JP2943815B2 - 電子ビーム測長機における測長方式 - Google Patents

電子ビーム測長機における測長方式

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    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電子ビーム測長機における測長方式の改良
に関する。
[従来の技術] 電子ビーム測長機の測長方式は、電子ビームをデジタ
ルスキャンを行い試料上を走査して、該試料から得られ
る2次電子を検出し、この2次電子信号によって形状判
断、或いは計測値をCPUにより算出するようにしてい
る。この場合の波長分解能は、走査されるビームの径及
びデイジタルスキャンの各ピクセル間隔の細かさ(ドッ
ト数)による。ところで、通常のフレームメモリー及び
TVモニターの分解能は、画素数512×512である。そのた
め、従来の画像取り込みにおいては、例えば、倍率1万
倍で行うとすると、第5図に示す通り試料S上をX,Y方
向に走査ステップ512×512で走査してデータを取り込む
ようにしている。ここで、表示画面のサイズ10cm×10cm
としたとき、倍率1万倍でのビーム走査幅は、10cm=10
0,000μmであるから、100,000μm/10,000倍となり、従
って、ビーム走査幅は10μm×10μmとなる。このとき
1ドット当たりの間隔は、10μm/512であるから約0.02
μmとなる。
[発明が解決しようとする課題] このような従来の方式では、分解能をさらに向上させ
るためには、走査ステップ1024×1024或いは走査ステッ
プ2048×2048で走査して、フレームメモリーやTVモニタ
ーを画素数1024×1024や画素数2048×2048を使用しなれ
ればならない。ところが、このようなフレームメモリー
やTVモニターは高価であるため、分解能の向上はコスト
アップという問題に直面せざるを得なかった。
本発明は、上述した点に鑑みなされたもので、比較的
画素数の小さいフレームメモリーを使用するにもかかわ
らず、高精度の測長を可能にする電子ビーム測長機にお
ける測長方式を提供することを目的としている。
[課題を解決するための手段] このような課題を解決するため、本発明は電子ビーム
によって試料上を2次元走査し、この走査により得られ
た試料からの画像情報をメモリーに記憶し、この画像情
報から試料像のパターン測長を行うようにした装置にお
いて、前記試料上の定められた領域を電子ビームによっ
て走査するにあたり、各走査像は該走査像の走査中心を
所定のシフト量だけシフトして走査し、この走査によっ
て得られた画像情報を順次各走査像に対応した複数のフ
レームメモリーに格納して、各複数のフレームメモリー
に格納されたデータをつなぎ合わせて測長データとして
試料像のパターン測長を行うようにしたことを特徴とし
ている。
[実施例] 以下本発明の実施例を添付図面により詳述する。
第1図は本発明を実施するための装置構成の一実施例
を示しており、第2図は他の一実施例を示している。
第1図において、1は電子銃、2は電子ビーム、3は
試料、4x,4yは夫々X,Y方向偏向コイル、5x,5yはコイル
駆動回路、6は倍率制御回路、7x,7yはX,Y走査信号発生
回路、8は試料3よりの2次電子を検出するための2次
電子検出機、9はAD変換器、10は書込制御回路、11はメ
モリM1〜メモリM16までを有するフレームメモリーであ
る。12は読出し制御回路、13は表示装置である。14x,14
yはX及びYシフトコイルであり、15はシフトコイルの
ための駆動回路である。16はCPU、17は操作卓、18はDA
変換器である。
このように構成された装置において、例えば2048×20
48画素の画像データを得るには、先ず、操作卓17により
倍率を例えば1万倍に設定する。この状態で、更に操作
卓17により、第3図に示すように電子ビーム2の試料走
査幅を既に設定した幅の1/4に設定する。その結果、倍
率制御回路6には、倍率1万倍の場合の1/4に相当する
幅だけ試料が走査されるように制御信号がCPU16より送
られる。CPU16は、第2図に示すように、タイミング信
号発生部20と、シフト信号発生部21及び書込制御信号発
生部22を有しており、試料の走査開始が指示されると、
タイミング信号発生部20よりタイミング信号を発生させ
て前記走査信号発生回路7x,7yに送り、これら走査信号
発生回路より512×512画素の画面で16画面分の走査信号
を順次発生させる。このとき、タイミング信号発生部20
よりのタイミング信号はシフト信号発生部21に送られ、
シフト信号発生部21は走査信号発生回路7yより新たな垂
直走査が開始される都度、異ったシフト信号の組をDA変
換器18に送る。このような各部分からの信号に基づい
て、試料の走査と信号の記憶は第3図に示すように行な
われる。尚、第3図において、Cは全走査領域の走査中
心であり、a,b等で示されたエリアは全走査領域の1/16
の面積の領域である。即ち、中心Cに対してΔX1,ΔY1
ずらしてエリアaの走査が最初に行なわれ、この走査に
伴って得られた512×512の画素分のデータは、書込制御
信号発生部22よりの制御信号によって制御される書込制
御回路10によりメモリM1に格納される。次に、走査中心
を中心Cに対してΔX2,ΔY1だけずらして、同様にエリ
アbについて面走査を行いデータをメモリM2に格納す
る。このようにして、順次ビーム走査幅2.5μm×2.5μ
mの範囲を走査して、これらのデータをメモリM1〜M16
に分割して格納する。
これらメモリM1〜M16に分割して格納されたデータに
基づいて測長データを得るには、以下のようにする。
即ち、例えばエリアaに測長しようとするパターンの
左端部と右端部が存在する場合には、これら両端部間の
画素数をカウントし、このカウント値を倍率情報に基づ
