JP2939754B2 - 水性系処理に有用なテロマー化合物 - Google Patents

水性系処理に有用なテロマー化合物

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JP2939754B2 JP1246257A JP24625789A JP2939754B2 JP 2939754 B2 JP2939754 B2 JP 2939754B2 JP 1246257 A JP1246257 A JP 1246257A JP 24625789 A JP24625789 A JP 24625789A JP 2939754 B2 JP2939754 B2 JP 2939754B2
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Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は新規な化合物、その製造及び水性系処理にお
ける用途、特に水性系からのスケール析出を防止する方
法及び／又は水性系の汚染を防止する方法及び／又は水
性系と接触している金属の腐蝕を防止する方法に関す
る。
（従来の技術） 本発明者等の英国特許第1458235号明細書には、広範
囲の温度の水性系に少量の次式： 〔式中、Ｒ″は水素原子またはメチル基またはエチル基
を表わし、Ｒは水素原子、炭素原子数１ないし18の直鎖
−または分岐アルキル基、炭素原子数５ないし12のシク
ロアルキル基、アリール基、アルアルキル基、次式： （式中、Ｒ″は前記の意味を表わしてｎ＋ｍの和が最大
100の整数を表わすか、あるいは−OX基を表わしてＸは
水素原子または炭素原子数１ないし４の直鎖−もしくは
分岐アルキル基を表わす。）で表わされる基を表わし、
そしてＲ′はOX基を表わし、Ｘは前記の意味を表わす〕
で表わされるテロマー化合物及びその塩類を含有する生
成物を添加することを特徴とする該水性系からのカルシ
ウム、マグネシウム、バリウム及びストロンチウムのス
ケール生成塩の沈澱を防止する方法が記載され特許請求
されている。
さて本発明者等は、はからずも水性系からのスケール
析出の防止に一層優れた活性を有し、さらに水性系と接
触している金属の腐蝕の抑制に、より優れた活性を有す
るためある種の新規な化合物を見出した。
従って、本発明は次式I: （式中、M1、M2、M3は独立して水素原子、炭素原子数１
ないし４のアルキル基、フェニル基、１価または当量の
多価金属原子、アンモニウムイオンもしくは置換アンモ
ニウムイオンを表わし、;R1は１個またはより多くのヒ
ドロキシル基またはカルボキシル基により置換された炭
素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そしてｐは
１ないし20の範囲内の整数を表わす。）で表わされる化
合物を提供するものである。
例えば、M1,M2,及びM3の１種または２種以上、好まし
くは３種のすべてが水素原子、１価または当量の多価金
属原子、アンモニウムイオンまたはアンモニウムイオン
を表わす。
M1,M2及びM3のうちの１種もしくは２種以上が金属原
子を表わすときは、それらは例えばアルカリ金属原子ま
たはアルカリ土類金属を表わすことができる。代表的な
アルカリ金属原子は例えばナトリウム原子及びカリウム
原子であり、代表的なアルカリ土類金属は例えばカルシ
ウム原子、バリウム原子、及びストロンチウム原子であ
る。置換アンモニウムイオンの中には例えばトリメチル
アンモニウムイオン、トリエチルアンモニウムイオン、
ビス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムイオン、ト
