JP2884977B2 - 加速度センサ - Google Patents

加速度センサ

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JP2884977B2
JP2884977B2 JP5012594A JP1259493A JP2884977B2 JP 2884977 B2 JP2884977 B2 JP 2884977B2 JP 5012594 A JP5012594 A JP 5012594A JP 1259493 A JP1259493 A JP 1259493A JP 2884977 B2 JP2884977 B2 JP 2884977B2
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ceramic element
piezoelectric ceramic
ceramic
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純 多保田
利弘 水野
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、主として車載用エアバ
ッグ装置に組み込んで使用される加速度センサに関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、この種の加速度センサとしては、
図9及び図10で示すように、一対の配線パターン1,
2が表面上に並列形成された回路基板3と、配線パター
ン1,2それぞれ上に接着して固定されることにより互
いに隙間Sを介して配置された圧電セラミック素子4,
5と、これら上に接着して架設されたウェイト(重り)
6とを備えたものが提案されている。そして、この第1
の従来例である加速度センサにおいては、分極処理が施
された一対の圧電セラミック素子4,5と、加速度の作
用方向(図中では、符号Gで示す)に従って変位する質
量物であるウェイト6とを組み合わせることによって加
速度検出手段が構成されており、圧電セラミック素子
4,5それぞれの分極(軸)方向X,Yは回路基板3の
表面拡がり方向に沿った加速度の作用方向Gに従いなが
ら互いに向かい合う逆向きとして設定される一方、これ
らの上面に形成された電極4a,5a同士は導電性を有
するウェイト6を介して導通させられている。
【0003】ところで、このウェイト6が金属などのよ
うな導電性素材を用いて作成されたものであってもよい
のは勿論であるが、これに限定されることはなく、例え
ば、分極処理が施されていないセラミックからなるブロ
ック体の一面のみに圧電セラミック素子4,5の電極4
a,5a同士を導通させる電極(図示していない)が形
成されたものであってもよい。また、このとき、圧電セ
ラミック素子4,5それぞれの下面には電極4b,5b
が形成されたうえで配線パターン1,2の各々と導通さ
せられており、これらの配線パターン1,2は回路基板
3の表面上に配設された加速度信号処理用としてのハイ
ブリッドIC7に接続されている。なお、図中の符号8
は回路基板3の表面上を覆うことによって各種部品を一
括的に封止するシールドケースであり、9は回路基板3
を貫通した状態で取り付けられた外部接続用のピン端子
である。
【0004】さらにまた、他の加速度センサとしては、
図11及び図12で示すような構成を有するものが提案
されており、この第2の従来例である加速度センサは、
上記同様の回路基板3,圧電セラミック素子4及びウェ
イト6とともに、圧電セラミック素子5に代わる導電セ
ラミック素子11を備えている。すなわち、この加速度
センサにおける加速度検出手段は、配線パターン1上に
接着された圧電セラミック素子4と、配線パターン2上
に接着された導電セラミック素子11と、これら上に架
設して接着されたウェイト6との組み合わせによって構
成されており、圧電セラミック素子4と導電セラミック
素子11とは隙間Sを介したうえでの離間状態で配置さ
れている。
【0005】そして、このとき、導電セラミック素子1
1は、例えば、主表面上に個別電極12が形成されたセ
ラミック板13の複数枚を互いの厚み方向に沿って重ね
合わせたうえで接着することによって作成されたもので
あり、その上面には個別電極12に接続されたうえでウ
ェイト6と導通する電極11aが形成される一方、その
