JP2909037B2 - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
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- JP2909037B2 JP2909037B2 JP15997A JP15997A JP2909037B2 JP 2909037 B2 JP2909037 B2 JP 2909037B2 JP 15997 A JP15997 A JP 15997A JP 15997 A JP15997 A JP 15997A JP 2909037 B2 JP2909037 B2 JP 2909037B2
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Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子線描画装置、特
に試料ステージを連続移動させて描画するのに適した電
子線描画装置に関する。
に試料ステージを連続移動させて描画するのに適した電
子線描画装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ステップ・アンド・リピート方式の描画
では、試料ステージの移動時には試料への描画は実行さ
れず、これは無駄時間として描画時間短縮（スループッ
ト向上）に対する障害となっている。これに対して、試
料ステージ連続移動による描画では、試料ステージを移
動させながら同時に描画を行うために、試料ステージ移
動に伴う無駄時間が排除され、描画時間の短縮が実現で
きる。
では、試料ステージの移動時には試料への描画は実行さ
れず、これは無駄時間として描画時間短縮（スループッ
ト向上）に対する障害となっている。これに対して、試
料ステージ連続移動による描画では、試料ステージを移
動させながら同時に描画を行うために、試料ステージ移
動に伴う無駄時間が排除され、描画時間の短縮が実現で
きる。
【０００３】ここで、デバイス・パタ−ンの作成は機能
ブロック単位で分割される。従って、電子線描画装置で
の描画においては、描画に先立って複数の描画パタ−ン
・デ−タを合成処理することが必要となる。これによっ
て、複数の描画パタ−ン・デ−タの描画を一連のステ−
ジ移動の中で実行することが可能となる。
ブロック単位で分割される。従って、電子線描画装置で
の描画においては、描画に先立って複数の描画パタ−ン
・デ−タを合成処理することが必要となる。これによっ
て、複数の描画パタ−ン・デ−タの描画を一連のステ−
ジ移動の中で実行することが可能となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、通常の試料ス
テージ連続移動による描画では、複数の描画デ−タにつ
いて近接効果補正の有無を各描画パタ−ン・デ−タ毎に
指定した場合、描画に先立って複数の描画パタ−ン・デ
−タの分割領域単位での合成処理を実行することができ
ない。この場合には、描画パタ−ン・デ−タを近接効果
補正を行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わない描
画パタ−ン群に分類して、個々に描画を行う必要があ
る。従って、試料ステ−ジ移動を繰返し行う必要がある
ために、全体の描画時間を低下させることになる。
テージ連続移動による描画では、複数の描画デ−タにつ
いて近接効果補正の有無を各描画パタ−ン・デ−タ毎に
指定した場合、描画に先立って複数の描画パタ−ン・デ
−タの分割領域単位での合成処理を実行することができ
ない。この場合には、描画パタ−ン・デ−タを近接効果
補正を行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わない描
画パタ−ン群に分類して、個々に描画を行う必要があ
る。従って、試料ステ−ジ移動を繰返し行う必要がある
ために、全体の描画時間を低下させることになる。
【０００５】本発明の目的は試料ステ−ジを連続移動し
て描画を行うに際して、描画パタ−ンを近接効果補正を
行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わない描画パタ
−ン群に分類して個々に描画を行うことを必要としない
電子線描画装置を提供することにある。
