JP2946883B2 - 酢酸エチルの精製方法 - Google Patents

酢酸エチルの精製方法

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JP2946883B2 JP30054791A JP30054791A JP2946883B2 JP 2946883 B2 JP2946883 B2 JP 2946883B2 JP 30054791 A JP30054791 A JP 30054791A JP 30054791 A JP30054791 A JP 30054791A JP 2946883 B2 JP2946883 B2 JP 2946883B2
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高治 佐々木
千博 乙川
正幸 藤本
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、エチレン及び酢酸を反
応させて得られる酢酸エチルを含む反応生成ガスから未
反応エチレンと生成物である酢酸エチルを分離する方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】ヘテロポリ酸を主触媒としてエチレンと
酢酸を気相下で反応させて酢酸エチルを製造することは
特許出願済(特願平2−258233他)であるが、反
応後の精製に関して、即ち、反応生成ガス中の未反応エ
チレンと反応生成物である酢酸エチルを工業化水準で分
離する方法は、未解決のままである。
【0003】上記の反応において得られる反応生成ガス
にはエチレン、及び酢酸エチルの他に、未反応酢酸、及
び触媒の活性維持のため添加された水が含まれている。
反応生成ガスから上記の凝縮成分である酢酸エチル、酢
酸、及び水を除去し、未反応エチレンの回収を行う際の
代表的な精製方法は、反応生成ガスを多段階で冷却し、
冷却により生じた凝縮成分を分離し、未凝縮成分である
エチレンを回収する方法である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の反応生成ガスを
実質的な温度によって冷却することで、酢酸エチルを凝
縮させようとする場合、供給組成における蒸気分圧分に
相当する酢酸エチルは、分離されずにエチレンに同伴す
る。この時、この未反応エチレンは反応器に循環供給さ
れ反応原料として再使用されるが、同伴した酢酸エチル
が反応器に供給されると、触媒の活性への負担の原因と
なり、未来の触媒性能が発揮できなくなる。
【0005】触媒性能に影響を与えないようにするに
は、即ち、回収エチレン中の酢酸エチル濃度をおおまか
には0.1%程度まで分離するには、仮に冷却だけに頼
ると、−15℃〜−5℃までに冷却せねばならず、この
時、冷媒を必要とし、また、凝縮成分へのエチレンの溶
解量が増加する等の問題が生じる。本発明は、上記の問
題解決のため、前記反応生成ガスより、エチレンと酢酸
エチレンを性能よく分離除去するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は触媒の存在下に
エチレン及び酢酸を気相で反応させて得られる酢酸エチ
ルを含む反応生成ガスから酢酸エチルを分離回収する方
法において、反応帯から出て来る前記の反応生成ガスを
吸収塔に導入し、酢酸と向流接触させることによって反
応生成ガス中の酢酸エチルを酢酸に吸収させ、酢酸エチ
ルを吸収した酢酸を塔底より抜き出し、塔頂からは酢酸
エチルが充分に除去された未反応ガスであるエチレンを
回収する方法である。
【0007】吸収溶媒について、酢酸は酢酸エチルと相
溶性が良く、また、吸収塔上部より飛沫同伴して反応器
に供給されても、もともと反応原料成分であり、何等触
媒活性に影響を与えるものでない。さらに、吸収塔後、
凝縮液を蒸留操作により精製する場合、酢酸エチルに比
べ酢酸は、沸点が50.0℃ほど高く、容易に分離精製
できる利点を有している。酢酸以外の吸収溶媒として、
酢酸エチルと相溶性が良く、かつ、酢酸エチルより蒸気
圧が低い性質を持つ物質であるプロピオン酸、ブチル
酸、酢酸プロピル及び酢酸ブチルなどが挙げられるが、
これらの吸収溶媒を使用した場合、吸収塔上部より微量
ながらも回収エチレンに飛沫同伴すると、確実に触媒性
能の低下をもたらすことになり、また、吸収塔後にもと
もと反応生成系に含まれていた酢酸とこれらの溶媒とを
分離するための工程を設ける必要になるため吸収溶媒と
して使用するのは得策ではない。
【0008】本発明の基本的な工程は図1に示す通りで
ある。発明の方法を図1に従って説明する。反応器を出
た反応生成ガスは吸収塔1の底部より反応生成ガス供給
管2により導入される前に、冷却水を用いて実際的な温
度約30℃まで冷却される。この際、手に入る冷却水の
温度が低ければ、反応生成ガスの冷却温度は低い程よ
い。冷却温度が低い程、吸収塔に導入される酢酸エチル
の蒸気量は減少し、より効率的な吸収操作が行われる。
吸収塔1の構造は棚段塔、充填塔及びスプレー塔であっ
てもよく、塔底部には、吸収熱除去の為の、外部熱交換
器を設けても構わない。
【0009】吸収塔1の塔底5より、酢酸エチルを吸収
した酢酸が得られるが、この塔底液5を蒸留(図示せ
ず)し、酢酸エチルと酢酸を分離精製すると、高沸であ
る酢酸は冷却の後、吸収塔1へ吸収溶媒3として、循環
再使用することが可能であるが、この場合、反応生成ガ
ス中に含まれていた水は前記蒸留によって、一部は酢酸
とともに高沸側に分離される。従って、蒸留分離後の酢
酸を吸収塔1へ、吸収溶媒として再循環した場合、水と
の混合組成で供給されるわけであるが、水のみは吸収溶
媒として、不適である。このため、吸収溶媒中の水の含
有量を減らすことが望ましい。
【0010】酢酸または水を含んだ酢酸である吸収溶媒
は反応生成ガスと同様に、約30℃に冷却された後、吸
収溶媒供給管3より吸収塔1の上部より導入され、吸収
塔内では、反応生成ガスと吸収液が向流接触することに
よって、気体状態の酢酸エチルは酢酸溶媒に吸収され塔
の上部に移動するに従って、しだいに減少し、最終段で
の気液平衡の関係が酢酸エチルの分離性能となり塔頂4
より酢酸エチルが除去された未反応エチレンガスである
反応ガスが回収され、反応器(図示せず)に再循環供給
される。
【0011】更に、塔底5の前記のごとく酢酸エチルを
吸収した循環液には、微量のエチレンが溶解している。
このエチレンは後の凝縮液の蒸留過程でイナートとし
て、再度、吸収塔に循環供給(図示せず)させる事によ
って、反応ガス中の未反応エチレンはすべて吸収塔塔頂
部より回収されることもできる。
【0012】
【実施例】
(実施例1)内径50mm、段数30段の多孔板を有する
吸収塔装置を用いた。表1に示す反応生成ガス100重
量部の組成2のガスを温度30℃で吸収塔下部に供給
し、また吸収塔上部より吸収溶媒である30.02重量
部の組成3の酢酸を温度30℃で供給し、両者を向流接
触させると、塔頂より80.07重量部の組成4からな
る塔頂蒸気の精製ガスが得られた。この際、精製ガス中
の酢酸エチル濃度は0.02 mol%であった。一方、塔
底より、49.94重量部の組成5の塔底液が得られ
た。
【0013】
【表1】
【0014】(実施例2)実施例1と同様の装置と条件
で、吸収溶媒液の組成だけを変えた場合、各部所での組
成は表2のようになった。
【0015】
【表2】
【0016】(実施例3)実施例1と同様の装置と条件
で、さらに、吸収溶媒液の組成だけを変えた場合、各部
所での組成は表3のようになった。
【0017】
【表3】
【0018】(実施例4)未反応エチレンを回収し、反
応原料として反応器に再循環供給された回収エチレンに
同伴した酢酸エチルの触媒活性に及ぼす影響を調べた。
触媒調整法及び基本反応条件は特願平2−258233
に準じた。触媒としてリンタングステン酸のセシウム塩
の存在下、反応温度150℃、常圧下で表4に示す反応
器入口ガス組成で反応を行わせた。物質収支から、反応
器入口での酢酸エチル濃度は吸収塔塔頂における酢酸エ
チル濃度と、ほぼ等しくなる。反応器入口のガス組成及
び反応結果を表4に示す。
【0019】
【表4】 酢酸エチルが0.03 mol%含有では実質的な触媒活性
の低下はみられない。
【0020】(実施例5)実施例4と同様の装置を用
い、さらに原料中の酢酸エチル濃度を変えた。反応器入
口のガス組成及び反応結果を表5に示す。
【0021】
【表5】
【0022】反応器入口の混合ガス中に酢酸エチルが
0.2 mol%含まれると触媒活性が低下するので、可能
な限り酢酸エチルは未反応エチレンを回収し、循環再使
用するので減じるのが望ましく、実際上は0.1 mol%
以下が好ましい。
【0023】
【発明の効果】エチレンと酢酸エチルを分離する際、冷
媒を使用せずに、容易にエチレンを分離回収することが
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基本的な工程を示した図である。
【符号の説明】 1 吸収塔 2 反応生成ガス供給 3 吸収溶媒 4 塔頂ガス 5 塔底液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤本 正幸 大分県大分市大字中の洲2番地 昭和電 工株式会社 大分工場内 (56)参考文献 特開 昭57−183743(JP,A) 特開 昭48−64016(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07C 69/14 C07C 67/05 C07C 67/48

