including holographic optical element |
US20030206342A1 (en) * | 1993-05-12 | 2003-11-06 | Bright View Technologies, Inc. | Micro-lens array based light transmission screen |
US6525750B1 (en) | 1996-03-08 | 2003-02-25 | Duke University | Projection display for computers |
US5891530A (en) | 1996-04-19 | 1999-04-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Method for producing a coating |
JP2000510868A (ja) * | 1996-05-20 | 2000-08-22 | ファースト・ケミカル・コーポレイション | 狭い波長帯の紫外線(uv)キュアシステムに使用する光活性化合物 |
DE69723978D1 (de) * | 1996-05-31 | 2003-09-11 | Fusion Lighting Inc | Mehrfachreflektion elektrodenlose lampe mit einer schwefel oder selen enthaltenden füllung und verfahren zur strahlungserzeugung mit einer solchen lampe |
US5847517A (en) * | 1996-07-10 | 1998-12-08 | Fusion Lighting, Inc. | Method and apparatus for igniting electrodeless lamp with ferroelectric emission |
US5838108A (en) * | 1996-08-14 | 1998-11-17 | Fusion Uv Systems, Inc. | Method and apparatus for starting difficult to start electrodeless lamps using a field emission source |
US5833360A (en) * | 1996-10-17 | 1998-11-10 | Compaq Computer Corporation | High efficiency lamp apparatus for producing a beam of polarized light |
US6390626B2 (en) | 1996-10-17 | 2002-05-21 | Duke University | Image projection system engine assembly |
US5910710A (en) * | 1996-11-22 | 1999-06-08 | Fusion Lighting, Inc. | Method and apparatus for powering an electrodeless lamp with reduced radio frequency interference |
US6243152B1 (en) | 1996-12-17 | 2001-06-05 | Duke University | Contrast polymer dispersed liquid crystal projection display system |
US5977942A (en) * | 1996-12-20 | 1999-11-02 | Compaq Computer Corporation | Multiplexed display element sequential color LCD panel |
US6313893B1 (en) | 1996-12-27 | 2001-11-06 | Duke University | Compensation for DC balancing of liquid crystal displays |
US6479706B1 (en) | 1997-02-04 | 2002-11-12 | Albemarle Corporation | Aminobenzophenones and photopolymerizable compositions including the same |
DE19743014A1 (de) * | 1997-09-29 | 1999-04-01 | Basf Ag | Verfahren zur Vernetzung von strahlungsvernetzbaren Haftklebstoffschichten |
US6087783A (en) * | 1998-02-05 | 2000-07-11 | Purepulse Technologies, Inc. | Method and apparatus utilizing microwaves to enhance electrode arc lamp emission spectra |
US6816306B2 (en) * | 1998-04-15 | 2004-11-09 | Bright View Technologies Inc. | Micro-lens array based light transmitting screen with high resolution and low imaging artifacts |
US6829087B2 (en) * | 1998-04-15 | 2004-12-07 | Bright View Technologies, Inc. | Micro-lens array based light transmitting screen with tunable gain |
US6967779B2 (en) * | 1998-04-15 | 2005-11-22 | Bright View Technologies, Inc. | Micro-lens array with precisely aligned aperture mask and methods of producing same |
US6224949B1 (en) | 1998-06-11 | 2001-05-01 | 3M Innovative Properties Company | Free radical polymerization method |
US6040352A (en) * | 1998-06-11 | 2000-03-21 | 3M Innovative Properties Company | Free radical polymerization process using a monochromatic radiation source |
US6220713B1 (en) | 1998-10-23 | 2001-04-24 | Compaq Computer Corporation | Projection lens and system |
US6118130A (en) * | 1998-11-18 | 2000-09-12 | Fusion Uv Systems, Inc. | Extendable focal length lamp |
SE514743C2 (sv) * | 1999-03-12 | 2001-04-09 | Abb Ab | Fotokonduktiv omkopplare |
DE19920693C1 (de) * | 1999-05-05 | 2001-04-26 | Inst Oberflaechenmodifizierung | Offener UV/VUV-Excimerstrahler und Verfahren zur Oberflächenmodifizierung von Polymeren |
US6133694A (en) * | 1999-05-07 | 2000-10-17 | Fusion Uv Systems, Inc. | High-pressure lamp bulb having fill containing multiple excimer combinations |