て描画を行うに際して、描画パタ−ンを近接効果補正を
行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わない描画パタ
−ン群に分類して個々に描画を行うことを必要としない
電子線描画装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、複数の
描画デ−タをそれぞれ所望の寸法に分割し、その分割領
域単位で合成処理し、試料の移動制御に合わせて試料へ
の電子線の偏向を制御して前記合成処理した描画デ−タ
の前記試料に対する描画を行う電子線描画装置におい
て、前記描画デ−タ毎に近接効果補正の有無を指定して
前記描画デ−タ合成処理後に前記描画デ−タの近接効果
の有無を切り替えて描画を実行することを特徴とする電
子線描画装置にある。
描画デ−タをそれぞれ所望の寸法に分割し、その分割領
域単位で合成処理し、試料の移動制御に合わせて試料へ
の電子線の偏向を制御して前記合成処理した描画デ−タ
の前記試料に対する描画を行う電子線描画装置におい
て、前記描画デ−タ毎に近接効果補正の有無を指定して
前記描画デ−タ合成処理後に前記描画デ−タの近接効果
の有無を切り替えて描画を実行することを特徴とする電
子線描画装置にある。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下，本発明の一実施例を説明す
る。図１に本発明が採用される電子線描画装置の一実施
例の全体構成図を示す。装置本体１内に試料ステージ２
が収納されている。描画用の試料３は試料ステージ２上
に搭載されている。試料ステージ２の位置は測長計４に
よって測定される。ステージ制御部５は制御計算機７か
らの指令に従って駆動部６を制御することにより試料ス
テージ２の移動動作を行う。
る。図１に本発明が採用される電子線描画装置の一実施
例の全体構成図を示す。装置本体１内に試料ステージ２
が収納されている。描画用の試料３は試料ステージ２上
に搭載されている。試料ステージ２の位置は測長計４に
よって測定される。ステージ制御部５は制御計算機７か
らの指令に従って駆動部６を制御することにより試料ス
テージ２の移動動作を行う。
【０００８】制御計算機７によって、試料３上での描画
順序に従って、各列（ストライプ）単位で描画パターン
・データ８の並び替えが行われ、バッファ・メモリ９に
転送され、記憶される。ここで、描画パタ−ンが複数存
在する場合、分割領域単位での合成処理が行われる。描
画制御部１０では、制御計算機７による描画動作の起動
がかかると、バッファ・メモリ９より順次に描画パター
ン・データ８を読み出し、描画制御部１０では、ショッ
トへの分解、各ショットの座標計算および電子線照射時
間の計算（近接効果補正）を行い、ショット・データ１
０ａを作成して追従補正部１１へ送る。追従補正部１１
では、測長計４によって測定したステージ位置４ａとシ
ョット・データ１０ａから偏向データ１１ａを計算し、
試料ステージ２が偏向範囲に入ると、偏向制御部１２に
起動をかける。偏向制御部１２は、電子銃１３より射出
した電子ビーム１３ａを偏向データ１１ａに従って正確
に偏向するように偏向手段１４を制御することによっ
て、試料ステージ２上に搭載されている試料３への描画
パターンの描画動作を行う。
順序に従って、各列（ストライプ）単位で描画パターン
・データ８の並び替えが行われ、バッファ・メモリ９に
転送され、記憶される。ここで、描画パタ−ンが複数存
在する場合、分割領域単位での合成処理が行われる。描
画制御部１０では、制御計算機７による描画動作の起動
がかかると、バッファ・メモリ９より順次に描画パター
ン・データ８を読み出し、描画制御部１０では、ショッ
トへの分解、各ショットの座標計算および電子線照射時
間の計算（近接効果補正）を行い、ショット・データ１
０ａを作成して追従補正部１１へ送る。追従補正部１１
では、測長計４によって測定したステージ位置４ａとシ
ョット・データ１０ａから偏向データ１１ａを計算し、
試料ステージ２が偏向範囲に入ると、偏向制御部１２に
起動をかける。偏向制御部１２は、電子銃１３より射出
した電子ビーム１３ａを偏向データ１１ａに従って正確
に偏向するように偏向手段１４を制御することによっ
て、試料ステージ２上に搭載されている試料３への描画
パターンの描画動作を行う。