リス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムイオン及び
ビス（２−ヒドロキシエチル）−（２−ヒドロキシ−３
−ｐ−ノニルフエノキシ）プロピルアンモニウムイオン
が含まれる。
M1,M2及びM3のうちの１種もしくは２種以上が炭素原
子数１ないし４のアルキル基を表わすときは、それらは
例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロ
ピル基、ｎ−プチル基、ｉ−ブチル基または第３−ブチ
ル基を表わすことができる。
R1が１個またはより多くのヒドロキシル基またはカル
ボキシル基により置換された炭素原子数１ないし４のア
ルキル基を表わすときは、それは例えばヒドロキシメチ
ル基、２−ヒドロキシプロピル基、カルボキシメチル
基、カルボエトキシメチル基、２−カルボキシエチル
基、２−カルボエトキシエチル基、1,2−ジカルボキシ
エチル基、1,2−ジカルボメトキシエチル基、2,4−ジカ
ルポキジブチル基または2,4−ジ−カルボメトキシブチ
ル基を表わすことができる。R1として好ましいのはカル
ボキシメチル基、カルボキシエチル基及び1,2−ジカル
ボキシエチル基である。
式Ｉで表わされる新規な化合物はｐ＋１モルの次式I
I: CH2＝Ｃ（R1）−CO2R3 II （式中、R1は前記の意味を表わし、R3は水素原子、炭素
原子数１ないし４のアルキル基、フエニル基、１価もし
くは当量の多価金属イオン、アンモニウムイオンもしく
は置換アンモニウムイオンを表わす。）で表わされる化
合物と、１モルの次式III: （式中、R4及びR5は独立に水素原子、炭素原子数１ない
し４のアルキル基、フエニル基、１価もしくは当量の多
価金属イオン、アンモニウムイオンもしくは置換アンモ
ニウムイオンを表わし、またはR4及びR5は−CH2CH2−基
により環式構造を形成すべく結合されることができ
る。）で表わされる化合物とを反応させることにより製
造することができる。
代表的な金属イオンR3,R4及びR5,そして場合により置
換されたアンモニウムイオンR3,R4及びR5はそれぞれ前
記M1,M2及びM3の定義下に示されているものを表わす。
反応は、溶媒中または無溶媒のもと、遊離基開始剤例
えばジ−第三ブチルパーオキシド、ベゾイルパーオキシ
ドのような有機過酸化物、ビスアゾイソブチロニトリ
ル、過酸化水素、過酸化ナトリウムまたは過硼化ナトリ
ウムの存在下で効果的に行われる。もし溶媒を用いるな
らば、例えば水、トルエンのような芳香族炭化水素；ジ
オキサン;2−ブタノンのようなケトン；またはアルコー
ル例えばイソプロパノール；所望によりそれぞれの水と
の混合物を用いることができる。
本発明方法の生成物は水し溶解に得る。炭素原子数１
ないしの４アルキル基またはフエニル基であるR3基、R4
基またはR5基を含有する式IIまたは式IIIの反応物が使
用されるときは、このような基はその後に前記の意味を
有する反応基M1,M2及びM3を含有する式Ｉで表わされる
化合物を生成するよう部分的に又は完全に加水分解され
ていてよい。このような式Ｉで表わされる化合物は上記
の加水分解により、次にそこで得られた酸性水素原子の
中の一部または全部の、前に定義した塩生成塩基のカチ
オンによる置換により製造される。
式IIで表わされる反応物にはイタコン酸、ジ−メチル
イタコネート、ブテ−１−エン−2,4−ジ−カルボン
酸、ジエチルブテ−１−エン−2,4−ジカルボキシレー
ト、ヘキセ−１−エン−2,4,6−トリ−カルボン酸、ト
リエチルヘキセ−１−エン−2,4,6−トリカルボキシレ
−ト、ブテ−１−エン−2,3,4−トリカルボン酸、トリ
メチルブテ−１−エン−1,3,4−トリカルボキシレー
ト、２−ヒドロキシメチルアクリル酸及び２−ヒドロキ
