JP2883458B2 - 混成集積回路用配線板の製造方法 - Google Patents

混成集積回路用配線板の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】[発明の目的]
【0002】
【産業上の利用分野】本発明は混成集積回路用配線板の
製造方法に係り、特に高速・高密度で高信頼性を要求さ
れる混成集積回路用に適する配線板の製造方法に関す
る。
【0003】
【従来の技術】たとえば大型電子計算機や画像処理装置
用など、高速な動作が要求される半導体チップを搭載し
て成る混成集積回路は、一般に図2に要部を断面的に示
すような構成を採っている。すなわち、セラミック多層
配線板1と、前記セラミック多層配線板1の所定領域面
上に一体的に形成された、たとえばポリイミド樹脂系の
絶縁層2aおよび導体パターン層2bを交互に積層して成る
薄膜配線部2と、前記薄膜配線部2面上に設けられた搭
載用パッド3上に搭載・実装された高速な半導体チップ
4と、前記半導体チップ4および薄膜配線部2を電気的
に接続するボンディンワイヤ5と、前記ボンディングワ
イヤ5を含め薄膜配線部2および半導体チップ4などの
チップ部品を一体的に気密封止するようにセラミック多
層配線板1面上に配設された封止体6たとえばメタルキ
ャップと、前記薄膜配線部2などに電気的に接続するセ
ラミック多層配線板1から導出されたI/O リード7とを
具備した構成を成している。しかして、前記封止体とし
てのメタルキャップ6は、その開口端縁部6aを、セラミ
ック多層配線板1面に設けられたウエルドリング8にロ
ー付け9などされた気密封止用リング10面に溶接などさ
れて気密な封止を構成している。
【0004】なお、上記混成集積回路の構成において
は、薄膜配線部2の絶縁層2aとして比誘電率が約3と小
さいポリイミド樹脂系などを用いることによって、信号
の伝播遅延時間の低減を図り、もって混成集積回路の高
性能化に対応している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の混成集積回路は製造上、次のような不都合な問題が
認められる。すなわち、この種の混成集積回路では、要
求される高い気密性を確保するため、たとえばAgローな
どの硬ロー材を用いウエルドリング8に気密封止用リン
グ10にロー付けすることが望まれる。しかし、このロー
付け加工は、前記薄膜配線部2を形成するの絶縁層2aと
してのポリイミド樹脂系などの耐熱温度を越える温度で
行われるので、グリーンシートの積層・焼結、ウエルド
リング8に対する気密封止用リング10のロー付けおよび
薄膜配線部2の形成という手順で混成集積回路用配線板
を製造している。つまり、所要の導体パターンを設けた
グリーンシートを積層し、焼結して得たセラミック多層
配線板1の所定面に、先ずウエルドリング8を被着形成
する。次いで、このウエルドリング8面に気密封止用リ
ング10を、たとえばAgロー9でロー付けした後、このロ
ー付けされた気密封止用リング10に囲繞された領域内の
セラミック多層配線板1面に、所要の薄膜配線部2を形
成する手順を採っている。
【0006】ところで、前記薄膜配線部2の形成では、
膜厚やサイズの制御を要するので、一般にたとえばポリ
イミド樹脂系をスピンコーティングして絶縁層2aを形成
している。しかし、前記スピンコーティングおいて、前
記ロー付けされた気密封止用リング10あたって樹脂が飛
散したりして加工を損なう傾向がある。また、ロー付け
された気密封止用リング10によって、導体パターン2bを
印刷形成する際に使用するマスクを精度よく配置し得な
いので、微細な導体パターン2bを形成することも困難で
あるという問題がある。
【0007】この様な問題を解消するため、薄膜配線部
2を形成するの絶縁層2aとしてのポリイミド樹脂系など
の損傷を起こさない温度で加工し得る、たとえばPbSn,A
uGe,AuSnなどの軟ロー材を用いて、ウエルドリング8面
に気密封止用リング10をロー付けすることも試みられて
いる。この場合はグリーンシートの積層・焼結、薄膜配
