JP2898452B2 - 加熱調理装置 - Google Patents
加熱調理装置Info
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- JP2898452B2 JP2898452B2 JP3305796A JP30579691A JP2898452B2 JP 2898452 B2 JP2898452 B2 JP 2898452B2 JP 3305796 A JP3305796 A JP 3305796A JP 30579691 A JP30579691 A JP 30579691A JP 2898452 B2 JP2898452 B2 JP 2898452B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、庫内温度を温度検出手
段により検出しながらヒータを制御する機能を備えた加
熱調理装置に関する。
段により検出しながらヒータを制御する機能を備えた加
熱調理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の加熱調理装置を使用して
例えばシュー皮(シュークリームの皮)を自動調理する
場合、図6に示すように、4つの調理行程のうち膨化
(蛋白質膜の膨化)、伸び(脂肪膜の伸び)、固定の3
行程については、庫内温度の設定温度を例えば230℃
に設定し、最後の乾燥についてのみ設定温度を例えば1
60℃に下げてオーブン調理するようになっている。
例えばシュー皮(シュークリームの皮)を自動調理する
場合、図6に示すように、4つの調理行程のうち膨化
(蛋白質膜の膨化)、伸び(脂肪膜の伸び)、固定の3
行程については、庫内温度の設定温度を例えば230℃
に設定し、最後の乾燥についてのみ設定温度を例えば1
60℃に下げてオーブン調理するようになっている。
【0003】この場合、各調理行程は、シュー皮を上下
両側から上ヒータと下ヒータとで加熱しながら実行さ
れ、設定温度が230℃となっている膨化、伸び、固定
の3行程については、図7に示すように、上ヒータに連
続通電し、下ヒータを17秒オン/13秒オフの通電率
(デューティ比)でオン・オフさせる。一方、最後の乾
燥行程(設定温度が160℃)では、下ヒータの発熱量
を低下させるために、下ヒータを5秒オン/25秒オフ
の通電率でオン・オフさせる。そして、いずれの調理行
程でも、庫内温度を設定温度に調節するために、庫内温
度センサで検出した庫内温度が設定温度を越えたとき
に、上下の両ヒータを断電して加熱を停止し、その後、
庫内温度が設定温度以下に下がった時点で、上下の両ヒ
ータに断電前と同じ通電率で通電して加熱を再開するよ
うになっている。
両側から上ヒータと下ヒータとで加熱しながら実行さ
れ、設定温度が230℃となっている膨化、伸び、固定
の3行程については、図7に示すように、上ヒータに連
続通電し、下ヒータを17秒オン/13秒オフの通電率
(デューティ比)でオン・オフさせる。一方、最後の乾
燥行程(設定温度が160℃)では、下ヒータの発熱量
を低下させるために、下ヒータを5秒オン/25秒オフ
の通電率でオン・オフさせる。そして、いずれの調理行
程でも、庫内温度を設定温度に調節するために、庫内温
度センサで検出した庫内温度が設定温度を越えたとき
に、上下の両ヒータを断電して加熱を停止し、その後、
庫内温度が設定温度以下に下がった時点で、上下の両ヒ
ータに断電前と同じ通電率で通電して加熱を再開するよ
うになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】一般に、シュー皮の調
理のようなオーブン調理は、調理物をヒータの輻射熱と
対流伝熱とによって加熱することになるので、調理の仕
上り具合を良くするにはヒータの輻射熱と対流伝熱とを
バランス良く組み合わせて調理物を加熱する必要があ
る。
理のようなオーブン調理は、調理物をヒータの輻射熱と
対流伝熱とによって加熱することになるので、調理の仕
上り具合を良くするにはヒータの輻射熱と対流伝熱とを
バランス良く組み合わせて調理物を加熱する必要があ
る。
【0005】ところで、前述した従来構成のものでは、
膨化、伸び、固定の3行程の間は、庫内の空気温度(対
流伝熱)を一定に保つ必要があるため、設定温度を一定