いて長さデータに変換する。
又、例えば、エリアaに測長しようとするパターンの
左端部が存在し、エリアdに測長しようとするパターン
の右端部が存在する場合には、左端部からエリアaの右
端部までの画素数と、エリアdの左端部からパターンの
右端部までの画素数と、エリアb及びcのx方向幅に相
当する画素数を求め、これらの和を倍率情報に基づいて
長さデータに変換することによって求めることができ
る。この際、どのエリアにパターンのどの部分が存在す
るかの確認は、フレームメモリ11よりの画像信号に基づ
いて表示装置13に像を表示することによって行ない得、
その際、表示画素を間引くことにより、全走査領域を一
画面として表示することもできるし、16画面の任意の画
面を単独で表示することもできる。全走査領域を表示す
る場合、表示装置に16画面の境界が把握できるように輝
線による区画線を表示すると良い。
このようにして、分割して格納された画像信号をつな
ぎ合わせて2048×2048個分の画素データにより測長を行
えば、この倍率では10μm/2048であるから、約0.005μ
mの分解能で測長を行なうことができる。
尚、上述した実施例においては、1回の走査幅を1/4
にして全走査領域を16画面に分け、各画面走査毎に全走
査領域の幅の1/4の幅ずつ走査位置を少くともシフトさ
せるようにしたが、例えば4回の画面走査で全走査領域
の走査を行なうには、次のようにしても良い。
即ち、試料を走査する際の走査幅にははなんら変更を
行なわず、シフト信号発生部21より新たな走査に伴い少
くとも1画素間距離分のシフト信号を送るようにするの
である。この方法で1024×1024画素の画像を得る場合に
ついての実施例を第4図を参照して更に説明する。
まず、倍率を例えば1万倍にして、X,Y方向を走査ス
テップ512×512で走査する。この点を第4図に示すよう
に○印で示す。次に、シフト信号発生部21よりの信号に
基づいて走査位置をΔX1ずらして走査を行う。その結
果、×印で示す点が走査される。更に、同様にΔY1ずら
して走査を行い、△印で示す点に電子ビームを照射して
走査を行なう。最後に、ΔX1,ΔY1ずらして走査を行
い、□印で示す点に電子ビームを照射して走査を行な
う。これらの走査によって得られたデータは、夫々最初
の実施例と同様にメモリM1〜メモリーM4に振り分けて格
納する。このようにして格納されたデータを、1024×10
24の画素分つなぎ合わせて測長を行えば、この場合10μ
m/1024であるので、約0.01μmの分解能で測長を行なう
ことができる。尚、第4図に基づいて説明した実施例に
おいては、CPUよりシフト信号を発生させて走査位置を
ずらすようにしたが、インターレース回路を用いて走査
信号の位相をずらすことにより走査位置をずらして実施
することもできる。
又、上述した実施例においては、走査領域のシフトは
シフトコイルにより行なうようにしたが、走査信号にシ
フト分の信号を重畳させることにより、シフトコイルを
用いることなく、走査コイルのみにより実施することも
できる。
又、第1図の実施例では、1フィールド走査終了毎に
走査中心をシフトさせるようにしたが、1水平走査終了
毎に走査中心を水平方向にシフトさせつつ走査するよう
にしてもよい。
[発明の効果] 以上詳述したように、本発明による電子ビーム測長機
における測長方式によれば、比較的画素数の小さいフレ
ームメモリーを使用するにもかかわらず、高精度の測長
が可能になり、従ってコスト的に有利で高精度な電子ビ
ーム測長機における測長方式が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明の方式を実施するための装置
構成を説明するための図、第3図は前記装置の動作を説
明するための図、第4図は他の実施例を説明するための
図、第5図は従来方式を説明するための図である。 1:電子銃、2:電子ビーム、3:試料、4x,4y:偏向コイル、
5x,5y:コイル駆動回路、6:倍率制御回路、7x,7y:走査信
号発生回路、8:2次電子検出器、9:AD変換器、10:書込制
御回路、11:フレームメモリ、12:読出し制御回路、13:
表示装置、14x,14y:シフトコイル、15:シフトコイル駆
動回路、の16:CPU、17:操作卓、18:DA変換器、20:タイ
ミング信号発生部、21:シフト信号発生部、22:書込制御
信号発生部。

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子ビームによって試料上を2次元走査
    し、この走査により得られた試料からの画像情報をメモ
    リーに記憶し、この画像情報から試料像のパターン測長
    を行うようにした装置において、前記試料上の定められ
    た領域を電子ビームによって走査するにあたり、各走査
    像は該走査像の走査中心を所定のシフト量だけシフトし
    て走査し、この走査によって得られた画像情報を順次各
    走査像に対応した複数のフレームメモリーに格納して、
    各複数のフレームメモリーに格納されたデータをつなぎ
    合わせて測長データとして試料像のパターン測長を行う
    ようにしたことを特徴とする電子ビーム測長機における
    測長方式。
  2. 【請求項2】前記各走査像の所定のシフト量は、該各走
    査像が互いに隙間無く隣接するように成したことを特徴
    とする請求項1記載の電子ビーム測長機における測長方
    式。
  3. 【請求項3】前記各走査像の所定のシフト量は、該各走
    査像の画素が互いに他の走査像の画素の間を、2次元的
    に均等に埋めるように成したことを特徴とする請求項1
    記載の電子ビーム測長機における測長方式。
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