シエチルアクリル酸が含まれる。
式IIIで表わされる反応体には燐酸、ジ−エチルホス
ファイト、ジ−メチルホスファイト、ジ−ブチルホスフ
ァイト、ジ−フエニルホスファイト、エチレンホスファ
イト及びナトリウム水素ホスファイトが含まれる。
式Ｉで表わされる化合物はスケールの析出と、水性溶
液からの塩類の沈澱を防止するのに有効である。この化
合物はカルシウムカチオン、マグネシウムカチオン、バ
リウムカチオンまたはストロンチウムカチオンと、サル
フエート、カーボネート、ヒドロキシド、ホスフエート
またはシリケートのようなアニオンとから導かれるスケ
ール生成塩と闘うのに特に有効である。
式Ｉで表わされる化合物はカルシウムサルフエート、
マグネシウムヒドロキシド、カルシウムホスフエート及
びカルシウムカーボネート等のスケールの析出の防止に
特に有効である。
式Ｉで表わされる化合物はまた、商業プラント、例え
ば作業用ボイラー、冷却水系、ガス洗滌プラントの用水
中の通常の析出物及び陶土の採掘中の見出される水性ス
ラリーに対する分散剤及び／または抗汚染剤として作用
する。このような析出物の例は酸化鉄、カルシウム及び
マグネシウムの析出物、例えばそれらの炭酸塩、硫酸
塩、蓚酸塩、及び汚泥、アルミナ、珪酸塩及び粘土であ
る。
式Ｉで表わされる化合物はまた、水に接している金
属、特に鉄金属の腐蝕に対し優れた防止作用を呈する。
さらにまた、式Ｉで表わされる化合物は熱水または沸
騰水を用いてアルミニウム上にアノード的に生成させた
酸化層でのシーリング中にアルミニウムの表面に析出す
ることのある厚いビロード状皮膜（シーリング スマツ
ト、sealing smut）を防止するのに有用である。
本発明方法の生成物は溶液として得られる。それらを
分離するために減圧下で、溶液を部分的に、または完成
に蒸発させてよい。反応生成物はテロマー生成物として
以外に述べる本発明方法に用いることができる。
式Ｉで表わされる化合物中の一部または全部の酸性水
素原子が前記の塩形成塩基から導かれたカチオンによっ
て交替されている、式Ｉで表わされる塩形の化合物は、
式Ｉで表わされる化合物の水性またはアルコール性溶液
を、化学量論量よりも過剰か、等しいか、または不足な
量の必須塩基を含有する水性またはアルコール性溶液と
混合することによつて製造することができる。次に蒸発
によつて溶媒を除去することができる。本発明の防止剤
が有用であることがわかる含水系の多くにおいては、水
分の中和に十分なほどアルカリ性であり、そして本発明
生成物のみ加えられることを必要とする。
本発明はまた式Ｉで表わされるテロマー化合物を水性
系に加えることを特徴とする該水性系の処理方法を提供
するものである。
実際の際、水性系を処理するのに用いられる式Ｉで表
わされる化合物の量は、該化合物が果たすことを要求さ
れる保護作用に応じて変えることができる。
例えば、所望によりスケール防止処理を伴なう、腐蝕
防止保護処理のためには、水性系に加えられる式Ｉで表
わされる化合物の量は、水性系の重量に基づいて0.1な
いし50,000ppm（0.00001ないし５重量％）、好ましくは
１ないし500ppm（0.0001ないし0.05重量％）の範囲に亘
ることができる。
単にスケール防止処理のためには、如えられる式Ｉで
表わされる化合物の量は水性系を基準として１ないし20
0ppm、好ましくは１ないし30ppmが有利である。多くの
比較的稀薄な被処理水性分散液に対しては、分散剤／抗
汚染剤として加えられる式Ｉで表わされる化合物の量は
重量基準で１ないし200ppm、好ましくは２にないし20pp
mの有利である。しかし処理される水性スラリーが、更
に非常に高いレベルの式Ｉで表わされる化合物を、例え
ば全水性系の70重量％ほどの高濃度の全固形物に対し0.
