JP2944347B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents
半導体集積回路装置Info
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- JP2944347B2 JP2944347B2 JP1512093A JP1512093A JP2944347B2 JP 2944347 B2 JP2944347 B2 JP 2944347B2 JP 1512093 A JP1512093 A JP 1512093A JP 1512093 A JP1512093 A JP 1512093A JP 2944347 B2 JP2944347 B2 JP 2944347B2
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- Japan
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- semiconductor integrated
- integrated circuit
- wiring
- circuit device
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- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置に
関し、特に配線の形状に関する。
関し、特に配線の形状に関する。
【0002】
【従来の技術】図3は、従来の半導体集積回路装置の要
部平面図で図4は、SEM上での要部平面図である。近
年、半導体チップ表面は平坦化が進んでおり、チップ表
面の凹凸は最上層配線のみであるため、チップ表面の凹
凸を映像化するSEMでは、図4に示すように、下層配
線形態を観察することはできない。
部平面図で図4は、SEM上での要部平面図である。近
年、半導体チップ表面は平坦化が進んでおり、チップ表
面の凹凸は最上層配線のみであるため、チップ表面の凹
凸を映像化するSEMでは、図4に示すように、下層配
線形態を観察することはできない。
【0003】一方、従来の半導体集積回路装置の最上層
配線は、図3および図4に示すように、スルーホール部
3のふくらみ以外、配線形状は幅が一定で変化がないた
め、SEM上では最上層配線1とスルーホール部3の位
置から、図3に示すような下層電源配線などの下層配線
形態を想像するしかなかったので、SEM画面を見なが
ら行うEBテスターによる不良改析やFIB加工等で必
要条件である正確な特定位置の把握が困難であった。
配線は、図3および図4に示すように、スルーホール部
3のふくらみ以外、配線形状は幅が一定で変化がないた
め、SEM上では最上層配線1とスルーホール部3の位
置から、図3に示すような下層電源配線などの下層配線
形態を想像するしかなかったので、SEM画面を見なが
ら行うEBテスターによる不良改析やFIB加工等で必
要条件である正確な特定位置の把握が困難であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
集積回路装置は、SEMによってチップを観察すると、
最上層配線しか観れないので下層配線がどのように存在
しているのかわからない上に、正確な特定位置の把握が
困難であった。
集積回路装置は、SEMによってチップを観察すると、
最上層配線しか観れないので下層配線がどのように存在
しているのかわからない上に、正確な特定位置の把握が
困難であった。
【0005】本発明の目的は、SEMの映像で、半導体
チップ上の正確な特定位置を把握できる半導体集積回路
装置を提供することにある。
チップ上の正確な特定位置を把握できる半導体集積回路
装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
装置は、基本セル列と平行に存在する下層電源配線と、
それに直交する最上層配線との交叉部分において、最上
層配線に三角形の突起部(以下△部とする)をもたせて
いる。
装置は、基本セル列と平行に存在する下層電源配線と、
それに直交する最上層配線との交叉部分において、最上
層配線に三角形の突起部(以下△部とする)をもたせて
いる。
【0007】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図1は、本発明の一実施例である半導体集積回路装
置のSEM上での要部平面図である。
る。図1は、本発明の一実施例である半導体集積回路装
置のSEM上での要部平面図である。
【0008】基本セル列と平行に存在する下層電源配線
と、それに直交する最上層配線1との交叉部分2におい
て、配線の両側に△部を設けることにより、SEM上で
観えない下層電源配線の位置が把握できる。
と、それに直交する最上層配線1との交叉部分2におい
て、配線の両側に△部を設けることにより、SEM上で
観えない下層電源配線の位置が把握できる。
【0009】図2は、本発明の他の実施例である半導体
集積回路装置のSEM上の要部平面図である。基本セル
列と平行に存在する下層電源配線と、それに直交する最
上層配線1との交叉部分において、下層電源配線がVD
D線の場合、最上層配線の両側に△部4を設け、GND
線の場合には、片側に△部5を設けるこにより、SEM
上で下層電源配線の位置が把握できる上に、その下層電
源線がVDD線かGND線かが区別でき、下層電源配線
の位置が更に把握しやすくなる。
集積回路装置のSEM上の要部平面図である。基本セル
列と平行に存在する下層電源配線と、それに直交する最
上層配線1との交叉部分において、下層電源配線がVD
D線の場合、最上層配線の両側に△部4を設け、GND
線の場合には、片側に△部5を設けるこにより、SEM