【０００９】図２に連続移動描画での偏向動作の例を示
す。偏向制御手段１４は３段偏向方式で構成されてお
り、各列（ストライプ）内では、主偏向器、副偏向器お
よび副副偏向器によって電子ビ−ムを偏向しながら描画
パターンの描画動作を行う。
す。偏向制御手段１４は３段偏向方式で構成されてお
り、各列（ストライプ）内では、主偏向器、副偏向器お
よび副副偏向器によって電子ビ−ムを偏向しながら描画
パターンの描画動作を行う。
【００１０】連続移動描画では、各列（ストライプ）毎
に制御計算機７によって描画制御部１０への描画動作の
起動がかかり、次に、ステージ制御部５に対する列（ス
トライプ）移動動作の起動がかかる。
に制御計算機７によって描画制御部１０への描画動作の
起動がかかり、次に、ステージ制御部５に対する列（ス
トライプ）移動動作の起動がかかる。
【００１１】図３に描画パターン・デ−タの試料上の配
列例を示す。ここで、描画パタ−ン・デ−タＡ、Ｂ、Ｃ
およびＤは下記の通りになっている。
列例を示す。ここで、描画パタ−ン・デ−タＡ、Ｂ、Ｃ
およびＤは下記の通りになっている。
【００１２】 Ａ ： 近接効果補正 無し Ｂ ： 近接効果補正 無し Ｃ ： 近接効果補正 有り Ｄ ： 近接効果補正 有り 各描画パタ−ン・デ−タ毎に近接効果補正の有無を指定
するフラグを設定している。この場合、分割領域ａ（副
副偏向の動作領域）では、描画パタ−ン・デ−タＡが存
在する。次に、分割領域ｂでは、描画パタ−ン・デ−タ
ＡおよびＢが存在する。また、分割領域ｃでは、描画パ
タ−ン・デ−タＡおよびＣが存在する。連続移動描画で
は、各列（ストライプ）毎に各描画パタ−ン・デ−タ群
を一回のステ−ジ移動動作の中で描画することになる。
するフラグを設定している。この場合、分割領域ａ（副
副偏向の動作領域）では、描画パタ−ン・デ−タＡが存
在する。次に、分割領域ｂでは、描画パタ−ン・デ−タ
ＡおよびＢが存在する。また、分割領域ｃでは、描画パ
タ−ン・デ−タＡおよびＣが存在する。連続移動描画で
は、各列（ストライプ）毎に各描画パタ−ン・デ−タ群
を一回のステ−ジ移動動作の中で描画することになる。
【００１３】図４に、描画パタ−ン・デ−タの列（スト
ライプ）単位での並び替えの結果を示す。描画に先立っ
ての各列（ストライプ）単位での複数存在する描画パタ
ーン・データの並び替えでは、分割領域単位での合成処
理が行われる。各描画パタ−ン・デ−タには、近接効果
補正の有無を指定するフラグが付加されている。並び替
えの完了した描画パタ−ン・デ−タは，バッファ・メモ
リに転送される。
ライプ）単位での並び替えの結果を示す。描画に先立っ
ての各列（ストライプ）単位での複数存在する描画パタ
ーン・データの並び替えでは、分割領域単位での合成処
理が行われる。各描画パタ−ン・デ−タには、近接効果
補正の有無を指定するフラグが付加されている。並び替
えの完了した描画パタ−ン・デ−タは，バッファ・メモ
リに転送される。
【００１４】なお、図４において、左側の数字はメモリ
・アドレスＮｏ．で、１ストライプ中の描画順序を示
す。
・アドレスＮｏ．で、１ストライプ中の描画順序を示
す。
【００１５】図５に描画フロ−を示す。描画制御部１０
では、バッファ・メモリから描画パタ−ン・デ−タを逐
次読み出しを行い、ショットへの分解、各ショットの座
標計算を行う。ここで、描画パタ−ン・デ−タに付加さ
れている近接効果補正の有無を指定するフラグに従っ
て、電子線照射時間の計算（近接効果補正）を実行す
る。以上の処理で出力されたショット・デ−タは、追従
補正部へ送られ、ここで、偏向データの計算が行われ、
偏向制御部で電子ビームを偏向することにより、，描画
パターンの描画動作を行う。
では、バッファ・メモリから描画パタ−ン・デ−タを逐
次読み出しを行い、ショットへの分解、各ショットの座
標計算を行う。ここで、描画パタ−ン・デ−タに付加さ
れている近接効果補正の有無を指定するフラグに従っ
て、電子線照射時間の計算（近接効果補正）を実行す
る。以上の処理で出力されたショット・デ−タは、追従
補正部へ送られ、ここで、偏向データの計算が行われ、
偏向制御部で電子ビームを偏向することにより、，描画
パターンの描画動作を行う。
【００１６】以上の処理によって、複数の描画パタ−ン
・データに対して、描画パタ−ン・デ−タの合成処理後
に、実描画の中で、分割領域単位で、描画パタ−ン・デ