1ないし５重量％の上記化合物を必要とすることがあ
る。
水性溶液からのスケールの析出と塩類の沈澱を防止す
るために用いられるとき、式Ｉで表わされる化合物また
はその塩類は、カルシウム、マグネシウム、バリウムま
たはストロンチウムのカチオン、及び硫酸塩、炭酸塩ヒ
ドロキシド、燐酸塩及び珪酸塩のようなアニオンから導
かれたスケール形成塩の析出防止に特に有効である。
本発明により処理される水性系に関し、腐蝕防止とス
ケール防止を組合せた処理に関して特に興味のあるのは
冷却水系、スチーム発生系、海水蒸発器、逆浸透装置、
製紙装置、糖液蒸発装置、土壌潅水装置、静水調理装
置、ガス洗滌系、閉回路加熱系、水基冷凍系及び深井戸
系である；腐蝕防止処理のみを目的とする場合に特に興
味のある水性系には水性機械加工用流体組成物（例えば
穿孔、平削り、拡孔、穴ぐり、延伸、へら絞り、丸削
り、切断、のこ引き、研削、及びねじ切り加工における
用途、或は延伸または圧延加工における非切削造形＜no
n−cutting shaping＞における用途）水性洗掘系、水性
グリコール不凍剤組成物を含むエンジン冷却器、水／グ
リコール静圧流体；及び水基ポリマー表面塗装系／また
は溶剤基ポリマー系、例えばテトラヒドロフラン、ケト
ンまたはアルコキシアルカノールを含むもの等が包含さ
れる。
本発明により用いられる式Ｉで表わされる防止剤化合
物は単独で用いてもよく、または水性系の処理に有用で
あると知られている他の化合物と組合せて用いてもよ
い。
完全な水系、例えば冷却水系、空調系、スチーム発生
系、海水蒸発系、静圧調理装置及び閉回路の加熱または
冷凍系の処理には、更に他の腐蝕防止剤を用いることが
でき、例えば下記のものが挙げられる：水溶性亜鉛塩；
ホスフエート；ポリホスエート；ホスホン酸及びそれら
の塩、例えばヒドロキシエチルジホスホ酸（HEDP）、ニ
トリロトリスメチレンホスホン酸、及びメチルアミノジ
メチレンホスホノカルボン酸及びそれらの塩、例えばド
イツ連邦共和国特許第2632774号公開公報に記載された
もの、ヒドロキシホスホノ酢酸、２−ホスホノブタン−
1,2,4−トリ−カルボン酸及び英国特許第1572406号公報
に開示されているもの；硝酸塩、例えば、硝酸ナトリウ
ム；亜鉛酸塩、例えば亜鉛酸ナトリウム；モリブデン酸
塩、例えばモリブテン酸ナトリウム、タングスタン酸
塩；珪酸塩、例えば珪酸ナトリウム；ベンゾトリアゾー
ル、ビス−ベンゾトリアゾールまたは銅不活働化用ベン
ゾトリアゾールまたはトルトリアゾール誘導体またはそ
のマンニツヒ基導体；メルカプトベンゾトリアゾール;N
−アシルサルコシン;N−アシルアミノジ酢酸；エタノー
ルアミン；脂肪族アミン；及びポリカルボン酸、例えば
ポリマレイン酸及びポリアクリル酸、並びにそれぞれの
アルカリ金属塩、無水マレイン酸のコポリマー、例えば
無水マレイン酸とスルホン化スチレンのコポリマー、ア
クリル酸のコポリマー、例えばアクリル酸とヒドロキシ
アルキル化アクリル酸のコポリマー、及びポリマレイン
酸及びポリアクリル酸及びそれらのコポリマーの置換誘
導体。さらに、このような完全水性系においては、本発
明により用いられる防止剤をさらに他の分散剤及び／ま
たはしきい剤（threshold agents）、例えば重合したア
クリル酸（またはその塩）、ホスフイノ−ポリカルボン
酸（英国特許第1458235号に記載され特許請求されたよ
うな）、欧州特許出願第0150706号に記載されたコテロ
マー化合物、加水分解したポリアクリロニトリル、重合
したメタアクリル酸及びその塩、ポリアクリルアミド及
びそのアクリル酸及びメタアクリル酸とのコポリマー、
リグニンスルホン酸及びその塩、タンニン、ナフタレン
スルホン酸／ホルムアルデヒド縮合物、澱粉及びその誘
導体、セルローズ、アクリル酸／低級ヒドロキシアクリ
レートコポリマー、例えば米国特許第4029577号明細書
に記載されたもの、及びそれらを組合せたものと併用す
ることができる。特殊な開始剤例えば２−ホスホノ−ブ
タン−1,2,4−トリ−カルボン酸（PBSAM）、ヒドロキシ