にしている。更に、設定温度が一定のときはヒータの通
電率も一定にしているため、ヒータの輻射熱も一定に保
たれることになる。
膨化、伸び、固定の3行程の間は、庫内の空気温度(対
流伝熱)を一定に保つ必要があるため、設定温度を一定
にしている。更に、設定温度が一定のときはヒータの通
電率も一定にしているため、ヒータの輻射熱も一定に保
たれることになる。
【0006】しかし、調理の進行に伴って調理物(シュ
ー皮)の温度が上昇して、その表面の水分が徐々に蒸発
して少なくなっていくので、上述のようにヒータの輻射
熱が一定であると、調理物の表面の水分が少なくなるに
従って、調理物の表面がヒータの輻射熱で焦げ易くなっ
て、焦げ量が多くなり過ぎる(輻射熱が強すぎる)傾向
があり、調理の仕上り具合に悪影響を及ぼす結果となっ
ていた。
ー皮)の温度が上昇して、その表面の水分が徐々に蒸発
して少なくなっていくので、上述のようにヒータの輻射
熱が一定であると、調理物の表面の水分が少なくなるに
従って、調理物の表面がヒータの輻射熱で焦げ易くなっ
て、焦げ量が多くなり過ぎる(輻射熱が強すぎる)傾向
があり、調理の仕上り具合に悪影響を及ぼす結果となっ
ていた。
【0007】本発明はこの様な事情を考慮してなされた
もので、従ってその目的は、庫内温度の設定温度に加
え、ヒータの輻射熱も考慮した加熱制御を行うことがで
きて、調理の仕上り具合を良くできる加熱調理装置を提
供することにある。
もので、従ってその目的は、庫内温度の設定温度に加
え、ヒータの輻射熱も考慮した加熱制御を行うことがで
きて、調理の仕上り具合を良くできる加熱調理装置を提
供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の加熱調理装置
は、庫内に収容した調理物を加熱するヒータと、庫内温
度を検出する温度検出手段と、この温度検出手段の検出
温度に基づいて庫内温度を設定温度に調節するように前
記ヒータを制御する制御手段とを備え、この制御手段
は、同一設定温度に保ったまま調理の進行に伴って前記
ヒータの輻射熱を段階的に若しくは連続的に低下させる
ように制御する構成となっている。
は、庫内に収容した調理物を加熱するヒータと、庫内温
度を検出する温度検出手段と、この温度検出手段の検出
温度に基づいて庫内温度を設定温度に調節するように前
記ヒータを制御する制御手段とを備え、この制御手段
は、同一設定温度に保ったまま調理の進行に伴って前記
ヒータの輻射熱を段階的に若しくは連続的に低下させる
ように制御する構成となっている。
【0009】
【作用】加熱調理中には、制御手段は、温度検出手段の
検出温度に基づいて庫内温度を設定温度に調節するよう
にヒータを制御すると共に、この同一設定温度を保った
まま調理の進行に伴ってヒータの輻射熱を段階的に若し
くは連続的に低下させる。これにより、庫内温度が同一
設定温度に制御される中、調理物の表面の水分が少なく
なるに従って、ヒータの輻射熱が徐々に低下するように
なるので、調理物の表面の焦げ量が適度なものとなる。
検出温度に基づいて庫内温度を設定温度に調節するよう
にヒータを制御すると共に、この同一設定温度を保った
まま調理の進行に伴ってヒータの輻射熱を段階的に若し
くは連続的に低下させる。これにより、庫内温度が同一
設定温度に制御される中、調理物の表面の水分が少なく
なるに従って、ヒータの輻射熱が徐々に低下するように
なるので、調理物の表面の焦げ量が適度なものとなる。
【0010】
【実施例】以下、本発明をオーブン機能付き電子レンジ
に適用した第1実施例について、図1乃至図4を参照し
て説明する。全体の概略構成は、図2に示すように、オ
ーブン庫1内に加熱調理室2が設けられ、この加熱調理
室2の上面側に管状の上ヒータ3が、下面側に面状の下
ヒータ4がそれぞれ設けられている。そして、オーブン
庫1の前面には、加熱調理室2を開閉する扉5と操作パ
ネル6とが左右に並設されている。この操作パネル6に
は、各種の操作キー7と表示パネル8が設けられてい
る。尚、図示はしないが、操作パネル6の裏側の機械室
にはマグネトロンが設けられ、このマグネトロンの発振
動作によって加熱調理室2内の調理物をレンジ加熱でき
るようになっている。
に適用した第1実施例について、図1乃至図4を参照し