線部2の形成およびウエルドリング8に対する気密封止
用リング10のロー付けという手順で混成集積回路用配線
板を製造し得るからである。しかし、軟ロー材は、硬ロ
ー材に比べて飛散し易いことや気密封止性が劣るため、
信頼性の点で難点がある。
【0008】本発明は上記事情に対処してなされたもの
で、微細な導体パターンを有する薄膜配線部を備え、か
つ信頼性の高い気密封止も可能で常に所要の機能を発揮
する混成集積回路の構成に適する配線板が得られる製造
方法の提供を目的とする。
【0009】[発明の構成]
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に係る混成集積回
路用配線板の製造方法は、所要の導体パターンを設けた
第1のグリーンシートを積層する工程と、前記積層され
た第1のグリーンシート層上に第1のグリーンシートよ
りもサイズが小さく、かつ所要の導体パターンが設けら
れた第2のグリーンシートを積層する工程と、前記第1
のグリーンシートおよび第2のグリーンシートから成る
積層体を一体的に焼結して断面凸型のセラミック多層配
線板を形成する工程と、前記セラミック多層配線板の第
2のグリーンシートの焼結で形成された段を囲繞して第
1のグリーンシートの焼結主面にウエルドリングを形成
し、このウエルドリング面に気密封止用リングを硬ロー
材でロー付けする工程と、前記第2のグリーンシートの
焼結主面上に薄膜配線部を形成する工程とを具備して成
ることを特徴とする。
【0011】
【作用】上記本発明に係る混成集積回路用配線板の製造
方法によれば、気密封止用リングが硬ロー材でロー付け
される面と薄膜配線部が形成される面とが段差付けされ
た混成集積回路用配線板を得ることができる。つまり、
得られる混成集積回路用配線板は、ロー付けされた気密
封止用リング面に対し、薄膜配線部を形成する領域面が
底上げされた構成を成しているため、薄膜配線部の形成
でのスピンコーティングにおける絶縁樹脂の飛散による
加工難、あるいはマスクの位置合わせ難などの問題を全
面的に解消しながら、所要の気密性も十分に発揮する。
【0012】
【実施例】以下図1を参照して本発明の実施例を説明す
る。
【0013】図1は本発明に係る製造方法で得られた混
成集積回路用配線板を用いて構成した混成集積回路の構
成例の要部を断面的に示したものである。しかして、本
発明は次のような手順で行われる。
【0014】先ず、たとえばアルミナ系のグリーンシー
トを用意し、このグリーンシート面にたとえば印刷法に
よって所要の導体パターンを設け第1のグリーンシート
とする。また、前記第1のグリーンシートの場合と同様
にして、第1のグリーンシートよりもサイズが小さく、
かつ所要の導体パターンを設け第2のグリーンシートと
する。
【0015】次いで、前記第1のグリーンシート複数枚
を積層し、この第1のグリーンシート積層体上に、前記
第2のグリーンシート複数枚を積層する。これらの積層
工程において、各グリーンシート面に設けられている導
体パターン間の位置合わせや層間の所要の電気的な接続
など勿論考慮する。しかる後、前記第1のグリーンシー
トおよび第2のグリーンシートから成る積層体を常套な
手段により、一体的に焼結することによって、断面が凸
型を成すセラミック多層配線板1を形成する。上記によ
り形成したセラミック多層配線板1のうち、第2のグリ
ーンシートの焼結で形成された領域(段)1a、換言する
と突出部1aを囲繞する形で、第1のグリーンシートの焼
結で形成された主面1bに、たとえばNiおよびAuを積層し
て成るウエルドリング8を形成し、このウエルドリング
8面に気密封止用リング10をたとえばAgローなどの硬ロ
ー材9でロー付けする。次いで、前記第2のグリーンシ
ートの焼結で形成された主面(突出部1a面)上に薄膜配
線部2を形成する。この薄膜配線部2の形成は、たとえ
ばスピンコート法によってポリイミド樹脂系の絶縁層2a
を塗着してこれを乾燥させた後、この絶縁層2a面上にた
とえば印刷法によって、導電性ペーストを所要の導体パ
ターン状に塗着してこれを乾燥させてから、導体パター
ン形成面上に再度スピンコート法によってポリイミド樹