エチルジホスホン酸（HEDP）、加水分解したポリ無水マ
レイン酸及びその塩、アルキルホスルン酸、ヒドロキシ
ホスホノ酢酸、１−アミノアルキル−1,1−ジホスホン
酸及びその塩及びアルカリ金属ポリホスフエートもまた
使用できる。
特に興味のある添加剤パツクは式Ｉで表わされる化合
物をポリマレイン酸またはポリアクリル酸またはそれら
のコポリマー、または置換コポリマー、ヒドロキシホス
ホノ酢酸、HEDP、PBSAM、トルトリアゾールのようなト
リアゾール、モリブデート及びニトリルの１種または数
種とともに含有するものである。
アルカリ金属オルトホスフフエート、カーボネートの
ような沈澱剤；アルカリ金属スルフイト及びヒドラジン
のような酸素捕集剤；ニトロトリ酢酸及びその塩のよう
な金属封鎖剤；シリコン例えばポリジメチルシロキサ
ン、ジステアリルセバカミド、ジステアリルアジパミ
ド、及びカプリルアルコールのような脂肪族アルコール
及びそのエチレンオキシド縮合物に加えてエチレンオキ
シド及び／またはプロピレンオキシド縮合から導かれた
関連生成物；及び殺菌剤、例えばアミン、第四級アンモ
ニウム化合物、クロロフエノール、スルホン、メチレン
ビスチオシアネート、メチレンビスチオカーバメートの
ような含硫黄化合物、イソアゾロン、臭素化プロピオン
アミド、トリアジン、ホスホニウム化合物、塩素及び塩
素放出剤及びトリブチル錫オキシドのように有機金属化
合物も使用できる。
もし、本発明方法により処理されるべき系が例えば水
性機械加工流体組成物のような完全な水性系でなけれ
ば、それは例えば水で稀釈できる切断用又は研削用流体
であってよい。
本発明の水性機械加工用流体組成物は、例えば金属加
工用組成物とも言える。“金属加工”とは拡孔、穴ぐ
り、延伸、へら絞り、切断、研削、穿孔、平削り、丸削
り、のこ引き、引切削造形または圧延を意味する。腐蝕
防止用組成物を組入れることのできる水稀釈性の切断ま
たは研削用流体の例には次のものが包含される： ａ） １種または数種の腐蝕防止剤の水性濃縮物、及び
所望により通常、研削用流体として1:50ないし1:100の
稀釈体で用いられる１種または数値の抗摩耗添加物； ｂ） ポリグリコール含有殺菌剤、腐蝕防止剤及び切削
加工のためには1:20ないし1:40に、そして研削加工のた
めには1:60ないし1:80に稀釈して用いられる耐摩耗添加
物； ｃ） （ｂ）に似ているがそりに加えて、水で稀釈され
た製品を透明にするための十分な乳化剤を伴なった10な
いし25％の油を含有する半合成切断加工用流体。
ｄ） 例えば、乳化剤、腐蝕防止剤、極圧／耐摩耗添加
物、殺菌剤、発泡防止剤、カツプリング剤等を含有する
乳化性鉱物油濃縮体；それらは一般に水で1:10ないし1:
50に稀釈され、白色不透明の乳化物となる。
ｅ）1:50ないし1:100の稀釈で、切断又は研削加工用の
透明は乳化物となる、（ｄ）に似ていて、より少量の油
とより多くの乳化剤を含む製品。
これらの水性系成分が水性機械加工用流体組成物であ
る部分的水性系のためには、本発明により用いられる式
Ｉで表わされる防止剤を単独にか、または他の添加物、
例えば公知の他の腐蝕防止剤及び／または極圧添加物と
の混合物として用いることができる。
本発明により用いられる防止剤成分に加えてこれらの
水性系において用いることのできる他の腐蝕防止剤の例
には下記の群が含まれる： ａ） 有機酸、それらのエステルまたはアンモニウム
塩、アミン塩、アルカノール−アミン塩及び金属塩、例
えばベンゾイン酸、ｐ−第三−ブチルベンゾイン酸、ジ
ソジウムセバケート、トリエタノールアミンラウレー
ト、イソノナン酸、ｐ−トレエンスルホンアミドカプロ
ン酸のチオエタノールアミン塩、ベンゼンスルホンアミ
ドカプロイン酸のエリエタノールアミン塩、欧州特許第
41927号に記載されているような５−ケトカルボン酸誘
導体のトリエタノールアミン塩、Ｎ−ラウロイルサルコ
シネートまたはノニルフエノキシ酢酸； ｂ） 下記の型のような含窒素物質：脂肪酸アルカノー
ルアミド；イミダゾリン例えば１−ヒドロキシ−エチル