て説明する。全体の概略構成は、図2に示すように、オ
ーブン庫1内に加熱調理室2が設けられ、この加熱調理
室2の上面側に管状の上ヒータ3が、下面側に面状の下
ヒータ4がそれぞれ設けられている。そして、オーブン
庫1の前面には、加熱調理室2を開閉する扉5と操作パ
ネル6とが左右に並設されている。この操作パネル6に
は、各種の操作キー7と表示パネル8が設けられてい
る。尚、図示はしないが、操作パネル6の裏側の機械室
にはマグネトロンが設けられ、このマグネトロンの発振
動作によって加熱調理室2内の調理物をレンジ加熱でき
るようになっている。
【0011】一方、加熱調理室2には、庫内温度を検出
する温度検出手段たる庫内温度センサ9が設けられ、こ
の庫内温度センサ9から出力される検出温度信号が、操
作パネル6の裏側に設けられた制御手段たる制御回路1
0(図1参照)に入力される。この制御回路10は、例
えばマイクロコンピュータによって構成され、レンジ加
熱時には前述したマグネトロン等を制御し、オーブン調
理時には、電源端子11,12に対して並列に接続され
た上下の両ヒータ3,4の通電路中のリレースイッチ1
3,14を制御して、両ヒータ3,4への通電を次のよ
うに制御する構成となっている。
する温度検出手段たる庫内温度センサ9が設けられ、こ
の庫内温度センサ9から出力される検出温度信号が、操
作パネル6の裏側に設けられた制御手段たる制御回路1
0(図1参照)に入力される。この制御回路10は、例
えばマイクロコンピュータによって構成され、レンジ加
熱時には前述したマグネトロン等を制御し、オーブン調
理時には、電源端子11,12に対して並列に接続され
た上下の両ヒータ3,4の通電路中のリレースイッチ1
3,14を制御して、両ヒータ3,4への通電を次のよ
うに制御する構成となっている。
【0012】例えば、シュー皮のオーブン調理を行う場
合には、図3及び図4に示すように、膨化、伸び、固定
の3行程では、庫内温度の設定温度を例えば230℃に
設定し、最後の乾燥についてのみ設定温度を例えば16
0℃に下げている。そして、膨化、伸び、固定の3行程
については、設定温度が同じ(230℃)であっても、
各行程毎に上下の両ヒータ3,4の通電率(デューティ
比)を図4に示すように段階的に低下させている。即
ち、膨化行程では、上下の両ヒータ3,4に連続通電す
るが、伸び行程では、上ヒータ3が20秒オン/10秒
オフ、下ヒータ4が7秒オン/23秒オフの通電率とな
り、固定行程では、上ヒータ3が20秒オン/10秒オ
フ、下ヒータ4が3秒オン/27秒オフの通電率とな
る。そして、最後の乾燥行程(設定温度が160℃)で
は、上ヒータ3が引き続き20秒オン/10秒オフの通
電率となるが、下ヒータ4は完全に断電される。これら
各調理行程の設定温度と通電率のデータは、各調理行程
の実行時間のデータと共に制御回路10の記憶部(図示
せず)に記憶されている。
合には、図3及び図4に示すように、膨化、伸び、固定
の3行程では、庫内温度の設定温度を例えば230℃に
設定し、最後の乾燥についてのみ設定温度を例えば16
0℃に下げている。そして、膨化、伸び、固定の3行程
については、設定温度が同じ(230℃)であっても、
各行程毎に上下の両ヒータ3,4の通電率(デューティ
比)を図4に示すように段階的に低下させている。即
ち、膨化行程では、上下の両ヒータ3,4に連続通電す
るが、伸び行程では、上ヒータ3が20秒オン/10秒
オフ、下ヒータ4が7秒オン/23秒オフの通電率とな
り、固定行程では、上ヒータ3が20秒オン/10秒オ
フ、下ヒータ4が3秒オン/27秒オフの通電率とな
る。そして、最後の乾燥行程(設定温度が160℃)で
は、上ヒータ3が引き続き20秒オン/10秒オフの通
電率となるが、下ヒータ4は完全に断電される。これら
各調理行程の設定温度と通電率のデータは、各調理行程
の実行時間のデータと共に制御回路10の記憶部(図示
せず)に記憶されている。
【0013】次に、上記構成の作用について説明する。
例えば、シュー皮のオーブン調理を行う場合、加熱開始
後の第1行程である膨化行程では、制御回路10によっ
て両リレースイッチ13,14をオン状態に保持して、
上下の両ヒータ3,4に連続通電する。これにより、庫
内温度を設定温度にまで速やかに上昇させて、シュー皮