下面には個別電極12に接続されて配線パターン2と導
通する電極11bが形成されている。なお、この第2の
従来例である加速度センサにおける導電セラミック素子
11を除く構成は、図9及び図10で示した加速度セン
サと基本的に異ならないから、互いに同一となる部品,
部分には同一符号を付している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記従来例
に係る加速度センサの加速度検出手段を構成するに際し
ては、所定間隔の隙間Sを介して配置された一対の圧電
セラミック素子4,5、もしくは、圧電セラミック素子
4及び導電セラミック素子11をウェイト6に対して接
着剤(図示していない)を用いて接着することが行われ
ている。しかしながら、このような接着を行った場合に
は、各セラミック素子4,5,11間の隙間S内にまで
接着剤がはみ出してくることが起こるため、はみ出した
接着剤を硬化前に拭い取ることによって除去しなければ
ならず、組み立て作業に煩わしい手間がかかることにな
っていた。また、所定間隔の隙間Sを確保するために
は、各セラミック素子4,5,11をウェイト6に対し
て正しく位置決めしたままの状態で接着しなければなら
ないのであるが、各セラミック素子4,5,11が接着
時に位置ずれを起こすこともあって正しい位置決め状態
での接着が行われるとは限らないのが現状であり、隙間
Sが確保されていない場合には、加速度センサにおける
検出特性への悪影響が生じる恐れもあった。
【0007】本発明は、このような不都合に鑑みて創案
されたものであって、組み立て作業の手間を省くことが
でき、しかも、検出特性への悪影響が生じるのを有効に
防止することが可能な加速度センサの提供を目的として
いる。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明に係る第1の加速
度センサは、このような目的を達成するために、複数本
の配線パターンが表面上に並列形成された回路基板と、
各配線パターン上に接着して固定される圧電セラミック
素子と、これら上に接着して架設されたうえで両セラミ
ック素子同士を導通させるウェイトとを備えたものであ
って、圧電セラミック素子のそれぞれは互いの分極方向
を逆向きにした状態で、配線パターンの並列方向に沿っ
互いに接した状態で接着されて一体化されたものであ
り、この一体化されたセラミック積層体の下面には配線
パターンのそれぞれと接着されて導通する電極を互いに
離間した状態で形成することを特徴としている。
【0009】また、第2の加速度センサは、複数本の配
線パターンが表面上に並列形成された回路基板と、各配
線パターン上に接着して固定される圧電セラミック素子
及び導電セラミック素子と、これら上に接着して架設さ
れたうえで両セラミック素子同士を導通させるウェイト
とを備えたものであって、圧電セラミック素子及び導電
セラミック素子のそれぞれは配線パターンの並列方向に
沿って互いに接した状態で接着されて一体化されたもの
であり、この一体化されたセラミック積層体の下面には
配線パターンのそれぞれと接着されて導通する電極を互
いに離間した状態で形成していることを特徴とするもの
である。
【0010】
【作用】上記構成によれば、一対の圧電セラミック素
子、もしくは、圧電セラミック素子及び導電セラミック
素子を互いに接した状態で一体化してなるセラミック積
層体をウェイトに対して接着することによって加速度検
出手段が構成されることになる。そこで、所定間隔の隙
間を設けた位置決め状態で各セラミック素子をウェイト
に対して接着する必要はないことになり、隙間を設ける
ことに伴う種々の不都合が生じることはなくなる。ま
た、この際、回路基板の配線パターンに接着されて導通
する電極のそれぞれは、セラミック積層体の下面におけ
る離間位置ごとに形成されているのであるから、これら
間の絶縁は確保されることになる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
【0012】第1実施例 図1ないし図3は本発明の第1実施例に係り、図1は加
速度センサの全体構造を簡略化して示す一部破断斜視
図、図2はその要部構造のみを拡大して示す一部破断斜
視図であり、図3はそのセラミック積層体の作成手順を
示す説明図である。なお、この加速度センサの全体構成