上で下層電源配線の位置が把握できる上に、その下層電
源線がVDD線かGND線かが区別でき、下層電源配線
の位置が更に把握しやすくなる。
【0010】△部は、下層電源配線と同じ幅を持つ一辺
とその一辺の垂直二等分線で、その一辺からスルーホー
ル用突部の長さ以下の距離にある頂点とで作成される三
角形をその頂点を外側にして、上記一辺を最上層配線に
接するように付けたものである。この△部は、コンピュ
ーター処理により最上層配線と下層電源配線の交叉部分
を検出し、付加することが、容易に出来る。
とその一辺の垂直二等分線で、その一辺からスルーホー
ル用突部の長さ以下の距離にある頂点とで作成される三
角形をその頂点を外側にして、上記一辺を最上層配線に
接するように付けたものである。この△部は、コンピュ
ーター処理により最上層配線と下層電源配線の交叉部分
を検出し、付加することが、容易に出来る。
【0011】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体集
積回路装置は、下層電源配線と、それに直交する最上層
配線との交叉部分において、最上層配線に△部をもたせ
たのでSEM画面を見ながら行うEBテスタによる不良
解析やFIB加工等必要条件である正確な特定位置の把
握が出来るという効果を有する。
積回路装置は、下層電源配線と、それに直交する最上層
配線との交叉部分において、最上層配線に△部をもたせ
たのでSEM画面を見ながら行うEBテスタによる不良
解析やFIB加工等必要条件である正確な特定位置の把
握が出来るという効果を有する。
【図1】本発明の一実施例のSEM上の要部平面図であ
る。
る。
【図2】本発明の他の実施例のSEM上の要部平面図で
ある。
ある。
【図3】従来例の要部平面図である。
【図4】従来例のSEM上の要部平面図である。
1 最上層配線 2 直交する下層電源配線との交叉部分 3 スルーホール部 4 下層VDD線との交叉部分 5 下層GND線との交叉部分 6 基本セル 7 下層電源配線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/3205 H01L 21/321 H01L 21/3213 H01L 21/768 H01L 21/82 H01L 21/118
Claims (2)
- 【請求項1】 同一基本セルをアレイ状に多数配置し、
該セル上に形成されたファンクション・ブロックを相互
を接続して内部論理回路を構成し、チップ周辺部に配列
された入・出力バッファ回路と内部論理回路とを接続し
て所望の論理回路を得る半導体集積回路装置において、
基本セル列と平行に存在する下層電源配線と、それに直
交する最上層配線との交叉部分において、最上層配線に
三角形状の突起部をもたせることを特徴とする半導体集
積回路。 - 【請求項2】 三角形状の突起部が、下層電源配線と同
じ幅を持つ一片とその一辺の垂直二等分線上で、その一
辺からスルーホール用突起の長さ以下の距離にある頂点
とで作成される三角形をその頂点を外側にして、一辺を
最上層配線に接するよう付けられていることを特徴とす
る請求項1記載の半導体集積回路装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1512093A JP2944347B2 (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 半導体集積回路装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1512093A JP2944347B2 (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 半導体集積回路装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06232281A JPH06232281A (ja) | 1994-08-19 |
JP2944347B2 true JP2944347B2 (ja) | 1999-09-06 |
Family
ID=11879969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1512093A Expired - Fee Related JP2944347B2 (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | 半導体集積回路装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2944347B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100454131B1 (ko) * | 2002-06-05 | 2004-10-26 | 삼성전자주식회사 | 라인형 패턴을 갖는 반도체 소자 및 그 레이아웃 방법 |
JP5036336B2 (ja) * | 2007-02-05 | 2012-09-26 | オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド | 半導体チップの位置合わせ方法 |
-
1993
- 1993-02-02 JP JP1512093A patent/JP2944347B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06232281A (ja) | 1994-08-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990601 |
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