ES2387614T3 (es) * | 1999-07-29 | 2012-09-27 | Severn Trent Water Purification, Inc. | Fuente de luz UV |
US6343089B1 (en) | 1999-08-25 | 2002-01-29 | College Of William & Mary | Microwave-driven ultraviolet light sources |
KR100314080B1 (ko) * | 1999-11-26 | 2001-11-15 | 구자홍 | 플라즈마 램프의 미러 장착 구조 |
US6351070B1 (en) * | 1999-12-28 | 2002-02-26 | Fusion Uv Systems, Inc. | Lamp with self-constricting plasma light source |
JP4777582B2 (ja) * | 2000-04-07 | 2011-09-21 | ノードソン コーポレーション | 向上したランプの冷却を伴っているマイクロ波励起紫外線ランプシステム |
EP1279187B1 (en) | 2000-04-26 | 2004-07-14 | Cornell Research Foundation, Inc. | Lamp utilizing fiber for enhanced starting field |
US6908586B2 (en) * | 2001-06-27 | 2005-06-21 | Fusion Uv Systems, Inc. | Free radical polymerization method having reduced premature termination, apparatus for performing the method and product formed thereby |
US6620574B2 (en) * | 2001-09-12 | 2003-09-16 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of treating photoresists using electrodeless UV lamps |
US6897615B2 (en) * | 2001-11-01 | 2005-05-24 | Axcelis Technologies, Inc. | Plasma process and apparatus |
DE10156615B4 (de) * | 2001-11-17 | 2004-10-07 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Einrichtung zur Erzeugung eines örtlich variierbaren Elektron-Zyklotron-Resonanz-Mikrowellen-Niederdruckplasmas |
US6559607B1 (en) | 2002-01-14 | 2003-05-06 | Fusion Uv Systems, Inc. | Microwave-powered ultraviolet rotating lamp, and process of use thereof |
US6696802B1 (en) | 2002-08-22 | 2004-02-24 | Fusion Uv Systems Inc. | Radio frequency driven ultra-violet lamp |
US7268355B2 (en) | 2002-12-27 | 2007-09-11 | Franek Olstowski | Excimer UV fluorescence detection |
US6831419B1 (en) * | 2003-06-02 | 2004-12-14 | Nordson Corporation | Exhaust system for a microwave excited ultraviolet lamp |
US20050199484A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-09-15 | Franek Olstowski | Ozone generator with dual dielectric barrier discharge and methods for using same |
US20050279453A1 (en) * | 2004-06-17 | 2005-12-22 | Uvtech Systems, Inc. | System and methods for surface cleaning |
JP2006040867A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-02-09 | Hoya Candeo Optronics株式会社 | エキシマランプ装置 |
US7166963B2 (en) * | 2004-09-10 | 2007-01-23 | Axcelis Technologies, Inc. | Electrodeless lamp for emitting ultraviolet and/or vacuum ultraviolet radiation |
US20090039757A1 (en) * | 2005-04-22 | 2009-02-12 | Hiroyoshi Ohshima | Excimer Lamp |
US8102123B2 (en) | 2005-10-04 | 2012-01-24 | Topanga Technologies, Inc. | External resonator electrode-less plasma lamp and method of exciting with radio-frequency energy |
US8148900B1 (en) * | 2006-01-17 | 2012-04-03 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for providing illumination of a specimen for inspection |
US7435982B2 (en) * | 2006-03-31 | 2008-10-14 | Energetiq Technology, Inc. | Laser-driven light source |
US7705331B1 (en) | 2006-06-29 | 2010-04-27 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for providing illumination of a specimen for a process performed on the specimen |
DE102008020022A1 (de) | 2008-04-22 | 2009-10-29 | Biotronik Crm Patent Ag | Antitachykarder Herzstimulator |
US8294368B2 (en) | 2008-06-25 | 2012-10-23 | Topanga Technologies, Inc. | Electrodeless lamps with grounded coupling elements |
US8766539B2 (en) * | 2008-06-25 | 2014-07-01 | Topanga Usa, Inc. | Electrodeless lamps with grounded coupling elements and improved bulb assemblies |
US7830092B2 (en) * | 2008-06-25 | 2010-11-09 | Topanga Technologies, Inc. | Electrodeless lamps with externally-grounded probes and improved bulb assemblies |