は第1の従来例と基本的に異ならないので、図1ないし
図3において図9及び図10と互いに同一または相当す
る部品,部分には同一符号を付している。
【0013】この第1実施例に係る加速度センサは、一
対の配線パターン1,2が表面上に並列形成された回路
基板3と、分極処理が施されたうえで配線パターン1,
2それぞれ上に接着して固定された一対の圧電セラミッ
ク素子4,5と、これら上に接着して架設されたウェイ
ト6とを備えている。そして、この加速度センサにおけ
る圧電セラミック素子4,5のそれぞれは、配線パター
ン1,2の並列方向に沿って互いの分極方向を逆向きに
して並列配置されており、さらに接着剤(図示していな
い)を用いて互いに接着されることによりセラミック積
層体20として一体化されている。
【0014】また、このセラミック積層体20の上面に
は、金属材料などの導電性素材を用いて作成されたウェ
イト6を介して導通することになる電極4a,5aが形
成される一方、その下面には、配線パターン1,2のそ
れぞれと対応して所定間隔だけ離間した電極4b,5b
が形成されている。なお、図2では、一体化されてセラ
ミック積層体20となる圧電セラミック素子4,5それ
ぞれの分極方向X,Yが回路基板3の表面拡がり方向に
沿いながら互いに向かい合う逆向きとされているが、分
極方向X,Yは加速度の作用方向Gと対応する方向に沿
って設定されていればよいのであり、図示していない
が、例えば、各々の分極方向X,Yがともに回路基板3
の法線方向に沿って設定されている場合もあることは勿
論である。なお、図2では、セラミック積層体20の上
面に形成された電極4a,5aが離間した状態となって
いるが、これらの両者は互いに接続されていてもよいも
のである。
【0015】ところで、このような構成のセラミック積
層体20を作成するにあたっては、図3で示すような手
順が採用されている。すなわち、まず、図3(a)で示
すように、分極処理が施されたセラミックブロック体2
1,22を接着剤によって接着した後、この一体化され
たセラミックブロック体21,22からなるブロック積
層体23を図3(a)中の仮想線Aに沿って切断加工す
ることにより所定厚みを有するブロック板24を作成す
る。次に、図3(b)で示すように、一体化されたまま
のブロック板24の主表面それぞれに対する蒸着やスパ
ッタリングなどを実施し、互いに所定間隔Lだけ離間し
た電極層25,26を形成した後、図3(b)中の仮想
線Bに沿うような所定幅ごとの切断加工を行う。する
と、図2で示したような構成を有するセラミック積層体
20、すなわち、一対の圧電セラミック素子4,5を一
体化してなるセラミック積層体20が作成されたことに
なる。なお、図示していないが、ウェイト6がセラミッ
クからなるものである場合には、電極25,26が形成
されたブロック板24の一方側主表面に対し、ウェイト
6となるセラミックブロック体を接着剤によって接着し
て固定した後、これらを一体としたうえでの所定幅ごと
の切断加工を行うことも可能であることは勿論である。
【0016】そこで、この加速度センサの加速度検出手
段は、圧電セラミック素子4,5からなるセラミック積
層体20と、加速度の作用方向Gに従って変位する質量
物であるウェイト6との組み合わせによって構成されて
おり、セラミック積層体20の上面に形成された電極4
a,5aのそれぞれはウェイト6を介して導通される一
方、その下面に形成された電極4b,5bのそれぞれは
回路基板3上に並列形成された配線パターン1,2の各
々と導通されていることになる。
【0017】したがって、上記構成とされた加速度検出
手段を具備した加速度センサにおいて外部から加速度が
作用した場合には、ウェイト6が加速度の作用方向Gに
沿って揺り動かされて変位することになり、回路基板3
上に形成された配線パターン1,2の各々とウェイト6
との間に配設されてセラミック積層体20を構成する圧
電セラミック素子4,5のそれぞれにはせん断歪みが生
じ、各々の主表面それぞれには正負逆の電荷が発生する
ことになる。すなわち、この実施例では、圧電セラミッ
ク素子4,5それぞれの分極方向X,Yが互いに逆向き
とされ、かつ、セラミック積層体20の上面に形成され
た電極4a,5a同士がウェイト6を介して導通されて
いるのであるから、一方の圧電セラミック素子4(5)