−２−オレイル−イミダゾリン、オキサゾリン；トリア
ゾール、例えばベンゾトリアゾール；またはそれらのマ
ンニツヒ塩基誘導体、トリエタノールアミン；脂肪族ア
ミン；無機塩、例えば硝酸ナトリウム；及び欧州特許出
願第46139号に記載されているカルボキシ−トリアジン
化合物； ｃ） 下記の型のような含燐物質：アミンホスフエー
ト、ホスホン酸又は無機塩、例えばナトリウム２水素燐
酸または燐酸亜鉛； ｄ） 下記の型のような含硫黄化合物：ナトリウム−、
カルシウム−またはバリウム石油スルホネート、または
複素環化合物、例えばナトリウムメルカプトベンゾチア
ゾール。
含窒素物質に、特にトリエタノールアミンか好まし
い。
本発明により処理される系に存在し得る極圧添加物の
例には硫黄及び／または燐及び／またはハゲロン含有物
質、例えば硫化鯨油、硫化脂肪、トリトルイルホスフエ
ート、塩素化パラフインまたはエトキシ化ホスフエート
エステルが包含される。
本発明により処理される水性系にトリエタノールアミ
ンが存在するときは、トリエタノールアミンに対する防
止剤成分の比が2:1ないし1:20の比になるような量であ
ることが好ましい。
本発明方法によい処理される部分的水性系は水性の表
面塗装用組成物、例えば金属基材のための乳化塗料及び
水性粉末塗料であつてもよい。
水性の表面塗装用塗装物としては、例えば金属基材を
塗装するための、スチレン−アクリリツクコポリマー乳
化塗料、樹脂ベース、ラテツクスペースまたは他の水性
ベースポリマーの表面塗装用組成物が挙げられる。本発
明により用いられる防止剤組成物は、表面塗装の施工中
に金属基材の発錆を防止するために、また塗装された金
属の使用中のその後の腐蝕を防止するために用いること
ができる。
本発明方法により処理される水性の表面塗装用組成物
においては、防止剤組成物を単独にか、または他の添加
物例えば公知の腐蝕防止剤、殺菌剤、乳化剤及び／また
は顔料と混合して用いることができる。
使用可能なさらに他の公知の腐蝕防止剤は例えば先に
定義した分類ａ）,b）,c）及びｄ）に属するものであ
る。
式Ｉで表わされる化合物に加えてこれらの水性系にお
いて使用できる殺菌剤の例は下記のものである： フエノール及びアルキル−及びハゲロン化フエノー
ル、例えばペンタクロロフエノール、ｏ−フエニルフエ
ノール、ｏ−フエノキシフエノール及び塩素化ｏ−フエ
ノキシフエノール及びサリシルアニリド、ジアミン、ト
リアジン及び有機水銀化合物及び有機錫化合物のような
有機金属化合物。
水性表面塗装のために乳化剤の例にはアルキルサルフ
エート、アルキルスルホネート、エーテル−アルコール
スルホネート、ジ−ｎ−アルキルスルホネート及びポリ
オキシエチレンノニルフエニルエーテルが包含される。
式Ｉで表わされる化合物に加えて、これらの水性系に
使用できる顔料の例には、二酸化チタン、クロム酸亜
鉛、酸化鉄及びフタロシアニンのような有機顔料が包含
される。
既に指摘したように式Ｉで表わされる化合物はまた、
通常の沈澱物、例えば酸化鉄及び／または鉄塩、カルシ
ウムやマグネシウムの沈澱物、例えばそれらの炭酸塩、
硫酸塩、蓚酸塩及び燐酸塩及びこのような水の中に見出
される汚泥、アルミナ、珪酸塩及び粘土に対する分散剤
び／または抗汚染剤としての作用をする。
特に本発明方法は重量ベースで５ないし1500ppmのカ
ルシウムイオン並びに懸濁固体を含む水性系中の沈澱物
を分散させるために使用される。本発明のこの見地は、
粘土採取場から粘土を運び出す際にユーザーにとっては
認識して分離できないスラリーを得ることが重要な陶土
工業における特殊な用途を気付かせる。これらのスラリ
ー中の懸濁固体の高濃度で、式Ｉの化合物は陶土を分散
させ、そして“加工中の”分散剤として及び研削助剤と
して価値のあることが見い出された。
本発明をさらに下記の例によ説明する。特記しない限
り部及び％は重量による。
実施例1: ジエチルホスフアイト12.1重量部に、140℃で撹拌し
ながら３時間以上かけて、ジエチルブテ−１−エン2,4
−ジカルボキシレート70重量部及びジ−第三−ブチルパ