の蛋白質膜を速やかにふっくらと膨化させる。この膨化
行程で、庫内温度センサ9により検出した庫内温度が設
定温度(230℃)を越えたならば、上下の両ヒータ
3,4を断電して加熱を停止し、その後、庫内温度が設
定温度以下に下がった時点で、上下の両ヒータ3,4に
断電前と同じ通電率(100%)で通電して加熱を再開
することになる。
例えば、シュー皮のオーブン調理を行う場合、加熱開始
後の第1行程である膨化行程では、制御回路10によっ
て両リレースイッチ13,14をオン状態に保持して、
上下の両ヒータ3,4に連続通電する。これにより、庫
内温度を設定温度にまで速やかに上昇させて、シュー皮
の蛋白質膜を速やかにふっくらと膨化させる。この膨化
行程で、庫内温度センサ9により検出した庫内温度が設
定温度(230℃)を越えたならば、上下の両ヒータ
3,4を断電して加熱を停止し、その後、庫内温度が設
定温度以下に下がった時点で、上下の両ヒータ3,4に
断電前と同じ通電率(100%)で通電して加熱を再開
することになる。
【0014】この後、第2行程である伸び行程に移行す
ると、庫内温度の設定温度を引き続き同じ(230℃)
に保ったまま、上ヒータ3を20秒オン/10秒オフ、
下ヒータ4を7秒オン/23秒オフの通電率に変更し
て、両ヒータ3,4の合計輻射熱を膨化行程よりも低下
させる。この様に、両ヒータ3,4の輻射熱を膨化行程
よりも低下させた状態でシュー皮の脂肪膜を伸びさせる
ので、膨化行程よりもシュー皮の温度が上昇してその表
面の水分が徐々に少なくなっているという事情があって
も、両ヒータ3,4の輻射熱が強すぎることはなく、シ
ュー皮の脂肪膜をふっくらと伸びさせることができる。
この伸び行程でも、庫内温度センサ9により検出した庫
内温度が設定温度(230℃)を越えたならば、上下の
両ヒータ3,4を断電して加熱を停止し、その後、庫内
温度が設定温度以下に下がった時点で、上下の両ヒータ
3,4に断電前と同じ通電率で通電して加熱を再開する
ことになる。
ると、庫内温度の設定温度を引き続き同じ(230℃)
に保ったまま、上ヒータ3を20秒オン/10秒オフ、
下ヒータ4を7秒オン/23秒オフの通電率に変更し
て、両ヒータ3,4の合計輻射熱を膨化行程よりも低下
させる。この様に、両ヒータ3,4の輻射熱を膨化行程
よりも低下させた状態でシュー皮の脂肪膜を伸びさせる
ので、膨化行程よりもシュー皮の温度が上昇してその表
面の水分が徐々に少なくなっているという事情があって
も、両ヒータ3,4の輻射熱が強すぎることはなく、シ
ュー皮の脂肪膜をふっくらと伸びさせることができる。
この伸び行程でも、庫内温度センサ9により検出した庫
内温度が設定温度(230℃)を越えたならば、上下の
両ヒータ3,4を断電して加熱を停止し、その後、庫内
温度が設定温度以下に下がった時点で、上下の両ヒータ
3,4に断電前と同じ通電率で通電して加熱を再開する
ことになる。
【0015】この後、第3行程である固定行程に移行す
ると、引き続き庫内温度の設定温度を変えずに、上ヒー
タ3を20秒オン/10秒オフ、下ヒータ4を3秒オン
/27秒オフの通電率に変更して、両ヒータ3,4の合
計輻射熱を伸び行程よりも更に低下させる。この様に、
両ヒータ3,4の輻射熱を更に低下させた状態でシュー
皮の形状を固定するので、両ヒータ3,4の輻射熱が強
すぎることはなく、シュー皮の表面の過剰な焦げ付きや
変形を防止できる。この固定行程でも、前述と同じく、
庫内温度センサ9により検出した庫内温度が設定温度
(230℃)を越えたならば、上下の両ヒータ3,4を
断電して加熱を停止し、その後、庫内温度が設定温度以
下に下がった時点で、上下の両ヒータ3,4に断電前と
同じ通電率で通電して加熱を再開することになる。
ると、引き続き庫内温度の設定温度を変えずに、上ヒー
タ3を20秒オン/10秒オフ、下ヒータ4を3秒オン
/27秒オフの通電率に変更して、両ヒータ3,4の合
計輻射熱を伸び行程よりも更に低下させる。この様に、
両ヒータ3,4の輻射熱を更に低下させた状態でシュー
皮の形状を固定するので、両ヒータ3,4の輻射熱が強
すぎることはなく、シュー皮の表面の過剰な焦げ付きや
変形を防止できる。この固定行程でも、前述と同じく、
庫内温度センサ9により検出した庫内温度が設定温度
(230℃)を越えたならば、上下の両ヒータ3,4を