の変位側主表面に正の電荷が発生したとすると、他方の
圧電セラミック素子5(4)の変位側主表面には負の電
荷が発生することになり、これら正負の電荷はウェイト
6を介して相殺されることになる。また、このとき、セ
ラミック積層体20の下面に形成された電極4b,5b
は回路基板3上に並列形成された配線パターン1,2と
各別に導通されているのであるから、圧電セラミック素
子4,5それぞれの固定側主表面に発生した電荷が配線
パターン1,2を通じて取り出される結果、加速度信号
処理用として設けられたハイブリッドIC7によって作
用した加速度の大きさを検出することが行われる。
【0018】第2実施例 図4ないし図6は本発明の第2実施例に係り、図4は加
速度センサの全体構造を簡略化して示す一部破断斜視
図、図5はその要部構造のみを拡大して示す一部破断斜
視図であり、図6はそのセラミック積層体の作成手順を
示す説明図である。なお、この加速度センサの全体構成
は第2の従来例と基本的に異ならないので、図4ないし
図6において図11及び図12と互いに同一または相当
する部品,部分には同一符号を付すこととし、ここでの
詳しい説明は省略する。
【0019】この第2実施例に係る加速度センサは、従
来例同様、一対の配線パターン1,2が表面上に並列形
成された回路基板3と、分極処理が施されたうえで配線
パターン1上に接着して固定された圧電セラミック素子
4と、アースとして機能する配線パターン2上に接着し
て固定された導電セラミック素子11と、これら上に接
着して架設されたウェイト6とを備えている。そして、
この加速度センサにおける圧電セラミック素子4及び導
電セラミック素子11のそれぞれは、配線パターン1,
2の並列方向に沿って並列配置されたうえ、接着剤を用
いて互いに接着されることによりセラミック積層体30
として一体化されている。また、このセラミック積層体
30の上面には、ウェイト6を介して導通することにな
る電極4a,11aが形成される一方、その下面には、
配線パターン1,2のそれぞれと対応して所定間隔だけ
離間した電極4b,11bが形成されている。なお、こ
れらの電極4a,11aが互いに接続されたものであっ
てもよいことは勿論である。
【0020】ところで、圧電セラミック素子4の分極方
向Xが図5で示した方向、すなわち、回路基板3の表面
拡がり方向に沿うことに限られないのは第1実施例と同
様である。また、圧電セラミック素子4と一体化されて
セラミック積層体30を構成する導電セラミック素子1
1は、従来例同様、少なくとも一方の主表面上に個別電
極12が形成されたセラミック板13の複数枚を互いの
厚み方向に沿って重ね合わせたうえで接着することによ
って作成されたものである。
【0021】そして、このセラミック積層体30を作成
するに際しては、図6で示すような手順が採用されてい
る。すなわち、まず、図6(a)で示すように、分極処
理が施されておらず、しかも、各々の主表面上には全面
にわたる電極31が形成されたセラミック板32の複数
枚と、所定の分極処理が施された第1実施例同様のセラ
ミックブロック体21とを用意し、接着剤を用いること
によってセラミック板32及びセラミックブロック体2
1のそれぞれを互いに接着して一体化した後、複数枚の
セラミック板32及びセラミックブロック体21からな
るブロック積層体33を図6(a)中の仮想線Cに沿っ
て切断加工することにより所定厚みを有するブロック板
34を作成する。次に、図6(b)で示すように、一体
化されたままのブロック板34の主表面それぞれに対す
る蒸着やスパッタリングなどを行って互いに所定間隔だ
け離間した状態の電極層35,36をそれぞれ形成した
後、図6(b)中の仮想線Dに沿う所定幅ごとの切断加
工を行うと、図5で示したような構成を有するセラミッ
ク積層体30が得られる。
【0022】そこで、この加速度センサの加速度検出手
段は、圧電セラミック素子4及び導電セラミック素子1
1を一体化してなるセラミック積層体30と、加速度の
作用方向Gに従って変位する質量物であるウェイト6と
を組み合わせることによって構成されていることにな
る。そして、このセラミック積層体30の上面に形成さ
れた電極4a,11aのそれぞれはウェイト6を介して
互いに導通される一方、その下面に形成された電極4
b,11bのそれぞれは回路基板3上に並列形成された