脂系の絶縁層2aの塗着・形成、導体パターン2bの塗着・
形成を交互に繰り返すことにって積層・一体化して構成
される。なお、前記薄膜配線部2は、セラミック多層配
線板1が内層的に備えている導体パターン1cに電気的に
接続する一方、セラミック多層配線板1の裏面側に配設
されるI/O リード7に接続している。
【0016】このように構成された混成集積回路用配線
板は、混成集積回路の構成に用いた場合、前記薄膜配線
部2に搭載用パッド3を設け、この搭載用パッド3上に
所要の半導体チップ4などを搭載・配置し、薄膜配線部
2およびチップ部品4をたとえばボンディングワイヤ5
などで電気的に接続する一方、前記ボンディング部5を
含め薄膜配線部2およびチップ部品4を一体的に気密封
止するように構成されているメタルキャップ6の開口端
縁部6aを、配線板1面上にロー付けされている気密配封
止用リング10にたとえば溶接することによって、密配に
封止された混成集積回路を構成し得る。
【0017】なお、前記ではセラミック多層配線基板と
してアルミナ系のセラミック多層配線基板を例示した
が、たとえば窒化アルミ系のセラミック多層配線基板で
あってもよいし、さらに薄膜配線部を構成する絶縁層も
比誘電率が小さいものであれば、ポリイミド樹脂系以外
の絶縁層であってもよい。
【0018】
【発明の効果】上記説明から分かるように、本発明に係
る混成集積回路用配線板の製造方法によれば、高い気密
性を得るため硬ロー材により気密配封止用リングをロー
付けしても、チップ部品が搭載される薄膜配線部が気密
配封止用リング面から突出した面上に形成されるため、
薄膜配線部の形成に当たってスピンコート法およびマス
クの位置合わせなども容易になり、またそれらを精度よ
くかつ信頼性の高い構造として形成し得る。つまり、い
わゆるグリーンシートを素材とする常套的な多層セラミ
ック配線板の製造方法を基本としながら、本発明によれ
ば信頼性の高い機能を呈する混成集積回路の構成に適す
る品質良好な配線板を確実に、かつ容易に得ることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る混成集積回路用配線板の製造方法
で得た配線板を用いて構成した混成集積回路の要部構成
例を示す断面図。
【図2】従来の混成集積回路の要部構成を示す断面図。
【符号の説明】
1…セラミック多層配線基板 1a…第2のグリーンシ
ートの焼結領域(突起部) 2b…第1のグリーンシー
トの焼結領域 1c…導体パターン 2…薄膜配線部
2a…絶縁層 2b…導体パターン 3…搭載用パッ
ド 4…半導体チップを含むチップ部品 5…ホン
ディンクワイヤ 6…封止体(メタルキャップ)
7…I/O リード 8…ウエルドリング 9…ロー材
10…気密封止体用リング
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 23/02 H05K 3/46

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所要の導体パターンを設けた第1のグリ
    ーンシートを積層する工程と、前記積層された第1のグ
    リーンシート層上に第1のグリーンシートよりもサイズ
    が小さく、かつ所要の導体パターンが設けられた第2の
    グリーンシートを積層する工程と、前記第1のグリーン
    シートおよび第2のグリーンシートから成る積層体を一
    体的に焼結して断面凸型のセラミック多層配線板を形成
    する工程と、前記セラミック多層配線板の第2のグリー
    ンシートの焼結で形成された段を囲繞して第1のグリー
    ンシートの焼結主面にウエルドリングを形成し、このウ
    エルドリング面に気密封止用リングを硬ロー材でロー付
    けする工程と、前記第2のグリーンシートの焼結主面上
    に薄膜配線部を形成する工程とを具備して成ることを特
    徴とする混成集積回路用配線板の製造方法。
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