JP2924483B2 - 可変減衰器 - Google Patents

可変減衰器

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JP2924483B2
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variable attenuator
fet
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drain
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茂 天野
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Nippon Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は可変減衰器に関し、特に
マイクロ波帯以上のモノリシック集積回路に電界効果ト
ランジスタを組み込んで使用される可変減衰器に関す
る。
【0002】
【従来の技術】通常、マイクロ波回路を用いて構成され
る通信システムでは、回線構成上のレベルダイヤ調整又
は温度特性によるシステム内の信号レベル変動を吸収し
て安定化出力を得ることを目的として、多くの可変減衰
器をマイクロ波回路に使用している。このような可変減
衰器は接続される前後の機器又は素子とのインピーダン
ス整合をとり、減衰量が変化しても接続インピーダンス
が変化しない定抵抗形可変減衰器を用いることが多い。
そして可変抵抗素子としては一般的にはPINダイオー
ドがよく知られている。
【0003】近年、半導体基板上に多くの回路素子を集
積化して高周波回路を構成するモノリシック集積回路の
開発が盛んであり、マイクロ波帯以上で動作する集積回
路に適したガリウムひ素等を半導体基板上に構成する場
合も数多くある。
【0004】従来、この種の集積回路に使用される可変
減衰器も装置の小形化、コストダウンのため、ガリウム
ひ素等の半導体基板上に構成したモノリシック集積回路
の可変減衰器も実現されつつある。この回路構成は図4
に示すようにブリッジT型回路である。すなわち、マイ
クロ波信号の入力1,出力2にそれぞれドレイン,ソー
スを接続し、ゲートを制御端子8に接続する電界効果ト
ランジスタ(FET)3と、FET3のドレインとソー
スにそれぞれ一端を接続し、他端を共通接続する抵抗
5,6と、この共通接続点にドレインを接続し、ソース
を接地し、ゲートを制御端子7に接続する電界効果トラ
ンジスタ(FET)4とにより、ブリッジドT型可変減
衰器を構成している。減衰量は制御端子7,8のバイア
ス電圧を変えて減衰量を可変としている。前述のように
この可変減衰器は定抵抗型可変減衰器なので、FET3
及び4のチャンネル抵抗R1 ,R2 とし、回路の特性イ
ンピーダンスをZ0 (抵抗5,6の抵抗値)とすると、 Z0 2 =R1 −R2 となるようにFET3及び4のゲート電圧を制御してい
る。
【0005】一方、この従来のブリッジT型可変減衰器
は、FETの非飽和領域でのドレイン・ソース間抵抗値
がゲート電圧により変化することを利用しているので、
高周波入力信号の電圧振幅がFETの非飽和領域内であ
れば歪特性の劣化は小さいが、ゲート電位を下げていく
とFETの非飽和領域が減少するために、歪特性が著し
く劣化する。ゲート電圧一定下で入力信号電力を増して
いった場合も、入力信号の電圧振幅がFETの飽和領域
に近づくに従い、歪特性が劣化していく。図5に、従来
のブリッジT型可変減衰器のゲート・ソース間電圧を変
化させた時の3次混変調歪特性のD/U比の実測値と減
衰量を示す。図5においてVgs1 =−0.1v及び−
0.9v付近でD/U比の劣化する極大点が存在する。
これら2点の極大点のうちVgs1 =−0.1v付近で
は、FET4の歪が支配的であり、Vgs1 =−0.9
v付近ではFET3の歪が支配的となる。可変減衰器で
は減衰量0dBから数dBまでの間で歪の少ない特性を
要求されるので、Vgs1=−0.1v付近において、
FET4の歪を減少させる必要があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この従来の可変減衰器
は所望の減衰量の可変範囲の間で3次混変調歪のD/U
比が所定の特性を確保できない欠点がある。特に減衰量
の少ない領域におけるFET4による歪の劣化が生ずる
欠点があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の可変減衰器は、
モノリシック集積回路に組み込まれ特性インピーダンス
が減衰量にかかわらず一定である定抵抗形可変減衰器で
あって、ドレインを高周波信号の入力としソースを高周
波信号の出力とし、ゲートに制御電圧を印加する第1の
電界効果トランジスタと、この第1の電界効果トランジ
スタのドレイン・ソースのそれぞれに一端を接続し、他
端が共通接続されており、おのおの特性インピーダンス
が等しい抵抗値を有する2つの抵抗と、前記2つの抵抗
の共通接続点にドレインを接続し、ソースを接地電位と
し、ゲートに制御電圧を印加する第2の電界効果トラン