ーオキシド5.75重量部を別にして滴下する。添加を完了
した後さらに２時間、温度を140℃に維持する。200゜/1
30Paまでの減圧下の蒸溜により未反応のジ−エチル−ホ
スフアイトを除去し、残留液を濃塩酸400重量部中に懸
濁させて、混合物を18時間還流加熱する。
100℃/1600Paでの減圧下に生成液を蒸発乾固し、分子
量1430の固体ポリマー53重量部を得る。
亜燐酸の不在と、ホスホン酸テロゲンの存在は31Pnmr
分析で確かめられた（28ppmで多重シグナル。） 実施例2: 実施例１で述べた方法に従い、ジエチルホスフアイト
23重量部、ジメチルイタコネート52.7重量部及びジ−第
三−ブチル−パーオキシド5.3重量部から、分子量590で
25−30ppm周りに31P多重スペクトルを有するポリマー4
4.5重量部を得る。
実施例3:炭酸カルシウム（冷却水）限界試験 試験条件 試験温度 70℃ 試験期間 30分 空気吸入速度 500cc/分（100ml当り） カルシウム Ca2+として150ppm マグネシウム Mg2+として45ppm 炭 酸 塩 CO3 -2として51ppm 重炭酸塩 -HCO3として269ppm 試験添加物 1ppm この試験はCaCO3の沈澱を防止するための添加物の能
力を評価するために計画された。水の組成は冷却水を想
定し、高温度は熱交換器の近くで存在する条件を表わし
ている。試験条件の厳格さを増すために空気発泡が採用
される。
炭酸ナトリウムと重炭酸ナトリウムを含有する一定容
の溶液を、塩化カルシウムと塩化マグネシウムを含有し
既に試験添加物を含有している同容量の溶液と混合す
る。得られた試験溶液に一定速度で空気を吹込み、30分
間70℃に保つ。次にこの溶液を過し、液中の残留カ
ルシウムをEDTA滴定により測定する。
各試験を２回行ない最初の試験が、試験中の実際のCa
+2濃度を決める基準試験となる。
基準滴定値及びブランク滴定値は通常、夫々15−16ml
及び５−6mlである 実施例１の生成物では1ppmの添加レベルで63％のCaCO
3抑止を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｆ 120/00 Ｃ０８Ｆ 120/00 Ｃ２３Ｆ 11/167 Ｃ２３Ｆ 11/167 14/02 14/02 Ａ (56)参考文献 特開 昭61−73703（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−81662（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−11092（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−20169（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−34694（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−25343（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−174295（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−23283（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−114986（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−297406（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−134389（ＪＰ，Ａ) 特公 昭54−29316（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭44−6806（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) C07F 9/00 - 9/54 C08F 20/00 - 20/70 C08F 120/00 - 120/70 C02F 5/00 - 5/14 C23F 11/00 - 11/18 C23F 14/00 - 14/02 B01F 17/00 - 17/56