断電して加熱を停止し、その後、庫内温度が設定温度以
下に下がった時点で、上下の両ヒータ3,4に断電前と
同じ通電率で通電して加熱を再開することになる。
【0016】この後、最終行程である乾燥行程に移行す
ると、庫内温度の設定温度を160℃に低下させると共
に、上ヒータ3に20秒オン/10秒オフの通電率で通
電し、下ヒータ4を完全に断電する。これにより、庫内
温度の設定温度と共に両ヒータ3,4の輻射熱を更に低
下させた状態でシュー皮の乾燥を行うので、両ヒータ
3,4の輻射熱や対流伝熱が強すぎることはなく、シュ
ー皮の表面に適度な焦げ目を付けながらシュー皮を速や
かに乾燥させることができる。この乾燥行程でも、庫内
温度センサ9により検出した庫内温度が設定温度(16
0℃)を越えたならば、上下の両ヒータ3,4を断電し
て加熱を停止し、その後、庫内温度が設定温度以下に下
がった時点で、上下の両ヒータ3,4に断電前と同じ通
電率で通電して加熱を再開することになる。
ると、庫内温度の設定温度を160℃に低下させると共
に、上ヒータ3に20秒オン/10秒オフの通電率で通
電し、下ヒータ4を完全に断電する。これにより、庫内
温度の設定温度と共に両ヒータ3,4の輻射熱を更に低
下させた状態でシュー皮の乾燥を行うので、両ヒータ
3,4の輻射熱や対流伝熱が強すぎることはなく、シュ
ー皮の表面に適度な焦げ目を付けながらシュー皮を速や
かに乾燥させることができる。この乾燥行程でも、庫内
温度センサ9により検出した庫内温度が設定温度(16
0℃)を越えたならば、上下の両ヒータ3,4を断電し
て加熱を停止し、その後、庫内温度が設定温度以下に下
がった時点で、上下の両ヒータ3,4に断電前と同じ通
電率で通電して加熱を再開することになる。
【0017】以上説明した第1実施例によれば、同一設
定温度に保ったまま、調理物の表面の水分が少なくなる
に従って、各調理行程毎に両ヒータ3,4の輻射熱を低
下させるので、各調理行程毎に両ヒータ3,4の輻射熱
が適切なものとなり、調理の仕上り具合を良くできて、
調理物(シュー皮)の表面の焦げ量が適度なものとなる
しかも、両ヒータ3,4の輻射熱を低下させれば、その
分、消費電力を節減できる利点もある。
定温度に保ったまま、調理物の表面の水分が少なくなる
に従って、各調理行程毎に両ヒータ3,4の輻射熱を低
下させるので、各調理行程毎に両ヒータ3,4の輻射熱
が適切なものとなり、調理の仕上り具合を良くできて、
調理物(シュー皮)の表面の焦げ量が適度なものとなる
しかも、両ヒータ3,4の輻射熱を低下させれば、その
分、消費電力を節減できる利点もある。
【0018】上記第1実施例によれば、各調理行程毎に
両ヒータ3,4の輻射熱を段階的に低下させるようにし
たが、図5に示す本発明の第2実施例のように、例えば
伸び・固定の両行程において、両ヒータ3,4の輻射熱
(通電率)を連続的に低下させるようにしても良い。こ
の様に、両ヒータ3,4の輻射熱(通電率)を連続的に
低下させるには、第1実施例のリレースイッチ13,1
4に代えて、トライアック等の半導体スイッチング素子
(図示せず)を設け、そのオン・オフのデューティ比を
制御回路10によって連続的に低下させるようにすれば
良い。
両ヒータ3,4の輻射熱を段階的に低下させるようにし
たが、図5に示す本発明の第2実施例のように、例えば
伸び・固定の両行程において、両ヒータ3,4の輻射熱
(通電率)を連続的に低下させるようにしても良い。こ
の様に、両ヒータ3,4の輻射熱(通電率)を連続的に
低下させるには、第1実施例のリレースイッチ13,1
4に代えて、トライアック等の半導体スイッチング素子
(図示せず)を設け、そのオン・オフのデューティ比を
制御回路10によって連続的に低下させるようにすれば
良い。
【0019】斯かる第2実施例によれば、両ヒータ3,
4の輻射熱を一層きめ細かく調整することができて、輻
射熱がより理想的なものとなる。
4の輻射熱を一層きめ細かく調整することができて、輻
射熱がより理想的なものとなる。
【0020】尚、上記両実施例では、いずれもシュー皮
のオーブン調理を例にして説明したが、例えばスポンジ
ケーキ、パン等の菓子類、その他のオーブン調理に広く
適用して実施できることは勿論である。また、上記両実
施例では、ヒータの輻射熱を低下させるのに、デューテ