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 触媒の存在下、エチレンと酢酸を気相で
    反応させて得られる酢酸エチルを含む反応生成ガスか
    ら、未反応エチレンと酢酸エチルを分離する際に、反応
    帯から出てくる前記反応生成ガスを吸収塔に導入し、酢
    酸または、水を含んだ酢酸と向流接触させ、反応生成ガ
    ス中の酢酸エチルを酢酸に吸収させ、吸収塔塔頂より、
    酢酸エチルが充分に除去された未反応エチレンを回収
    し、一方、吸収塔塔底より、酢酸エチルを分離回収する
    方法において、吸収塔で使用する単位時間あたりの酢酸
    の使用量(モル)が、吸収塔に導入する単位時間あたり
    の反応生成ガス中の酢酸エチルの量(モル)に対して、
    酢酸(モル)/酢酸エチル(モル)が10以下であるこ
    とを特徴とする、エチレン及び酢酸エチルの分離回収方
    法。
  2. 【請求項2】 吸収塔で使用する単位時間あたりの酢酸
    の使用量(モル)が、吸収塔に導入する単位時間あたり
    の反応生成ガス中の酢酸エチルの量(モル)に対して、
    酢酸(モル)/酢酸エチル(モル)=1〜5の範囲であ
    ることを特徴とする、請求項1記載のエチレン及び酢酸
    エチルの分離回収方法。
  3. 【請求項3】 吸収塔で使用する単位時間あたりの酢酸
    の使用量(モル)が、吸収塔に導入する単位時間あたり
    の反応生成ガス中の酢酸エチルの量(モル)に対して、
    酢酸(モル)/酢酸エチル(モル)=1〜3の範囲であ
    ることを特徴とする、請求項1記載のエチレン及び酢酸
    エチルの分離回収方法。
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