US8179047B2 (en) | 2008-11-24 | 2012-05-15 | Topanga Technologies, Inc. | Method and system for adjusting the frequency of a resonator assembly for a plasma lamp |
US8545067B2 (en) | 2009-03-09 | 2013-10-01 | Topanga Technologies, Inc. | Small form factor durable street lamp and method |
USD653363S1 (en) | 2009-03-09 | 2012-01-31 | Topanga Technologies, Inc. | High intensity plasma lamp with fins |
US8282435B2 (en) * | 2009-03-09 | 2012-10-09 | Topanga Technologies, Inc. | Method and system for replacing a plasma lamp from a resonator assembly |
US8344625B2 (en) * | 2009-06-12 | 2013-01-01 | Topanga Technologies, Inc. | Plasma lamp with dielectric waveguide body having shaped configuration |
US8629616B2 (en) | 2011-01-11 | 2014-01-14 | Topanga Technologies, Inc. | Arc tube device and stem structure for electrodeless plasma lamp |
US9177779B1 (en) | 2009-06-15 | 2015-11-03 | Topanga Usa, Inc. | Low profile electrodeless lamps with an externally-grounded probe |
JP2011113925A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-06-09 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ用部材の製造方法 |
DE102010015495B4 (de) * | 2010-04-16 | 2012-04-26 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung zum Erzeugen von UV-Licht |
BR112014005586A2 (pt) | 2011-09-14 | 2017-04-04 | 3M Innovative Properties Co | métodos de fabricação de artigos adesivos antipegajosidade |
US20140178681A1 (en) | 2011-09-14 | 2014-06-26 | 3M Innovative Properties Company | Methods of modulating tackiness |
US9099291B2 (en) | 2013-06-03 | 2015-08-04 | Topanga Usa, Inc. | Impedance tuning of an electrode-less plasma lamp |
US9392752B2 (en) | 2014-05-13 | 2016-07-19 | Topanga Usa, Inc. | Plasma growth lamp for horticulture |
JP2023545456A (ja) | 2020-10-14 | 2023-10-30 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 吸収層及び紫外線ミラーを含む多層物品、システム、デバイス、及び消毒する方法 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3234421A (en) * | 1961-01-23 | 1966-02-08 | Gen Electric | Metallic halide electric discharge lamps |
US3911318A (en) * | 1972-03-29 | 1975-10-07 | Fusion Systems Corp | Method and apparatus for generating electromagnetic radiation |
US4143336A (en) * | 1976-03-03 | 1979-03-06 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Xenon bromide (xebr) excimer laser |
US4301425A (en) * | 1979-10-10 | 1981-11-17 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | XeCl Avalanche discharge laser employing Ar as a diluent |
JPS56126250A (en) * | 1980-03-10 | 1981-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | Light source device of micro wave discharge |
US4427921A (en) * | 1981-10-01 | 1984-01-24 | Gte Laboratories Inc. | Electrodeless ultraviolet light source |
US4397023A (en) * | 1981-11-02 | 1983-08-02 | United Technologies Corporation | High efficiency dye laser |
US4549109A (en) * | 1981-11-16 | 1985-10-22 | United Technologies Corporation | Optical display with excimer fluorescence |
US4802183A (en) * | 1982-04-07 | 1989-01-31 | Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Microwave excited excimer laser and method |
US4513424A (en) * | 1982-09-21 | 1985-04-23 | Waynant Ronald W | Laser pumped by X-band microwaves |
US4710939A (en) * | 1983-07-23 | 1987-12-01 | Quantum Diagnostics Ltd. | X-ray frequency down converter |
US4722090A (en) * | 1985-03-18 | 1988-01-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Excimer laser equipment |
US4646311A (en) * | 1985-04-24 | 1987-02-24 | United Technologies Corporation | Multi-component buffer gas mixture for XeF(C→A) laser |
US4710679A (en) * | 1985-12-06 | 1987-12-01 | Gte Laboratories Incorporated | Fluorescent light source excited by excimer emission |