ィ比を低下させるようにしたが、ヒータへの入力電圧・
電流を低下させるようにしても良く、また、膨化・乾燥
行程においても、庫内温度が設定温度に達した後はヒー
タの輻射熱を低下させるようにしても良い。
のオーブン調理を例にして説明したが、例えばスポンジ
ケーキ、パン等の菓子類、その他のオーブン調理に広く
適用して実施できることは勿論である。また、上記両実
施例では、ヒータの輻射熱を低下させるのに、デューテ
ィ比を低下させるようにしたが、ヒータへの入力電圧・
電流を低下させるようにしても良く、また、膨化・乾燥
行程においても、庫内温度が設定温度に達した後はヒー
タの輻射熱を低下させるようにしても良い。
【0021】その他、本発明は、ヒータの構成・配置形
態を適宜変更したり、或は、レンジ加熱機能のないオー
ブン調理専用の加熱調理装置に適用して実施しても良い
等、要旨を逸脱しない範囲内で種々の変形して実施でき
ることは言うまでもない。
態を適宜変更したり、或は、レンジ加熱機能のないオー
ブン調理専用の加熱調理装置に適用して実施しても良い
等、要旨を逸脱しない範囲内で種々の変形して実施でき
ることは言うまでもない。
【0022】
【発明の効果】本発明は、以上の説明から明らかなよう
に、同一設定温度に制御される中、調理の進行に伴って
ヒータの輻射熱を段階的に若しくは連続的に低下させる
ようにしたので、調理の進行に応じてヒータの輻射熱が
適切なものとなり、調理の仕上り具合を良くできて、調
理物の表面の焦げ量が適度なものとなる。しかも、ヒー
タの輻射熱を低下させれば、その分、消費電力を節減で
きる利点もある。
に、同一設定温度に制御される中、調理の進行に伴って
ヒータの輻射熱を段階的に若しくは連続的に低下させる
ようにしたので、調理の進行に応じてヒータの輻射熱が
適切なものとなり、調理の仕上り具合を良くできて、調
理物の表面の焦げ量が適度なものとなる。しかも、ヒー
タの輻射熱を低下させれば、その分、消費電力を節減で
きる利点もある。
【図1】本発明の第1実施例を示す要部の電気回路図
【図2】全体の斜視図
【図3】シュー皮調理の各行程毎の輻射熱と設定温度と
の関係を示す図
の関係を示す図
【図4】シュー皮調理の各行程毎の上下両ヒータの通電
率を示す図
率を示す図
【図5】本発明の第2実施例を示す図3相当図
【図6】従来例を示す図3相当図
【図7】従来例を示す図4相当図
2は加熱調理室、3は上ヒータ、4は下ヒータ、9は庫
内温度センサ(温度検出手段)、10は制御回路(制御
手段)である。
内温度センサ(温度検出手段)、10は制御回路(制御
手段)である。
Claims (1)
- 【請求項1】 庫内に収容した調理物を加熱するヒータ
と、庫内温度を検出する温度検出手段と、この温度検出
手段の検出温度に基づいて庫内温度を設定温度に調節す
るように前記ヒータを制御する制御手段とを備え、この
制御手段は、同一設定温度に保ったまま調理の進行に伴
って前記ヒータの輻射熱を段階的に若しくは連続的に低
下させるように制御する機能を備えていることを特徴と
する加熱調理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3305796A JP2898452B2 (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 加熱調理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3305796A JP2898452B2 (ja) | 1991-11-21 | 1991-11-21 | 加熱調理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05141670A JPH05141670A (ja) | 1993-06-08 |
JP2898452B2 true JP2898452B2 (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=17949464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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