配線パターン1,2の各々と導通されていることにな
る。
【0023】したがって、上記構成とされた加速度検出
手段を有する加速度センサにおいて外部から加速度が作
用した場合、質量物であるウェイト6は加速度の作用方
向Gと同一向きに沿いつつ、その大きさに対応して変位
することになる。そして、このウェイト6が変位する
と、これと回路基板3との間に介装されてセラミック積
層体30を構成する圧電セラミック素子4にはせん断歪
みが生じることになり、その主表面それぞれには正負逆
の電荷が発生する。さらに、このとき、圧電セラミック
素子4の電極4aはウェイト6及び導電セラミック素子
11の電極11a,11bを介したうえで配線パターン
2と導通する一方、圧電セラミック素子4の電極4bは
配線パターン1と導通しているから、圧電セラミック素
子4の主面上に誘起された電荷は配線パターン1を通じ
て取り出されてハイブリッドIC7によって処理される
ことになり、その結果として加速度の大きさが検出され
る。
【0024】第3実施例 ところで、車載用エアバッグ装置に組み込んで使用され
る加速度センサは非常に高い信頼性を有すべきであり、
その故障は速やかに発見される必要がある。そして、最
近では、いわゆる自己故障診断機能を有する加速度セン
サの実現が強く求められている。そこで、以下、自己故
障診断機能を有する加速度センサについて説明する。
【0025】図7及び図8は第1及び第2実施例に係る
加速度センサの変形例として構成された自己故障診断機
能付きの加速度センサを示しており、図7は加速度セン
サの全体構造を簡略化して示す一部破断斜視図、図8は
その要部構造のみを拡大して示す一部破断斜視図であ
る。
【0026】この加速度センサは、複数本の配線パター
ン1a,1b,2が表面上に並列形成された回路基板3
と、分極処理が施されたうえで配線パターン1a,1b
上に接着して固定された一対の圧電セラミック素子4,
5と、配線パターン2上に接着して固定された導電セラ
ミック素子11と、これら上に接着して架設されたウェ
イト6とを備えている。そして、この加速度センサにお
ける圧電セラミック素子4,5及び導電セラミック素子
11のそれぞれは、配線パターン1a,1b,2の並列
方向に沿って並列配置されたうえ、接着剤を用いて互い
に接着されることによりセラミック積層体40として一
体化されている。また、このセラミック積層体40の上
面には、ウェイト6を介して導通する電極4a,5a,
11aが形成される一方、その下面には、配線パターン
1a,1b,2と対応して所定間隔だけ離間した電極4
b,5b,11bが形成されている。なお、本実施例に
係るセラミック積層体40は、第1及び第2実施例で示
したと同様の手順を採用して作成される。
【0027】すなわち、この実施例における圧電セラミ
ック素子5は故障診断用として設けられたものであり、
この圧電セラミック素子5に対しては配線パターン1b
を通じてハイブリッドIC7から故障診断用の疑似振動
信号が印加されることになる。また、配線パターン2
は、第2実施例同様、アースとして機能するようになっ
ている。そこで、セラミック積層体40を構成する圧電
セラミック素子5は、その下面に形成された電極5bが
配線パターン1b上に固定される一方、上面に形成され
た電極5aはウェイト6及び導電セラミック素子11の
それぞれを介したうえで配線パターン2と直列に接続さ
れていることになる。したがって、この圧電セラミック
素子5に対してハイブリッドIC7から疑似振動信号が
印加されると、圧電セラミック素子5はその分極軸Yと
平行な方向に沿って歪むことになり、ウェイト6が変位
させられることになる。その結果、このウェイト6を介
して圧電セラミック素子5と一体的に連結された圧電セ
ラミック素子4にはウェイト6の変位に伴うせん断歪が
生じることになり、かつ、この圧電セラミック素子4の
主表面には電荷が誘起されることになる。そこで、この
ようにして得られた疑似振動信号に基づく出力を通常の
加速度信号と同様に処理すると、加速度センサにおける
故障の有無が診断されることになる。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る加速
度センサによれば、一対の圧電セラミック素子、もしく
は、圧電セラミック素子及び導電セラミック素子を一体
化してなるセラミック積層体をウェイトに対して接着す