−タの近接効果補正の有無の切り替えが実現できる。
・データに対して、描画パタ−ン・デ−タの合成処理後
に、実描画の中で、分割領域単位で、描画パタ−ン・デ
−タの近接効果補正の有無の切り替えが実現できる。
【００１７】また、複数の描画パタ−ン・データにおい
て、各描画パタ−ン・デ−タ毎に異なった描画パタ−ン
・デ−タのアドレス単位の指定をした場合でも、各描画
パタ−ン・デ−タ毎に近接効果補正の有無の指定をする
ようにすることにより、描画パタ−ン・デ−タの分割領
域単位での合成処理後に、実描画の中で、分割領域単位
で、描画パタ−ン・デ−タのアドレス単位の切り替えが
実現できる。
て、各描画パタ−ン・デ−タ毎に異なった描画パタ−ン
・デ−タのアドレス単位の指定をした場合でも、各描画
パタ−ン・デ−タ毎に近接効果補正の有無の指定をする
ようにすることにより、描画パタ−ン・デ−タの分割領
域単位での合成処理後に、実描画の中で、分割領域単位
で、描画パタ−ン・デ−タのアドレス単位の切り替えが
実現できる。
【００１８】さらに，複数の描画パタ−ン・データに対
して、各描画パタ−ン・デ−タ毎に近接効果補正の有無
の指定および描画パタ−ン・デ−タのアドレス単位の指
定をした場合でも、各描画パタ−ン・デ−タ毎に近接効
果補正および描画デ−タのアドレス単位の指定をするこ
とにより、分割領域単位での描画パタ−ン・デ−タの合
成処理後に、実描画の中で、分割領域単位で、近接効果
補正の有無および描画デ−タのアドレス単位を切り替え
ることも可能となる。
して、各描画パタ−ン・デ−タ毎に近接効果補正の有無
の指定および描画パタ−ン・デ−タのアドレス単位の指
定をした場合でも、各描画パタ−ン・デ−タ毎に近接効
果補正および描画デ−タのアドレス単位の指定をするこ
とにより、分割領域単位での描画パタ−ン・デ−タの合
成処理後に、実描画の中で、分割領域単位で、近接効果
補正の有無および描画デ−タのアドレス単位を切り替え
ることも可能となる。
【００１９】本発明の実施例によれば，描画デ−タを近
接効果補正を行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わ
ない描画パタ−ン群に分類して、個々に描画を行う必要
がなくなり、ステ−ジ移動を繰返し行うことによって発
生する全体の描画時間の低下を抑制することができる。
接効果補正を行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わ
ない描画パタ−ン群に分類して、個々に描画を行う必要
がなくなり、ステ−ジ移動を繰返し行うことによって発
生する全体の描画時間の低下を抑制することができる。
【００２０】また、複数の描画パタ−ン・データを各描
画パタ−ン・デ−タ群毎に個々に分割して描画した場合
と比較して、描画時間の短縮が実現できるために、装置
自身の時間的変動に伴う精度低下を抑えることができ
る。
画パタ−ン・デ−タ群毎に個々に分割して描画した場合
と比較して、描画時間の短縮が実現できるために、装置
自身の時間的変動に伴う精度低下を抑えることができ
る。
【００２１】さらに、ステ−ジ移動回数の低減が可能と
なるため、試料ステ−ジ自身の消耗を抑えることが可能
となる。
なるため、試料ステ−ジ自身の消耗を抑えることが可能
となる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、試料ステ−ジを連続移
動して描画を行うに際して、描画パタ−ンを近接効果補
正を行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わない描画
パタ−ン群に分類して個々に描画を行うことを必要とし
ない電子線描画装置が提供される。
動して描画を行うに際して、描画パタ−ンを近接効果補
正を行う描画パタ−ン群と近接効果補正を行わない描画
パタ−ン群に分類して個々に描画を行うことを必要とし
ない電子線描画装置が提供される。
【図１】本発明が採用される電子線描画装置の一実施例
の全体構成図。
の全体構成図。
【図２】図１の装置による連続移動描画での偏向動作の
説明図。
説明図。
【図３】図１の装置を用いる場合の描画パターン・デ−
タの試料上の配列例を示す図。
タの試料上の配列例を示す図。
【図４】図１の装置を用いる場合の描画パタ−ン・デ−