JPS6362292A (ja) * | 1986-09-02 | 1988-03-18 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体レ−ザ装置およびその製造方法 |
US4890294A (en) * | 1987-01-26 | 1989-12-26 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Plasma apparatus |
DE3708314A1 (de) * | 1987-03-14 | 1988-09-22 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Mikrowellengepumpter hochdruckgasentladungslaser |
DE3743756A1 (de) * | 1987-06-25 | 1989-01-05 | Beerwald Hans | Triggerbare funkenstrecke |
US4891818A (en) * | 1987-08-31 | 1990-01-02 | Acculase, Inc. | Rare gas-halogen excimer laser |
JPS6468984A (en) * | 1987-09-10 | 1989-03-15 | Mitsubishi Electric Corp | Excimer laser device |
CH675178A5 (ja) * | 1987-10-23 | 1990-08-31 | Bbc Brown Boveri & Cie | |
JPH031436A (ja) * | 1988-10-04 | 1991-01-08 | Minoru Obara | 高効率エキシマ放電ランプ |
JP3101977B2 (ja) * | 1988-12-22 | 2000-10-23 | 蛇の目ミシン工業株式会社 | 空縫い音防止ミシン |
JPH02241074A (ja) * | 1989-03-15 | 1990-09-25 | Ricoh Co Ltd | エキシマレーザ発生装置 |
DE4022279A1 (de) * | 1989-08-17 | 1991-02-21 | Asea Brown Boveri | Bestrahlungseinrichtung |
US5062116A (en) * | 1990-05-17 | 1991-10-29 | Potomac Photonics, Inc. | Halogen-compatible high-frequency discharge apparatus |
CH680099A5 (ja) * | 1990-05-22 | 1992-06-15 | Asea Brown Boveri | |
US5504391A (en) * | 1992-01-29 | 1996-04-02 | Fusion Systems Corporation | Excimer lamp with high pressure fill |
US5293403A (en) * | 1992-09-30 | 1994-03-08 | The Unites States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Pulse discharge laser with passive arc protection |
-
1993
- 1993-01-27 US US08/008,783 patent/US5504391A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-01-29 JP JP5013566A patent/JP2960829B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-29 DE DE4302555A patent/DE4302555C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-03-25 US US08/621,364 patent/US5686793A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07272697A (ja) | 1995-10-20 |
US5504391A (en) | 1996-04-02 |
DE4302555C2 (de) | 1998-07-09 |
US5686793A (en) | 1997-11-11 |
DE4302555A1 (de) | 1993-09-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2960829B2 (ja) | 高圧力充填物を有するエキシマランプ | |
Lomaev et al. | Excilamps: efficient sources of spontaneous UV and VUV radiation | |
US5838108A (en) | Method and apparatus for starting difficult to start electrodeless lamps using a field emission source | |
US20070273262A1 (en) | Light Source with Electron Cyclotron Resonance | |
US6133694A (en) | High-pressure lamp bulb having fill containing multiple excimer combinations | |
US2118452A (en) | Electric lamp | |
Uhrlandt et al. | Low-pressure mercury-free plasma light sources: experimental and theoretical perspectives | |
Furusawa et al. | High‐efficiency continuous operation HgBr excimer lamp excited by microwave discharge | |
US6343089B1 (en) | Microwave-driven ultraviolet light sources | |
JP3215461B2 (ja) | マイクロ波励起型紫外ランプ装置 | |
JP2007080705A (ja) | マイクロ波放電ランプおよび当該マイクロ波放電ランプを備えたマイクロ波放電光源装置 | |
JPH0231459B2 (ja) | ||
EP0407160A2 (en) | A discharge tube arrangement | |
Golovitskiı̆ | Low-pressure inductive rf discharge in a rare gas-halogen mixture for economical mercury-free luminescence light sources. | |
JPH0231458B2 (ja) | ||
JP2775698B2 (ja) | 誘電体バリヤ放電ランプ装置 | |
JP5493100B2 (ja) | 放電ランプ | |
JPH1021885A (ja) | 無電極放電ランプ | |
JP2004227820A (ja) | 放電ランプ | |
JP4140320B2 (ja) | エキシマランプ点灯装置 | |
JPH0750153A (ja) | 金属蒸気放電ランプ装置 | |
US20070132408A1 (en) | High frequency driven high pressure micro discharge | |
JPH0887989A (ja) | 誘電体バリア放電ランプ | |
JP2002358924A (ja) | 放電灯 | |
JPH0582102A (ja) | 紫外線放射用放電灯 |