ることによって加速度検出手段が構成されることにな
る。したがって、従来例のように、所定間隔の隙間を設
けた位置決め状態で各セラミック素子をウェイトに対し
て接着することによって加速度検出手段を構成する必要
はなく、このような隙間を確保したり隙間内にまではみ
出した接着剤を拭い取ったりする手間が不要となる結
果、加速度センサの組み立て作業にあたって必要となる
手間を省くことができる。
【0029】また、この際、回路基板の配線パターンに
接着されて導通する電極のそれぞれは、セラミック積層
体の下面における離間位置ごとに形成されているのであ
るから、これら間の絶縁は確保されていることになり、
検出特性への悪影響が生じるのを有効に防止することが
できるという効果も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係る加速度センサの全体
構造を簡略化して示す一部破断斜視図である。
【図2】その要部構造のみを拡大して示す一部破断斜視
図である。
【図3】そのセラミック積層体の作成手順を示す説明図
である。
【図4】本発明の第2実施例に係る加速度センサの全体
構造を簡略化して示す一部破断斜視図である。
【図5】その要部構造のみを拡大して示す一部破断斜視
図である。
【図6】そのセラミック積層体の作成手順を示す説明図
である。
【図7】本発明の第3実施例に係る加速度センサの全体
構造を簡略化して示す一部破断斜視図である。
【図8】その要部構造のみを拡大して示す一部破断斜視
図である。
【図9】第1の従来例に係る加速度センサの全体構造を
簡略化して示す一部破断斜視図である。
【図10】その要部構造のみを拡大して示す一部破断斜
視図である。
【図11】第2の従来例に係る加速度センサの全体構造
を簡略化して示す一部破断斜視図である。
【図12】その要部構造のみを拡大して示す一部破断斜
視図である。
【符号の説明】
1 配線パターン 2 配線パターン 3 回路基板 4 圧電セラミック素子 4b 電極 5 圧電セラミック素子 5b 電極 6 ウェイト 11 導電セラミック素子 11b 電極 20 セラミック積層体 30 セラミック積層体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01P 15/09 B60R 21/32

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数本の配線パターン(1,2)が表面上
    に並列形成された回路基板(3)と、各配線パターン
    (1,2)上に接着して固定される圧電セラミック素子
    (4,5)と、これら上に接着して架設されたうえで両
    セラミック素子(4,5)同士を導通させるウェイト
    (6)とを備えた加速度センサであって、圧電セラミッ
    ク素子(4,5)のそれぞれは互いの分極方向を逆向き
    にした状態で、配線パターン(1,2)の並列方向に沿
    って互いに接した状態で接着されて一体化されたもので
    あり、この一体化されたセラミック積層体(20)の下
    面には配線パターン(1,2)のそれぞれと接着されて
    導通する電極(4b,5b)を互いに離間した状態で形
    成していることを特徴とする加速度センサ。
  2. 【請求項2】複数本の配線パターン(1,2)が表面上
    に並列形成された回路基板(3)と、各配線パターン
    (1,2)上に接着して固定される圧電セラミック素子
    (4)及び導電セラミック素子(11)と、これら上に
    接着して架設されたうえで両セラミック素子(4,1
    1)同士を導通させるウェイト(6)とを備えた加速度
    センサであって、 圧電セラミック素子(4)及び導電セラミック素子(1
    1)のそれぞれは配線パターン(1,2)の並列方向に
    沿って互いに接した状態で接着されて一体化されたもの
    であり、この一体化されたセラミック積層体(30)の
    下面には配線パターン(1,2)のそれぞれと接着され
    て導通する電極(4b,11b)を互いに離間した状態
    で形成していることを特徴とする加速度センサ。
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