タの列（ストライプ）単位での並び替えの結果を示す
図。
タの列（ストライプ）単位での並び替えの結果を示す
図。
【図５】図１の装置を用いて描画する場合の描画フロ−
を示す図。
を示す図。
１：装置本体、２：試料ステージ、３：試料、４：測長
計、４ａ：ステージ位置、５：ステージ制御部、６：駆
動部、７：制御計算機、８：描画パターン・データ、
９：パッファ・メモリ、１０：描画制御部、１０ａ：シ
ョット・データ、１１：追従補正部、１１ａ：偏向デー
タ、１２：偏向制御部、１２ａ：偏向データ、１３：電
子源、１３ａ：電子ビーム、１４：偏向手段。
計、４ａ：ステージ位置、５：ステージ制御部、６：駆
動部、７：制御計算機、８：描画パターン・データ、
９：パッファ・メモリ、１０：描画制御部、１０ａ：シ
ョット・データ、１１：追従補正部、１１ａ：偏向デー
タ、１２：偏向制御部、１２ａ：偏向データ、１３：電
子源、１３ａ：電子ビーム、１４：偏向手段。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/027
Claims (2)
- 【請求項１】複数の描画デ−タをそれぞれ所望の寸法に
分割し、その分割領域単位で合成処理し、試料の移動制
御に合わせて試料への電子線の偏向を制御して前記合成
処理した描画デ−タの前記試料に対する描画を行う電子
線描画装置において、前記描画デ−タ毎に近接効果補正
の有無を指定して前記描画デ−タ合成処理後に前記描画
デ−タの近接効果の有無を切り替えて描画を実行するこ
とを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項２】前記複数の描画データに対して描画デ−タ
毎に描画デ−タのアドレス単位の指定をして前記描画デ
−タ合成処理後に前記描画デ−タのアドレス単位を切り
替えて前記描画を実行することを特徴とする請求項１に
記載された電子線描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15997A JP2909037B2 (ja) | 1997-01-06 | 1997-01-06 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15997A JP2909037B2 (ja) | 1997-01-06 | 1997-01-06 | 電子線描画装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10199785A JPH10199785A (ja) | 1998-07-31 |
| JP2909037B2 true JP2909037B2 (ja) | 1999-06-23 |
Family
ID=11466270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15997A Expired - Fee Related JP2909037B2 (ja) | 1997-01-06 | 1997-01-06 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2909037B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4431574B2 (ja) | 2004-03-30 | 2010-03-17 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 電子ビーム露光データ補正方法 |
| WO2006118098A1 (ja) | 2005-04-26 | 2006-11-09 | Renesas Technology Corp. | 半導体装置およびその製造方法ならびに半導体製造用マスク、光近接処理方法 |
-
1997
- 1997-01-06 JP JP15997A patent/JP2909037B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10199785A (ja) | 1998-07-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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