Claims (13)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次式I: （式中、M1、M2、M3は独立して水素原子、炭素原子数１
    ないし４のアルキル基、フェニル基、１価または当量の
    多価金属原子、アンモニウムイオンもしくは置換アンモ
    ニウムイオンを表わし、;R1は１個またはより多くのヒ
    ドロキシル基またはカルボキシル基により置換された炭
    素原子数１ないし４のアルキル基を表わし、そしてｐは
    １ないし20の範囲内の整数を表わす。）で表わされる化
    合物。
  2. 【請求項２】M1、M2及びM3の３種のすべてが水素原子、
    １価または当量の多価金属原子、アンモニウムイオンま
    たは置換アンモニウムイオンを表わす、請求項１記載の
    化合物。
  3. 【請求項３】次式II: CH2＝Ｃ（R1）−CO2R3 II で表わされる化合物ｐ＋１モルと、次式III: で表わされる化合物１モルを反応させることからなる請
    求項１記載の化合物の製造方法（各式中、R1は請求項１
    で定義された意味を表わし、そしてR3、R4及びR5は独立
    して水素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基、フ
    ェニル基、１価もしく当量の多価金属イオン、アンモニ
    ウムイオンまたは置換アンモニウムイオンを表わ
    す。）。
  4. 【請求項４】遊離基開始剤の存在下で行なわれる請求項
    ３記載の方法。
  5. 【請求項５】請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物を
    水性系に加えることを特徴とする該水性系の処理方法。
  6. 【請求項６】腐食防止処理、または同時のスケール防止
    処理を伴なう腐食防止処理が行なわれるように水性系が
    処理され、該水性系の重量に対して0.1ないし50000ppm
    の量の、式Ｉで表わされる化合物が加えられる請求項５
    記載の方法。
  7. 【請求項７】式Ｉで表わされる化合物が水性系に対して
    １ないし500ppmの重量比で加えられる請求項６記載の方
    法。
  8. 【請求項８】水性系が単にスケール防止処理に施すべく
    処理され、式Ｉで表わされる化合物が水性系に対して１
    ないし200ppmの重量比で加えられる請求項５記載の方
    法。
  9. 【請求項９】式Ｉで表わされる化合物が水性系に対し、
    １ないし30ppmの重量比で加えられる請求項８記載の方
    法。
  10. 【請求項１０】水性系に分散剤／抗汚染剤の添加処理が
    行なわれ、加えられる式Ｉで表わされる化合物の量が水
    性系に対し重量比で１ないし200ppmである請求項５記載
    の方法。
  11. 【請求項１１】式Ｉで表わされる化合物が、水性系に対
    し１ないし30ppmの重量比で加えられる請求項10記載の
    方法。
  12. 【請求項１２】式Ｉで表わされる化合物が、水性系処理
    に有用であろうと知られている他の化合物と組合わせて
    加えられる請求項５記載の方法。
  13. 【請求項１３】式Ｉで表わされる化合物が、ポリマレイ
    ン酸またはポリアクリル酸またはそれらのコポリマー、
    または置換コポリマー；ヒドロキシホスホノ酢酸、HED
    P;PBSAM;トルトリアゾールのようなトリアゾール；モリ
    ブデート；及びニトリルの１種または２種以上と組合わ
    せて用いられる請求項12記載の方法。
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