ジスタとを備え、前記第の電界効果トランジスタのゲ
ート幅前記第の電界効果トランジスタのゲート幅
り広くなるように形成されている。
【0008】
【実施例】本発明について図面を参照して説明する。本
発明は使用するFETの特性を変えることにより可変減
衰器の3次混変調歪特性を改良しているので、回路構成
は図4と同様である。したがって回路符号も図4の符号
をそのまま使用する。図1は本発明の一実施例のFET
3のI−V特性、図2は本実施例のFET4のI−V特
性、図3は本実施例を適用した歪み特性および減衰量の
特性図である。
【0009】次に本実施例の動作原理を説明する。制御
端子7,8に与えるべき電圧について述べる。FETの
チャンネル抵抗Rcは(1)式で表される。
【0010】 Rc=Lg/2Wgβ(Vgs−Vp) …(1) ここでVgsはゲート・ソース間電圧、Vpはピンチオ
フ電圧、Lgはゲート長、Wgはゲート幅、βは定数で
ある。一方、図4の回路が減衰量にかかわらず特性イン
ピーダンスZ0 が定抵抗特性を有する条件は、FET
3,4のチャンネル抵抗R1,R2が前述したが(2)
式となる場合である。
【0011】 Z0 2 =R1 ・R2 …(2) (2)式を(1)式を用いて表すと(3)式となる。
【0012】
【0013】ここで、FET3,4の各パラメータに対
してはそれぞれ添字1,2を付することにする。モノリ
シック集積回路中ではLg1 =Lg2 =Lg,β1 =β
2 =β,Vp1 =Vp2 =Vpなので(3)式は(4)
式となる。
【0014】
【0015】すなわち、(Vgs1 −Vp)と(Vgs
2 −Vp)との積が一定であるようにVgs1 ,Vgs
2 を制御すれば、この可変減衰器の定抵抗性は保たれ
る。
【0016】次に、この可変減衰器の3次混変調歪特性
について説明する。図1は、FET3の電流−電圧(I
−V)特性である。図2はFET4のI−V特性で図1
のFET3のゲート幅を2倍にした場合である。ただ
し、モノリシック集積回路中にゲート幅のみ異なるトラ
ンジスタを配置することを想定しているので、ピンチオ
フ電圧Vpは図1,図2のFETとも等しく、相互コン
ダクタンスgm は図2のFET4が図1のFET3の2
倍となる。すなわち本実施例の可変減衰器のFET4の
ゲート幅を拡げることで、Vp付近のゲート電圧を与え
た時のドレイン電流の飽和電圧Vs2 (図2参照)が、
Vs1 (図1参照)に比べて増加するために、FET4
の歪特性が改善される。FET3のゲート幅を拡げた場
合には、FET3のゲート・ソース間容量及びゲート・
ドレイン間容量が増加し、高周波特性が著しく劣化する
ために、所要の信号周波数に対してゲート幅が制限され
る。一方、FET4の容量が高周波特性に及ぼす影響
は、FET3に比べて小さいので、FET4のゲート幅
の選択の自由度は大きい。
【0017】このようにFET3に比較してゲート幅の
異なるFET4を組み込むことにより、定抵抗型可変減
衰器の3次混変調歪特性は図3の特性図のように歪み特
性Aの値が従来例より改善される。なお、歪み特性Bは
従来例とほぼ同じであり、減衰量の可変特性も変らない
ので、混変調歪の値が減衰量の少ない方で改善される。
【0018】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ゲート幅
の異なる2つのFETにより可変減衰器を構成している
ので、モノリシック集積回路中の可変減衰器をFETに
より構成でき、歪特性の良好な定抵抗形可変減衰器が実
現できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のFET3の特性図である。
【図2】本実施例のFET4の特性図である。
【図3】本実施例を適用した可変減衰器の特性図であ
る。
【図4】本発明の一実施例および従来例に共通の回路図
である。
【図5】従来の可変減衰器の特性図である。
【符号の説明】
1 入力 2 出力 3,4 電界効果トランジスタ(FET) 5,6 抵抗値Z0 の抵抗 7,8 制御端子

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 モノリシック集積回路に組み込まれ特性
    インピーダンスが減衰量にかかわらず一定である定抵抗
    形可変減衰器であって、ドレインを高周波信号の入力と
    しソースを高周波信号の出力とし、ゲートに制御電圧を
    印加する第1の電界効果トランジスタと、この第1の電
    界効果トランジスタのドレイン・ソースのそれぞれに一
    端を接続し、他端が共通接続されており、おのおの特性
    インピーダンスが等しい抵抗値を有する2つの抵抗と、
    前記2つの抵抗の共通接続点にドレインを接続し、ソー
    スを接地電位とし、ゲートに制御電圧を印加する第2の
    電界効果トランジスタとを備え、前記第の電界効果ト
    ランジスタのゲート幅前記第の電界効果トランジス
    タのゲート幅より広くなるように形成されていることを
    特徴とする可変減衰器。
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